JP4225300B2 - 半導体装置 - Google Patents
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応用物理学会講演予稿集、1995年春、30p−D−20、30p−D−10 日経マイクロデバイス、1994年7月号、pp.50−57 日経マイクロデバイス、1995年9月号、pp.70−77
組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100であることを特徴とする。
組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である電子材料の製造方法であって、
電子材料を酸素または水蒸気を用いた反応性スパッタリング法により成膜するようにした
ことを特徴とする。
組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層と、
拡散防止層上の下部電極と、
下部電極上の誘電体膜と、
誘電体膜上の上部電極とを有する
ことを特徴とする。
組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる下部電極と、
下部電極上の誘電体膜と、
誘電体膜上の上部電極とを有する
ことを特徴とする。
トランジスタと誘電体キャパシタとからなるメモリセルを有する不揮発性メモリにおいて、
誘電体キャパシタが、
組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層と、
拡散防止層上の下部電極と、
下部電極上の誘電体膜と、
誘電体膜上の上部電極とを有する
ことを特徴とする。
トランジスタと誘電体キャパシタとからなるメモリセルを有する不揮発性メモリにおいて、
誘電体キャパシタが、
組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる下部電極と、
下部電極上の誘電体膜と、
誘電体膜上の上部電極とを有する
ことを特徴とする。
第1の導電層と、
第1の導電層上の第2の導電層とを有する半導体装置において、
第1の導電層と第2の導電層との間に、組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層が設けられている
ことを特徴とする。
上述のように構成されたこの発明の第2の発明によれば、誘電体キャパシタの拡散防止層、誘電体キャパシタの下部電極あるいは半導体装置における拡散防止層の材料として用いて好適な電子材料を高品質で容易に製造することができる。
この発明の第2の発明によれば、誘電体キャパシタの拡散防止層、誘電体キャパシタの下部電極あるいは半導体装置における拡散防止層の材料として用いて好適な電子材料を高品質で容易に製造することができる。
この発明の第3の発明、第4の発明、第5の発明または第6の発明によれば、誘電体キャパシタの下部電極の下側に、組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層を有することにより、あるいは、下部電極がこの材料からなることにより、トランジスタと誘電体キャパシタとを縦方向に並べて配置し、誘電体キャパシタの下部電極をSiまたはWからなるプラグによりトランジスタの拡散層と接続する場合、そのプラグからのSiまたはWの下部電極への拡散を防止することができ、それによって誘電体キャパシタの誘電体膜の材料としてPZTはもちろん、高温の熱処理が必要なSBTなどをも用いることができる。
この発明の第7の発明によれば、第1の導電層と第2の導電層との間に、組成式MIaMIIb Oc (ただし、a、b、cは原子%で表した組成、MI はPt、Ir、Ru、RhおよびPdからなる群より選ばれた少なくとも一種の貴金属、MIIはHf、Ta、Zr、Nb、V、MoおよびWからなる群より選ばれた少なくとも一種の遷移金属を表す)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層が設けられていることにより、プラグを形成した後の工程のプロセス温度や時間の自由度を大きくすることができる。
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実施例 拡散防止層 下部電極 残留分極2Pr
(原子%) (μC/cm2 )
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1 Ir80Hf4 O16 Pt 19
2 Ir80Zr5 O15 Pt 19
3 Ir75Nb8 O17 Pt 19
4 Ru75Zr8 O17 Pt 19
5 Ru74Ta8 O18 Pt 19
6 Pt75Hf8 O17 Pt 19
7 Rt75Zr8 O17 Pt 19
8 Pd85Zr5 O10 Pt 19
9 Rh85V5 O10 Pt 19
10 Rh85Mo5 O10 Pt 19
11 Rh80W4 O16 Pt 19
12 Ir80Hf4 O16 Ir 19
13 Ir80Hf4 O16 Ru 17
14 Ir80Hf4 O16 Rh 14
15 Ir80Hf4 O16 Pd 18
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表2
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比較例 拡散防止層 下部電極 残留分極2Pr
(原子%) (μC/cm2 )
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1 なし Pt 0
2 TiN Pt 泡発生により
測定不可能
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以上のように、この第1の実施形態によれば、下部電極であるPt膜5の下側に、図2において斜線を施した領域で示される範囲の組成を有するIr−Hf−O膜3が設けられているので、このIr−Hf−O膜3により、SBT膜6の形成時に結晶化のために800℃程度の高温において酸化性雰囲気中で熱処理を行っても、Si基板1からPt膜5にSiが熱拡散するのを防止することができ、したがってSiがPt膜5の上層で酸化されてPt膜5、すなわち下部電極の導電性が失われるのを防止することができる。このため、この誘電体キャパシタは、トランジスタと誘電体キャパシタとを縦方向に配置し、誘電体キャパシタの下部電極を多結晶Siプラグによりトランジスタの拡散層と接続する強誘電体メモリにおける誘電体キャパシタに用いることができ、それによって誘電体キャパシタの誘電体膜としてSBT膜を用いた高集積の強誘電体メモリを実現することが可能である。
Claims (7)
- Siからなる拡散層と、
上記拡散層上の導電材料からなるプラグとを有する半導体装置において、
上記拡散層と上記プラグとの間に、組成式Ir a Hf b O c (ただし、a、b、cは原子%で表した組成)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層が設けられている
ことを特徴とする半導体装置。 - 導電材料からなるプラグと、
上記プラグ上の導電材料からなる配線とを有する半導体装置において、
上記プラグと上記配線との間に、組成式Ir a Hf b O c (ただし、a、b、cは原子%で表した組成)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層が設けられている
ことを特徴とする半導体装置。 - 導電材料からなる配線と、
上記配線上の導電材料からなるプラグとを有する半導体装置において、
上記配線と上記プラグとの間に、組成式Ir a Hf b O c (ただし、a、b、cは原子%で表した組成)で表され、その組成範囲が90≧a≧40、15≧b≧2、4≦c、a+b+c=100である材料からなる拡散防止層が設けられている
ことを特徴とする半導体装置。 - 上記Ir a Hf b O c で表される材料の組成範囲は85≧a≧65、10≧b≧2、10≦c、a+b+c=100であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の半導体装置。
- 上記プラグはSi、WまたはAlからなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の半導体装置。
- 上記配線はAl合金配線であることを特徴とする請求項2または3記載の半導体装置。
- 上記拡散防止層は酸素または水蒸気を用いた反応性スパッタリング法により成膜されたものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の半導体装置。
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