JP2005328085A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005328085A5
JP2005328085A5 JP2005216010A JP2005216010A JP2005328085A5 JP 2005328085 A5 JP2005328085 A5 JP 2005328085A5 JP 2005216010 A JP2005216010 A JP 2005216010A JP 2005216010 A JP2005216010 A JP 2005216010A JP 2005328085 A5 JP2005328085 A5 JP 2005328085A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
raw material
material solution
carrier gas
gas
gas passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005216010A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4238239B2 (ja
JP2005328085A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005216010A priority Critical patent/JP4238239B2/ja
Priority claimed from JP2005216010A external-priority patent/JP4238239B2/ja
Publication of JP2005328085A publication Critical patent/JP2005328085A/ja
Publication of JP2005328085A5 publication Critical patent/JP2005328085A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4238239B2 publication Critical patent/JP4238239B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

本発明の気化器は、
(1)内部に形成されたガス通路と、
該ガス通路に加圧されたキャリアガスを導入するためのガス導入口と、
該ガス通路に原料溶液を供給するための手段と、
原料溶液を含むキャリアガスを気化部に送るためのガス出口と、
該ガス通路を冷却するための手段と、
を有する分散部と
(2)前記分散部から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部と
を有することを特徴とす

Claims (2)

  1. (1)内部に形成されたガス通路と、
    該ガス通路に加圧されたキャリアガスを導入するためのガス導入口と、
    該ガス通路に原料溶液を供給するための手段と、
    原料溶液を含むキャリアガスを気化部に送るためのガス出口と、
    該ガス通路を冷却するための手段と、
    を有する分散部と
    (2)前記分散部から送られてきた、原料溶液を含むキャリアガスを加熱して気化させるための気化部と
    を有することを特徴とする気化器。
  2. 原料溶液を含むキャリアガスに直進流と旋回流とが併存する状態を与えて原料溶液を含むキャリアガスを気化部に供給し、該気化部において気化させることを特徴とする気化方法。
JP2005216010A 2005-07-26 2005-07-26 気化方法 Expired - Fee Related JP4238239B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005216010A JP4238239B2 (ja) 2005-07-26 2005-07-26 気化方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005216010A JP4238239B2 (ja) 2005-07-26 2005-07-26 気化方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003189112A Division JP3987465B2 (ja) 2003-06-30 2003-06-30 気化器

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008210130A Division JP5185726B2 (ja) 2008-08-18 2008-08-18 気化器、薄膜形成装置及びmocvd装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005328085A JP2005328085A (ja) 2005-11-24
JP2005328085A5 true JP2005328085A5 (ja) 2006-12-21
JP4238239B2 JP4238239B2 (ja) 2009-03-18

Family

ID=35474121

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005216010A Expired - Fee Related JP4238239B2 (ja) 2005-07-26 2005-07-26 気化方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4238239B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010098308A1 (ja) * 2009-02-24 2010-09-02 株式会社アルバック 有機化合物蒸気発生装置及び有機薄膜製造装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SG138547A1 (en) High flow gacl3 delivery
TW200714740A (en) Method for the vaporization of liquid raw material which enables low-temperature vaporization of liquid raw material and vaporizer for the method
JP2006503780A5 (ja)
MX2007013326A (es) Sistema de vaporizacion de gas natural de baja emision.
WO2007130852A3 (en) Hydrogen peroxide vaporizer
JP2014127702A5 (ja) 基板処理装置、半導体装置の製造方法、気化システム、気化器およびプログラム
JP2007247062A5 (ja) 気相原料分散システム、成膜システム、および堆積方法
TW200739727A (en) Semiconductor processing system and vaporizer
WO2007146904A3 (en) Vaporizer
UA106393C2 (ru) Курительная система со средством для вмещения жидкости и улучшенными условиями внутреннего воздухообмена
TW200734577A (en) System and method for producing and delivering vapor
PT2276381E (pt) Dispositivo de produção de bebidas
EP2213762A3 (en) Coating device and deposition apparatus
JP2009512786A5 (ja)
JPWO2008041769A1 (ja) 液体材料気化装置
ZA200711014B (en) Assembly for the treatment of a polymerizable material
ATE452433T1 (de) Vorrichtung und verfahren zum verdampfen flüssiger medien
JP2005328085A5 (ja)
JP6335223B2 (ja) 気化器
TW201041032A (en) Gas mixture supplying method and apparatus
JP2018053368A (ja) 成膜装置
EA201000410A1 (ru) Способ и установка для термической обработки мелкозернистых твердых частиц
JP2003163168A (ja) 液体材料気化装置
JP5193826B2 (ja) 液体材料気化装置
CN108277477A (zh) 液体汽化装置及使用该液体汽化装置的半导体处理系统