JP4238239B2 - 気化方法 - Google Patents
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非常によく似た結晶構造を持つBi系の層状強誘電体材料も有望であり、特にYl材と称されるSrBi2TaO9が、低電圧駆動と疲労特性に優れている点から、近年大きく注目されている。
沸点(℃)/圧力(mmHg) 融点(℃)
Sr(DPM)2 242/14 78
Bi(C6H5)3 270〜280/1 201
Ta(OC2H5)5 146/0.15 22
THF 67 −109
図1に実施例1に係るMOCVD用気化器を示す。
ガス通路2に加圧されたキャリアガス3を導入するためのガス導入口4と、
ガス通路2を通過するキャリアガスに原料溶液5を供給するための手段(原料供給孔)6と、
分散された原料溶液5を含むキャリアガスを気化部22に送るためのガス出口7と、
ガス通路2内を流れるキャリアガスを冷却するための手段(冷却水)18と、
を有する分散部8と、
一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他端が分散部8のガス出口7に接続された気化管20と、
気化管20を加熱するための加熱手段(ヒータ)21と、
を有し、前記分散部8から送られてきた、原料溶液が分散されたキャリアガスを加熱して気化させるための気化部22と、
を有する。
本例では、図1に示す装置において、冷却手段を取り除いた装置を用いて実施例1と同様の実験を行った。
図5に実施例2に係るMOCVD用気化器を示す。
図6に実施例3に係るMOCVD用気化器を示す。
図7にガス通路の変形実施例を示す。
図8に基づき実施例5を説明する。
内部に形成されたガス通路と、
ガス通路に加圧されたキャリアガス3を導入するためのガス導入口4と、
ガス通路に原料溶液5a,5bを供給するための手段と、
原料溶液5a、5bを含むキャリアガスを気化部22に送るためのガス出口7と、
を有する分散部8と、
一端がMOCVD装置の反応管に接続され、他端が前ガス出口7に接続された気化管20と、
気化管20を加熱するための加熱手段と、
を有し、
分散部8から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部22と、
を有し、
分散部8は、円筒状中空部を有する分散部本体1と、円筒状中空部の内径より小さな外径を有するロッド10とを有し、
ロッド10の外周の気化器22側に1又は2以上の螺旋状の溝60を有し、
ロッド10は該円筒状中空部に挿入されている。
また、θがこの範囲内の場合、拡大による流体抵抗が最小となり、また、デッドの存在が最小となり、デッドゾーンの存在による渦流の存在を最小にすることができる。なお、θとしては、6〜7度がより好ましい。なお、図6に示した実施例の場合においても好ましいθの範囲は同様である。
図8に示す装置を用い、次ぎなる条件で原料溶液及びキャリアガスの供給を行い、原料ガスにおける均一性を調べた。
Bi(C6H5)3 0.08cc/min
Ta(OC2H5)5 0.08cc/min
THF 0.2cc/min
キャリアガス:窒素ガス
10〜350m/s
本例では、ロッドとして螺旋溝を形成したロッドを使用した。
2 ガス通路、
3 キャリアガス、
4 ガス導入口、
5 原料溶液、
6 原料供給孔、
7 ガス出口、
8 分散部、
9a,9b,9c,9d ビス、
10 ロッド、
18 冷却するための手段(冷却水)、
20 気化管、
21 加熱手段(ヒータ)、
22 気化部、
23 接続部、
24 継手、
25 酸素導入手段(酸素供給口)、
29 原料供給入口、
30a,30b,30c,30d マスフローコントローラ、
31a,31b,31c,31d バルブ、
32a,32b,32c,32d リザーブタンク、
33 キャリアガスボンベ、
42 排気口、
40 バルブ、
44 反応管、
46 ガスパック、
51 テーパー、
70 溝。
Claims (4)
- キャリアガスが流れるガス通路に原料溶液を供給し、原料溶液をキャリアガス中に分散させ、原料溶液を含むキャリアガスに直進流と旋回流とが併存する状態を与えた後に原料溶液が分散したキャリアガスを気化部に供給し、該気化部において気化させることを特徴とする気化方法。
- 前記キャリアガスの速度を50〜300m/sec以上とすることを特徴とする請求項1記載の気化方法。
- 前記キャリアガスの速度を200〜300m/sec以上とすることを特徴とする請求項1記載の気化方法。
- 前記キャリアガスを3kg/cm 2 以上の圧力で供給することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項記載の気化方法。
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