JP4221519B2 - フェロセニルメチルアンモニウム塩及びその製造法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は新規な化合物である一般式(1):
【0002】
【化5】
(式中、R1、R2及びR3は上記と同じであり、A-はビストリフロロメタンスルホニルイミダートイオン、テトラフロロボラートイオン、ヘキサフロロホスファートイオン、トリフロロメタンスルホナートイオン又はトリフロロアセタートイオンを表す。)で示されるフェロセニルメチルアンモニウム塩及びその製造法に関する。
【0003】
【従来の技術】
本発明の上記一般式(1)で示されるフェロセニルメチルアンモニウム塩は、文献未記載の新規な化合物である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、電解質を用いる各種電気化学デバイスへの利用、特にエレクトロクロミックデバイス、太陽電池、電気化学センサーとしての利用が期待されるレドックス機能を有する溶融塩及びその製造法を提供することを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行ったところ、レドックス機能を持つフェロセン骨格を分子内に有する新規な溶融塩である一般式(1):
【0006】
【化6】
(式中、R1、R2及びR3は上記と同じであり、A-はビストリフロロメタンスルホニルイミダートイオン、テトラフロロボラートイオン、ヘキサフロロホスファートイオン、トリフロロメタンスルホナートイオン又はトリフロロアセタートイオンを表す。)で示されるフェロセニルメチルアンモニウム塩[以下、フェロセニルメチルアンモニウム塩(1)という。]を見出した。
【0007】
このフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)は、一般式(2):
【0008】
【化7】
(式中、R1及びR2は上記と同じ。)で示される(アミノメチル)フェロセン類[以下、(アミノメチル)フェロセン類(2)という。]を一般式(3):
【0009】
R3−X (3)
(式中、R3は上記と同じ。Xはハロゲン原子を表す。)で示されるハロゲン化炭化水素[以下、ハロゲン化炭化水素(3)という。]と反応させて一般式(4):
【0010】
【化8】
(式中、R1、R2及びR3は上記と同じ。X-はハロゲンイオンを表す。)で示されるフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド[以下、フェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)という。]を製造した後、得られたフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)のハロゲンイオンをビストリフロロメタンスルホニルイミダートイオン[N(CF3SO2)2 -]、テトラフロロボラートイオン[BF4 -]、ヘキサフロロホスファートイオン[PF6 -]、トリフロロメタンスルホナートイオン[CF3SO3 -]又はトリフロロアセタートイオン[CF3COO-]にイオン交換することによって製造することができる。
【0011】
本発明は上記知見に基づき完成するに至ったものである。
【0012】
即ち、本発明はフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)に関する。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)は、上記一般式(1)で表される化合物であり、一般式(1)中のR1、R2及びR3は同じか又は異なってそれぞれアルキル基又はアラルキル基を表し、A-はビストリフロロメタンスルホニルイミダートイオン、テトラフロロボラートイオン、ヘキサフロロホスファートイオン、トリフロロメタンスルホナートイオン又はトリフロロアセタートイオンを表す。R1、R2及びR3で表されるアルキル基としては炭素数1〜18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、またアラルキル基としてはそれぞれベンゼン環にメチル基、エチル基等の低級アルキル基を1個以上有していてもよいベンジル基、1−フェネチル基及び2−フェネチル基が挙げられる。好ましいフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)は、一般式(1)中のR1、R2及びR3がアルキル基であって且つA-がビストリフロロメタンスルホニルイミダートイオンである化合物であり、中でもR1、R2及びR3のアルキル基の少なくとも1個が炭素数4〜12の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である化合物は常温で液状でありレドックス機能を有する常温溶融塩として特に有用である。
【0014】
フェロセニルメチルアンモニウム塩(1)の具体例としては、例えば、カチオン成分が、N,N,N−トリメチルフェロセニルメチルアンモニウムイオン、N−ブチル−N,N−ジメチルフェロセニルメチルアンモニウムイオン、N−オクチル−N,N−ジメチルフェロセニルメチルアンモニウムイオン、N−ドデシル−N,N−ジメチルフェロセニルメチルアンモニウムイオンであるもの等が挙げられる。
【0015】
本発明のフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)は、例えば、(アミノメチル)フェロセン類(2)をハロゲン化炭化水素(3)と反応させてフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)を製造した後、得られたフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)のハロゲンイオンを、ビストリフロロメタンスルホニルイミダートイオン、テトラフロロボラートイオン、ヘキサフロロホスファートイオン、トリフロロメタンスルホナートイオン又はトリフロロアセタートイオンにイオン交換することによって製造することができる。
【0016】
フェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)の製造に使用される(アミノメチル)フェロセン類(2)としては、例えば、[(ジメチルアミノ)メチル]フェロセン、[(ジエチルアミノ)メチル]フェロセン等のN,N−ジアルキルアミノメチルフェロセン、N−ベンジル−N−メチルアミノメチルフェロセン等のN−アルキル−N−アラルキルアミノメチルフェロセン、N,N−ジベンジルアミノメチルフェロセン等のN,N−ジアラルキルアミノメチルフェロセン等を挙げることができ、好ましくはN,N−ジアルキルアミノメチルフェロセンである。
【0017】
またハロゲン化炭化水素(3)としては、例えば、臭化メチル、臭化ブチル、臭化オクチル、臭化ドデシル、塩化メチル、塩化ブチル、塩化オクチル、塩化ドデシル、沃化メチル、沃化ブチル、沃化オクチル、沃化ドデシル等のアルキルハライド、臭化ベンジル、塩化ベンジル、沃化ベンジル、臭化フェネチル、塩化フェネチル、沃化フェネチル等のアラルキルハライドが挙げられ、好ましくはアルキルハライドである。ハロゲン化炭化水素の使用量は、アミノメチルフェロセン類(2)1モルに対して1モル以上であればよく、好ましくは1.1−2.0モルである。
【0018】
フェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)の製造のためのアミノメチルフェロセン類(2)とハロゲン化炭化水素(3)の反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。溶媒の使用量は特に制限はないが、アミノメチルフェロセン類(2)1重量部に対して通常1〜10重量部、好ましくは2〜5重量部である。
【0019】
アミノメチルフェロセン類(2)とハロゲン化炭化水素(3)の反応を実施するには、例えば、アミノメチルフェロセン類(2)、ハロゲン化炭化水素(3)及び溶媒の混合物を、反応に使用する溶媒の種類にもよるが、通常20℃以上、好ましくは60℃〜120℃にて攪拌するだけでよい。反応時間は通常4〜 12時間である。
【0020】
上記のようにしてフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)を含む反応混合物を得た後、得られた反応混合物を濃縮乾固してフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)を主成分とする残渣を得る。次いで残渣を有機溶媒(例えば、エチルエーテル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)と混合し、残渣に含まれる未反応原料等を有機溶媒に溶解した後、濾過する。このようにすると濾滓として高純度のフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)が得られる。
【0021】
本発明のフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)は、上記のようにして得られるフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)のハロゲンイオンを、ビストリフロロメチルスルホニルイミダートイオン、テトラフロロボラートイオン、ヘキサフロロホスファートイオン、トリフロロメタンスルホナートイオン又はトリフロロアセタートイオンにイオン交換することによって製造することができる。
【0022】
イオン交換はフェロセニルメチルアンモニウム=ハライド(4)を、ビストリフロロメチルスルホニルイミド酸、テトラフロロ硼酸、ヘキサフロロリン酸、トリフロロメタンスルホン酸、トリフロロ酢酸又はそれらのアルカリ金属塩(例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等)と水中で混合し、更に得られた混合物に水不溶の有機溶媒(例えば、酢酸エチル、塩化メチレン等)を加えて混合する。その後、水層と有機層を分液すれば、有機層としてフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)の溶液が得られる。得られた有機層を所望により水洗し、次いで有機溶媒を留出除去すれば残渣としてフェロセニルメチルアンモニウム塩(1)が得られる。
【0023】
【実施例】
以下に実施例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【0024】
実施例1
[(ジメチルアミノ)メチル]フェロセン5.0g(0.0206モル)、臭化ブチル4.23g(0.0309モル)及びイソプロパノール25gの混合物を、80℃で6時間攪拌して反応させた。反応終了後、得られた反応混合物を濃縮乾固し、残渣にエチルエーテル15mlを加えて固形物を洗浄し、濾過した。濾滓を減圧下に乾燥してN,N−ジメチル−N−ブチルフェロセニルメチルアンモニウム=ブロミド5.8g(0.0153モル)を得た。
【0025】
上記で得たN,N−ジメチル−N−ブチルフェロセニルメチルアンモニウム=ブロミド2g(0.0053モル)、水15ml及びトリフロロメチルスルホニルイミド酸リチウム1.52g(0.0053モル)を混合し、得られた混合物に酢酸エチル15mlを加えて混合した後、分液して得られた有機層を水 15mlで2回洗浄した。その後有機層から酢酸エチルを留去して除き油状のN,N−ジメチル−N−ブチルフェロセニルメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホンイミダート2.8g(0.0048モル、収率91%)を得た。得られたN,N−ジメチル−N−ブチルフェロセニルメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホンイミダートのNMR及び元素分析の分析結果を次に示す。
【0026】
1H−NMR:4.49(t、2H)、4.38(t、2H)、4.36(s、2H)、4.26(s、5H)、3.10(m、2H)、2.83(s、6H)、1.67(m、2H)、1.26(m、2H)、0.94(t、3H)
元素分析:C 39.4%、H 5.48%、N 4.98%
密度:1.44g/mL(25℃)
分子量:567.38
【0027】
【表1】
【0028】
実施例2
実施例1において臭化ブチルに代えて臭化オクチル6.0g(0.0309モル)を使用した以外は実施例1と同様に行い、油状のN,N−ジメチル−N−オクチルフェロセニルメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホンイミダート2.6g(0.0041モル、収率90%)を得た。得られたN,N−ジメチル−N−オクチルフェロセニルメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホンイミダートの物性を次に示す。
【0029】
1H−NMR:4.48(t、2H)、4.38(t、2H)、4.35(s、2H)、4.25(s、5H)、3.10(m、2H)、2.83(s、6H)、1.67(m、2H)、1.28(m、10H)、0.87(t、3H)
元素分析:C 44.1%、H 5.83%、N 4.72%
密度:1.37g/mL(25℃)
分子量:623.49
【0030】
【表2】
【0031】
実施例3
実施例1において臭化ブチルに代えて臭化ドデシル7.7g(0.0309モル)を使用した以外は実施例1と同様に行い、油状のN,N−ジメチル−N−ドデシルフェロセニルメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホンイミダート2.53g(0.0037モル、収率90%)を得た。得られたN,N−ジメチル−N−ドデシルフェロセニルメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホンイミダートの物性を次に示す。
【0032】
1H−NMR:4.40(t、2H)、4.35(m、4H)、4.25(s、5H)、3.10(m、2H)、2.90(s、6H)、1.67(m、2H)、1.28(m、18H)、0.88(t、3H)
元素分析:C 46.3%、H 5.95%、N 4.40%
密度:1.27g/mL(25℃)
分子量:679.59
【0033】
【表3】
【0034】
実施例4
(フェロセニルメチル)トリメチルアンモニウム=ブロミド(試薬、東京化成品)2g(0.0059モル)、水15ml及びトリフロロメチルスルホニルイミド酸ナトリウム1.69g(0.0059モル)を混合し、得られた混合物に酢酸エチル15mlを加えて混合した後、分液して得られた有機層を水15mlで2回洗浄した。その後有機層から酢酸エチルを留去して除き、N,N,N−トリメチルフェロセニルメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホニルイミダート3.0g(0.0056モル、収率94%)の結晶を得た。この結晶の融点は80℃であった。得られた(フェロセニルメチル)トリメチルアンモニウム=ビストリフロロメチルスルホニルイミダートのNMRの測定結果を次に示す。
【0035】
1H−NMR: 4.50(t、2H)、4.39(m、2H)、4.37(s、2H)、4.25(s、5H)、2.90(s、9H)
Claims (2)
- 一般式(2):
R3−X (3)
(式中、R3は上記と同じ。Xはハロゲン原子を表す。)で示されるハロゲン化炭化水素と反応させて一般式(4):
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2002
- 2002-03-22 JP JP2002081457A patent/JP4221519B2/ja not_active Expired - Lifetime
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