JP4194151B2 - 駆動ステージ、走査型プローブ顕微鏡、加工装置 - Google Patents

駆動ステージ、走査型プローブ顕微鏡、加工装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、駆動ステージ、該駆動ステージを有する走査型プローブ顕微鏡及び加工装置に関するもので、特に高速走査時に生じる振動の軽減を目指すものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、ナノメートル以下の分解能で導電性物質表面を観察可能な走査型トンネル顕微鏡(以下STMと略す)が開発され(米国特許第4,343,993号明細書)、金属・半導体表面の原子配列、有機分子の配向等の観察が原子・分子スケールでなされている。また、STM技術を発展させ、絶縁物質等の表面をSTMと同様の分解能で観察可能な原子間力顕微鏡(以下AFMと略す)も開発された(米国第特許4,724,318号明細書)。さらに別の発展形として、尖鋭なプローブ先端の微小開口からしみ出すエバネッセント光を利用して試料表面状態を調べる走査型近接場光顕微鏡(以下SNOMと略す)[Durig他,J.Appl.Phys.59,3318(1986)]も開発された。現在ではトンネル電流、電子状態密度、原子間力、分子間力、摩擦力、弾性、エバネッセント光、磁力等試料表面の種々の物理量を高い分解能で測定できるこれらの顕微鏡を走査型プローブ顕微鏡(以下SPMと略す)と総称している。
【0003】
さらに、このようなSPM技術はメモリ技術にも応用されつつある。例えば、特開昭63−161552号公報、特開昭63−161553号公報等には、記録層として電圧電流のスイッチング特性に対してメモリ効果を持つ材料、例えばπ電子系有機化合物やカルコゲン化合物類の薄膜層を記録媒体として、記録・再生をSTMで行う方法が開示されている。この方法によれば、STMの探針にあるしきい値以上の電圧を印加することにより、探針直下の記録媒体に微小な領域で特性変化を生じさせて記録を行い、探針と記録媒体間に流れるトンネル電流が記録部と非記録部により変化することを利用して再生を行うことができる。この方法を用いて、記録のビットサイズを直径10nmとすれば、1012ビット/cm2の記録密度を持つ情報処理装置が実現できる。
また、記録媒体としてあるしきい値以上の電圧を印加すると表面が局所的に溶融または蒸発して表面形状が凹または凸に変化する材料、例えば、Au、Ptなどの金属薄膜を用いることにより同様に記録再生を行なうことができる。
【0004】
これらのSPMは、駆動ステージで探針を試料や媒体の表面に対して相対的に駆動し、探針と試料の物理相互作用を検出することで、像を取得したり、情報の記録再生を行ったりするものである。従来の駆動ステージは図12から図14に示すようなものであった。
図12に示した駆動ステージは、円筒形の圧電素子1000の周囲に4分割された電極1001〜1004が配置されているものである(ただし、1004は図中では影になっていて見えない)。圧電素子1000の上部には移動台1005が接合されている(図中では分解して表示)。円筒形の圧電素子1000は、相対する電極(1001と1003、1002と1004)の電圧を制御して、一方が伸び他方が縮むようにすることにより屈曲できる。また、4つの電極に同じ電圧を印加することで圧電素子1000を長軸方向に伸縮できる。つまり、この圧電素子1000の屈曲、伸縮を4つの電極1001〜1004に加える電圧で制御できるので、この圧電素子の上部に接合した移動台1005を3次元方向に駆動することができる。
また、図13に示したものは1軸駆動のステージである。本ステージでは、移動台2002が、平行ヒンジバネ2003で支持体2001に連結されている。これらは、一体で製作してもよいし、組み立てて製作してもよい。また、圧電アクチュエータ2004は、その両端が移動台2002と支持体2001に連結している。本ステージでは、圧電アクチュエータ2004に電圧を印加して伸長させることで、移動台2002を支持体2001に対して図中で左右方向に相対的に駆動することができる。
図14は、特公平6−46246号公報に示される移動機構である。図中で、移動台3003は、2対の平行ヒンジバネ3010、3011と3012、3013に支えられている。平行ヒンジバネ3010、3011の他端は副支持体3001を介してY軸駆動用の圧電アクチュエータ3005に接続され、平行ヒンジバネ3012、3013の他端は副支持体3002を介してX軸駆動用の圧電アクチュエータ3006に接続されている。
副支持体3001は、平行ヒンジバネ3010、3011のほか、それと直角方向の平行ヒンジバネ3014、3015に支持され、副支持体3002は、平行ヒンジバネ3012、3013のほか、それと直角の平行ヒンジバネ3016、3017に支持されている。平行ヒンジバネ3014、3015の他端、および平行ヒンジバネ3016、3017の他端、Y軸駆動用の圧電アクチュエータ3005およびX駆動用の圧電アクチュエータ3006の他端はいずれも基板3000に接続されている。
【0005】
さて、このような構造体において、Y軸駆動用の圧電アクチュエータ3005が伸びる場合を考えると、移動台3003と副支持体3001は、それぞれ平行ヒンジバネ3012、3013と3014、3015に支持されているのでY軸方向に平行移動する。一方、平行ヒンジバネ3010、3011はY軸方向には剛性が高いので、両者は一体となって動く。同様に移動台3003は、X軸駆動用の圧電アクチュエータの伸縮に従って、X軸方向に副支持体3002と一体になって動く。
すなわち、移動台3003はそれぞれY軸駆動用の圧電アクチュエータ3005、X軸駆動用の圧電アクチュエータ3006の動きに忠実に従い、互いに相手の動きに干渉されないことがわかる。
このように、移動台3003は、X軸、Y軸駆動用の圧電アクチュエータ3006、3005によりX軸、Y軸方向に任意に動かすことができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の図12から図14に示したような駆動ステージは、駆動速度を速くしていくと、移動台の発生する慣性力が大きくなり、その慣性力によって支持部が振動してしまうという問題点があった。
すなわち、このような支持部の振動は、駆動ステージをSPMに使用する際には、取得像の不鮮明さの原因となり、また、情報記録再生装置として使用する際には、情報の記録や再生のエラーの原因となる。
また、加工装置として使用する際には、加工精度が低くなる原因となる。
また、その振動を抑制するために筐体を重くすると、装置全体の重量が増加してしまうという問題点があった。
【0007】
そこで、本発明は、上記従来のものにおける課題を解決し、高速で走査を行っても振動の発生の少ない小型で軽量な駆動ステージと、該駆動ステージを有し、高速に鮮明な像を取得できるSPMや、高速に加工を行っても精度の低下しない加工装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を達成するため、駆動ステージ、該駆動ステージを有する走査型プローブ顕微鏡、加工装置を、つぎのように構成したことを特徴とするものである。
すなわち、本発明の駆動ステージは、支持体と、前記支持体に支持された少なくとも2つ以上の複数の可動部と、
前記複数の可動部を駆動する1つ以上のアクチュエータと、
を有する駆動ステージにおいて、
前記複数の可動部が、前記支持体もしくは他の可動部に対してバネ性部材で弾性的に支持され、
前記アクチュエータによって、前記支持体の振動を少なくすべく、前記複数の可動部における一方の可動部を、他方の可動部に対して相対的に駆動し、それぞれの可動部に生じる慣性力が、互いに相殺されるように構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記慣性力を相殺する方向に駆動する構成が、
前記複数の可動部の質量をm1,m2,...mnとし、前記可動部の駆動時の加速度ベクトルをa1,a2,...anとしたとき、
m1・a1+m2・a2+...+mn・an=0の関係を満たして駆動するように構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記弾性的に支持された一方の可動部と他方の可動部が、それぞれの自由振動の周波数が等しくなるように構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記アクチュエータは、少なくとも2つ以上であり
該2つ以上のそれぞれのアクチュエータを駆動する駆動信号増幅手段を有し、
前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、前記複数の可動部のそれぞれ発生する慣性力を互いに相殺できるように設定することが可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、前記可動部の積載量に応じて調整することが可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の周波数特性を、前記可動部の駆動特性に応じて設定することが可能に構成されていることを特徴している。
また、本発明の駆動ステージは、支持体と、前記支持体に支持された少なくとも2つ以上の複数の可動部と、前記複数の可動部を駆動するためのアクチュエータと、を有する駆動ステージにおいて、
前記アクチュエータは、少なくとも2つ以上の、同心円状に配置された円筒形圧電素子を具備し、
駆動時に、前記2つ以上のそれぞれの円筒形圧電素子によって、前記支持体の振動を少なくすべく、前記複数の可動部における一方の可動部を、他方の可動部に対して相対的に駆動し、それぞれの可動部に生じる慣性力が、互いに相殺されるように構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、周囲に複数の駆動電極が設けられた円筒形圧電素子を少なくとも2つ以上有する駆動ステージであって
前記2つ以上の円筒形圧電素子が同心円状に配置され、
駆動時に前記2つ以上のそれぞれの円筒形圧電素子により発生する慣性力が、互いに相殺されるように構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記円筒形圧電素子を駆動する駆動信号増幅手段を有し、
前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、前記2つ以上のそれぞれの円筒形圧電素子により発生する慣性力を互いに相殺できるように設定することが可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、積載量に応じて調整することが可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の駆動ステージは、前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の周波数特性を、前記円筒型圧電素子の駆動特性に応じて設定することが可能に構成されていることを特徴としている。
また、本発明の走査型プローブ顕微鏡は、試料表面に対し探針を相対的に駆動する駆動ステージを有し、前記試料と前記探針との物理相互作用を検出し、前記試料表面の観察をする走査型プローブ顕微鏡において、
前記駆動ステージとして、上記したいずれかに記載の駆動ステージを有することを特徴としている。
また、本発明の加工装置は、被加工物表面に対し探針を相対的に駆動する駆動ステージを有し、前記被加工物と前記探針との間に物理相互作用を生じさせることで加工を行う加工装置において、
前記駆動ステージとして、上記したいずれかに記載の駆動ステージを有することを特徴としている。
【0009】
【発明の実施の形態】
(1)本発明は、上記したように複数の可動部の生じる慣性力が互いに相殺される方向に駆動されるように構成することにより、支持体に伝わる振動を減少させることができ、そのため、支持体を重くすることなく、高速に駆動しても振動の少ない駆動ステージを実現することができる。
(2)また、本発明は、上記したようにm1・a1+m2・a2+...+mn・an=0の関係を満たして駆動するように構成することにより、複数の可動部の生じる慣性力が完全に打ち消し合うので、振動が完全にキャンセルされる駆動ステージを実現することができる。
(3)また、本発明は、上記したように、前記複数の可動部における一方の可動部を、他方の可動部に対して相対的に駆動し、それぞれの可動部の生じる慣性力が、互いに打ち消し合うように構成することにより、作用反作用の法則により、上記のバネ支持された一方の可動部と他方の可動部が互いに逆方向に駆動されるために、それぞれの慣性力が打ち消し合う。そのため、振動の少ない駆動ステージを実現することができる。
【0010】
(4)また、本発明は、上記したように、一方の可動部と他方の可動部が、それぞれの自由振動の周波数が等しくなるように構成することにより、これら可動部の共振周波数が等しいことにより、振動が完全にキャンセルされる駆動ステージを実現することができる。
以下、本発明で振動が完全にキャンセルされる理由を説明する。
本発明の解析を行うために、図15のようなモデル化を行う。
図中で、10は支持部、11は移動部1、12は移動部2、13は弾性部材1、14は弾性部材2、15は線形アクチュエータである。
このモデルの運動方程式は、粘性抵抗を無視すると以下で与えられる。
Figure 0004194151
ここで、各記号の意味は以下の通りである。
m1:支持部の質量、m2:移動部1の質量、m3:移動部2の質量、x1:支持部の変位、x2:移動部1の変位、x3:移動部2の変位、k1:弾性部材1のばね定数、k2:線形アクチュエータのばね定数、k3:弾性部材2のばね定数、f:アクチュエータの発生力
数式1をラプラス変換してまとめると、
Figure 0004194151
となる。左辺のマトリクスをΔとおくと、両辺にΔの逆行列をかけて次式を得る。
Figure 0004194151
特に、駆動力fに対する支持体の変位x1の伝達関数は、
Figure 0004194151
となるが、本発明では、二つの可動部の共振周波数が等しいことから、
Figure 0004194151
となり、結局、伝達関数は0となる。それゆえ、慣性力が完全にキャンセルされて、駆動力fで支持体が加振されないことがわかる。
【0011】
(5)また、本発明は、上記したように、駆動信号増幅手段の増幅率が複数の可動部の発生する慣性力を相殺するように設定することが可能となるように構成することにより、駆動時に振動の少ない駆動ステージを実現することができる。(6)また、本発明は、上記したように 、駆動信号増幅手段の増幅率を可動部の積載量に応じて制御するように構成することにより、可動部の積載量が変化しても振動が増えることのない駆動ステージを実現することができる。
(7)また、本発明は、上記したように、駆動信号増幅手段の周波数特性を可動部の駆動周波数特性に応じて設定するように構成することにより、可動部の駆動周波数特性がふぞろいであっても、振動の少ない駆動ステージを実現することができる。
(8)また、本発明は、上記したように、駆動時に2つ以上のそれぞれの円筒形圧電素子の発生する慣性力が、互いに相殺されるように構成することにより、複数の円筒形圧電素子の発生する慣性力が互いに相殺されるので、振動の少ない駆動ステージを実現することができる。
(9)また、本発明は、上記したように、駆動信号増幅手段の増幅率が複数の円筒形圧電素子の発生する慣性力を相殺するように設定することが可能となるように構成することにより、駆動時に振動の少ない駆動ステージを実現することができる。
(10)また、本発明は、上記したように、駆動信号増幅手段の増幅率を可動部の積載量に応じて制御するように構成することにより、可動部の積載量が変化しても振動が増えることのない駆動ステージを実現することができる。
(11)また、本発明は、上記したように、駆動信号増幅手段の周波数特性を円筒型圧電素子の駆動周波数特性に応じて設定するように構成することにより、円筒型圧電素子の駆動周波数特性がふぞろいであっても、振動の少ない駆動ステージを実現することができる。
(12)また、本発明は、上記したように、本発明の駆動ステージを有する走査型プローブ顕微鏡を構成することにより、駆動ステージの振動が少なくなるので、高速に走査を行っても、振動が少なく、鮮明な像を取得することができる走査型プローブ顕微鏡を実現できる。
(13)また、本発明は、上記したように、本発明の駆動ステージを有する情報記録再生装置を構成することにより、駆動ステージの振動が少なくなるので、高速に走査を行っても、振動が少なく、記録再生エラーの少ない情報記録再生装置を実現できる。
(14)また、本発明は、上記したように、本発明の駆動ステージを有する加工装置を構成することにより、駆動ステージの振動が少なくなるので、高速に走査を行っても、振動が少なく、高精度に加工を行える加工装置を実現することができる。
【0012】
【実施例】
以下に、本発明の実施例について説明する。
[実施例1]
図1は、実施例1の駆動ステージの概略図である。
支持体101の内側に、移動台102、103がそれぞれ4本の平行ヒンジバネ104、105で、図中で水平方向に移動できるように支持されている。また、圧電アクチュエータ106は、一端を移動台102に、他方を移動台103に結合されている。
圧電アクチュエータ106は、電圧を印加すると長さが図中で左右方向に伸びるように分極処理が施されている。
また、駆動信号は、増幅器110で増幅されて圧電アクチュエータ106に与えられている。
本発明の駆動ステージには、移動台が2つある。どちらか一方の移動台のみを使用してもよいし、両方を使用してもよい。
本実施例の駆動ステージでは、駆動する際に、移動台102により生じる慣性力と移動台103の生じる慣性力が相殺し合うため、高速で駆動しても振動が少ない。特に、2つの移動台の共振周波数を等しくすることで、慣性力を完全にキャンセルすることができる。
【0013】
[実施例2]
図2は、実施例2の概略図である。
支持体201の内側に、移動台202、203がそれぞれ4本の平行ヒンジバネ204、205で、図中で水平方向に移動できるように支持されている。また、圧電アクチュエータ206、207は、一端を支持体201に結合され、他方がそれぞれ移動台202、203に結合されている。
2つの圧電アクチュエータ206、207は、電圧を印加すると長さが図中で左右方向に伸びるように分極処理が施されている。
また、駆動信号は、それぞれ増幅器210、211で増幅されて圧電アクチュエータ206、207に与えられている。
ここで、増幅器210、211の信号増幅率A1、A2は、移動台202、203を駆動した時の慣性力が逆向きで等しくなるように設定されている。
つまり、移動台202、203の質量と駆動加速度をそれぞれm1、m2と、a1、a2としたときに、m1×a1=m2×a2となるように設定されている。また、移動台202、203を駆動する際の周波数特性が異なっている場合には、これらの増幅率を駆動周波数に応じて設定するようにするのが望ましい。
【0014】
また、移動台に搭載されるものの質量に応じて増幅率を制御することで、移動台上に搭載するものの質量によらず振動が生じないようにすることができる。
本発明のステージは、駆動される移動台が2つある。どちらか一方の移動台のみを使用してもよいし、両方を使用してもよい。
以上のように構成した本実施例のステージでは、駆動信号を入力すると移動台202、203が相対する方向に、かつ慣性力が等しくなるように駆動されるので、支持体201に伝わる慣性力が相殺される。
そのため、高速な走査を行っても振動の少ない駆動ステージを提供することができる。また、増幅器の増幅率を制御することで、ステージに搭載するものの質量によらず振動の少ない駆動ステージを提供することができる。
【0015】
[実施例3]
図3は、実施例3の概略図である。
支持体301の内側に、移動台302と、永久磁石303a、303bがそれぞれ平行ヒンジバネ304、305で、図中で水平方向に移動できるように支持されている。永久磁石303aと303bは、N極どうしが向き合うように配置されている。
移動台302にはコイル307が固定されており、その内側を連結棒306が貫通している。連結棒306は永久磁石303aと303bを連結しており、これら3つの部材は一体化している。
本ステージの駆動信号は、増幅器310で増幅されてコイル307に入力される。増幅器310からコイル307に電流を流すと、コイル307と永久磁石303a、303bとの間に力が働く。この力の向きは、永久磁石303aと303bの作る磁界と、コイル307に流れる電流の向きで決定される。図4は、コイル307に電流を流した時に、コイルの右側がS極、左側がN極になるような磁界が生じ、移動台302が図中で右に駆動され、永久磁石303a、303bが左に駆動されている様子を示している。このように、移動台302と永久磁石303a、303bは逆向きに駆動されるため、それぞれの生じる慣性力は相殺され、振動が減少する。また、本実施例では、圧電アクチュエータではなく、コイルと永久磁石とからなる電磁アクチュエータを使用しているので、駆動時にヒステリシスが生じることがない。
また、304で弾性支持された302の共振周波数を、305で弾性支持された303a、303b、306の一体化した部材の共振周波数を等しくすることで慣性力を完全にキャンセルすることができる。
【0016】
参考例]
図5は、参考例の概略図を示すものであり、実施例3の駆動ステージを情報記録再生装置に適用した例である。
図5において、401〜407は、301〜307と同様で駆動ステージを構成している。
図5において、駆動ステージは横方向から見て表示されており、また、一部省略されて表示されている。平行ヒンジバネ404、405(不図示)は、それぞれ支持しているものの共振周波数が等しくなるようにバネ定数を調整されている。移動台402の上部には、導電性基板425と記録層426からなる記録媒体427が配置されており、導電性基板425は電気的に接地されている。
また、永久磁石403a、403bの上部にはY駆動機構ガイド420が連結されている。Y駆動機構ガイド420の上にはY駆動機構スライダ421が紙面に垂直方向に移動できるように設置されている。Y駆動機構スライダ421は、Y駆動機構ガイド420に対して圧電インチウォーム機構で紙面に垂直な方向に駆動されるようになっている。そして、2つのY駆動機構スライダ421の上にはプローブ固定板422が設置されている。そして、プローブ固定板422の記録媒体427に対抗する側には自由端に探針424を有する微小カンチレバー423が3本固定されており、探針424の先端が記録媒体427に所望の接触力で接触するように配置されている。
ここで、探針424の先端から見たカンチレバー423の弾性変形の弾性定数が約0.1[N/m]、弾性変形量が約1[μm]であるとすると、記録媒体427に対する探針424の接触力は約10−7[N]程度となる。
【0017】
また、探針424は導電性で、切り替えスイッチ431を通じて、記録制御回路433もしくは電流電圧変換回路435と電気的に接続されている。図5では、最も左側のプローブの回路のみが図示されているが、実際にはすべてのプローブに同様な回路が存在している。
記録層426としては、電圧印加により流れる電流値が変化するような材料を用いる。
具体例としては、第1に、特開昭63−161552号公報、特開昭63−161553号公報に開示されているようなポリイミドやSOAZ(ビス−n−オクチルスクアリリウムアズレン)等電気メモリー効果を有するLB膜(=Langmuir−Blodgette法により作製された有機単分子の膜の累積膜)が挙げられる。この材料は、探針−LB膜−基板間にしきい値以上の電圧(5〜10[V]程度)を印加すると間のLB膜の導電性が変化(OFF状態→ON状態)し、再生用のバイアス電圧(0.01〜2[V]程度)を印加した際に流れる電流が増大するものである。
第2の具体例として、GeTe,GaSb,SnTe等の非晶質薄膜材料が挙げられる。この材料は、探針−非晶質薄膜材料−基板間に電圧を印加し、流れる電流により発生する熱で非晶質→晶質への相転移を起こさせるものである。これにより材料の導電性が変化し、再生用のバイアス電圧を印加した際に流れる電流が増大するものである。
第3の具体例として、ZnやW、Si、GaAs等の酸化性金属・半導体材料が挙げられる。この材料は、探針−酸化性金属・半導体材料間に電圧を印加すると、流れる電流により、材料表面に吸着している水や大気中の酸素と反応し、表面に酸化膜が形成される。このため材料表面の接触抵抗が変化し、バイアス電圧を印加した際に流れる電流が減少する。
【0018】
上記の記録再生装置において記録媒体427に対し探針424を走査する際、カンチレバー423上の探針424先端は記録媒体427に対し、常に接触した状態を保つ。このような接触走査方式は、探針424の先端を記録媒体427に対し接触させたまま走査する場合に、記録媒体427の表面に凹凸があっても、カンチレバー423の弾性変形によりこれを吸収するため、探針424の先端と記録媒体427の表面の接触力はほぼ一定に保たれ、探針424や記録媒体427が破壊することを避けられる。この方式は探針424を高さ方向に制御する手段が不必要であるため、構成が複雑にならず、特に複数のプローブを有する装置に適している。また、記録媒体427に対する個々の探針424の高さ方向のフィードバック制御が不必要であるため、記録媒体427に対する探針424の高速走査が可能となる。
【0019】
以上のような構成の記録再生装置における、記録再生の手順を説明する。
まず、記録再生時の探針424の記録媒体427に対する走査は、以下のようにして行う。X駆動回路410には、制御コンピュータより、図6(a)に示すような正弦波信号が入力される。すると、移動台402と永久磁石403a、403bは、対抗する方向に往復運動するように駆動される。本実施例では、駆動周波数を10Hz、往復運動の端から端までの振幅を200μmとした。このとき、探針424の記録媒体427に対する走査速度は平均4mm/sとなる。移動台402と永久磁石403a、403bは対抗する向きに駆動されるため、それぞれの慣性力は相殺し合う。
また、Y駆動回路411には、図6(b)に示すような、移動台402の駆動方向が切り替わるタイミングで、Y方向に1ステップずつ移動するような信号を与える。その信号によって、Y駆動機構スライダ421のインチウォーム機構を駆動して、1ステップずつ移動するようにする。本実施例では、1ステップの移動距離を20nmとした。Y方向への移動は、加速度がX方向の移動に比べて非常に小さいために、それに起因する振動はほとんど生じない。
X駆動回路410とY駆動回路411に上記のような信号を入力すると、探針424は記録媒体427に対して図6(c)のようにラスター状に走査される。
【0020】
まず、情報記録時においては、探針424の先端が記録媒体427に対し、接触した状態を保った状態で、以上説明したような走査を行いながら、制御コンピュータ430により制御された記録制御回路433から発生された記録信号が、記録系に切り替えられた切り替えスイッチ431を通し、探針424から記録媒体427に印加される。このようにして、記録層426の探針424先端が接触する部分に局所的に記録が行われる。
そして、上述のように記録が行われた情報の再生は次のように行う。
切り替えスイッチ431により、探針424からの信号配線を再生系に切り替えた後、以上説明したような走査を行いながら、バイアス電圧印加手段432により、探針424と導電性基板425との間にバイアス電圧を印加し、間に流れる電流を電流電圧変換回路435において電圧に変換する。記録媒体427上の記録ビットの部分は記録がなされていない部分に比べ電流が多く(または、少なく)流れるため、ビットの有無が電圧信号に変換される。そして、その再生信号はバンドパスフィルタ436と復調回路437を通して、バイナリデータとして制御コンピュータ430に入力される。このようにして、記録媒体427に記録された情報の再生を行なうことができる。
本発明の情報記録再生装置においては、X方向の駆動に起因する振動がキャンセルされるので、高速な走査を行っても振動することがなく、正確に情報の記録再生を行うことができる。
【0021】
[実施例4]
図7に実施例の駆動ステージの斜視図を示す。本ステージは、図7に示すように円筒形の圧電素子からなる駆動ステージが2つ同心円状に重なった構造をしている。
第1の円筒形圧電素子500の内側に第2の円筒形圧電素子510が同心円状に配置されている(図7では分解して表示)。第1の円筒形圧電素子500の周囲には、4分割された電極501〜504が配置されており(ただし504は図7では裏側にあたるため不図示)、その上部には移動台505が接合されている(図7では分解して表示)。また、第2の円筒形圧電素子510の周囲には、4分割された電極511〜514が配置されており(ただし、514は図7では裏側にあたるため不図示)、上部には重り515が接合されている(図7では分解して表示)。
第1、第2の円筒形圧電素子500、510は、相対する電極(501と503、502と504、511と513、512と514)の電圧を制御して、一方が伸び他方が縮むようにすることにより、屈曲させることができる。また、4つの電極に同じように電圧を印加することで長軸方向に伸縮させることができる。つまり、この圧電素子500、510の屈曲、伸縮を電圧で制御できる。それゆえ、この圧電素子の上部に配置した移動台505と重り515をそれぞれ3次元方向に駆動することができる。
【0022】
図8は、本ステージの結線図を示した図である。本結線図に示すように結線することで、外側の円筒形圧電素子500と内側の円筒形圧電素子510は、常に逆方向に駆動されることになる。
図9は、駆動時の変形の様子の断面図である。図中で、円筒形圧電素子500は、左向きに曲がって上方向に伸びており、円筒形圧電素子510は、右向きに曲がって下方向に縮んでいる。増幅器520〜522の増幅率−AX、−Ay、−Azはそれぞれ、円筒形圧電素子500と510の発生する慣性力がキャンセルするように設定されている。
また、これらの増幅率は、移動台に載せるものの質量が変化した時には、最適な値に調整するのが望ましい。
以上のように構成された本発明は、常に外側の第1の円筒形圧電素子500と内側の第2の円筒形圧電素子510の発生する慣性力がキャンセルするように駆動されるので、高速に駆動しても振動の少ないステージを提供することができる。
【0023】
[実施例
図10は、実施例の駆動ステージの概略図である。本ステージは、図10に示すように駆動ステージを4つ組み合わせたような構造になっている。
移動台611〜614は、平行ヒンジバネ640を介して副支持体601〜604に接続しており、また、それらの平行ヒンジバネの他端は支持体600に接続されている。
また、アクチュエータ621〜624はそれぞれ一方の端を副支持体601〜604に接続され、他端を支持ポスト630に接続されている。支持ポスト630は、支持体600と一体になっている(不図示)。これらは、全体として上下左右対称な形状となっている。X駆動信号は増幅器650を通じて、アクチュエータ621と623に供給され、Y駆動信号は増幅器651を通じて、アクチュエータ622と624に供給される。そのため、対抗して配置されているアクチュエータ621と623、622と624はそれぞれ同時に伸縮する。このように動作することで、本発明のステージは駆動した際に全体の慣性力が相殺し合うようになっている。
【0024】
図11に、本実施例のステージを駆動した際の例を示す。
図11(a)は、アクチュエータ622と624が縮んだ様子を示している。アクチュエータ622と624が縮むことにより副支持体602は図中で上方向に移動し、副支持体604は図中で下方向に移動する。それらと連動して、移動台612と613は図中で上方向に移動し、移動台611と614は図中で下方向に移動する。このように、支持体と移動台が上下対称に動くことで、これらの動作により発生する慣性力はすべて相殺し合う。図11(b)は、アクチュエータ622と624が縮み、621と623が伸びた様子を示している。それにより副支持体601は図中右、副支持体602は図中上、副支持体603は図中左、副支持体604は図中下に移動する。また、移動台611は図中右下、移動台612は図中右上、移動台613は図中左上、移動台614は図中左下に移動する。このように、支持体と移動台が上下左右対称に動くことで、これらの動作により発生する慣性力は、すべて相殺し合う。
図11(c)は、X駆動信号にcosωt、Y駆動信号にsinωtを入力した時の様子である。副支持体601〜604は正弦波状に動き、移動台611〜614は円状に動く。
(a)、(b)と同様に、支持体と移動台が対称的に動くことで、これらの動作により発生する慣性力は、すべて相殺し合う。
本発明のステージでは移動台が4つあるが、それらすべてを使ってもよいし、1つだけを使うようにしてもよい。
以上説明したように、本発明のステージは慣性力が相殺し合うので、高速で2次元駆動した際に振動の少ないステージを供給することができる。
【0025】
[実施例
図16は、実施例の走査型トンネル顕微鏡の機構と制御回路の概略を示したものである。実施例に示したステージを走査型トンネル顕微鏡(STM)に応用している。
固定台701の上に円筒型圧電素子700が配置され、その上部に移動台705が配置されている。円筒型圧電素子700の内部には、同心円状に、700よりも小径の円筒型圧電素子が配置され、その上部には重りが配置されている(不図示)。移動台705の上部には、導電性の試料725が設置されている。導電性の試料725は、印加電圧制御回路732によって制御コンピュータ730から印加する電圧を制御することができる。試料725には、導電性の探針724が対向するように配置され、探針724は、探針支持体723で支持されている。探針724に流れるトンネル電流は、電流電圧変換回路735で電圧に変換され、制御コンピュータ730に入力される。また、制御コンピュータ730は、X、Y、Z駆動信号を生成し、円筒型圧電素子700を駆動し、また、これらの駆動信号は反転アンプ720〜722を介して、円筒型圧電素子700の内部の円筒型圧電素子(不図示)を駆動する。これにより、実施例5に示したように、ステージを駆動した時の慣性力はキャンセルされる。
【0026】
さて、STM測定動作について説明する。本実施例ではトンネル電流が一定になるように探針・試料間距離を制御する場合(トンネル電流一定モード)について説明する。試料725には、印加電圧制御回路732によって導電性の探針724に対して所定量の測定バイアス電圧が印加されている。探針724と試料725が接近装置(不図示)によって接近させられると、ある距離以内で両者の間にトンネル電流が流れはじめる。このトンネル電流信号は電流電圧変換回路735によって電圧信号に変換され制御コンピュータ730に送られる。このトンネル電流信号は探針724と試料725との距離制御に用いられる。本実施例では制御コンピュータ730はトンネル電流が一定になるようにZ駆動信号を生成し、円筒型圧電素子700の伸縮方向の変位を制御する。このような手続きによってフィードバックループが構成され、トンネル電流一定制御が実現される。
【0027】
次に、表面観察像を得るために制御コンピュータ730は、X、Y駆動信号を生成して、探針724と試料725とを試料面と平行な方向(X,Y方向)に相対移動させる。これを以下XY走査と呼ぶ。このXY走査によって得られたトンネル電流信号(カレント信号)またはそのそのトンネル電流信号による制御信号(トポグラフィック信号)は、CRT等のモニタ(不図示)上のX−Y座標に対応する位置に、それらの信号の大きさに応じて輝度や色信号などによって出力されることで試料表面を画像として観察することができるようになっている。本発明のSTM装置によれば、円筒型圧電素子700と、内部に配置された円筒型圧電素子を逆方向に駆動することで慣性力をキャンセルするため、高速な駆動を行っても振動が生じることが無く、鮮明な像を取得できるSTM装置を提供することができる。
なお、本実施例で用いた回路は一例として示したものであってこれに限定されるものではなく、たとえば全体をアナログで制御することも可能であることはいうまでもない。
【0028】
[実施例
本実施例では、実施例で示したSTM装置(図16参照)と、金(Au)を表面に堆積したシリコンウェハとを、真空排気したチャンバー内に設置し、チャンバー内の真空度が約1×10−4Torrとなるように6フッ化タングステン(WF)ガスを導入する。この状態で試料(Au)表面のSTM観察を行うと、探針走査部分に対応してタングステンが試料表面に堆積する。この様なSTM装置構成による試料表面への選択堆積あるいはエッチングなどの加工においても、本発明の装置は従来の装置に比較して高速走査時に振動が生じないので、高精度な加工を行うことができる。
【0029】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、軽量で、高速に駆動しても振動が少ないステージを提供することができる。
また、本発明のステージを適用することで、軽量で振動が少なく鮮明な像を取得できるSPMを提供することができる。
また、本発明のステージを適用することで、高速に走査を行っても、高精度な加工を行うことができる加工装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1のステージを説明する図である。
【図2】 実施例2のステージを説明する図である。
【図3】 実施例3のステージを説明する図である。
【図4】 実施例3のステージの動作を説明する図である。
【図5】 参考例の情報記録再生装置を説明する図である。
【図6】 (a)は参考例の情報記録再生装置のステージのX駆動信号を説明する図である。
(b)は参考例の情報記録再生装置のステージのY駆動信号を説明する図である。
(c)は参考例の情報記録再生装置のプローブの動作軌跡を説明する図である。
【図7】 実施例のステージを説明する図である。
【図8】 実施例のステージの配線図である。
【図9】 実施例のステージの動作を説明する図である。
【図10】 実施例のステージを説明する図である。
【図11】 実施例のステージの動作を説明する図である。
【図12】 従来の円筒形圧電素子を用いたステージである。
【図13】 従来の1軸駆動型ステージである。
【図14】 従来の2軸駆動型スデージである。
【図15】 慣性力がキャンセルされることを説明するための力学モデルである。
【図16】 実施例の走査トンネル顕微鏡を説明する図である。
【符号の説明】
10:支持部
11:移動部1
12:移動部2
13:弾性部材1
14:弾性部材2
15:線形アクチュエータ
101、201、301、401、600、2001、3000:支持体
102、103、202、203、302、402、505、
611〜614、1005、2002、3003:移動台
104、105、204、205、304、305、640、
2003、3010〜3017:平行ヒンジバネ
106、206、207、621〜624、2004、
3005、3006:圧電アクチュエータ
110、210、211、310、650、651:増幅器
303a、303b、403a、403b:永久磁石
306、406:連結棒
307、407:コイル
410:X駆動回路
411:Y駆動回路
420:Y駆動機構ガイド
421:Y駆動機構スライダ
422:プローブ固定版
423:微小カンチレバー
424:探針
425:導電性基板
426:記録層
427:記録媒体
430:制御コンピュータ
431:切り替えスイッチ
432:バイアス印加手段
433:記録制御回路
434:再生制御回路
435:電流電圧変換回路
436:バンドパスフィルタ
437:復調回路
500、510、1000:円筒形圧電素子
501〜504、511〜514、1001〜1004:電極
515:重り
520〜522:増幅器
530〜533:反転器
540〜547:加算器
601〜604、3001、3002:副支持体
630:支持ポスト
700:円筒型圧電素子
701:固定台
705:移動台
720〜722:反転アンプ
723:探針支持体
724:導電性の探針
725:導電性試料
730:制御コンピュータ
732:印加電圧制御回路
735:電流電圧変換回路

Claims (13)

  1. 支持体と、前記支持体に支持された少なくとも2つ以上の複数の可動部と、
    前記複数の可動部を駆動する1つ以上のアクチュエータと、
    を有する駆動ステージにおいて、
    前記複数の可動部が、前記支持体もしくは他の可動部に対してバネ性部材で弾性的に支持され、
    前記アクチュエータによって、前記支持体の振動を少なくすべく、前記複数の可動部における一方の可動部を、他方の可動部に対して相対的に駆動し、それぞれの可動部に生じる慣性力が、互いに相殺されるように構成されていることを特徴とする駆動ステージ。
  2. 前記慣性力を相殺する方向に駆動する構成が、
    前記複数の可動部の質量をm1,m2,...mnとし、前記可動部の駆動時の加速度ベクトルをa1,a2,...anとしたとき、
    m1・a1+m2・a2+...+mn・an=0の関係を満たして駆動するように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の駆動ステージ。
  3. 前記弾性的に支持された一方の可動部と他方の可動部は、それぞれの自由振動の周波数が等しくなるように構成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の駆動ステージ。
  4. 前記アクチュエータは、少なくとも2つ以上であり
    該2つ以上のそれぞれのアクチュエータを駆動する駆動信号増幅手段を有し、
    前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、前記複数の可動部のそれぞれ発生する慣性力を互いに相殺できるように設定することが可能に構成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の駆動ステージ。
  5. 前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、前記可動部の積載量に応じて調整することが可能に構成されていることを特徴とする請求項に記載の駆動ステージ。
  6. 前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の周波数特性を、前記可動部の駆動特性に応じて設定することが可能に構成されていることを特徴とする請求項または請求項に記載の駆動ステージ。
  7. 支持体と、前記支持体に支持された少なくとも2つ以上の複数の可動部と、前記複数の可動部を駆動するためのアクチュエータと、を有する駆動ステージにおいて、
    前記アクチュエータは、少なくとも2つ以上の、同心円状に配置された円筒形圧電素子を具備し、
    駆動時に、前記2つ以上のそれぞれの円筒形圧電素子によって、前記支持体の振動を少なくすべく、前記複数の可動部における一方の可動部を、他方の可動部に対して相対的に駆動し、それぞれの可動部に生じる慣性力が、互いに相殺されるように構成されていることを特徴とする駆動ステージ。
  8. 周囲に複数の駆動電極が設けられた円筒形圧電素子を少なくとも2つ以上有する駆動ステージであって
    前記2つ以上の円筒形圧電素子が同心円状に配置され、
    駆動時に前記2つ以上のそれぞれの円筒形圧電素子により発生する慣性力が、互いに相殺されるように構成されていることを特徴とする駆動ステージ。
  9. 前記円筒形圧電素子を駆動する駆動信号増幅手段を有し、
    前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、前記2つ以上のそれぞれの円筒形圧電素子により発生する慣性力を互いに相殺できるように設定することが可能に構成されていることを特徴とする請求項8に記載の駆動ステージ。
  10. 前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の増幅率を、積載量に応じて調整することが可能に構成されていることを特徴とする請求項9に記載の駆動ステージ。
  11. 前記駆動信号増幅手段は、その駆動信号の周波数特性を、前記円筒型圧電素子の駆動特性に応じて設定することが可能に構成されていることを特徴とする請求項9または請求項10に記載の駆動ステージ。
  12. 試料表面に対し探針を相対的に駆動する駆動ステージを有し、前記試料と前記探針との物理相互作用を検出し、前記試料表面の観察をする走査型プローブ顕微鏡において、
    前記駆動ステージとして、請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の駆動ステージを有することを特徴とする走査型プローブ顕微鏡。
  13. 被加工物表面に対し探針を相対的に駆動する駆動ステージを有し、前記被加工物と前記探針との間に物理相互作用を生じさせることで加工を行う加工装置において、
    前記駆動ステージとして、請求項1〜請求項11のいずれか1項に記載の駆動ステージを有することを特徴とする加工装置。
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