JP4223010B2 - 高純度水素の製造方法およびそれに用いる装置 - Google Patents

高純度水素の製造方法およびそれに用いる装置 Download PDF

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Description

本発明は、水の電気分解により酸素および水素を発生させる装置を用い、高純度な水素を製造することができる高純度水素の製造方法およびそれに用いる装置に関するものである。
従来から、半導体関連分野等の各種工業分野に利用されている水素を製造する方法として、部分酸化法,水蒸気改質法,アルカリ電気分解法等の各種方法が行われているが、アルカリ電気分解法としては、水を電気分解して酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置を用いることがよく行われている。この酸水素発生装置を用いて水素を製造する場合には、通常、図6に示すように、純水52を電気分解して酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置51と、純水供給装置(図示せず)から供給される純水52を溜める純水タンク53とを用い、この純水タンク53内に溜まる純水52を酸水素発生装置51に供給してここで酸素および水素を発生させ、この発生させた酸素および水素を製品として取り出すようにしている。
このような方法では、通常、純水52を用い、これを酸水素発生装置51に導入するようにしているが、純水供給装置から供給される純水52中に微量の空気成分(窒素,酸素,アルゴン等)が溶解しているうえ、純水52が純水タンク53内に溜められている間に純水52の水面が純水タンク23の上部空間の空気と接しているため、純水52中に空気成分が溶解するという現象が起こる(ヘンリーの法則)。したがって、酸水素発生装置51で電気分解により酸素および水素を発生させる際に、酸素や水素に空気成分が不純物として混入してしまい、発生する酸素および水素の純度が低くなる(99.99%程度)。そこで、酸水素発生装置51に導入する純水52を、この導入前に減圧下で脱気し、純水52中から空気成分を除去することが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特公平3−2237号公報
しかしながら、上記の方法では、純水52を減圧下で脱気するために大掛りな装置が必要となるうえ、この装置により製造コストが高価になるという問題がある。
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、簡単構造で、小形化が可能であり、しかも、製造コストが安価な高純度水素の製造方法およびそれに用いる装置の提供をその目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明は、貯水タンクに溜めた水を、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させるようにした方法であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を酸水素発生装置から取り出してその一部を貯水タンクに導入し、貯水タンク内の水と接触させて脱気し、その残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記水素の一部を上記脱気後に貯水タンクから取り出して上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給するようにした高純度水素の製造方法を第1の要旨とし、貯水タンクに溜めた水を、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させるようにした方法であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を酸水素発生装置から取り出してその一部を貯水タンクに導入し貯水タンク内の水と接触させて脱気し、その残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記導入に先立って、上記水素の一部を上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給するようにした高純度水素の製造方法を第2の要旨とし、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置と、水を溜める貯水タンクとを備え、この貯水タンク内の水を酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させる装置であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を上記酸水素発生装置から取り出す取出路と、この取出路で取り出した水素の一部を貯水タンクに導入し貯水タンク内の水と接触させて脱気する導入路とを設け、上記取出路で取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記水素の一部を上記脱気後に貯水タンクから取り出して上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給する供給路を設けている高純度水素の製造装置を第3の要旨とし、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置と、水を溜める貯水タンクとを備え、この貯水タンク内の水を酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させる装置であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を上記酸水素発生装置から取り出す取出路と、この取出路で取り出した水素の一部を貯水タンクに導入し貯水タンク内の水と接触させて脱気する導入路とを設け、上記取出路で取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記導入路を、上記取出路で取り出した水素の一部を上記精製部にこの精製部の再生ガスとして導入する第1導入路と、上記精製部で再生を終えた上記水素の一部を上記精製部から取り出して貯水タンクに導入する第2導入路とで構成している高純度水素の製造装置を第4の要旨とする。
すなわち、本発明の第1および第2の高純度水素の製造方法は、貯水タンクに溜めた水を、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させるようにした方法であり、上記酸水素発生装置で発生させた水素を酸水素発生装置から取り出してその一部を貯水タンクに導入し、貯水タンク内の水の中に送り込んでこの水中でバブリングさせることにより、貯水タンク内の水と接触させるようにしている。このため、上記接触で、貯水タンク内の水に溶け込んでいる酸素,窒素等の空気成分が、水中でバブリングする水素側に移動し、この水素とともに貯水タンクの上部空間に追い出され(すなわち、脱気され)、水中から空気成分が除去される。したがって、酸水素発生装置で発生させた水素中に不純物が混入しなくなり、高純度(99.999%以上)の水素を製造することができる。しかも、上記酸水素発生装置から取り出した水素の一部を貯水タンクに導入するだけの簡単な構造であり、小形化が可能であるうえ、簡単な構造である分、製造コストが安価になる。
一方、本発明の第1および第2の高純度水素の製造装置は、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置と、水を溜める貯水タンクとを備え、この貯水タンク内の水を酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させる装置であり、上記酸水素発生装置で発生させた水素を上記酸水素発生装置から取り出す取出路と、この取出路で取り出した水素の一部を貯水タンクに導入し貯水タンク内の水と接触させて脱気する導入路とを設けている。したがって、本発明の第1および第2の高純度水素の製造装置でも、上記製造方法と同様に、酸水素発生装置から取り出した水素の一部を貯水タンク内の水と接触させて脱気することができ、上記製造方法と同様の効果を奏する。
本発明の第1の高純度水素の製造方法では、上記酸水素発生装置から取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記水素の一部を貯水タンク内の水と接触させて脱気したのち、貯水タンクから取り出して上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給するようにしたため、また、本発明の第1の高純度水素の製造装置では、上記取り出し路で取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記水素の一部を上記脱気後に貯水タンクから取り出して上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給する供給路を設けているため、上記酸水素発生装置から取り出した高純度の水素を水素精製装置で精製して、さらに超高純度(99.99999%)の水素を製造することができる。
また、本発明の第2の高純度水素の製造方法では、上記酸水素発生装置から取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記水素の一部を貯水タンクに導入する前に、上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給するようにしたため、また、本発明の第2の高純度水素の製造装置では、上記取り出し路で取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記導入路を、上記取り出し路で取り出した水素の一部を上記精製部にこの精製部の再生ガスとして導入する第1導入路と、上記精製部で再生を終えた上記水素の一部を上記精製部から取り出して貯水タンクに導入する第2導入路とで構成しているため、上記酸水素発生装置から取り出した高純度の水素を水素精製装置で精製して、さらに超高純度(99.99999%)の水素を製造することができる。しかも、酸水素発生装置から取り出した水素の一部を直接に水素精製装置の精製部に供給しているため、水素精製装置の精製部を超高純度の水素で再生することができ、その分水素精製装置の精製部に不純物がほとんど付着することがなく(例えば、精製部に吸着材が充填されている場合に、この吸着材に不純物がほとんど吸着されることがなく)、これにより、精製部における精製能力が長期にわたって低下しない。
また、本発明において、上記精製部が、上記酸水素発生装置から取り出した水素中の水分を吸着除去する水分除去用吸着塔である場合には、上記精製部で水素中の水分を吸着除去することができる。
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
図1は本発明の高純度水素の製造装置の基本構造を示している。図において、1は純水2を溜める純水タンク(貯水タンク)であり、純水2が純水供給装置(図示せず)から純水送給管3を介して供給されもしくは補給され、一定の液面に保持されている。4はそれ自体の電気分解層(図示せず)で純水2を電気分解して酸素と水素とを発生させる水素発生装置(酸水素発生装置)であり、従来公知のものが用いられている。5は上記純水タンク1内の純水2を水素発生装置4に供給する純水供給管である。6は製品水素導出管であり、水素発生装置4から延びる水素取出管(取出路)4aに開閉弁6aを介して連結している。7は製品酸素導出管であり、水素発生装置4から延びる酸素取出管4bに開閉弁7aを介して連結している。
8は上記水素取出管4aの途中部から延びて純水タンク1内の純水2中に(より詳しく説明すると、純水タンク1内の、純水送給管3の送給口3aより下側部分に)開口する開閉弁8a付き水素導入管(導入路)であり、水素発生装置4から水素取出管4aに取り出した水素の一部を純水タンク1内の純水2中に送り込み、純水2中でバブリングさせて脱気するようにしている。9は水10を溜めた水槽であり、11は上記純水タンク1の上部空間1aを所定の圧力に保持するために、上記純水タンク1の上部空間1aに溜まる(水素を多量に含んだ)ガスを取り出して水槽9内の水10中に送り込む連通管であり、この連通管11で水槽9内に送り込まれたガスは、水10中でバブリングしたのち水槽9外に放出される。図において、12は溶存酸素計である。
上記構成において、純水タンク1に溜めた純水2を水素発生装置1の電気分解層に供給し、この電気分解層において、純水2を電気分解して酸素と水素とを発生させ、水素を水素取出管4aから取り出して製品水素導出管6に製品水素として供給し、酸素を酸素取出管4bから取り出して製品酸素導出管7に製品酸素として供給する。また、水素取出管4aを通る水素の一部を水素導入管8に導入して純水タンク1内の純水2中に送り込み、純水2中でバブリングさせる。これにより、純水タンク1内の純水2中に溶け込んでいる酸素,窒素等の空気成分が、純水2中でバブリングする水素側に移動し、この水素とともに純水タンク1の上部空間1aに追い出され(脱気され)、純水2中から空気成分が除去される。このため、水素発生装置1で発生させた水素中に不純物が混入しなくなり、高純度(99.999%以上)の水素を製造することができる。
上記のように、この基本構造では、高純度の水素を製造することが可能になる。しかも、水素発生装置1で発生させた水素の一部を水素導入管8により取り出して純水タンク1内の純水2中に送り込むだけでよく、従来のものに比べて、簡単構造で、小形になるうえ、製造コストが安価になる。
図2は本発明の高純度水素の製造装置の実施の形態を示している。この実施の形態では、上記基本構造において、水素発生装置4から延びる水素取出管4aに、この水素取出管4aにより導入される水素中の水分を除去して水素を精製する水素精製装置15を接続し(すなわち、水素発生装置4から取り出される水素の流れの下流側に水素精製装置15を設け)、かつ、この水素精製装置15の水分除去塔(精製部)16,17(図3参照)の再生ガスとして、製品水素の一部(純水タンク1内の純水2の脱気を終えて純水タンク1の上部空間1aに溜まるガス)を利用している。
より詳しく説明すると、上記水素精製装置15は、合成ゼオライト(図示せず)が充填された左右一対の水分除去塔16,17と、これら両水分除去塔16,17に接続管18を介して接続されるゲッター塔19とを備えている。上記両水分除去塔16,17は、TSA法(温度スイング吸着法)により運転されており、純水タンク1への製品水素の連続供給のために2塔切り替え方式が採用されている。また、上記両水分除去塔16,17には、その入口管16a,17aに、開閉弁21a,22a付き水素流入管21,22を介して水素取出管4aが連結されているとともに、開閉弁23a,24a付き再生ガス流出管23,24を介して外部放出管29が連結されており、一方、その出口管16b,17bには、開閉弁25a,26a付き水素流出管25,26を介して接続管18が連結されているとともに、開閉弁27a,28a付き再生ガス流入管27,28を介して開閉弁30a付き再生ガス供給管(供給路)30が連結されている。この再生ガス供給管30は、上記純水タンク1の上部空間1aと両再生ガス流入管27,28とを連通し、純水タンク1の上部空間1aに溜まる(水素を多量に含んだ)ガスを再生ガス流入管27(もしくは28)を介して水分除去塔16(もしくは17)に供給する作用をする。図において、19aはゲッター塔19の出口管である。それ以外の部分は上記基本構造と同様であり、同様の部分には同じ符号を付している。
そして、左側(もしくは右側)の水分除去塔16(もしくは17)で水素を精製し、右側(もしくは左側)の水分除去塔17(もしくは16)を再生する場合には、上記各開閉弁21a,24a,25a,28a,30a(もしくは22a,23a,26a,27a,30a)を開弁し、上記各開閉弁22a,23a,26a,27a(もしくは21a,24a,25a,28a)を閉弁し、左側(もしくは右側)の水分除去塔16(もしくは17)に、水素取出管4aにより供給される水素を導入して水素中の水分を合成ゼオライトに吸着させて水分除去したのち、ゲッター塔19で水素中に残留した窒素,酸素,一酸化炭素,二酸化炭素等を除去し、出口管19aから導出して製品水素導出管6に製品水素として供給する。一方、再生ガス供給管30により、純水タンク1の上部空間1aに溜まるガスを再生ガスとして右側(もしくは左側)の水分除去塔17(もしくは16)に供給し、合成ゼオライトに吸着させた水分を除去して合成ゼオライトを再生したのち、外部放出管29により外部に放出することを行う。
上記のように、この実施の形態では、上記水素発生装置4で製造した水素を精製して、さらに超高純度(99.99999%)の水素にすることができ、半導体工場向け用等として利用することができる。また、水素精製装置15入口の水素純度がアップするため、水素精製装置15の負荷が軽減され、水素精製装置15の精製効率がアップする。
図4は本発明の高純度水素の製造装置の他の実施の形態を示している。この実施の形態では、水素発生装置4から延びる水素取出管4aに、この水素取出管4aにより導入される水素中の水分を除去して水素を精製する水素精製装置15を接続し、かつ、この水素精製装置15の水分除去塔16,17(図5参照)の再生ガスとして、製品水素の一部(水素取出管4aを通る水素の一部)を利用している。
より詳しく説明すると、上記水素精製装置15は、上記実施の形態と同様に、左右一対の水分除去塔16,17と、これら両水分除去塔16,17に接続管18を介して接続されるゲッター塔19とを備えている。上記両水分除去塔16,17には、その入口管16aに、開閉弁21a,22a付き水素流入管21,22を介して水素取出管4aが連結されているとともに、開閉弁23a,24a付き再生ガス流出管23,24を介して第2再生ガス導入管(第2導入路)32が連結されており、一方、その出口管16b,17bには、開閉弁25a,26a付き水素流出管25,26を介して接続管18が連結されているとともに、開閉弁27a,28a付き再生ガス流入管27,28を介して開閉弁33a付き第1再生ガス導入管(第1導入路)33が連結されている。上記第1再生ガス導入管33は、上記水素取出管4aの途中部と両再生ガス流入管27,28とを連結し、上記水素取出管4aを通る水素の一部を再生ガス流入管27(もしくは28)に導入する作用をする。また、上記第2再生ガス導入管32は、上記両再生ガス流出管23,24から延びて純水タンク1内の純水2中に(より詳しく説明すると、純水タンク1内の、純水送給管3の送給口3aより下側部分に)開口しており、水分除去塔16(もしくは17)を再生ガスとして経由した水素を、純水タンク1に溜まる純水2中に送り込む作用をする。図において、19aはゲッター塔19から延びる出口管である。それ以外の部分は、上記基本構造と同様であり、同様の部分には同じ符号を付している。
そして、右側(もしくは左側)の水分除去塔16(もしくは17)で水素を精製し、左側(もしくは右側)の水分除去塔17(16)を再生する場合には、上記開閉弁21a,24a,25a,28a,33a(もしくは22a,23a,26a,27a,33a)を開弁し、上記開閉弁22a,23a,26a,27a(もしくは21a,24a,25a,28a)を閉弁し、右側(もしくは左側)の水分除去塔16(もしくは17)に、水素取出管4aにより供給される水素を導入して水素中の水分を合成ゼオライトに吸着させて水分除去したのち、ゲッター塔19で水素中に残留した窒素,酸素,一酸化炭素,二酸化炭素等を除去し、出口管19aから導出して製品水素導出管6に製品水素として供給する。一方、左側(もしくは右側)の水分除去塔17(もしくは16)に第1再生ガス導入管33を介して、上記水素取出管4aを通る水素の一部を再生ガスとして導入し、合成ゼオライトに吸着させた水分を除去したのち、第2再生ガス導入管32に流出して純水タンク1内の純水2中に送り込み、純水2中でバブリングさせて脱気し、純水2中から空気成分を除去することを行う。
上記のように、この実施の形態でも、上記実施の形態と同様に、上記水素発生装置4で製造した水素を精製して、さらに超高純度(99.99999%)の水素にすることができ、半導体工場向け用等として利用することができる。また、水素精製装置15入口の水素純度がアップするため、水素精製装置15の負荷が軽減され、水素精製装置15の精製効率がアップする。しかも、上記水素取出管4aから取り出した超高純度の水素を再生ガスとして直接水分除去塔16,17に導入しているため、水分除去塔16,17の合成ゼオライトに不純物がほとんど付着することがなく、長期にわたって水分除去塔16,17の水素の精製能力が低下しない。
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
[実施例,比較例]
実施例では、上記基本構造において、4m3 /Hの水素発生能力を有する水素発生装置1を用い、水素取出管4a内の製品水素の一部を純水タンク1内の純水2中に送り込み、純水2中でバブリングを行うことにより、純水2中の酸素,窒素等を追い出した純水2を上記水素発生装置1の電気分解層に供給した。このときの純水2中の溶存酸素は0.1mg/リットルで、純水タンク1に供給する水素流量は1リットル/Hで、純水2の使用量は4リットル/Hであった。一方、比較例では、純水タンク1に製品水素の一部を供給しなかった。このときの純水2中の溶存酸素は8mg/リットルで、純水2の使用量は4リットル/Hであった。
そして、実施例および比較例における、製品水素中の酸素濃度(ppm),製品水素中の窒素濃度(ppm),製品水素の純度(%)および製品水素の収率を測定した。その結果を、下記の表1に示す。この表1で明らかなように、実施例では、製品水素の純度が99.9998%であり、比較例より高純度であることが判る。
Figure 0004223010
なお、上記実施の形態では、水素中の水分を除去することにより、水素を精製しているが、これに限定するものではなく、例えば、窒素,酸素,一酸化炭素,二酸化炭素等を除去することにより、水素を精製してもよい。
本発明の高純度水素の製造装置の基本構造を示す構成図である。 本発明の高純度水素の製造装置の実施の形態を示す構成図である。 水素精製装置の説明図である。 本発明の高純度水素の製造装置の他の実施の形態を示す構成図である。 水素精製装置の説明図である。 従来例を示す構成図である。
符号の説明
1 純水タンク
2 純水
4 水素発生装置

Claims (6)

  1. 貯水タンクに溜めた水を、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させるようにした方法であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を酸水素発生装置から取り出してその一部を貯水タンクに導入し、貯水タンク内の水と接触させて脱気し、その残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記水素の一部を上記脱気後に貯水タンクから取り出して上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給するようにしたことを特徴とする高純度水素の製造方法。
  2. 貯水タンクに溜めた水を、水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させるようにした方法であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を酸水素発生装置から取り出してその一部を貯水タンクに導入し、貯水タンク内の水と接触させて脱気し、その残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記導入に先立って、上記水素の一部を上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給するようにしたことを特徴とする高純度水素の製造方法。
  3. 上記精製部が、上記酸水素発生装置から取り出した水素中の水分を吸着除去する水分除去用吸着塔である請求項1または2記載の高純度水素の製造方法。
  4. 水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置と、水を溜める貯水タンクとを備え、この貯水タンク内の水を酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させる装置であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を上記酸水素発生装置から取り出す取出路と、この取出路で取り出した水素の一部を貯水タンクに導入し貯水タンク内の水と接触させて脱気する導入路とを設け、上記取出路で取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記水素の一部を上記脱気後に貯水タンクから取り出して上記精製部にこの精製部の再生ガスとして供給する供給路を設けていることを特徴とする高純度水素の製造装置。
  5. 水の電気分解により酸素と水素とを発生させる酸水素発生装置と、水を溜める貯水タンクとを備え、この貯水タンク内の水を酸水素発生装置に供給して酸素と水素とを発生させる装置であって、上記酸水素発生装置で発生させた水素を上記酸水素発生装置から取り出す取出路と、この取出路で取り出した水素の一部を貯水タンクに導入し貯水タンク内の水と接触させて脱気する導入路とを設け、上記取出路で取り出した水素の残部を水素精製装置の精製部に供給して精製し、上記導入路を、上記取出路で取り出した水素の一部を上記精製部にこの精製部の再生ガスとして導入する第1導入路と、上記精製部で再生を終えた上記水素の一部を上記精製部から取り出して貯水タンクに導入する第2導入路とで構成していることを特徴とする高純度水素の製造装置。
  6. 上記精製部が、上記酸水素発生装置から取り出した水素中の水分を吸着除去する水分除去用吸着塔である請求項4または5記載の高純度水素の製造装置。
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