JP4210089B2 - 合成石英ガラス繊維、ストランド、ヤーン及びクロス - Google Patents

合成石英ガラス繊維、ストランド、ヤーン及びクロス Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多層プリント基板に用いられる合成石英ガラス繊維、糸(ストランド又はヤーン)、布(クロス)に関する。特に1GHz以上の高周波回路に必要な低誘電率、低損失なプリント基板を形成するための合成石英ガラス繊維、糸、布に関する。
【0002】
【関連技術】
従来、多層プリント基板に用いられるガラス布として、Eガラス繊維、Dガラス繊維から織布された布が用いられてきた(例えば、特許文献1〜3参照。)。
【0003】
【特許文献1】
特開平9−74255号公報
【特許文献2】
特開平2−61131号公報
【特許文献3】
特開昭62−169495号公報
【0004】
しかしながら、近年、半導体素子の高速化に伴うコンピュータや周辺機器に用いられるプリント配線基板の高速化が進み、更にインターネットや携帯電話の急激な普及に伴い、通信機器、放送用機器の高速大容量伝送の要求が高まっているために、これら多層プリント基板においても、高周波特性の改良が必要となっており、特に1GHzを超える高周波域における損失や遅延の問題が注目されてきている。
【0005】
このため、ガラス繊維の中でも特に誘電率が小さく、誘電損失も小さな石英ガラス繊維が注目されたが、これらの石英ガラス繊維は天然石英ガラス繊維であるために、電気特性に不純物によるむらが生じる事がある場合があることが判っている。
【0006】
また、より高周波な電気信号を処理するために、より小さな誘電損失、誘電率も求められている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、天然石英ガラス繊維の電気特性を更に改善すると同時にこれらの特性にばらつきの少ないより安定なものとすることで、より付加価値を高めることを課題としてなされたもので、特に1GHzを超える高周波回路、更には10GHzを超える超高周波回路に用いられる多層プリント基板用の合成石英ガラス繊維、糸及び布を提供する事を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
発明者らは、石英ガラス繊維の誘電率及び誘電正接に影響を及ぼす因子を検討するために鋭意検討を加えた結果、石英ガラス中に含まれる金属不純物量及びアニオン系不純物であるOH基濃度、塩素濃度が重要である事を見出した。
【0009】
即ち、石英ガラス中でカチオン化していると考えられる金属不純物、特に拡散係数の大きいNa、Li、Kの3種類のアルカリ金属濃度についてはそれぞれ単独で0.5ppm以下、Cu、Agなどの1価のイオンを形成する金属元素の内、特に石英ガラス中に存在頻度の高いCu及びAgの濃度を総計で0.2ppm以下とすること、Ca、Mgの2種類のアルカリ土類金属濃度を総計で0.5ppm以下、Fe、Cr等の多価イオンを形成する金属元素の内、存在頻度の高いFe、Ni、Crの濃度の総和を1ppm以下、骨格形成元素であるAlの濃度を1ppm以下とすること、更に、アニオン系不純物であるOH基濃度と塩素濃度をある規定値範囲内に抑制する事により、通常の天然石英ガラス繊維に比べて更なる低誘電率、低誘電正接を達成出来る事を見出した。
【0010】
この場合、電気特性に対するOH基と塩素の寄与率を考慮した場合、塩素の寄与はOH基の寄与の2/3程度と見積もられる事から、重量百万分率(ppm)で表わしたOH基濃度:COHと、同じく重量百万分率(ppm)で表わした塩素濃度に2/3を乗じた数:2/3CClの総和、即ち式S=COH+2/3CClで定義される値(S値)が200以上、1000以下であれば良好な電気特性を得られる事を見出した。
【0011】
尚、Fは合成石英ガラスの粘度を低下させるため、紡糸を容易にする添加物であるが、仕上がった合成石英ガラス繊維の電気特性を著しく劣化するため、含まれない事(濃度として10ppm以下)が好ましい。
【0012】
このような高純度は天然石英ガラスでは達成が困難なので合成石英ガラス繊維であることが必要になる。
【0013】
また、合成石英ガラス繊維に特定をしたことで、これら不純物の総量自体の抑制に加えて不純物濃度、特に総量の大きなアニオン系不純物濃度のばらつきを抑制する事が可能となった結果、電気特性のむらが大幅に改善された安定な合成石英ガラス繊維が得られる事を見出した。
【0014】
本発明の合成石英ガラス繊維は、1GHz以上の高周波用多層プリント基板に用いられ、繊維径がφ3μ以上、φ9μ以下の合成石英ガラス繊維であって、含有されるOH基濃度(ppm)COHと塩素濃度(ppm)に2/3を乗じた量2/3CClとの総和S=COH+2/3CClが200以上1000以下、Na、K、Liの3種類のアルカリ金属元素が各0.5ppm以下、Ca、Mgの2種類のアルカリ土類金属元素含有量の総和が0.5ppm以下、Cu及びAgの含有量の総和が0.2ppm以下、Fe、Ni、Crの含有量の総和が1ppm以下及びAlの含有量が1ppm以下である事を特徴とする。
【0015】
上記合成石英ガラス繊維は、1MHz〜10GHzの高周波信号に対する誘電率が3.70以下、10GHzの高周波信号に対する誘電正接が2×10-4以下、体積抵抗率が1015Ωcm以上、表面抵抗率が1015Ωcm以上である。
【0016】
本発明の合成石英ガラスストランドは、上記合成石英ガラス繊維を50本以上500本以下束ねたものである。なお、本発明においては、繊維を撚らずに束ねたものをストランドと称す。
【0017】
本発明の合成石英ガラスヤーンは、上記合成石英ガラス繊維を50本以上500本以下束ねたものである。なお、本発明においては、繊維に撚りをかけて束ねたものをヤーンと称す。
【0018】
本発明の合成石英ガラスクロスは、上記合成石英ガラスストランド又はヤーンを用いて作製されたものである。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の合成石英ガラスストランドを製造する装置を添付図面に基づいて説明する。
【0020】
図1は、合成石英ガラスストランド製造装置の一例を示す模式的説明図である。図1において、10は合成石英ガラスストランド製造装置で、多数本の合成石英ガラスロッドA1を溶融するヒーター手段、例えば縦型管状電気炉12を有している。該ヒーター手段12内を降下することによって溶融した合成石英ガラスロッドA1の端部は該ヒーター手段12の下部から高速で連続的に引き出され、合成石英ガラス長繊維A2となる。
【0021】
14はサイジング手段で、引き出された多数本の合成石英ガラス長繊維A2の表面にサイジング剤を塗付する。16は収束手段で、サイジング剤を塗付された多数本の長繊維A2を1本のストランドA3に束ねるものである。1本に束ねられたストランドA3は巻取手段18に巻き取られる。なお、引き出される合成石英ガラス長繊維の繊維径の制御は合成石英ガラスロッドA1の送り手段と引き出し速度の比により制御可能である。なお、上記工程に加え、撚り機を用いて撚りかけするヤーン工程をさらに行うことにより、ヤーンを製造することができるが、図示による説明は省略する。
【実施例】
以下に本発明方法の実施例をあげてさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
【0022】
(実施例1)
図1と同様の装置を用いて下記のように1本の合成石英ガラスストランドを製造した。直径20mmの合成石英ガラスロッドを50本同時に治具にセットして最高温度2000℃の縦型管状電気炉12内をゆっくり下降させ、溶融した端部を電気炉12下部から高速で連続的に引き出し、繊維径9μの合成石英ガラス長繊維を経た後、1本の合成石英ガラスストランドを作製した。
【0023】
ここに合成石英ガラス長繊維の繊維径の制御は合成石英ガラスロッドの送り速度と引き出し速度の比により制御するが、ちなみに繊維径9μの長繊維を得るためには送り速度0.47mm/分、引き速度2300m/分である。
【0024】
また、得られた合成石英ガラスストランドのOH基濃度、塩素濃度及びS値を表1に、金属不純物濃度を表2に示す。更に当該ストランドの電気特性(1MHz及び10GHzの高周波に対する誘電率及び誘電正接)を表3に、体積抵抗率及び表面抵抗率を表4にそれぞれEガラス、Dガラスとの比較において示す。
【0025】
表1において、塩素濃度は蛍光X線法、OH基濃度は赤外分光光度法によった。表2において、金属不純物濃度はサイジング剤を除去した後、原子吸光法により測定した。
【0026】
【表1】
Figure 0004210089
【0027】
【表2】
Figure 0004210089
【0028】
【表3】
Figure 0004210089
【0029】
【表4】
Figure 0004210089
【0030】
(実施例2及び3)
実施例1と塩素含有量、OH基含有量の異なる合成石英ガラス、2種類(実施例2、3)をそれぞれ実施例1と同様の方法で線引きし、繊維径9μの合成石英ガラス長繊維を経て、1本の合成石英ガラスストランドを作製した。
【0031】
得られた2種類の合成石英ガラスストランドの塩素濃度、OH基濃度及びS値を表1に、金属不純物濃度を表2に示す。更にこれらのストランドの1MHz及び10GHzの高周波に対する誘電率、誘電正接を表3に、体積抵抗率、表面抵抗率を表4にそれぞれ示す。
【0032】
(比較例1〜3)
塩素含有量、OH基含有量、金属不純物量について、S値が200以上1000以下、Na、K、Liが各0.5ppm以下、Ca及びMgの含有量の総和が0.5ppm以下、Cu及びAgの含有量の総和が0.2ppm以下、Fe、Ni、Crの含有量の総和が1ppm以下、及びAlの含有量が1ppm以下という条件のうち、少なくとも1つを満たさない合成石英ガラス、3種類(比較例1〜3)をそれぞれ実施例1と同様の方法で線引きし、繊維径9μの合成石英ガラス長繊維を経た後、1本の合成石英ガラスストランドを作製した。
【0033】
得られた3種類の合成石英ガラスストランドの塩素濃度、OH基濃度及びS値を表1に、金属不純物濃度を表2にそれぞれ示す。更にこれらのストランドの1MHz及び10GHzの高周波に対する誘電率、誘電正接を表3に、体積抵抗率、表面抵抗率を表4にそれぞれ示す。
【0034】
表1〜3に示した如く、S値が200以上1000以下、Na、K、Liが各0.5ppm以下、Ca及びMgの含有量の総和が0.5ppm以下、Cu及びAgの含有量の総和が0.2ppm以下、Fe、Ni、Crの含有量の総和が1ppm以下、及びAlの含有量が1ppm以下という条件を満たす実施例1〜3では、1MHz及び10GHzでの誘電率が共に3.70以下、1MHzでの誘電正接が1×10-4以下、10GHzでの誘電正接が2×10-4以下であったのに対し、S値が1200以上である比較例1及び2では、1MHz及び10GHzでの誘電率が3.75以上、10GHzでの誘電正接が3×10-4であった。また、金属不純物含有量が多い比較例3では、10GHzでの誘電正接は2×10-4であったが、1MHz及び10GHzでの誘電率が3.93以上であった。なお、Eガラス及びDガラスは、表3に示したように、高い誘電率及び誘電正接を示した。表4に示したように、実施例1〜3、比較例1〜3、Eガラス及びDガラスにおいて、体積抵抗率及び表面抵抗率は、共に1015Ω以上であった。
【0035】
【発明の効果】
以上述べたごとく、本発明によれば、石英ガラス繊維の電気特性を更に改善すると同時にこれらの特性にばらつきの少ないより安定なものとすることで、より付加価値を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の合成石英ガラスストランドを製造する装置を示す模式的説明図である。
【符号の説明】
10:合成石英ガラスストランド製造装置、12:ヒーター手段、14:サイジング手段、16:収束手段、18:巻取手段、A1:石英ガラスロッド、A2:合成石英ガラス長繊維、A3:ストランド。

Claims (5)

  1. 1GHz以上の高周波用多層プリント基板に用いられ、繊維径がφ3μ以上、φ9μ以下の合成石英ガラス繊維であって、含有されるOH基濃度(ppm)COHと塩素濃度(ppm)に2/3を乗じた量2/3CClとの総和S=COH+2/3CClが200以上1000以下、Na、K、Liの3種類のアルカリ金属元素が各0.5ppm以下、Ca、Mgの2種類のアルカリ土類金属元素含有量の総和が0.5ppm以下、Cu及びAgの含有量の総和が0.2ppm以下、Fe、Ni、Crの含有量の総和が1ppm以下及びAlの含有量が1ppm以下である事を特徴とする合成石英ガラス繊維。
  2. 1MHz〜10GHzの高周波信号に対する誘電率が3.70以下、10GHzの高周波信号に対する誘電正接が2×10-4以下、体積抵抗率が1015Ωcm以上、表面抵抗率が1015Ωcm以上である事を特徴とする請求項1記載の合成石英ガラス繊維。
  3. 請求項1又は2記載の合成石英ガラス繊維を50本以上500本以下束ねたことを特徴とする合成石英ガラスストランド。
  4. 請求項1又は2記載の合成石英ガラス繊維を50本以上500本以下束ねたことを特徴とする合成石英ガラスヤーン。
  5. 請求項3記載のストランド又は請求項4記載のヤーンを用いて作製された合成石英ガラスクロス。
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