JP4170238B2 - ポリアリレート及びそれを用いたフィルム - Google Patents

Description

本発明は、耐熱性、耐候性、光学特性及び力学特性に優れたポリアリレートに関する。より詳しくは、本発明は、光導波路、光ディスク、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品、偏光板保護フィルム、位相差フィルムなどの光学フィルム、及び透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板などの光学部品、プラスチックフィルム基板、該プラスチックフィルム基板を用いてなるフラットパネルディスプレイで有効に用いることができるポリアレートに関する。

無機ガラスは、透明性及び耐熱性に優れ、かつ光学異方性も小さいことから、透明材料として広く使用されている。しかし、無機ガラスは比重が大きく、かつ脆いため、成型されたガラス基板は重く、破損しやすい等の欠点を有していた。このような事情から、近年、無機ガラス材料に替わるプラスチック材料の開発が盛んに行われている。

こうした無機ガラスの代替を目的としたプラスチック材料として、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等が知られている。これらのプラスチック材料は、軽量かつ力学特性に優れ、加工性にも優れるという特徴を有することから、種々の用途、例えばレンズやフィルムなどに使用されている。

一方、液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ分野においても、耐破損性の向上、軽量化、薄型化のニーズがあることから、基板をガラスからプラスチックに置き換えることが検討されている。特に、携帯電話、電子手帳、ラップトップ型パソコン等の携帯情報端末における移動型情報通信機器用表示装置としてのニーズが特に高い。

プラスチックフィルム基板を電極基板として使用する場合、透明導電膜を形成した後に、液晶層を配向させるためポリイミド膜を高温下で製膜する必要がある。一方、高精細表示が可能なアクティブマトリクス型画像素子の作製時には、ＴＦＴを設置するため、さらなる耐熱性が要求される。

このような目的のため開発されたプラスチックフィルム基板としては、耐熱性のある非晶ポリマー、例えば、変性ポリカーボネート（変性ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、シクロオレフィンコポリマーに透明導電層、ガスバリア層を積層したものが知られている。しかるに、このような公知の耐熱性プラスチックを用いても、プラスチックフィルム基板として十分な耐熱性が得られず、性能の低下や歩留まりの低下などの問題が指摘されていた。

さらに、従来のプラスチックフィルム基板は、光学特性の面においてガラス基板より劣っていた。すなわち、ガラスは本質的に光学等方的であるという特性を有するが、プラスチックは製膜条件と樹脂特有の光学弾性係数からフィルム形状に成形された場合、分子配向に起因する複屈折を発生する。そのため、プラスチックフィルム基板に複屈折が存在すると、表示の着色、コントラストの低下等、ディスプレイの表示品位を著しく低下させてしまうという欠点があった。したがって、プラスチックフィルム基板を液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ分野で用いるためには、光学的等方性の要求を満たし、かつ耐熱性を満足しなければならない。

このようなプラスチックフィルム基板の光学特性上の問題を解決する一つの方法としてスピロビインダンジオールのようなスピロ化合物を用いた低複屈折性ポリアリレートが報告されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、このポリアリレートは低複屈折性ではあったが、力学特性が著しく劣るため、得られるフィルムは脆く、実用的には問題があった。一方、別のスピロ化合物として６，６−スピロビクロマンジオール誘導体より得られるポリアリレートが報告されている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、このポリアリレートも耐熱性と耐候性は十分とはいえなかった。

さらに、７，７−スピロビクロマンジオール誘導体より得られるポリアリレートを用いた電子写真感光体が知られている（特許文献３参照）。しかしながら、このポリアリレートは、電荷輸送層で用いられる樹脂として耐磨耗性及び耐久性を意図したものであり、耐熱性を意図したものではない（ガラス転移温度等耐熱性に関する記述はない）。さらに特許文献１には光学フィルム用途への応用に関する記載はない。

このように、プラスチックフィルム基板では、これまでに提案されてきたプラスチック材料の問題点を解決し、かつ高い耐熱性を有し、力学特性や光学特性などの特性を十分に満足するプラスチックフィルム材料の開発が強く望まれていた。

特公平７−５９６３３号公報（請求項１、第３頁第５欄４〜第６欄第１行目） 特開平１１−３０２３６４号公報（特許請求の範囲、［０００７］〜［００３７］） 特開２０００−２２７６６６号公報（特許請求の範囲、［０００９］〜［００５１］）

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の第一の目的は、耐熱性、光学特性及び力学特性に優れたポリアリレートを提供することにある。

また、本発明の第二の目的は、前記ポリアレートを用いた透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品、プラスチックフィルム基板、該プラスチックフィルム基板を用いたフラットパネルディスプレイを提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を５０〜１００モル％含有するポリアリレートにより、上記問題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。

一般式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶はそれぞれ独立に置換基を表し、ｍ、ｎは０〜３の整数である。Ｘは下記一般式（２）〜（４）で表わされる２価の連結基から選ばれる少なくとも一種である。

一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に置換基を表し、ｐは１〜４の整数、ｑ¹、ｑ²は０〜４の整数、ｒは０〜６の整数を表わす。

また、本発明の課題は、下記一般式（５）又は（６）で表される繰り返し単位を含有するポリアリレートによっても解決し得る。

一般式（５）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｙは２価の芳香族基を表す。Ｒ¹²、Ｒ¹³及び／又はＲ¹⁴、Ｒ¹⁵は互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。但し、Ｒ¹¹、Ｒ¹⁶が水素原子である場合には、Ｒ¹²、Ｒ¹⁵は水素原子及びメチル基以外の置換基である。

一般式（６）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁰はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹はそれぞれ独立にハロゲン原子を表し、Ｙは２価の芳香族基を表す。

本発明の上記一般式（５）及び（６）で表わされるＹは、下記一般式（２）〜（４）で表される２価の基から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。

一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に置換基を表し、ｐは１〜４、ｑ¹、ｑ²０〜４の整数、ｒは０〜６の整数をそれぞれ表わす。

本発明のポリアリレートは、ガラス転移点温度が２００℃以上であることが好ましい。

また、本発明のもう一つ目的は、前記ポリアリレートを用いてなる光学部品、光学フィルム、プラスチックフィルム基板、及び該プラスチックフィルム基板を用いた液晶ディスプレイあるいは有機ＥＬディスプレイを代表とするフラットパネルディスプレイによって達成される。

本発明によれば、従来のポリアリレートをプラスチックフィルム基板に成形した際には得られなかった、優れた耐熱性、光学特性及び力学特性を兼ね備えたプラスチック材料を提供できる。また、本発明によれば、前記ポリアリレートを用いることにより、耐候性に優れ、かつ経時変化に伴う着色もなく、光学特性に優れた光学フィルム、プラスチックフィルムを提供できる。さらに、本発明によれば、前記プラスチックフィルム基板上にガスバリア層、透明導電層を積層することにより、表示品位に優れた液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイを提供できる。

以下に、本発明のポリアリレート、光学部品、光学フィルム、プラスチックフィルム基板及びフラットパネルディスプレイについて説明する。
なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。

［ポリアリレート］
まず、下記一般式（１）で表される繰返し単位から構成されるポリアリレートについて説明する。

一般式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶はそれぞれ独立に置換基を表し、ｍ、ｎは０〜３の整数である。また一般式（１）中のＸは、下記一般式（２）〜（４）で表わされる２価の連結基から選ばれる少なくとも一種である。

Ｒ¹〜Ｒ⁴は水素原子、アルキル基又はアリール基を表すが、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基又は２−エチルヘキシル基など）、又は炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基など）である。

Ｒ⁵、Ｒ⁶はそれぞれ独立に置換基を表す。好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基又は２−エチルヘキシル基など）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基であり、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基など）、ビシクロアルキル基（好ましくは炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、すなわち炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基など）、

アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基など）、シクロアルケニル基（好ましくは炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、すなわち炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基など）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基であり、好ましくは炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、すなわち二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基など）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル基、プロパルギル基などである。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基など）、

シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基など）、アミノ基（好ましくはアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、又は炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアニリノ基であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、又はジフェニルアミノ基など）、アシルアミノ基（好ましくはホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、又は炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えばホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、

アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基である。）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基である。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基など）である。

上記置換基は、特にハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基及びアシルアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。

一般式（１）中、ｍ、ｎは、それぞれ独立に０〜３の整数であり、好ましくは１〜３の整数である。ｍ及びｎが２以上である場合、Ｒ⁵及び／又はＲ⁶は同一であっても異なっていてもよい。さらにＲ⁵どうし及び／又はＲ⁶どうしは互いに共同して環を形成していてもよく、好ましくは４〜７員環であり、さらに好ましくは５〜６員環である。

一般式（１）中、Ｘは下記一般式（２）〜（４）で表される２価の連結基から選ばれる少なくとも一種である。

一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は置換基を表す。ここで、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰の好ましい例はＲ⁵、Ｒ⁶で記載した置換基と同一のものを挙げることができ、さらに好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基、アシルアミノ基、カルボキシル基、又はアルコキシカルボニル基であり、最も好ましくはハロゲン原子、アルキル基、又はアシルアミノ基である。

一般式（２）〜（４）中のｐは１〜４のいずれかの整数であり、より好ましくは２〜４のいずれかの整数である。また、ｑ¹、ｑ²はそれぞれ独立に０〜４のいずれかの整数であり、より好ましくは０〜２のいずれかの整数である。また、ｒは０〜６のいずれかの整数であり、好ましくは０〜２のいずれかの整数である。ｐ、ｑ¹、ｑ²及びｒが２以上である場合、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は同一であっても異なっていてもよい。さらにＲ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹及び／又はＲ¹⁰は、同一の芳香族環上で共同して環を形成していてもよく、好ましい環員数は４〜７員環であり、さらに好ましくは５〜６員環である。またＲ⁸、Ｒ⁹は、互いに共同して環を形成してもよく、好ましい環員数としては５〜７員環である。

一般式（１）で表される繰り返し単位を有するポリアリレートは１種の繰り返し単位で形成されていてもよいし、異なる繰り返し単位で形成されていてもよい。

本発明において、ポリアリレート中における一般式（１）で表される繰り返し構造単位のモル百分率をｉとした場合、５０≦ｉ≦１００モル％であり、６０≦ｉ≦１００モル％であることがより好ましく、８０≦ｉ≦１００モル％であることがさらに好ましい。

次に一般式（５）で表される繰返し単位を有するポリアリレートについて説明する。

一般式（５）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表わす。ここで、Ｒ¹〜Ｒ⁴で表されるアルキル基又はアリール基の好ましい例は、一般式（１）で説明した置換基と同一のものを挙げることができる。また、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶は、水素原子又は置換基を表し、好ましい置換基の例は一般式（１）のＲ⁵、Ｒ⁶で説明した置換基と同一のものを挙げることができる。より好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基又はアシルアミノ基である。また、Ｒ¹²、Ｒ¹³及び／又はＲ¹⁴、Ｒ¹⁵は互いに結合して５〜７員の環、より好ましくは５〜６員環を形成してもよい。
但し、Ｒ¹¹、Ｒ¹⁶が水素原子である場合には、耐候性の観点からＲ¹²、Ｒ¹⁵は水素原子及びメチル基以外の置換基である。

一般式（５）中のＹは２価の芳香族基を表す。芳香族基の例としては、例えば、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、１，６−ナフチレン基、１，７−ナフチレン基、２，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、４，４’−ビフェニル基、３，３’−ビフェニル基、下記一般式（７）で表わされる２価の芳香族基などが挙げられる。中でもｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、又は４，４’−ビフェニル基等がより好ましい。

さらにＹは下記一般式（７）で表わされる２価の芳香族基であってもよい。

一般式（７）中、Ｔは２価の連結基を表し、好ましくは酸素原子、硫黄原子、アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、ジメチルメチレン基など）、フェニレン基（例えば、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基など）、カルボニル基、及びスルホニル基から選ばれる少なくとも一種である。

Ｙは、さらに置換基を有していてもよく、置換基の例としては、一般式（１）のＲ⁵、Ｒ⁶で説明したものと同一のものが挙げられ、さらに好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基又はアシルアミノ基である。

また、より好ましいＹの例としては、上記一般式（２）〜（４）で表される２価の連結基から選ばれる少なくとも一種が挙げられる。

本発明において、ポリアリレート中における一般式（５）で表される繰り返し構造単位のモル百分率をｊとした場合、５０≦ｊ≦１００モル％であり、６０≦ｊ≦１００モル％であることがより好ましく、８０≦ｊ≦１００であることがさらに好ましい。

次いで、下記一般式（６）で表される繰返し単位を含有するポリアリレートについて説明する。

一般式（６）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁰はそれぞれ独立に置換基を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁴で表されるアルキル基又はアリール基の好ましい例としては、前記一般式（１）で記載した置換基の例と同一のものが挙げられる。また、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁰で表される置換基の好ましい例としては、一般式（１）におけるＲ⁵、Ｒ⁶で記載したものと同一のものが挙げられ、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基、又はアシルアミノ基である。また、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹は、それぞれ独立にハロゲン原子を表し、好ましくは水素原子又は塩素原子である。また、Ｙは、２価の芳香族を表わし、Ｙの好ましい例としては、上記一般式（５）で記載したものと同一のものが挙げられる。

本発明のポリアリレートは下記一般式（８）で表される繰り返し構造単位をさらに有する共重合ポリアリレートであってもよい。

一般式（８）中、Ｙは前記一般式（５）で表される２価の芳香族基と同一であり、Ｚは２価の有機基を表す。一般式（８）で表される繰り返し構造単位は、公知のポリアリレートが好ましい例として使用できる。Ｚの例としては、好ましくは炭素数４０以下の２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和複素環基又は不飽和複素環基が挙げられ、これらは一般式（１）のＲ¹⁷、Ｒ²⁰で記載した置換基を有していてもよい。

本発明において、ポリアリレート中における一般式（８）で表される繰り返し構造単位のモル百分率をｋとした場合、０≦ｋ≦５０モル％であり、０≦ｋ≦４０モル％であることがより好ましく、０≦ｋ≦２０モル％であることがさらに好ましい。

本発明のポリアリレートのＴｇは、２００℃以上であることが好ましく、２５０℃以上であることがより好ましく、３００℃以上であることがさらに好ましい。Ｔｇが２００℃以上であれば、フィルム基板にした場合に優れた耐熱性を得ることができる。

本発明のポリアリレートの好ましい分子量は、重量平均分子量で１０，０００〜５００,０００、より好ましくは２０,０００〜３００,０００、特に好ましくは３０,０００〜２００,０００である。ポリアリレートの分子量が１０,０００以上であれば、フィルム成形が可能であり、良好な力学特性が得られる。一方、ポリアリレートの分子量が５００,０００以下であれば、合成上分子量がコントロールでき、また適度な粘度を有する溶液が得られ、取り扱いが容易である。なお、分子量は対応する粘度を目安にすることもできる。

本発明のポリアリレートのカルボキシル価は、３００μｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、１００μｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましく、３０μｍｏｌ／ｇ以下であることがさら好ましく、１０μｍｏｌ／ｇ以下であることが特に好ましい。カルボキシル価が３００μ／ｍｏｌ以下であれば、良好な耐アーク放電性や誘電率など電気特性が得られ、溶剤に溶解して調製したポリマー溶液も保存安定性に優れ、かつ溶液キャスト法により得られるキャストフィルムの表面特性も良好である。ポリアリレートのカルボキシル価は、電位差滴定装置を利用した中和滴定など公知の方法で測定できる。

本発明のポリアリレート中の残留アルカリ金属量及びハロゲン量は、５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。残留アルカリ金属量及びハロゲン量が５０ｐｐｍ以下であれば、電気特性が低下することなく、さらにはフィルムの良好な表面特性が得られ、また導電膜、半導体膜等を形成した機能性フィルムを作製した場合に良好な性能が得られる。本発明のポリアリレート中の残留アルカリ金属量及びハロゲン量は、イオンクロマトグラフ分析法、原子吸光法、プラズマ発光分光分析法など公知の方法を利用して定量できる。

本発明のポリアリレート中に残留する第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩などの触媒の量は、２００ｐｐｍ未満であることが好ましく、１００ｐｐｍ未満であることがさらに好ましい。残留する触媒量が２００ｐｐｍ以下であれば、上述した良好な電気特性、フィルムの表面特性が得られ、また導電膜、半導体膜等を形成した機能性フィルムを作製した場合に良好な性能が得られる。本発明のポリアリレート中に残留する第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩などの触媒はＨＰＬＣ、ガスクロマトグラフ法などを利用して定量できる。

本発明のポリアリレート中に残留するフェノールモノマー及びジカルボン酸量は３０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、５００ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｍであることがさらに好ましい。残留するフェノールモノマー及びカルボン酸量が３０００ｐｐｍ以下であれば、上述した良好な電気特性、フィルムの表面特性が得られ、また導電膜、半導体膜等を形成した機能性フィルムを作製した場合に良好な性能が得られる。より具体的には、例えば、フィルム上に透明導電膜を形成する際に、成膜時の加熱やプラズマの影響等が原因で、残留するフェノールモノマーやカルボン酸成分等のガスを発生させたり、熱分解等が生じることにより、透明導電膜中に結晶粒塊が生じたり、また「抜け」と呼ばれるようなコーティングされない部分が生じ、透明導電膜の低抵抗化が阻害されるなどの悪影響を及ぼすが、本発明では残留するフェノールモノマー及びジカルボン酸量を３０００ｐｐｍ以下にするため、そのような欠点がない。
ポリアリレート及びそのフィルム中に残留するフェノールモノマー及びジカルボン酸量は、ＨＰＬＣや核磁気共鳴法など公知の方法で分析できる。

以下に本発明のポリアリレートの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

次に、本発明のポリアリレートの製造方法について説明する。
本発明のポリアリレートは、対応するビスフェノール化合物とジカルボン酸を重縮合させて製造することができる。重縮合方法としては、脱酢酸による溶融重縮合法、脱フェノールによる溶融重縮合法、ジカルボン酸化合物を酸クロライドとして有機塩基を用いポリマーが可溶となる有機溶媒系で行う脱塩酸均一重合法、ジカルボン酸化合物を酸クロライドとしてアルカリ水溶液と水非混和性有機溶媒の２相系で行う界面重縮合法などいずれの公知の方法を用いることができる。しかし、本発明のポリアリレートがＴｇ３００℃以上となる場合、溶融重縮合は困難となるが、特開平７−１８８４０５号公報に記載されているように高沸点可塑剤を併用することにより反応温度が３００℃程度で重合することができる。

本発明のポリアリレートを合成する場合、特に界面重縮合法で合成すると比較的簡便に合成できるため好ましい。典型的な公知の界面重縮合方法を用いる場合、ビスフェノールＡとテレフタル酸、イソフタル酸を用いる方法に代表されるように、ビスフェノール化合物をアルカリ水溶液に可溶化したものと、ジカルボン酸クロライドを水非混和性有機溶媒（代表的にはジクロロメタンなど）に可溶化したものを短時間で混合する方法が採られる。一方、ビスフェノール化合物のアルカリ水溶液に対する溶解度が低い場合や、２，６−ナフタレンジカルボン酸クロライドが水非混和性有機溶媒に対する溶解度が低いため、公知の方法では高分子量の本発明のポリアリレートを合成できない場合がある。このような場合には、予め水、水非混和性有機溶媒、ビスフェノール化合物、ジカルボン酸クロライドをスラリー状混合撹拌しておき、高濃度のアルカリ水溶液を徐々に添加していく方法が高分子量化に有効である。

本発明のポリアリレートの分子量は、重合時に一官能の物質（分子量調整剤）を添加して調整することができる。分子量調整剤としは、フェノール、クレゾール、ｐ−tert−ブチルフェノールなどの一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライド、フェニルクロロホルメートなどの一価酸クロライド類、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ドデシルアルコール、ステアリルアルコール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコールなどの一価のアルコール類、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、トルイル酸、フェニル酸、ｐ−tert−ブチル安息香酸、ｐ−メトキシフェニル酢酸などの一価のカルボン酸などが挙げられる。

本発明のポリアリレートに含まれるスピロビクロマン骨格を有するモノマーの基本骨格は、公知の方法により製造することができる。例えばJournal of Chemical Society、１１１巻、４９５３頁（１９８９年）、特開昭６２−１３０７３５号公報などに記載の方法で製造できる。
さらに本発明で使用されるモノマーは前記した文献と同様の方法により誘導が可能であり、さらには得られたモノマーへの官能基導入反応（例えば、ハロゲン化やｔ−ブチル化など）により誘導が可能である。

本発明のポリアリレートは、他の相溶可能な樹脂を併用できる。また、必要により本発明の効果を損なわない範囲で、可塑剤、染顔料、酸化防止剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、無機微粒子、剥離促進剤、レベリング剤、及び潤滑剤などの各種添加剤（樹脂改質剤）を添加することもできる。

本発明のポリアリレートには、本発明の効果を損なわない範囲で、他の相溶可能な樹脂を混合することができる。混合可能な樹脂材料は、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれでもよい。

熱可塑性樹脂としては、例えば、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、アクリロイル化合物などが挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が１００℃以上であることが好ましい。

上記熱可塑性樹脂のうち、好ましい例としては（括弧内はＴｇを示す）、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ：１４０℃）、脂環式ポリオレフィン樹脂（例えば日本ゼオン(株)製 ゼオノア１６００：１６０℃、ＪＳＲ(株)製 アートン：１７０℃）、ポリアリレート樹脂（ＰＡｒ：２１０℃）、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ：２２０℃）、ポリスルホン樹脂（ＰＳＦ：１９０℃）、ポリエステル樹脂（例えば鐘紡(株)製 Ｏ−ＰＥＴ：１２５℃、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：特開２００１−１５０５８４号公報の実施例１の化合物：１６２℃）、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂（ＢＣＦ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の実施例−４の化合物：２２５℃）、脂環変性ポリカーボネート樹脂（ＩＰ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の実施例−５の化合物：２０５℃）、アクリロイル化合物（特開２００２−８０６１６号公報の実施例−１の化合物：３００℃以上）のものを挙げることができる。

また、下記一般式（９）で表わされるビスフェノールをビスフェノール成分とするポリカーボネート樹脂も好ましい例として挙げられる。

ここで、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³及びＲ⁵⁴は、同一又は異なる水素原子、アルキル基又はアリール基であり、好ましくは水素原子又はアルキル基である。またＡは、単なる結合又は２価の連結基を表し、好ましくは単なる結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基、炭素数７〜１５のアラアルキレン基及び炭素数１〜５のハロアルキレン基から選ばれる少なくとも一種である。

Ａの具体例は、シクロアルキレン基として１，１−シクロペンチレン、１，１−シクロヘキシレン、１，１−（３，３，５−トリメチル）シクロヘキシレン、ノルボルナン−２，２−ジイル、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８、８’−ジイルが挙げられ、特に１，１−シクロヘキシレン、１，１−（３，３，５−トリメチル）シクロヘキシレンが好適に用いられる。また、アラアルキレン基としては、フェニルメチレン、ジフェニルメチレン、１，１−（１−フェニル）エチレン、９，９−フルオレニレンが挙げられる。また、ロアルキレン基として、２，２−ヘキサフルオロプロピレン、２，２−（１，１，３，３−テトラフルオロ−１，３−ジシクロ）プロピレン等が好適に用いられる。

本発明のポリアリレートに混合可能な樹脂は、耐溶剤性、耐熱性などの観点から架橋樹脂も好ましく用いることができる。架橋樹脂は、熱硬化性樹脂及び放射線硬化樹脂のいずれも種々の公知のものを特に制限なく用いることができる。

熱硬化性樹脂の例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などが挙げられる。その他、架橋方法としては、共有結合を形成する反応であれば特に制限なく用いることができ、ポリアルコール化合物とポリイソシアネート化合物を用いて、ウレタン結合を形成するような室温で反応が進行する系も特に制限なく使用できる。但し、このような系は製膜前のポットライフが問題になる場合が多く、通常、製膜直前にポリイソシアネート化合物を添加するような２液混合型として用いられる。一方、１液型として用いる場合、架橋反応に携わる官能基を保護しておくことが有効であり、ブロックタイプ硬化剤として市販もされている。市販されているブロックタイプ硬化剤として、三井武田ケミカル（株）製Ｂ−８８２Ｎ、日本ポリウレタン工業（株）製コロネート２５１３（以上ブロックポリイソシアネート）、三井サイテック（株）製サイメル３０３（メチル化メラミン樹脂）などが知られている。

また、エポキシ樹脂の硬化剤として用いることのできるポリカルボン酸を保護した下記Ｂ−１のようなブロック化カルボン酸も知られている。

放射線硬化樹脂の例としては、ラジカル硬化性樹脂とカチオン硬化性樹脂が挙げられる。ラジカル硬化性樹脂の硬化性成分としては、分子内に複数個のラジカル重合性基を有する化合物が用いられ、代表的な例として分子内に２〜６個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称される分子内に複数個のアクリル酸エステル基を有する化合物が用いられる。ラジカル硬化性樹脂の代表的な硬化方法として、電子線を照射する方法、紫外線を照射する方法が挙げられる。通常、紫外線を照射する方法においては紫外線照射によりラジカルを発生する重合開始剤を添加する。なお、加熱によりラジカルを発生する重合開始剤を添加すれば、熱硬化性樹脂として用いることもできる。

カチオン硬化性樹脂の硬化性成分としては、分子内に複数個のカチオン重合性基を有する化合物が用いられ、代表的な硬化方法として紫外線の照射により酸を発生する光酸発生剤を添加し、紫外線を照射して硬化する方法が挙げられる。カチオン重合性化合物の例としては、エポキシ基などの開環重合性基を含む化合物やビニルエーテル基を含む化合物を挙げることができる。

本発明のポリアリレートは、上記の熱硬化性樹脂又は放射線硬化樹脂の複数種混合して用いてもよく、また熱硬化性樹脂と放射線硬化樹脂を併用してもよい。

さらに本発明のポリアリレートに架橋性樹脂を混合して用いた場合には、得られたプラスチックの耐溶剤性、耐熱性、光学特性及び強靭性がいずれも優れているため好ましい。また、本発明のポリアリレートに架橋性基を導入することも可能であり、ポリマー主鎖末端、ポリマー側鎖、ポリマー主鎖中のいずれの部位に架橋性基を有していてもよい。この場合、上記で挙げた汎用の架橋性樹脂を併用しなくてよい。

本発明のポリアリレートは、金属の酸化物及び／又は金属の複合酸化物、及びゾルゲル反応により得た金属酸化物を含有することができる。

本発明のポリアリレートに含有可能な金属酸化物の好ましい例としては、Ａｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂ 、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、ＷＯ₃などが挙げられる。また、本発明のポリアリレートに含有可能な金属の複合酸化物は、異種元素が酸素で結合された構造（例えば、Ａｌ₂Ｏ₃Ｓｉなど）で表される結合を主構成成分として有する。本発明においては、このような複合酸化物をＥ_xＯ_y／Ｆ_mＯ_n（式中、Ｅは２元複合酸化物に含まれる二種類の金属の一方を示し、Ｆはもう一方を示す。また、ｘ、ｙ、ｍ、ｎは該複合酸化物において好ましい価数となる組み合わせを表す数である）、例えばＡｌ？Ｏ？Ｓｉで表される結合を主構成成分とする複合酸化物をＡｌ₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂と表す。

このような複合酸化物としては、ＳｉＯ₂／ＺｒＯ₂ 、ＳｉＯ₂／Ｆｅ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂／Ｆｅ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃／ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃／ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃／Ｆｅ₂Ｏ₃などの２元複合酸化物、Ａｌ₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂／Ｆｅ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂／ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃／ＴｉＯ₂／ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂／ＺｒＯ₂などの３元複合酸化物、およびそれ以上の多元系の複合酸化物が挙げられる。

本発明のポリアリレートに含有可能な金属酸化物又は金属の複合酸化物の平均一次粒子径は、０．００１μｍ以上０．１μｍ未満であることが好ましく、０．００１μｍ以上０．０３μｍ未満であることがさらに好ましい。

本発明のポリアリレートに含有可能な金属酸化物又は金属の複合酸化物は、その表面が各種の表面処理剤により変性されていてもよい。凝集をできるだけ抑制する目的または樹脂との親和性を向上させる目的で使用される表面処理剤としては、リン酸およびその誘導体（例えば、リン酸エステル、リン酸のアルカリ金属塩、リン酸のアンモニウム塩など）、ポリアクリル酸のアンモニウム塩、ポリメタクリル酸のアンモニウム塩、アルカリ金属水酸化物、シランカップリング剤、チタンカップリング剤などが挙げられる。上記の表面処理剤は、一般に、金属酸化物又は金属の複合酸化物の質量に対して５質量％以下の量で使用される。

本発明のポリアリレートに併用可能なゾルゲル反応により得た金属酸化物は、金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物から誘導される。以下、好ましい金属アルコキシドを例に取り説明する。

本発明において、金属アルコキシド化合物は、あらゆるタイプのものも用いることができる。その中でも好ましいものは、下記一般式（１０）で表される化合物である。

一般式（１０）中、Ｇは炭素数１〜８、好ましくは１〜４のアルコキシ基であり、ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｃｅ、ＴａおよびＷ等からなる群、好ましくはＳｉ、ＴｉおよびＺｒからなる群から選ばれる金属元素であり、ｄは２〜６、好ましくは３〜４の整数を示す。

一般式（１０）の化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等のテトラアルコキシチタン類、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等のテトラアルコキシジルコニウム類およびジメトキシ銅、ジエトキシバリウム、トリメトキシホウ素、トリエトキシガリウム、トリブトキシアルミニウム、テトラエトキシゲルマニウム、テトラブトキシ鉛、ペンタ−ｎ−プロポキシタンタル、ヘキサエトキシタングステン等の金属アルコキシド類が挙げられる。

本発明において、使用可能なゾルゲル反応により得られる金属酸化物のさらに好ましい例としては一般式（１１）で表される金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物から誘導されたものが挙げられる。

一般式（１５）中、Ｚ'は、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｍは金属原子、Ｔ'は単結合又は２価の連結基、Ｒは有機基、Ａｒは芳香族基をそれぞれ表す。ａ、ｂは１以上の整数を表し、ｃは０以上の整数を表す。但し、ａ＋ｂ＋ｃは金属原子Ｍの価数である。Ｚ'がアルコキシ基を表す場合、Ｚ'はＲ⁶⁰Ｏ−で表されるアルコキシ基であることが好ましい。
ここで、Ｒ⁶⁰は直鎖又は分岐状の有機基である。有機基は、アルキル基、アラルキル基等を主骨格とし、ゾル−ゲル反応系に影響を与えない限り、その内部に不飽和結合、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、ペプチド結合、又はカルボキシル基、アミノ基、ケトン基等を含んでいてもよい。有機基を構成する炭素数は、１〜１０、好ましくは１〜５である。Ｚ'がハロゲン原子である場合、塩素又は臭素であることが特に好ましい。

Ｍは、例えば、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ゲルマニウム又はスズであることが好ましい。ａ、ｂ、ｃの組み合わせとしては、Ｍが４価の金属である場合、下記表１に挙げる組み合わせが好ましい。

また、Ｍが３価の金属である場合、下記表２に挙げる組み合わせが好ましい。

４価の金属原子を有する金属アルコキシドの具体例としては、(ＣＨ₃Ｏ)₃ＭＰｈ、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₃Ｍ(ＣＨ₂Ｐｈ)、(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ)₃Ｍ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、(Ｃ₃Ｈ₈ＮＯ)₃ＭＰｈ、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)₃Ｍ(Ｃ₃Ｈ₄Ｐｈ)、(ＣＨ₄ＮＯ)₂ＭＰｈ₂、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(ＣＨ₃ＮＰｈ)₂、(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(Ｃ₄Ｈ₈Ｐｈ)₂、(Ｃ₄Ｈ₁₀ＮＯ)₂Ｍ(Ｃ₂Ｈ₂Ｏ₂Ｐｈ)₂、(ＣＨ₃Ｏ)₂Ｍ(Ｃ₄Ｈ₉ＮＰｈ)(Ｃ₄Ｈ₉)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(Ｃ₄Ｈ₆Ｏ₂Ｐｈ)(Ｃ₃Ｈ₅)、(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ)₂Ｍ(Ｃ₂Ｈ₄Ｐｈ)(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)、(Ｃ₃Ｈ₈ＮＯ)₂Ｍ(ＣＨ₂Ｐｈ)(ＣＨ₄Ｎ)、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)₂ＭＰｈ(ＣＨ₃)、(ＣＨ₄ＮＯ)₂ＭＰｈ(Ｃ₂Ｈ₅)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(ＣＨ₂Ｐｈ)(Ｃ₃Ｈ₇Ｏ)、(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(Ｃ₂Ｈ₂Ｐｈ)(Ｃ₅Ｈ₉Ｏ₂)、(Ｃ₄Ｈ₁₀ＮＯ)₂ＭＰｈ(Ｃ₄Ｈ₁₀Ｎ)、(ＣＨ₃Ｏ)₂Ｍ(ＣＨ₂ＯＰｈ)(Ｃ₃Ｈ₇)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(Ｃ₅Ｈ₈Ｏ₂Ｐｈ)(Ｃ₄Ｈ₉)、(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ)₂ＭＰｈ(Ｃ₃Ｈ₈Ｎ)、(Ｃ₃Ｈ₈ＮＯ)₂Ｍ(Ｃ₂Ｈ₄Ｐｈ)(Ｃ₂Ｈ₅)、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)₂ＭＰｈ(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ₂)、（ＣＨ₄ＮＯ)₂ＭＰｈ(Ｃ₃Ｈ₇)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(ＣＨ₃ＮＰｈ)(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ₂)、(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ)₂Ｍ(Ｃ₄Ｈ₈Ｐｈ)(Ｃ₂Ｈ₃)、(Ｃ₄Ｈ₁₀ＮＯ)₂Ｍ(Ｃ₂Ｈ₂Ｏ₂Ｐｈ)(ＣＨ₃）が挙げられる。好ましくは、(ＣＨ₃Ｏ)₃ＭＰｈ、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₃ＭＰｈ、(Ｃ₃Ｈ₇Ｏ)₃ＭＰｈ、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)₃ＭＰｈ、(ＣＨ₃Ｏ)₂ＭＰｈ₂、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂ＭＰｈ₂、(Ｃ₃Ｈ₇Ｏ)₂ＭＰｈ₂、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)₂ＭＰｈ₂である。
ここで、Ｍはケイ素、チタン、ジルコニウム、ゲルマニウムおよびスズである。

３価の金属原子を有する金属アルコキシド（アルミニウムアルコキシド）の具体例としては、(ＣＨ₃Ｏ)₂ＡｌＰｈ、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂Ａｌ(ＣＨ₂Ｐｈ)、(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ)₂Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、(Ｃ₃Ｈ₈ＮＯ)₂ＡｌＰｈ、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)₂Ａｌ(Ｃ₃Ｈ₄Ｐｈ)、(ＣＨ₄ＮＯ)ＡｌＰｈ₂、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(ＣＨ₃ＮＰｈ)₂、(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(Ｃ₄Ｈ₈Ｐｈ)₂、(Ｃ₄Ｈ₁₀ＮＯ)Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₂Ｏ₂Ｐｈ)₂、(ＣＨ₃Ｏ)Ａｌ(Ｃ₄Ｈ₉ＮＰｈ)(Ｃ₄Ｈ₉)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(Ｃ₄Ｈ₆Ｏ₂Ｐｈ)(Ｃ₃Ｈ₅)、(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ)Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₄Ｐｈ)(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)、(Ｃ₃Ｈ₈ＮＯ)Ａｌ(ＣＨ₂Ｐｈ)(ＣＨ₄Ｎ)、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)ＡｌＰｈ(ＣＨ₃)、(ＣＨ₄ＮＯ)ＡｌＰｈ(Ｃ₂Ｈ₅)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(ＣＨ₂Ｐｈ)(Ｃ₃Ｈ₇Ｏ)、(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₂Ｐｈ)(Ｃ₅Ｈ₉Ｏ₂)、(Ｃ₄Ｈ₁₀０ＮＯ)ＡｌＰｈ(Ｃ₄Ｈ₁₀Ｎ)、(ＣＨ₃Ｏ)Ａｌ(ＣＨ₂ＯＰｈ)(Ｃ₃Ｈ₇)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(Ｃ₅Ｈ₈Ｏ₂Ｐｈ)(Ｃ₄Ｈ₉)、(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ)ＡｌＰｈ(Ｃ₃Ｈ₈Ｎ)、(Ｃ₃Ｈ₈ＮＯ)Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₄Ｐｈ)(Ｃ₂Ｈ₅)、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)ＡｌＰｈ(Ｃ₂Ｈ₃Ｏ₂)、(ＣＨ₄ＮＯ)ＡｌＰｈ(Ｃ₃Ｈ₇)、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(ＣＨ₃ＮＰｈ)(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ₂)、(Ｃ₃Ｈ₅Ｏ)Ａｌ(Ｃ₄Ｈ₈Ｐｈ)(Ｃ₂Ｈ₃)、(Ｃ₄Ｈ₁₀ＮＯ)Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₂Ｏ₂Ｐｈ)(ＣＨ₃)が挙げられる。 好ましくは、(ＣＨ₃Ｏ)₂ＡｌＰｈ、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₂ＡｌＰｈ、(Ｃ₃Ｈ₇Ｏ)₂ＡｌＰｈ、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)₂ＡｌＰｈ、(ＣＨ₃Ｏ)ＡｌＰｈ₂、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)ＡｌＰｈ₂、(Ｃ₃Ｈ₇Ｏ)ＡｌＰｈ₂、(Ｃ₄Ｈ₉Ｏ)ＡｌＰｈ₂が挙げられる。

また、金属ハロゲン化物の具体例としては、Ｆ₂ＭＰｈ₂、Ｆ₂Ｍ(ＣＨ₂Ｐｈ)₂、Ｆ₃ＭＰｈ、Ｆ₃Ｍ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、Ｃｌ₂ＭＰｈ₂、Ｃｌ₃Ｍ(ＣＨ₂Ｐｈ)、Ｃｌ₃ＭＰｈ、Ｃｌ₃Ｍ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、Ｂｒ₂ＭＰｈ₂、Ｂｒ₂Ｍ(ＣＨ₂Ｐｈ)₂、Ｂｒ₃ＭＰｈ、Ｂｒ₃Ｍ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、Ｉ₂ＭＰｈ₂、Ｉ₂Ｍ(ＣＨ₂Ｐｈ)₂、Ｉ₃ＭＰｈ、Ｉ₃Ｍ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、Ｆ₂ＡｌＰｈ、Ｆ₂Ａｌ(ＣＨ₂Ｐｈ)、Ｆ₂Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、Ｃｌ₂ＡｌＰｈ、Ｃｌ₂Ａｌ(ＣＨ₂Ｐｈ)、Ｃｌ₂Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ)、Ｂｒ₂ＡｌＰｈ、Ｂｒ₂Ａｌ(ＣＨ₂Ｐｈ)、Ｂｒ₂Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ）、Ｉ₂ＡｌＰｈ、Ｉ₂Ａｌ(ＣＨ₂Ｐｈ)、Ｉ₂Ａｌ(Ｃ₂Ｈ₄ＯＰｈ）が挙げられる。好ましくは、Ｆ₂ＭＰｈ₂、Ｃｌ₂ＭＰｈ₂、Ｂｒ₂ＭＰｈ₂、Ｉ₂ＭＰｈ₂、Ｆ₃ＭＰｈ、Ｃｌ₃ＭＰｈ、Ｂｒ₃ＭＰｈ、Ｉ₃ＭＰｈが挙げられる。ここでＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、ＧｅおよびＳｎを意味する。

上記の金属アルコキシドの中で、特に好ましいものは、ＰｈＳｉ(ＯＭｅ)₃、ＰｈＳｉ(ＯＥｔ)₃、(Ｃ₂Ｈ₅Ｏ)₃Ｓｉ(ＣＨ₂Ｐｈ)、Ｐｈ₂ＧｅＣｌ₂である。

また、上記の金属アルコキシド及び金属ハライドの部分加水分解物、並びにその２量体、３量体程度の初期縮合物も本発明で用いることができる。これらの金属アルコキシドおよび金属ハライドは１種類だけでもよく、２種以上を併用してもよい。

本発明の樹脂組成物に含有可能な金属アルコキシド及び金属ハライドの含有量は、本発明の目的を損なわない程度であれば規定されないが、５〜７０質量％、好ましくは１０〜６０質量％、さらに好ましくは１５〜５０質量％である。

本発明のポリアリレートは、さらに無機層状化合物を含有させることもできる。本発明のポリアリレートに無機層状化合物を添加することにより、熱変形温度が２〜１００℃改善することができる。また、本発明の無機層状化合物を含有したポリアリレートをプラスチックフィルム基板として使用した場合には、ガスバリア性フィルムとして利用可能である。含有可能な無機層状化合物は、特に限定されるものではないが、膨潤性及び／又は劈開性を有する粘土鉱物やハイドロタルサイト類化合物、並びにその類似化合物を好適に用いることができる。

これら粘土鉱物としては、例えば、カオリナイト、ディッカイト、ナクライト、ハロイサイト、アンチゴライト、クリソタイル、パイロフィライト、モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ソーコナイト、スチブンサイト、ヘクトライト、テトラシリリックマイカ、ナトリウムテニオライト、白雲母、マーガライト、タルク、バーミキュライト、金雲母、ザンソフィライト、緑泥石などを挙げることができる。

上記無機層状化合物は、天然物であっても合成物であってもよい。また、これらの層状珪酸塩は、単独で用いることができ、また複数を併用することもできる。

上記無機層状化合物の形状は、特に限定されるものではないが、無機層状化合物の厚さは、可能な限り１層における厚み（約１ｎｍ）であることが好ましい。また、平均長さは０．０１〜５０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍ、アスペクト比は２０〜５００、好ましくは５０〜２００であるものを好適に用いることができる。
上記無機層状化合物は、その層間（最上又は最下の無機層状化合物の表面も含まれる）にイオン交換可能な無機カチオンを有する。イオン交換可能な無機カチオンとは、無機層状化合物（例えば層状珪酸塩）の結晶表面上に存在するナトリウム、カリウム、リチウムなどの金属イオンのことである。これらのイオンは、カチオン性物質とのイオン交換性を有し、イオン交換反応によりカチオン性を有する種々の物質を上記無機層状化合物の層間にインターカレートできる。

上記無機層状化合物の層間に存在する無機カチオンを有機カチオンでイオン交換する場合、長鎖のアルキル基を含むアルキルアンモニウムイオンを有機カチオンとして好適に用いることができる。長鎖のアルキル基を含むアルキルアンモニウムイオンは、例えば、テトラブチルアンモニウムイオン、テトラヘキシルアンモニウムイオン、ジヘキシルジメチルアンモニウムイオン、ジオクチルジメチルアンモニウムイオン、ヘキサトリメチルアンモニウムイオン、オクタトリメチルアンモニウムイオン、ドデシルトリメチルアンモニウムイオン、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムイオン、オクタデシルトリメチルアンモニウムイオン、ジオクタデシルジメチルアンモニウムイオン、ドコセニルトリメチルアンモニウムイオン、ヘキサデシルアンモニウムイオン、テトラデシルジメチルベンジルアンモニウムイオン、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウムイオン、ジオレイルジメチルアンモニウムイオン、ポリオキシエチレンドデシルモノメチルアンモニウムイオンなどを用いることができる。

上記無機層状化合物のカチオン交換容量（ＣＥＣ）は、特に限定されるものではないが、例えば２５〜２００ｍｅｑ／１００ｇであることが好ましく、５０〜１５０ｍｅｑ／１００ｇであることがより好ましく、９０〜１３０ｍｅｑ／１００ｇであることがさらに好ましい。無機層状化合物のカチオン交換容量が２５ｍｅｑ／１００ｇ未満であると、イオン交換により無機層状化合物の層間に挿入（インターカレート）されるカチオン性物質の量が少なくなるために、層間が十分に親有機化されないことがある。一方、カチオン交換容量が２００ｍｅｑ／１００ｇを超えると、無機層状化合物の層間の結合力が強固になりすぎて、結晶薄片が剥離しにくくなり、分散性が悪くなることがある。

上記無機層状化合物の具体例としては、例えば、クニミネ工業のスメクトンＳＡ、クニミネ工業のクニピアＦ、コープケミカル社のソマシフＭＥ−１００、コープケミカル社のルーセンタイトＳＷＮなどの商品を挙げることができる。

上記無機層状化合物の層間に存在する無機カチオンを有機カチオンでイオン交換（親有機化）する方法としては、一般に、湿式法を挙げることができる。湿式法は、無機層状化合物を水やアルコール等で十分溶媒和させた後、有機カチオンを加えて撹拌し、無機層状化合物の層間に存在する金属イオンを有機カチオンに置換させ、その後、未置換の有機カチオンを十分に洗浄し、ろ過、乾燥する方法である。その他、有機溶剤中で無機層状化合物と有機カチオンを直接反応させたり、樹脂などの存在下、無機層状化合物と有機カチオンとを押出機中で加熱混練して反応させたりすることもできる。

前記無機層状化合物の本発明のポリアリレート中における含有比率は、質量比で１／１００〜１００／２０であることが好ましく、５／１００〜１００／５０であることがさらに好ましい。無機層状化合物の含有量が本発明のポリアリレートの１００質量部に対して１質量部以上であれば、充分な耐熱性及びガスバリア性が得られる。一方、無機層状化合物の含有量が本発明のポリアリレートの２０質量部に対して１００質量部以下であれば、良好な脆性等を維持できる。

本発明のポリアリレートに無機層状化合物を含有させる場合、先ず無機層状化合物と本発明のポリアリレートとを溶融混練又は溶液中で混合することにより、無機層状化合物を劈開した状態でポリマー中に分散したポリアリレートを作製することが好ましい。製造プロセスやコストを考慮すると、溶融混練法により混合することが好ましい。

上記溶融混練法で使用可能な溶融混練機としては、熱可塑性樹脂について一般に実用されている混練機を挙げることができる。例えば、一軸又は多軸混練押出機、ロール、バンバリーミキサー等を用いることができる。

［プラスチックフィルム基板、光学フィルム］
本発明のポリアリレートは、耐熱性、光学特性、及び力学特性等に優れ、透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ素子表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの各種の光学部品に好適に用いることができる。

また、本発明のポリアリレートは、特にプラスチックフィルム基板や光学フィルムとして好適に用いることができる。本発明のポリアリレートをフィルム状又はシート状に成形する方法としては公知の方法が採用できるが、溶液流延法、押出成形法（溶融成型法）が好ましい方法として挙げられる。溶液流延法における流延及び乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、米国特許２３６７６０３号、米国特許２４９２０７８号、米国特許２４９２９７７号、米国特許２４９２９７８号、米国特許２６０７７０４号、米国特許２７３９０６９号、米国特許２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、英国特許７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、特公昭４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、特開昭６０−２０３４３０号、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。樹脂溶液は、表面温度が３０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましく用いられ、特には−１０〜２０℃の金属支持体温度であることが好ましい。

溶液流延法で製造する場合に用いられる製造装置の例としては、例えば、特開２００２−１８９１２６号公報の段落［００６１］〜［００６８］に記載の製造装置、図１及び図２などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

溶液流延法では、本発明のポリアリレートを溶媒に溶解する。使用する溶媒は、本発明のポリアリレートを溶解できるものであればいずれの溶媒を用いてもよい。特に２５℃において固形分濃度１０質量％以上で溶解可能な溶媒を使用することが好ましい。また、使用する溶媒の沸点は２００℃以下であるものが好ましく、１５０℃以下であるのものがより好ましい。沸点が２００℃以下であれば、溶媒を充分乾燥でき、フィルム中おける溶媒の残存率を低くできる。

このような溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、アセトン、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、溶媒は２種以上を混合して用いてもよい。

混合溶媒の例としては、塩化メチレンに炭素数１〜５のアルコールを１種ないし数種混合した溶媒が挙げられる。この場合、アルコールの含有量は、溶媒全体に対して５〜２０質量％であることが好ましい。さらに、炭素数３〜１２のエーテル、ケトン及びエステルの適宣混合した溶媒が好ましい例として挙げられ、この際、炭素数１〜５のアルコールを１種ないし数種混合してもよい。

また、発明協会公開技報２００１−１７４５号、段落６に記載の有機溶媒の例なども好ましい例として挙げられる。

溶液流延で用いる溶液中のポリアリレート濃度は、５〜６０質量％、好ましくは１０〜４０質量％、さらに好ましくは１０〜３０質量％である。ポリアリレートの濃度が５〜６０質量％であれば、適度な粘度が得られ、フィルムの厚みの調整が容易であり、かつ製膜性が良好であるため、ムラを小さくすることができる。

溶液流延する方法は特に限定されないが、バーコーター、Ｔダイ、バー付きＴダイ、ドクターブレード、ロールコート、ダイコート等を用いて平板又はロール上に流延できる。

溶媒を乾燥する温度は、使用する溶媒の沸点によって異なるが、２段階に分けて乾燥することが好ましい。第一段階としては３０〜１００℃で溶媒の質量濃度が１０％以下になる、より好ましくは５％以下になるまで乾燥する。次いで、第二段階として平板又はロールからフィルムを剥がし、６０℃以上、樹脂のガラス転移温度以下の範囲で乾燥する。
平板又はロールからフィルムを剥がす際、第一段階の乾燥終了直後に剥がしても、一旦冷却してから剥がしてもよい。

本発明のフィルムは、加熱乾燥が不足すれば残留溶媒量が多く、また極度に加熱しすぎるとポリアリレートの熱分解を引き起こし、残留するフェノールモノマー量が多くなる。さらに急激な加熱乾燥は含有溶媒の急速な気化を生じ、フィルムに気泡等の欠陥を生じさせる。
そこで、本発明のフィルムは、残留する溶媒量を２０００ｐｐｍ以下、好ましくは１０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１００ｐｐｍ以下とする。残留する溶媒量が２０００ｐｐｍ以下であれば、良好なフィルム表面特性が得られるため、表面処理等がスムーズに行え、また導電膜や半導体膜等を形成する場合には、機能性フィルムとして良好な性能を示す。本発明のポリアリレートフィルム中に残留する溶媒量は、ガスクロマトグラフ法など公知の方法を利用して定量できる。

本発明のフィルムの製造は、回転ドラム又はバンド上への溶液流延、剥ぎ取り及び乾燥を連続的に行い、ロール状に巻取ることにより行なう方法が好ましい。この際、フィルムを機械的に搬送するときに、フィルムの力学強度が高いことが好ましい。好ましい力学強度は、搬送装置によって異なるため一概に言えないが、目安としてフィルムの引張試験から得られる破断応力と破断伸度とを用いることができる。好ましい破断応力は、５０ＭＰａ以上、より好ましくは８０ＭＰａ以上、さらに好ましくは１００ＭＰａ以上である。破断伸度は、サンプル作製条件等によっても変動するため、破断応力よりは信頼性がやや低いが、好ましくは５％以上、より好ましくは１０％以上、さらに好ましくは１５％以上である。

押出成型法の条件は、一般的な光学樹脂に用いられる条件と同様であり、溶融温度としては、通常１８０〜３５０℃の範囲の温度が使用され、特に２００〜３００℃が好ましく使用される。

本発明のフィルムは延伸されていてもよい。延伸により耐折強度など機械的強度が改善され、取扱性が向上する利点がある。特に延伸方向のオリエンテーションリリースストレス（ＡＳＴＭＤ１５０４、以下ＯＲＳと略記する）が０．３〜３ＧＰａであるものは機械的強度が改善され好ましい。ＯＲＳは、延伸フィルム又は延伸シートに内在する延伸により生じた内部応力である。

延伸は、公知の方法が使用でき、例えば、ポリアリレートのガラス転移温度（Ｔｇ）より１０℃高い温度から、５０℃高い温度の間の温度、好ましくは１０〜４０℃で、ロール一軸延伸法、テンター一軸延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法、インフレーション法により延伸できる。延伸倍率は１．１〜３．５倍、好ましくは１．１〜２．０倍が用いられる。

本発明のフィルム基板の厚みは特に規定されないが、３０〜７００μｍであることが好ましく、４０〜２００μｍであることがより好ましく、５０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。また、いずれの場合もヘイズは３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。また、本発明のフィルムの全光透過率は７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。

本発明のフィルム基板の表面には用途に応じて他の層、あるいは部品との密着性を高めるためにフィルム基板表面上にケン化、コロナ処理、火炎処理、グロー放電処理等の処理を行うことができる。さらに、フィルム表面にアンカー層を設けてもよい。

本発明のプラスチックフィルム基板及び光学フィルムは、基板上に透明導電層を積層してもよい。透明導電層としては、公知の金属膜、金属酸化物膜等が適用できるが、中でも、透明性、導電性、機械的特性の観点から、金属酸化物膜が好ましい。例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウム、モリブテン、タングステン、フッ素、亜鉛、ゲルマニウム等を添加した酸化インジウム、酸化カドミウム及び酸化スズ、不純物としてアルミニウムを添加した酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物膜が挙げられる。中でも酸化スズから主としてなり、酸化亜鉛を２〜１５重量％含有した酸化インジウム（ＩＴＯ）の薄膜が、透明性、導電性が優れており、好ましく用いられる。

これら透明導電層の成膜方法は、目的の薄膜を形成できる方法であれば、いかなる方法でもよいが、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法などが適しており、特許第３４００３２４号、特開２００２−３２２５６１号、特開２００２−３６１７７４号の各公報に記載の方法で成膜することができる。中でも、特に優れた導電性と透明性が得られるスパッタリング法が好ましい。

スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法の好ましい真空度は０．１３３ｍＰａ〜６．６５Ｐａであり、より好ましくは０．６６５ｍＰａ〜１．３３Ｐａである。このような透明導電層を設ける前に、プラズマ処理（逆スパッタ）、コロナ処理のようにフィルムの表面処理を行うことが好ましい。また透明導電層を設けている間に５０〜２００℃に昇温してもよい。

このようにして得た透明導電層の膜厚は、２０〜５００ｎｍであることが好ましく、５０〜３００ｎｍであることがさらに好ましい。また、透明導電層の２５℃６０％ＲＨ（relative humidity）で測定した表面電気抵抗は、０．１〜２００Ω／□であることが好ましく、０．１〜１００Ω／□であることがより好ましく、０．５〜６０Ω／□であることがさらに好ましい。また、透明で導電層の光透過性は８０％以上であることが好ましく、８３％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。

本発明のプラスチックフィルム基板又は光学フィルムは、ガス透過性を抑制するために、少なくとも片面にガスバリア層を積層することができる。好ましいガスバリア層としては、例えば、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、イットリウム、タンタルからなる群から選ばれる１種又は２種以上の金属を主成分とする金属酸化物膜、珪素、アルミニウム、ホウ素の金属窒化物膜又はこれらの混合物からなる膜を挙げることができる。この中でも、ガスバリア性、透明性、表面平滑性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５〜２．０の珪素酸化物を主成分とする金属酸化物膜が良好である。これら無機ガスバリア層は、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法により作製できる。中でも、特に優れたガスバリア性が得られるという観点からは、スパッタリング法を用いることが好ましい。また透明導電層を形成している間に５０〜２００℃に昇温してもよい。

このようにして得た無機ガスバリア層の膜厚は、１０〜３００ｎｍであることが好ましく、３０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。またガスバリア層は、透明導電層と同じ側及び反対側いずれに形成してもよい。

得られたプラスチックフィルム基板及び光学フィルムのガスバリア性能は、４０℃９０％ＲＨで測定した水蒸気透過度が０．０１〜５g/m²・dayであることが好ましく、０．０３〜３g/m²・dayであることがより好ましく、０．０５〜２g/m²・dayであることがさらに好ましい。また、４０℃９０％ＲＨで測定した酸素透過度は、０．０１〜１ml/m²・day・atmであることが好ましく、０．０１〜０．７ml/m²・day・atmであることがより好ましく、０．０１〜０．５ml/m²・day・atmであることがさらに好ましい。ガスバリア性能が上記範囲内であれば、例えば有機ＥＬやＬＣＤに用いた場合、水蒸気及び酸素によるＥＬ素子の劣化を実質的になくすことができるため好ましい。

ガスバリア性能を向上させる目的で、ガスバリア層と隣接して欠陥補償層を形成することが好ましい。欠陥補償層としては、例えば、（１）米国特許第６１７１６６３号明細書、特開２００３−９４５７２号公報記載のようにゾルゲル法を用いて作製した無機酸化物層、（２）米国特許第６４１３６４５号明細書、第６４１６３６４５号明細書に記載の有機物層を用いることができる。これらの欠陥補償層は、真空下で蒸着後、紫外線又は電子線で硬化させる方法、または塗布した後、加熱、電子線、紫外線等で硬化させることにより作製することができる。欠陥補償層を塗布方式で作製する場合には、従来の種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。

本発明のプラスチックフィルム基板及び光学フィルムは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）表示素子用基板として用いることができる。ＴＦＴアレイの作製方法は、例えば、特表平１０−５１２１０４号公報に記載された方法等を用いることができる。さらに、これらの基板はカラー表示のためのカラーフィルターを有していてもよい。カラーフィルターは、いかなる方法を用いて作製してもよいが、フォトリソグラフィー手法を用いて作製することが好ましい。

本発明のプラスチックフィルム基板及び光学フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で剥離フィルムを形成でき、粘着剤を使用することができる。

［フラットパネルディスプレイ］
以上説明した本発明のポリアリレート、及びそれを用いたプラスチックフィルム基板、光学フィルムは、画像表示装置に用いることができる。ここで、画像表示装置は特に限定されず、従来知られているものを挙げることができる。また、本発明のプラスチックフィルム基板や光学フィルムを基板として用いて表示品質に優れたフラットパネルディスプレイを作製できる。フラットパネルディスプレイとしては液晶、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）、蛍光表示管、発光ダイオードなどが挙げられ、これら以外にも従来ガラス基板が用いられてきたディスプレイ方式のガラス基板に代わる基板として用いることができる。さらに、本発明のポリアリレート、プラスチックフィルム基板及び光学フィルムは、フラットパネルディスプレイ以外にも太陽電池、タッチパネルなどの用途にも応用が可能である。タッチパネルは、例えば、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載のものに応用することができる。

本発明のフィルムを基板として液晶表示用途などで使用する場合、光学的均一性を達成するため、本発明のポリアリレートは非晶性ポリマーであることが好ましい。さらに、レタデーション（Ｒe）、及びその波長分散を制御する目的で、固有複屈折の符号が異なる樹脂を組み合わせたり、波長分散の大きい（あるいは小さい）樹脂を組み合わせたりすることができる。

レターデーション（Ｒe）の制御し、ガス透過性や力学特性を改善する観点からは、本発明のフィルムに異種の樹脂を組み合わせて積層等することが好ましい。異種の樹脂の好ましい組み合わせは特に制限はなく、前記したいずれの樹脂も使用可能である。

本発明のフィルムを反射型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ／４板、及び偏光膜の構成を有することが好ましい。このうち本発明のフィルムは、透明電極及び／又は上基板として用いることができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、又は上配向膜と透明電極との間に形成することが好ましい。

本発明のフィルムを透過型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、バックライト、偏光板、λ／４板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ／４板、及び偏光膜の構成を有することが好ましい。このうち本発明のフィルムは上透明電極及び／又は上基板として用いることができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、又は上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。

液晶セルは特に限定されないが、ＴＮ(Twisted Nematic)、ＩＰＳ(In-P1ane Switching)、ＦＬＣ(Ferroelectric Liquid Crysta1)、ＡＦＬＣ(Anti-ferroelectric Liquid Crystal)、ＯＣＢ(Optica1ly Compensatory Bend)、ＳＴＮ(Supper Twisted Nematic)、ＶＡ(Vertically Aligned)、及びＨＡＮ(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、表示モードの液晶表示装置に用いることも有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置に用いても有効である。

液晶セル及び液晶表示装置は、特開平２−１７６６２５号公報、特公平７−６９５３６号公報、ＭＶＡ(SID97,Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845)、SID99, Digest of tech. Papers(予稿集)30(1999)206）、特開平１１−２５８６０５号公報、ＳＵＲＶＡＩＶＡＬ(月刊ディスプレイ、第６巻、第３号(1999)14)、ＰＶＡ(Asia Display 98,Proc.of the-18th-Inter. Display res. Conf.(予稿集)(1998)383)、Para-A(LCD/PDP International 99)、ＤＤＶＡ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)838)、ＥＯＣ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)319)、ＰＳＨＡ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)1081)、ＲＦＦＭＨ(Asia Display 98, Proc. of the-18th-Inter. Display res. Conf. (予稿集)(1998)375)、ＨＭＤ(SID98, Digest of tech. Papers (予稿集)29(1998)702)、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開Ｗ０９８／４８３２０号公報、特許第３０２２４７７号公報、及び国際公開ＷＯ００／６５３８４号公報等に記載されている。

本発明のフィルムは、有機ＥＬ表示用途に使用できる。有機ＥＬ表示素子としての具体的な層構成としては、陽極／発光層／透明陰極、陽極／発光層／電子輸送層／透明陰極、陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／透明陰極、陽極／正孔輸送層／発光層／透明陰極、陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明陰極、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明陰極等が挙げられる。

本発明のフィルムが使用できる有機ＥＬ素子は、前記陽極と前記陰極との間に直流（必要に応じて交流成分を含んでもよい）電圧（通常２〜４０Ｖ）、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。これら発光素子の駆動については、例えば、特開平２−１４８６８７号、同６−３０１３５５号、同５−２９０８０号、同７−１３４５５８号、同８−２３４６８５号、同８−２４１０４７号等の各公報、米国特許５８２８４２９号、同６０２３３０８号の各明細書、日本特許第２７８４６１５号公報、等に記載の方法を利用することができる。

以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

特性値の測定方法
（１）重量平均分子量
東ソー（株）製のＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用いて、テトラヒドロフランを溶媒とするポリスチレン換算ＧＰＣ測定によりポリスチレンの分子量標準品と比較して重量平均分子量を求めた。
（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）
セイコー（株）製、ＤＳＣ６２００を用いて、ＤＳＣ法（窒素中、昇温温度１０℃／分）によりＴｇを測定した。測定は以下の条件で行った。
サンプル量：２０ｍｇ
昇温速度：１０℃／分
測定温度域：３０℃〜３００℃
Ｔｇにおいて比熱が不連続に変化するため、低温側ベースライン、過渡域（低温側ベースラインと高温側ベースラインを直線的に変化する領域）、高温側ベースラインと変化するが、本発明では低温側ベースラインと過渡域を外挿する直線の交点の温度をＴｇとした。
（３）フィルム基板の厚さ
アンリツ（株）製、Ｋ４０２Ｂを用いて、ダイヤル式厚さゲージによりフィルム基板の厚さを測定した。
（４）レタデーション（Ｒe）
フィルム面内方向、波長６３２．８ｎｍにおける値を自動複屈折計（王子計測機器（株）製、KOBRA-21ADH）を用いて測定し、以下の式よりレタデーションを算出した。
レタデーション＝｜ｎＭＤ−ｎＴＤ｜×ｄ
ｎＭＤ：フィルム幅方向の屈折率、ｎＴＤ：フィルム長手方向の屈折率、ｄ：厚み
（５）フィルム基板の表面抵抗
２５℃６０％ＲＨに３時間以上調湿後、KEITHLEY製の８００９、RESISTIVITY TEST FIXTUREとKEITHLEY製の６５１７Ａ型とを用いて初期抵抗値（Ｒ₀）を測定した。
＜熱処理後の表面抵抗＞
サンプルを、空気恒温槽を用いて無張力下で吊るして１７５℃で３０分熱処理を行った。これを２５℃６０％RHに３時間以上調湿後、同様に表面抵抗（Ｒ₁₇₅）を測定した。
＜表面抵抗変化率＞
（Ｒ₁₇₅）と（Ｒ₀）の差の絶対値を（Ｒ₀）で割り、百分率で示したものを表面抵抗変化率（％）とした。
（６）フィルム吸収
約１７０，０００ルクスの連続照度をもたらすキセノンランプを装備した試験装置を用いてサンプルを光源に４０時間露光する前後の３２０〜５００ｎｍの領域の吸光度を測定した。測定は島津製作所（株）製、分光光度計ＵＶ−１６００ＰＣを用いた。

（実施例１）本発明のポリアリレートの合成
＜合成例１：例示化合物Ｐ−２の合成＞
下記スキームに従って例示化合物Ｐ−２の合成を行った。

Ｍ−１０１の２３５．５９ｇ（６４６．８ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロライド９．１７１ｇ（３３ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン２８０５ｍｌ、水２４７５ｍｌを攪拌装置を備えた反応容器中に投入し、窒素気流下、水浴中３００ｒｐｍで撹拌した。３０分後、２，６−ナフタレンジカルボン酸クロライド１６７．０３ｇ（６６０ｍｍｏｌ）を粉体のまま投入し、３３０ｍｌのジクロロメタンで洗い流した。１０分後、ｐ−tert−ブチルフェノール３．９６６ｇ（２６．４ｍｍｏｌ）を２Ｍ（２Ｎ）水酸化ナトリウム水溶液６９３ｍｌに溶解し、これを水１３２ｍｌで希釈した液を１時間かけて滴下装置を用いて滴下した後、水１６５ｍｌで洗浄した。その後、３時間撹拌を継続した後、ジクロロメタン１Ｌを添加し、有機相を分離した。さらに１２Ｍ（１２Ｎ）塩酸水６．６ｍｌを水２．５Ｌで希釈した溶液を添加し、有機相を洗浄した。さらに水２．５Ｌで２回洗浄を行った後、分離した有機相にジクロロメタン１Ｌを添加し、希釈した後、激しく撹拌した２５Ｌのメタノール中に１時間かけて投入した。メタノール中、得られた白色沈殿を濾取し、４０℃で１２時間加熱乾燥後、７０℃、減圧下で３時間乾燥し、例示化合物Ｐ−２を３０７．２ｇ得た。
得られたＰ−２の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量は６１０００であった。

＜合成例２：例示化合物Ｐ−２４の合成＞
下記スキームに従って例示化合物Ｐ−２４の合成を行った。

Ｍ−１０２の３０５．６９ｇ（６４６．８ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロライド９．１７１ｇ（３３ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン２８０５ｍｌ、及び水２４７５ｍｌを、攪拌装置を備えた反応容器中に投入し、窒素気流下、水浴中３００ｒｐｍで撹拌した。３０分後、テレフタル酸クロライド１３４．０５ｇ（６６０ｍｍｏｌ）を粉体のまま投入し、３３０ｍｌのジクロロメタンで洗い流した。１０分後、２Ｍ（２Ｎ）水酸化ナトリウム水溶液６９３ｍｌを水１３２ｍｌで希釈した液を１時間かけて滴下装置を用いて滴下した後、１６５ｍｌの水で洗い流した。その後、３時間撹拌を継続した後、ジクロロメタン１Ｌを添加し、有機相を分離した。さらに１２Ｍ（１２Ｎ）塩酸水６．６ｍｌを水２．５Ｌで希釈した溶液を添加し、有機相を洗浄した。さらに水２．５Ｌで２回洗浄した後、分離した有機相にジクロロメタン１Ｌを添加し、希釈した後、激しく撹拌した２５Ｌのメタノール中に１時間かけて投入した。メタノール中、得られた白色沈殿を濾取し、４０℃で１２時間加熱乾燥した後、７０℃、減圧下で３時間乾燥し、例示化合物Ｐ−２４を３１７．８ｇ得た。
得られたＰ−２４の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量は１８３０００であった。

＜合成例３：例示化合物Ｐ−２８の合成＞
下記スキームに従って例示化合物Ｐ−２８の合成を行った。

Ｍ−１０３の２８２．０８ｇ（６４６．８ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロライド９．１７１ｇ（３３ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン２８０５ｍｌ、及び水２４７５ｍｌを、攪拌装置を備えた反応容器中に投入し、窒素気流下、水浴中３００ｒｐｍで撹拌した。３０分後、テレフタル酸クロライドを６７．０３ｇ（３３０ｍｍｏｌ）、及びイソフタル酸クロライド６７．０３ｇ（３３０ｍｍｏｌ）を粉体のまま投入し、３３０ｍｌのジクロロメタンで洗い流した。１０分後、２Ｍ（２Ｎ）水酸化ナトリウム水溶液６９３ｍｌを水１３２ｍｌで希釈した液を１時間かけて滴下装置を用いて滴下した後、水１６５ｍｌで洗い流した。その後、３時間撹拌を継続した後、ジクロロメタン１Ｌを添加し、有機相を分離した。さらに１２Ｍ（１２Ｎ）塩酸水６．６ｍｌを水２．５Ｌで希釈した溶液を添加し、有機相を洗浄した。さらに水２．５Ｌで２回洗浄を行った後、分離した有機相にジクロロメタン１Ｌを添加し、希釈した後、激しく撹拌した２５Ｌのメタノール中に１時間かけて投入した。メタノール中、得られた白色沈殿を濾取し、４０℃、１２時間加熱乾燥後、７０℃、減圧下で３時間乾燥し、例示化合物Ｐ−２８を３１２．８ｇ得た。
得られたＰ−２８の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量は２２３０００であった。

その他、本発明の例示化合物Ｐ−５、Ｐ−１５、Ｐ−１８、Ｐ−３１及び比較化合物Ｐ−３７についても合成例１と同様の方法により合成した。

（実施例２）本発明のプラスチック基板の作製及び光学特性評価
本発明のポリアリレート（Ｐ−５、Ｐ−１５、Ｐ−１８、Ｐ−２４）をジクロロメタンに溶解後の溶液粘度が５００〜１５００ｍＰａ・ｓの範囲になる濃度で溶解した。この溶液を５μｍのフィルターを通してろ過した後、ドクターブレードを用いてガラス基板上に流延した。流延後、室温で２時間、８０℃で２時間、１００℃で４時間加熱乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、光学フィルム試料（試料１０４〜１０８）を得た。
同様の操作で、比較ポリマーとして下記のＢｉｓＡ−Ｔ／Ｉ、Ｉｎｄ−Ｔ／Ｉ、Ｃｈｒ−Ｔ／Ｉ、Ｐ−３７を用いて光学フィルム試料（試料１０１〜１０３、１０９）を作製した。
得られたフィルム試料の膜厚、面内Ｒｅを蒸気の測定方法により測定した。使用したポリマーのＴｇとともに表３に結果を示す。

表３より、本発明のポリアリレートにより作製されたフィルム（Ｆ−１０４〜Ｆ−１０８）は、いずれも比較例よりもＴｇが高く、かつレタデーション値が小さい。これに対し、比較例の樹脂を用いて作製されたフィルム（Ｆ−１０１〜Ｆ−１０３、Ｆ−１０９）は、いずれも本発明よりもＴｇが低い。また、Ｉｎｄ−Ｔ／Ｉを用いた場合（Ｆ−１０２）、全体的に脆く、フィルムを作製することはできなかった。
これより本発明のポリアリレートで形成されたフィルムは、耐熱性及び光学特性がいずれも優れていることが分かる。

（実施例３）本発明のプラスチック基板の作製及び耐候性評価
実施例２と同様の方法で本発明のポリアリレートより光学フィルム（Ｆ−１１０及びＦ−１１１）を作製した。
実施例１及び２で得られた本発明のフィルム（Ｆ−１０７、Ｆ−１０８、Ｆ−１１０、Ｆ−１１１）及び比較フィルム（Ｆ−１０９）を、約１７０，０００ルクスの連続照度をもたらすキセノンランプを装備した試験装置を用いて光源に４０時間曝露し、露光前後の３２０〜５００ｎｍの領域の吸光度を測定した。ここで３５０ｎｍ、４００ｎｍ、４５０ｎｍにおける吸光度の変化量を比較例とともに表４に結果を示す。ここで、
吸光度の変化量（Δabs.）＝光照射後の吸光度（abs.^t）−光照射前の吸光度（abs.⁰）
である。

表４より、本発明のポリアリレートにより作製されたフィルムは、いずれの波長においても吸光度の変化量が少なく、比較例（Ｆ−１０１及び１０３）よりも耐候性に優れ、光照射による着色が少なく優れることが分かる。

（実施例４）本発明の表示素子用基板の作成及び評価
＜ガスバリア層＞
表３及び４に示したフィルム基板の両面にＤＣマグネトロンスパッタリング法により、Ｓｉ０₂をターゲットとし５００Ｐａの真空下で、Ａｒ雰囲気下、出力５ｋＷでスパッタリングした。得られたガスバリア層の膜厚は６０ｎｍであった。
＜透明導電層＞
得られたフィルム基板を１００℃に加熱しながら、ＩＴＯ（Ｉｎ₂Ｏ₃ ９５質量％、Ｓｎ０₂ ５質量％）をターゲットとしＤＣマグネトロンスパッタリング法により、０．６６５Ｐａの真空下で、Ａｒ雰囲気下、出力５ｋＷで１４０ｎｍの厚みのＩＴＯ膜からなる透明導電層を、片面に設けた。
＜保護層＞
ガスバリア層上に、下記処方の塗布液を常温にて攪拌溶解後、バーコーターで３μｍ（乾燥後）の厚みになるように塗工し、８０℃、１０分の条件で加熱した後、紫外線を照射した。
アクリル系樹脂（Tg105℃,分子量67000,酸価２のアクリル
（三菱レイヨン株式会社LR-1065）） １００質量部
シランカップリング剤（信越化学株式会社製KBM-573；
Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン） １質量部
酢酸ブチル ４００質量部

＜評価＞
このようにして得た表示素子用基板を、前述の方法で表面抵抗、及びその熱安定性を測定したところ、本発明の表示素子用基板は熱による変化を受けにくく、優れた耐久性を有していることが分かった。

（実施例５）本発明のフラットパネルディスプレイの作製及び評価
＜ＴＮ型液晶表示装置の作製＞
本発明のプラスチックフィルム基板と比較例Ｆ−１０１の基板上に、微細な凹凸が形成されたアルミニウム反射電極を設けたガラス基板の透明導電（ＩＴＯ）層、電極側に、それぞれポリイミド配向膜（ＳＥ−７９９２、日産化学（株）製）をそれぞれ形成した際の抵抗値及びガス透過性を比較した。
２００℃で３０分熱処理したが、本発明のサンプルは全く抵抗値及びガス透過性の増加は見られなかった。一方、比較例Ｆ−１０１より得られるサンプルは２倍以上に増大した。
さらに、ラビング処理を行った後、１．７μｍのスペーサーを介して、二枚の基板（ガラス基板とプラスチック基板）を配向膜が向かい合うように重ね、二つの配向膜のラビング方向が１１０゜の角度で交差するように、基板の向きを調整した。基板の間隙に、液晶（ＭＬＣ−６２５２、メルク社製）を注入し、液晶層を形成した。このようにして、ツイスト角が７０゜、Δｎｄの値が２６９ｎｍのＴＮ型液晶セルを作製した。
プラスチックフィルム基板のＩＴＯと反対面に上記λ／４板、偏光板を積層し反射型液晶表示装置を作製した。
その結果、本発明のプラスチック基板を用いたものは良好な画像が得られた。一方、比較例Ｆ−１０１を用いたものは、ガスバリア性の低下に起因する黒点故障（画層部に細かな黒い点となり画像が表示されない）や、導電層の割れに起因する色ずれが発生した。

（実施例６）本発明のフラットパネルディスプレイの作製及び評価
＜有機ＥＬ素子の作製＞
前記で得られた透明導電層を設置した光学フィルム試料の透明電極の表面に、ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸の水性分散液（BAYER社製、Baytron Ｐ：固形分1.3質量％）をスピンコートした後、１５０℃で２時間真空乾燥し、厚さ１００ｎｍのホール輸送性有機薄膜層を形成した。これを基板Ｘとした。
一方、厚さ１８８μｍのポリエーテルスルホン（住友ベークライト（株）製スミライトFS-1300）からなる仮支持体の片面上に、下記組成を有する発光性有機薄膜層用塗布液を、スピンコーターを用いて塗布し、室温で乾燥することにより、厚さ１３ｎｍの発光性有機薄膜層を仮支持体上に形成した。これを転写材料Ｙとした。

ポリビニルカルバゾール（Mw=63000、アルドリッチ社製）： ４０質量部
トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム錯体（オルトメタル化錯体）：１質量部
ジクロロエタン： ３２００質量部

基板Ｘの有機薄膜層の上面に転写材料Ｙの発光性有機薄膜層側を重ね、一対の熱ローラーを用い１６０℃、０．３ＭＰａ、０．０５ｍ／ｍｉｎで加熱・加圧し、仮支持体を引き剥がすことにより、基板Ｘの上面に発光性有機薄膜層を形成した。これを基板ＸＹとした。

また、２５ｍｍ角に裁断した厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（UPILEX-50S、宇部興産製）片面上に、パターニングした蒸着用のマスク（発光面積が５ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、約０．１ｍＰａの減圧雰囲気中でＡｌを蒸着し、膜厚０．３μｍの電極を形成した。Ａｌ₂Ｏ₃ターゲットを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリングにより、Ａｌ₂Ｏ₃をＡｌ層と同パターンで蒸着し、膜厚３ｎｍとした。Ａｌ電極よりアルミニウムのリード線を結線し、積層構造体を形成した。得られた積層構造体の上に下記組成を有する電子輸送性有機薄膜層用塗布液を、スピンコーター塗布機を用いて塗布し、８０℃で２時間真空乾燥することにより、厚さ１５ｎｍの電子輸送性有機薄膜層をＬｉＦ上に形成した。これを基板Ｚとした。

ポリビニルブチラール２０００Ｌ（Mw=2000、電気化学工業社製）： １０質量部
１−ブタノール： ３５００質量部
下記構造を有する電子輸送性化合物： ２０質量部

基板ＸＹと基板Ｚを用い、電極同士が発光性有機薄膜層を挟んで対面するように重ね合せ、一対の熱ローラーを用い１６０℃、０．３ＭＰａ、０．０５ｍ／ｍｉｎで加熱・加圧し、貼り合せ、有機ＥＬ素子１〜１０を得た。

得られた有機ＥＬ素子１〜１０をソースメジャーユニット２４００型（東洋テクニカ（株）製）を用いて、直流電圧を有機ＥＬ素子に印加した。なお、比較フィルムＦ−１０１より得られる有機ＥＬ素子は、素子作成過程で変形し、発光が確認できなかったが、比較フィルムＦ−１０３、Ｆ−１０９、及び本発明のフィルムＦ−１０４〜Ｆ−１０８、Ｆ−１１０、Ｆ−１１１より得られる試料は、発光することを確認した。

本発明のポリアリレートは、耐熱性、光学特性及び力学特性に優れているため、光導波路、光ディスク、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品、偏光板保護フィルム、位相差フィルムなどの光学フィルム、及び透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板などのプラスチックフィルム基板、該プラスチックフィルム基板を用いてなるフラットパネルディスプレイで有効に用いることができる。

Claims (15)

1. 下記一般式（１）で表される繰り返し単位を５０〜１００モル％含有することを特徴とするポリアリレート。
   

   

   ［一般式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁶はそれぞれ独立に置換基を表し、ｍ、ｎは０〜３の整数である。Ｘは下記一般式（２）〜（４）で表される２価の連結基から選ばれる少なくとも一種である。］
   

   

   ［一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に置換基を表し、ｐは１〜４の整数、ｑ¹、ｑ²はそれぞれ独立に０〜４の整数、ｒは０〜６の整数を表わす。前記置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、及びアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基を表す。］
2. 前記一般式（１）で表される繰り返し単位を８０〜１００モル％含有することを特徴とする請求項１に記載のポリアリレート。
3. 前記一般式（１）で表される繰り返し単位を１００モル％含有することを特徴とする請求項１に記載のポリアリレート。
4. 前記一般式（１）中のＸが一般式（２）で表される２価の連結基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリアリレート。
5. 前記一般式（１）中のＸが一般式（３）で表される２価の連結基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリアリレート。
6. 前記一般式（１）中のＸが一般式（４）で表される２価の連結基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のポリアリレート。
7. 下記一般式（５）で表される繰り返し単位を５０〜１００モル％含有することを特徴とするポリアリレート。
   

   

   ［一般式（５）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｙは２価の芳香族基を表す。Ｒ¹²、Ｒ¹³及び／又はＲ¹⁴、Ｒ¹⁵は互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。但し、Ｒ¹¹、Ｒ¹⁶が水素原子である場合には、Ｒ¹²、Ｒ¹⁵は水素原子及びメチル基以外の置換基である。また、前記置換基は、いずれも、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、及びアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基を表す。］
8. 下記一般式（６）で表される繰り返し単位を５０〜１００モル％含有することを特徴とするポリアリレート。
   

   

   ［一般式（６）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹⁷、Ｒ²⁰はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹はそれぞれ独立にハロゲン原子を表し、Ｙは２価の芳香族基を表す。前記置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、及びアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基を表す。］
9. Ｙが下記一般式（２）〜（４）で表される２価の連結基から選ばれる少なくとも一種である請求項７又は８に記載のポリアリレート。
   

   

   ［一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に置換基を表し、ｐは１〜４の整数、ｑ¹、ｑ²はそれぞれ独立に０〜４の整数、ｒは０〜６の整数を表わす。前記置換基は、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、及びアルコキシカルボニル基からなる群より選択される基を表す。］
10. ガラス転移点温度が２００℃以上である請求項１〜９のいずれか一項に記載のポリアリレート。
11. 請求項１〜９のいずれか一項に記載のポリアリレートを含有してなる光学部品。
12. 請求項１〜９のいずれか一項に記載のポリアリレートを含有してなる光学フィルム。
13. 請求項１〜９のいずれか一項に記載のポリアリレートを含有してなるプラスチックフィルム基板。
14. 請求項１３に記載のプラスチックフィルム基板を用いたフラットパネルディスプレイ。
15. 表示デバイスが液晶パネル又は有機エレクトロルミネッセンスパネルである請求項１４に記載のフラットパネルディスプレイ。