JP4218684B2 - 半導体装置とその製造方法 - Google Patents

半導体装置とその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4218684B2
JP4218684B2 JP2006003305A JP2006003305A JP4218684B2 JP 4218684 B2 JP4218684 B2 JP 4218684B2 JP 2006003305 A JP2006003305 A JP 2006003305A JP 2006003305 A JP2006003305 A JP 2006003305A JP 4218684 B2 JP4218684 B2 JP 4218684B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
external electrode
semiconductor chip
semiconductor device
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006003305A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006179939A (ja
Inventor
敏紀 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2006003305A priority Critical patent/JP4218684B2/ja
Publication of JP2006179939A publication Critical patent/JP2006179939A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4218684B2 publication Critical patent/JP4218684B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

本発明は、半導体チップを搭載し、樹脂封止して形成される半導体装置の製造方法、および半導体装置に関する。
従来の半導体装置の一例として、図7に示す構造がある。この技術は、半導体装置用導電性板としてのリードフレーム1上に半導体チップ2を接着剤3を用いて設置し、導電性ワイヤ4を用いて半導体チップ2とリードフレーム1とを接続する。次いで、チップ周囲をトランスファーモールドと呼ばれる技術を使い樹脂5で封止し、この封止樹脂5の側端面より突出したリードフレーム1の部分をクランク状に折り曲げることにより半導体装置6を製造する。
しかしながら、このような半導体装置は、以下のような課題を有する。
すなわち、トランスファーモールド技術を用いるために、モールド用の金型やその駆動装置、また、リードフレーム1を曲げるための金型とその駆動装置が必要であり、非常に大きな設備投資を必要としている。また、リードフレーム1を半導体装置毎に折り曲げるために、工数が多くかかり、半導体装置が高価になる。また、リードフレーム1が樹脂5より突出していることにより、半導体装置が大きくなり、実装した場合に大きな面積を基板上で必要とし、製品としての小型化が困難である。
本発明は、このような従来技術の課題を解決するものであり、その目的とするところは、従来に比して大幅に小型、薄型にすることができ、特に集積度の高い半導体装置とその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、以下の内容を特徴とするものである。
(1)半導体チップと、
前記半導体チップの電極と電気的に導通される外部電極端子と、
前記半導体チップと前記外部電極端子とを封止する樹脂と、を有する半導体パッケージを含む半導体装置であって、
前記外部電極端子が前記半導体パッケージの長辺に沿った側端面のうち一方の側端面にのみ配置され、かつ前記半導体パッケージの裏面と前記一方の側端面とにおいて前記樹脂から露出する第1の半導体パッケージおよび第2の半導体パッケージを有し、
前記第1の半導体パッケージの表面と前記第2の半導体パッケージの表面とを前記外部電極端子が上下対称になるように接合してなること。
(2)前記半導体チップは、メモリ系の回路が形成されたものであることを特徴とする。
(3)前記半導体パッケージは前記半導体パッケージの裏面に前記半導体チップを露出させてなること。
(4)前記半導体パッケージは前記半導体パッケージの裏面に前記半導体チップ搭載領域のダイパッドを露出させてなること。
(5)前記外部電極端子は前記一方の側端面側の厚み方向に長く、前記半導体パッケージの裏面側の短辺方向に短く前記樹脂から露出すること。
(6)前記外部電極端子の前記半導体チップと対向する側端面は、前記外部電極端子の裏面側から表面側に至るにしたがって迫り出すオーバハング形状を有すること。
また、本発明の別の構成に係る半導体装置は、以下の内容を特徴とするものである。
(8)半導体チップと、
前記半導体チップの電極と電気的に導通される外部電極端子と、
を有する半導体装置要素を複数連接配列して樹脂封止した半導体ユニットであって、
前記外部電極端子は各々前記半導体ユニットの長辺に沿った側端面のうち一方の側端面にのみ配置され、かつ前記半導体ユニットの裏面と前記一方の側端面とにおいて前記樹脂から露出する第1の半導体ユニットおよび第2の半導体ユニットを有し、
前記第1の半導体ユニットの表面と前記第2の半導体ユニットの表面とを前記外部電極端子が上下対称になるように接合してなること。
また、本発明の半導体装置の製造方法は、以下の内容を特徴とするものである。
(9)1枚の導電性板上に複数の半導体装置構成要素の領域を設定し、前記導電性板の片面にて前記半導体装置構成要素の各領域において少なくとも半導体チップ搭載領域の周囲に配置される外部電極端子形成領域を残して前記半導体チップ搭載領域およびその周囲に薄肉部を形成するエッチング工程と、
各半導体装置構成要素の各領域にて前記薄肉部の半導体チップ搭載領域上に半導体チップを搭載する半導体チップ搭載工程と、
前記半導体チップと前記外部電極端子形成領域とを電気的に導通させるボンディング工程と、
前記導電性板の半導体チップ搭載面側にて前記半導体チップおよび前記外部電極端子形成領域を封止する樹脂封止工程と、
前記導電性板の非エッチング面側から少なくとも薄肉部を研削除去することにより前記半導体チップ搭載領域と外部電極端子形成領域相互間とを分離させる研削除去工程と、
前記導電板を複数の半導体装置構成要素の領域毎に切り離し分断処理して裏面と長辺に沿った側端面のうち一方の側端面とにおいて前記樹脂から外部電極端子を露出させた半導体パッケージを形成する分断処理工程と、
前記半導体パッケージを2個接合する工程と、を有する半導体装置装置の製造方法において、
前記半導体パッケージを2個接合する工程は、前記2個の半導体パッケージの表面同士を前記外部電極端子が上下対称になるように接合すること。
(10)前記樹脂封止工程では導電性板に搭載された半導体チップを全て一括樹脂封止すること。
また、本発明の別の構成に係る半導体装置の製造方法は、以下の内容を特徴とするものである。
(12)1枚の導電性板上に複数の半導体装置構成要素の領域を設定し、前記導電性板の片面にて前記半導体装置構成要素の各領域において少なくとも半導体チップ搭載領域の周囲に配置される外部電極端子形成領域を残して前記半導体チップ搭載領域およびその周囲に薄肉部を形成するエッチング工程と、
各半導体装置構成要素の各領域にて前記薄肉部の半導体チップ搭載領域上に半導体チップを搭載する半導体チップ搭載工程と、
前記半導体チップと前記外部電極端子形成領域とを電気的に導通させるボンディング工程と、
前記導電性板の半導体チップ搭載面側にて前記半導体チップおよび前記外部電極端子形成領域を封止する樹脂封止工程と、
前記導電性板の非エッチング面側から少なくとも薄肉部を研削除去することにより前記半導体チップ搭載領域と外部電極端子形成領域相互間とを分離させる研削除去工程と、
前記導電板を複数の半導体装置構成要素の領域毎に切り離し分断処理して裏面と長辺に沿った側端面のうち一方の側端面とにおいて前記樹脂から外部電極端子を露出させた半導体ユニットを形成する分断処理工程と、
前記半導体ユニットを2個接合する工程と、を有する半導体装置装置の製造方法において、
前記分断処理工程は、前記半導体装置構成要素を複数個連接配列して前記外部電極端子形成領域を厚み方向に分断して前記半導体ユニットを形成し、
前記半導体ユニットを2個接合する工程は、前記2個の半導体ユニットの表面同士を前記外部電極端子が上下対称になるように接合すること。
以下に、本発明に係る半導体装置の製造方法および半導体装置の具体的実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図1は第1の実施形態に係る半導体装置の製造工程を示し、図2は同方法によって製造された半導体装置を示し、図3は同半導体装置をハンダ実装した状態の正面図を示している。
まず、第1実施形態に係る半導体装置が図2に示されている。図示のように、この半導体装置10は、一対の半導体パッケージ12を貼り合わせて1つの半導体装置として構成したものである。半導体パッケージ12を一つのチップサイズパッケージ(CSP)として作成し、製造された一対の半導体パッケージ12同士を接合一体化することにより一つの半導体装置10を作成するようにしている。
まず、半導体パッケージ12は樹脂14により半導体チップ16を封止して構成されている。すなわち、半導体チップ16の入出力電極パッド18と、当該チップ16の片側に片寄せて配列された外部電極端子20とがボンディングワイヤ22により電気的に導通されている。半導体チップ16におけるボンディング側の全体を覆って樹脂封止するとともに、チップ16の裏面側は封止樹脂14から露出するように形成されている。チップ16の一部が露出している封止樹脂14の一面のコーナ部分にて、前記外部電極端子20がL字状に露出するように形成させている。このような半導体パッケージ12を一対を準備し、これらをボンディングワイヤ22側が対面するようにして接着結合することで半導体装置10を作成している。このとき、半導体装置10における一平面の両縁辺に前記外部電極端子20の配列するように接合して貼り合わせ一体化するのである。
このような半導体装置10を製造する工程を図1を参照して説明する。まず、図1(1)に示しているように、これは複数の半導体装置を複数同時に製造するためのもので、複数の装置構成要素を形成できるような平面積を有する例えば銅板製導電性板24を準備する。この導電性板24には装置構成要素単位ごとに半導体チップ搭載領域Cの1辺部に沿って配置される外部電極端子形成領域Tのみをランド部として残し、図1(2)に示しているように、その周囲に等方性エッチングにより表面層が除去された薄肉部26を形成し、この薄肉部26は非エッチング面側からの研削により前記外部電極端子形成領域Tの相互間を分離可能な深さに設定し、ランド部は隣接するパッケージ構成要素の外部電極端子形成部と共用するようにしている。
この導電性板24では、半導体チップ16を搭載する部分を薄肉部26とし、外部電極端子形成部201の両側の位置に半導体チップ16を搭載するようにしている。この搭載領域は、薄肉部26の表面の一部である。厚肉部突起箇所である外部電極端子形成部201は、半導体チップ16の入出力電極パッド18からワイヤ22などで接続される部分となる。外部電極端子形成部201は、独立した突起になるように薄肉部26より厚くしてあるとともに、隣接するパッケージ構成要素と共用するようにしているため、幅寸法は隣接するチップ16からのボンディングワイヤ22をそれぞれ溶着できるスペースを確保できるように設定する。また、外部電極形成部201の一部あるいは全部の上面には、ボンディングの際の接合性の向上の為に、図1(3)に示しているように、導電性めっき28を施す場合がある。
同じく、図1(3)の断面図に示すように、導電性板24のダイ付け部(ダイパッド)の上に半導体チップ16を接着剤30などを用いて搭載し、続いて、図1(4)に示しているように、半導体チップ16の入出力電極パッド18と導電性板24の外部電極形成部201の上部平坦部を導電性ワイヤ22を用い接続する。
その後、図1(5)に示すように導電性板24の上の突起が存在する面、すなわち半導体チップ16の搭載面のダイ付け部(ダイパッド)、外部電極形成部201、半導体チップ16、導電性ワイヤ22の全てを覆うように、樹脂14にて全体を封止する。封止したのち、導電性板24を薄肉部26側、すなわち樹脂封止されていない面すなわち非エッチング面側から、導電性板24が露出している面から研削(あるいはカッティング)する。その際の研削は、薄肉部24が完全になくなるまで行う。すなわち、外部電極端子20が電気的に完全に独立する厚み方向の研削面32に示す位置まで研削する。この場合、半導体チップ16の底面は、外部電極端子形成部201の上面より下方の位置にある為に、研削面32まで研削する際には、半導体チップ16の下面の一部は研削されることになる(図1(5)参照)。
ところで、図1(5)から明らかなように、この実施例では複数のパッケージ要素単位が平面状に多数同時に形成されるため、これらを分離するための厚み方向の分断位置を外部電極端子形成部201を中央から分断するように分断線34と、隣接半導体チップ16同士の分断線36が設定されている。これにより、各半導体パッケージ12の一方のコーナ部分に図2に示すようなL字形状の外部電極端子20が形成される。図示のように、実施形態では、L字形外部電極端子20は、エッチング深さにもよるが、直方体のパッケージにおける長辺に沿った側端面側で長く、パッケージ裏面に露出した面すなわち半導体チップが露出したつ面が短くなるように設定されている。
なお、上記実施例では、外部電極端子形成部201を半導体チップ16の片側だけに片寄せて配置し、これにワイヤボンディングして樹脂封止させ、導伝板24の研削による電極分離と、厚み方向に沿って装置単位間を分離する分断線34、36で外部電極端子形成部201の分断とチップ16間分断とによってパッケージ要素を分割するような位置に設定したものである。
このような研磨・分割処理により、図1(6)に示しているように、半導体パッケージ12が多数作成される。このパッケージ12は、当該パッケージ12の片側の側縁にのみ外部電極端子20が配置形成される。このようにして製造された半導体パッケージ12を一対の組み合わせとして、これらを背中合わせ状態、すなわちワイヤボンディングを施した面どうしを接着剤38により接合一体化して半導体装置10が出来上がる。
このような半導体装置10は、図3に示すように、パッケージを立設して基板実装することができ、基板40への実装面積を小さくすることができる利点がある。特に、コーナL型の外部電極端子20はハンダ溶着した場合の溶着面積が大きいため、フィレット42が確実に形成されて安定した実装を行なえる。
このように当該実施形態では半導体装置の高集積化が実現でき、また、個々にパッケージを作成した後に合体接合するので、良品を選別してから合体させることが可能となり、歩留まりの向上効果が高い。なお、半導体チップ52の電極54は図2において2列構造のものへの適用例を示したが、近年ではチップ電極は中央1列のものも存在するので、このような中央配列のチップを用いることで分散処理が可能となる。
次に、図4および図5には第2の実施形態に係る半導体装置の製造方法の説明図と、当該方法により製造された半導体装置50の斜視図を示す。この第2の実施形態に係る半導体装置50は、半導体チップ52の電極54と外部電極端子56とをワイヤ58で電気的導通を図って構成される半導体パッケージ要素60を複数直列に連接配列して樹脂62で封止するとともに、前記封止樹脂62のコーナ外表面部に前記外部電極端子56をL字状に露出形成させて構成している。
このような半導体装置50は、図4に示しているように、導電板64を複数の領域に区分し、各区分領域に各々半導体パッケージ要素60を形成する。このとき、共通の外部電極端子形成部501を挟んで対象に各要素60を配置すると共に、これらに連続的に直列した配列となるようにして、半導体パッケージ要素60がマトリックス状に配列するように構築する。チップ52、外部電極端子56、これらの導電用ワイヤ58の接続、樹脂封入の処理は図1に示したものと同様の工程を経て行なわれる。この実施形態ではマトリックス状に複数の半導体パッケージ要素60を同時に配列している点が図1の場合と異なる。なお、上記複数のエッチングを形成しようとする方法は等方性エッチングとして行なうことが望ましい。等方性エッチングであるためエッチング領域は奥に進むほどえぐれた状態となる。したがって、薄肉部から立設した状態にある非エッチング領域は、表面側に至るにしたがって迫り出し、オーバハング状態となる。このため後工程で樹脂封止が行われるが、樹脂内への埋め込み側の相当直径が大きくなり、これがアンカとして作用するために薄肉部を研削除去して島として残されても樹脂から抜け出ることが防止される このように配列された半導体パッケージ要素60を2個1組のユニットとして半導体装置50が構成されるように、図4に示している分離線66、68にしたがって分離するのである。なお、1組となるパッケージ要素60の数は2個に限らず、2以上の複数のパッケージ要素60を1組のユニットとすることができるのは当然である。これによって図5に示される半導体装置50が製造できる。更に、この図5の半導体装置50同士を一体接合することで形成された例が図6の半導体装置70である。このように構成することで、完成した半導体装置50,70はメモリユニットとしてそのまま基板ソケットに入れて用いるようにすることが可能である。
このような実施形態によれば、従来のメモリボードに用いられるメモリユニットに代わって極めて小型化したメモリとして使用することができる。また、メモリカードに用いる場合、従来のメモリボードではパッケージの製造の後に基板実装を行なってメモリカードが完成したが、この実施形態ではパッケージの製造と同時にメモリカードとして完成するので、工程が簡易になる効果がある。
以上説明したように、本発明によれば、予め銅板などからなる導伝板に、半導体チップ搭載領域の片側に外部電極端子形成部に相当する部分を残していわゆるハーフエッチングを行ない、チップ搭載と、残されたランドとをワイヤボンディングし、樹脂封止を行ない、外部電極端子形成部を分断して樹脂のコーナ部分にL字型の電極ができるようにした半導体パッケージ要素を一対貼り合わせて一つの半導体装置とし、または直列に一体成形し、あるいはそれを貼り合わせて接合一体化した半導体装置としたので、チップサイズパッケージが接合、連接した集積度の高い半導体装置とすることができる。この種の半導体装置のパッケージサイズを大幅に小さく、薄型化しつつ、このような小型で薄型の半導体装置を簡便な方法により製造することができる。
第1の実施形態に係る半導体装置の製造方法の工程図である。 同方法により製造された半導体装置の断面図と斜視図である。 同半導体装置の実装状態の説明図である。 第2実施形態に係る製造方法を説明するためのもので、導電板に半導体パッケージ要素を配列した平面図である。 同方法により製造された半導体装置の斜視図である。 第3実施形態の係る半導体装置の斜視図である。 従来の半導体装置の断面図である。
符号の説明
10 半導体装置
12 半導体パッケージ
14 封止樹脂
16 半導体チップ
18 入出力電極パッド
20 外部電極端子
201 外部電極端子形成部
22 ボンディングワイヤ
24 導電性板
26 薄肉部
28 導電性めっき
30 接着剤
32 研削面
34 分断線
36 分断線
38 接着剤
40 実装基板
42 ハンダフィレット
50 第2実施形態の半導体装置
52 半導体チップ
54 電極パッド
56 外部電極端子
58 ワイヤ
60 半導体パッケージ要素
62 封止樹脂
64 導電板
66 分断線
68 分断線
70 第3実施形態の半導体装置
74 放電ユニット

Claims (10)

  1. 半導体チップと、
    前記半導体チップの電極と電気的に導通される外部電極端子と、
    前記半導体チップと前記外部電極端子とを封止する樹脂と、を有する半導体パッケージを含む半導体装置であって、
    前記外部電極端子が前記半導体パッケージの長辺に沿った側端面のうち一方の側端面にのみ配置され、かつ前記半導体パッケージの裏面と前記一方の側端面とにおいて前記樹脂から露出する第1の半導体パッケージおよび第2の半導体パッケージを有し、
    前記第1の半導体パッケージの表面と前記第2の半導体パッケージの表面とを前記外部電極端子が上下対称になるように接合してなることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記半導体チップは、メモリ系の回路が形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記半導体パッケージは前記半導体パッケージの裏面に前記半導体チップを露出させてなることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
  4. 前記半導体パッケージは前記半導体パッケージの裏面に前記半導体チップ搭載領域のダイパッドを露出させてなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
  5. 前記外部電極端子は前記一方の側端面側の厚み方向に長く、前記半導体パッケージの裏面側の短辺方向に短く前記樹脂から露出することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体装置。
  6. 前記外部電極端子の前記半導体チップと対向する側端面は、前記外部電極端子の裏面側から表面側に至るにしたがって迫り出すオーバハング形状を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体装置。
  7. 半導体チップと、
    前記半導体チップの電極と電気的に導通される外部電極端子と、
    を有する半導体装置要素を複数連接配列して樹脂封止した半導体ユニットであって、
    前記外部電極端子は各々前記半導体ユニットの長辺に沿った側端面のうち一方の側端面にのみ配置され、かつ前記半導体ユニットの裏面と前記一方の側端面とにおいて前記樹脂から露出する第1の半導体ユニットおよび第2の半導体ユニットを有し、
    前記第1の半導体ユニットの表面と前記第2の半導体ユニットの表面とを前記外部電極端子が上下対称になるように接合してなることを特徴とする半導体装置。
  8. 1枚の導電性板上に複数の半導体装置構成要素の領域を設定し、前記導電性板の片面にて前記半導体装置構成要素の各領域において少なくとも半導体チップ搭載領域の周囲に配置される外部電極端子形成領域を残して前記半導体チップ搭載領域およびその周囲に薄肉部を形成するエッチング工程と、
    各半導体装置構成要素の各領域にて前記薄肉部の半導体チップ搭載領域上に半導体チップを搭載する半導体チップ搭載工程と、
    前記半導体チップと前記外部電極端子形成領域とを電気的に導通させるボンディング工程と、
    前記導電性板の半導体チップ搭載面側にて前記半導体チップおよび前記外部電極端子形成領域を封止する樹脂封止工程と、
    前記導電性板の非エッチング面側から少なくとも薄肉部を研削除去することにより前記半導体チップ搭載領域と外部電極端子形成領域相互間とを分離させる研削除去工程と、
    前記導電板を複数の半導体装置構成要素の領域毎に切り離し分断処理して裏面と長辺に沿った側端面のうち一方の側端面とにおいて前記樹脂から外部電極端子を露出させた半導体パッケージを形成する分断処理工程と、
    前記半導体パッケージを2個接合する工程と、を有する半導体装置装置の製造方法において、
    前記半導体パッケージを2個接合する工程は、前記2個の半導体パッケージの表面同士を前記外部電極端子が上下対称になるように接合することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  9. 前記樹脂封止工程では導電性板に搭載された半導体チップを全て一括樹脂封止することを特徴とする請求項に記載の半導体装置の製造方法。
  10. 1枚の導電性板上に複数の半導体装置構成要素の領域を設定し、前記導電性板の片面にて前記半導体装置構成要素の各領域において少なくとも半導体チップ搭載領域の周囲に配置される外部電極端子形成領域を残して前記半導体チップ搭載領域およびその周囲に薄肉部を形成するエッチング工程と、
    各半導体装置構成要素の各領域にて前記薄肉部の半導体チップ搭載領域上に半導体チップを搭載する半導体チップ搭載工程と、
    前記半導体チップと前記外部電極端子形成領域とを電気的に導通させるボンディング工程と、
    前記導電性板の半導体チップ搭載面側にて前記半導体チップおよび前記外部電極端子形成領域を封止する樹脂封止工程と、
    前記導電性板の非エッチング面側から少なくとも薄肉部を研削除去することにより前記半導体チップ搭載領域と外部電極端子形成領域相互間とを分離させる研削除去工程と、
    前記導電板を複数の半導体装置構成要素の領域毎に切り離し分断処理して裏面と長辺に沿った側端面のうち一方の側端面とにおいて前記樹脂から外部電極端子を露出させた半導体ユニットを形成する分断処理工程と、
    前記半導体ユニットを2個接合する工程と、を有する半導体装置装置の製造方法において、
    前記分断処理工程は、前記半導体装置構成要素を複数個連接配列して前記外部電極端子形成領域を厚み方向に分断して前記半導体ユニットを形成し、
    前記半導体ユニットを2個接合する工程は、前記2個の半導体ユニットの表面同士を前記外部電極端子が上下対称になるように接合することを特徴とする半導体装置の製造方法。
JP2006003305A 2006-01-11 2006-01-11 半導体装置とその製造方法 Expired - Fee Related JP4218684B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006003305A JP4218684B2 (ja) 2006-01-11 2006-01-11 半導体装置とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006003305A JP4218684B2 (ja) 2006-01-11 2006-01-11 半導体装置とその製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26212698A Division JP3777822B2 (ja) 1998-09-16 1998-09-16 半導体装置の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008247583A Division JP4798199B2 (ja) 2008-09-26 2008-09-26 半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006179939A JP2006179939A (ja) 2006-07-06
JP4218684B2 true JP4218684B2 (ja) 2009-02-04

Family

ID=36733664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006003305A Expired - Fee Related JP4218684B2 (ja) 2006-01-11 2006-01-11 半導体装置とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4218684B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006179939A (ja) 2006-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3521758B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3420153B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
US7615859B2 (en) Thin semiconductor package having stackable lead frame and method of manufacturing the same
US6720207B2 (en) Leadframe, resin-molded semiconductor device including the leadframe, method of making the leadframe and method for manufacturing the device
US9583455B2 (en) Semiconductor device
US7968376B2 (en) Packaged microelectronic devices and methods for manufacturing packaged microelectronic devices
JP2001189415A (ja) ワイヤボンディング方法及びこれを用いた半導体パッケージ
JPH11312706A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法、リードフレーム
KR20000028854A (ko) 플라스틱 집적회로 장치 패키지와 마이크로 리드프레임 및패키지의 제조 방법
JP2005051130A (ja) リードレスパッケージ型半導体装置とその製造方法
US9129975B2 (en) Method of forming a thin substrate chip scale package device and structure
KR19990006158A (ko) 볼 그리드 어레이 패키지
US7095096B1 (en) Microarray lead frame
US9543279B2 (en) Method of manufacturing a single light-emitting structure
JP2001298144A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP4218684B2 (ja) 半導体装置とその製造方法
JP3777822B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP4798199B2 (ja) 半導体装置の製造方法
TWI467729B (zh) 射頻模組之封裝結構及其製造方法
JP4353935B2 (ja) リードレスパッケージ型半導体装置
KR101333001B1 (ko) 반도체 패키지용 리드프레임 및 이를 이용한 반도체 패키지 제조 방법
JP2005142284A (ja) 半導体装置
US20150333041A1 (en) Semiconductor device and manufacturing method therefor
JP2006253360A (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置
KR100566780B1 (ko) 적층형 멀티 칩 패키지 제조 방법 및 이를 이용한 적층형 멀티 칩 패키지

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070404

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080725

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080729

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080926

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081021

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081103

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131121

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees