JP4220968B2 - アモルファスカーボン膜被覆基材及びアモルファスカーボン膜の成膜方法 - Google Patents
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Description
図1は本実施形態にかかるアモルファスカーボン膜被覆基材の構成図である。図2は従来技術にかかるアモルファスカーボン膜被覆基材の構成図である。
図1に示すように、本実施形態にかかるアモルファスカーボン膜被覆基材20は、基材21の表面に減圧下で放電プラズマによりアモルファスカーボン膜22を成膜してなるアモルファスカーボン膜被覆基材であって、前記基材21とアモルファスカーボン膜22との界面に、酸素、窒素のいずれか一方又は両方を有する活性処理層23を含むものである。
また、例えば、容器内を窒素で置換する場合には、容器内が窒素ガス雰囲気となり、該窒素が活性処理層23に加わることになる。また、例えば容器内を酸素で置換する場合には、容器内が酸素ガス雰囲気となり、該酸素が活性処理層23に加わることになる。
さらに、容器内が空気で置換する場合には、容器内が窒素ガスと酸素ガス雰囲気となり、窒素と酸素とが活性処理層23に加わることになる。
ここで、b*絶対値が7を超える場合には、着色があり、透明性に欠けるからである。
また、この樹脂、ガラス、セラミック基材には、例えば発光層、電極層等の電子材料を有するものであってもよい。例えば電子材料としては、有機EL(Organic Electro Luminescence、又は、OLED(Organic Light Emitting Diode)ともいう。)又は無機EL基板の保護膜としてアモルファスカーボン膜を用いるようにしてもよい。
前記容器としては、例えばガソリンタンク等の燃料を充填する容器等を挙げることができる。また、それ以外の容器としては、例えば医薬品用プラスチック容器、食品用プラスチック容器を挙げることができる。また、容器以外には、フィルム等に対するガスバリヤ膜として有効である。
媒質ガスとしてアセチレン50sccmを導入し、周波数13.56MHz、RFパワー700Wを各々印加し、成膜圧力を0.12Torrとしてプラスチックフィルム(PET)基材にアモルファスカーボン膜を成膜した。放電時間は1.6秒とした。
そして、媒質ガス導入により成膜容器内の圧力が上昇を始める時刻をt=0とし、1.0、0.7、0.5、0.3、0.0、−0.6秒後に放電を開始させてアモルファスカーボン膜を成膜した。
測定条件を下記に示す。
装置:Quantera SXM(PHI社製)
励起X線:monochromatic AlKα1,2線(1486.6 eV)
X線径:100μm
光電子脱出角度:45度(試料表面に対する検出器の傾き)
イオンエッチング:Ar イオン 1.0kV
エッチング速度:1.02nm/分(SiO2換算値)
rasterサイズ:2×2mm
この結果、「実―1〜4」のt=0.7〜0.0秒の間とするのが好ましいことが判明した。
このときの活性処理層における窒素濃度は0.5〜3.6%であった。
図9は比較例1の場合であり、媒質ガスの置換によって窒素が排出され、窒素の検出限界(0.2%)以下である。
21 基材
22 アモルファスカーボン膜
23 活性処理層
Claims (6)
- 基材表面に減圧下で放電プラズマによりアモルファスカーボン膜を成膜してなるアモルファスカーボン膜被覆基材であって、
前記基材とアモルファスカーボンとの界面に、炭素を主成分とすると共に窒素を有し、その窒素濃度が0.5〜3.6%である活性処理層を含むことを特徴とするアモルファスカーボン膜被覆基材。 - 請求項1において、
前記アモルファスカーボン膜が軟質膜又は硬質膜のいずれかであることを特徴とするアモルファスカーボン膜被覆基材。 - 請求項1又は2において、
前記活性処理層が30nm以下であることを特徴とするアモルファスカーボン膜被覆基材。 - 請求項1において、
前記基材がフィルム、シート、又は容器のいずれかであることを特徴とするアモルファスカーボン膜被覆基材。 - 媒質ガスで成膜装置内の残留空気を置換しつつRF放電を開始させ、高周波プラズマにより基材の界面に、炭素を主成分とすると共に窒素を有し、その窒素濃度が0.5〜3.6%である活性処理層を形成し、その後、アモルファスカーボン膜を成膜することを特徴とするアモルファスカーボン膜の成膜方法。
- 請求項5において、
成膜圧力が0.1〜5Torr、RF出力が200〜2000Wの高周波プラズマ発生条件であることを特徴とするアモルファスカーボン膜の成膜方法。
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---|---|---|---|---|
JP4877934B2 (ja) * | 2006-05-10 | 2012-02-15 | 麒麟麦酒株式会社 | ガスバリア性プラスチック容器用のプリフォーム及びガスバリア性プラスチック容器の製造方法 |
CN107921743B (zh) * | 2015-10-29 | 2020-11-17 | 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司 | 阻隔膜或片和包括膜或片的层压包装材料及其制成的包装容器 |
US10697552B2 (en) | 2017-01-26 | 2020-06-30 | Toto Ltd. | Faucet valve |
JP2020055640A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-09 | 大日本印刷株式会社 | 包装材料及び包装容器 |
EP4162324A1 (en) | 2020-06-08 | 2023-04-12 | ASML Netherlands B.V. | Substrate holder for use in a lithographic apparatus and a method of manufacturing a substrate holder |
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