JP4169813B2 - 半導体製造装置及びボート及び半導体製造方法 - Google Patents
半導体製造装置及びボート及び半導体製造方法 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体製造工程に於いて、ウェーハを保持する半導体製造装置のボートに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置はウェーハ或はガラス基板等の被処理基板に種々の薄膜を生成し或はエッチング等を行い被処理基板表面に多数の半導体素子を形成するものである。
【0003】
斯かる半導体製造装置、特に縦型炉を有する半導体製造装置に於いて、ウェーハに主にHTO(High Temperature Oxidation)膜を生成する場合、ウェーハに生成される膜の均一性の向上の為、ウェーハはホルダ付きボートに水平姿勢で多段に保持される。
【0004】
図4、図5に於いて縦型炉を有する半導体製造装置の概略を説明する。
【0005】
図中1は筐体であり、2は該筐体1内部の前側に位置するカセットローダ、3は該カセットローダ2の後側に設けられたカセット棚、4は該カセット棚3の上方に設けられたバッファカセット棚、5は前記カセット棚3の後側に設けられたウェーハ移載機、6は該ウェーハ移載機5の後側に設けられボート7を昇降させるボートエレベータ、8は前記ボートエレベータ6の上方に設けられた縦型炉を示す。
【0006】
前記ウェーハ移載機5は昇降可能且回転可能な進退機構部9を有し、該進退機構部9には水平方向に進退可能にチャッキングヘッド10が設けられ、該チャッキングヘッド10にはウェーハ11を受載する細長平板状のツィザ12が所要段取付けられている。
【0007】
次に図5により、従来のボート7を縦型炉8との関連に於いて説明する。
【0008】
図中13は有天筒状のヒータ、14は該ヒータ13に同心に配設された上端が閉塞されたアウタチューブ、15は該アウタチューブ14の内部に同心に設けられた上部が開放されたインナチューブであり、該インナチューブ15は前記アウタチューブ14の下端に設けられた炉口フランジ16上に立設されている。前記インナチューブ15により反応室17が画成され、前記アウタチューブ14と前記インナチューブ15との間には下端が閉塞された円筒状の空間18が形成される。該空間18の下端には排気管19が連通され、前記炉口フランジ16より挿通された反応ガス導入管20は前記インナチューブ15内壁に沿って後述するボートキャップ21の上端近傍迄立上がっている。
【0009】
前記ボート7は前記ボートキャップ21を介して炉口蓋22に立設され、前記ボート7には製品用ウェーハを75枚含む所定数のウェーハが水平姿勢で装填され、前記炉口蓋22により前記炉口フランジ16の下端を気密に閉塞する様になっている。
【0010】
前記ウェーハ11の搬送はウェーハカセット23に装填された状態で行われ、該ウェーハカセット23は図示しない外部搬送装置により搬送された後、前記カセットローダ2により前記カセット棚3、バッファカセット棚4の所要位置に収納される。後述する様に、前記ウェーハ移載機5は前記カセット棚3に収納された前記ウェーハカセット23と下降状態にある前記ボート7間で前記ウェーハ11の移載をする。
【0011】
前記ヒータ13により所要温度迄加熱された前記反応室17内に前記ウェーハ11が装填された前記ボート7が前記ボートエレベータ6により装入され、該反応室17内が真空引され、前記反応ガス導入管20より反応ガスが導入されて前記ウェーハ11に成膜処理が行われ、排気ガスは前記排気管19より排気される。
【0012】
前記ウェーハ11への成膜が完了すると、反応ガスの導入を停止し不活性ガスを導入してガスパージし、その後、前記ボート7を前記縦型炉8より引出す。
【0013】
処理後の前記ウェーハ11は前述した前記ボート7への移載の手順の逆を行うことで該ボート7から前記カセット棚3の前記ウェーハカセット23への移載が行われ、更に該ウェーハカセット23は外部に搬出される。
【0014】
次に図6〜図10に於いて、従来の前記ボート7について説明する。
【0015】
前記ボート7は前記ボートキャップ21を介して前記縦型炉8の下端を開閉する前記炉口蓋22に立設され、該炉口蓋22は前述したボートエレベータ6に支持され昇降可能となっている。
【0016】
前記ボートキャップ21は円柱状の空間を形成し、該ボートキャップ21の内部には図示しない断熱性ホルダが設けられ該断熱性ホルダに所要枚数の断熱板(図示せず)が水平に保持されている。
【0017】
前記ボート7は底板24と天板25間に掛渡って複数本、図6では4本の支柱26が立設された構成を有し、該支柱26は前記ウェーハ11の出入れが可能な様に略半円周の範囲で配設されている。前記支柱26には円環状の石英製ホルダプレート27が水平姿勢で多段に溶接され、該ホルダプレート27の上面には該ホルダプレート27の中心線28上の前記ウェーハ11の出入れ側の反対側に1個、又、前記中心線28に対して左右対称位置に1個ずつの計3個の爪29が固着されている。
【0018】
該爪29は支柱部30と内鍔部31で構成され、該内鍔部31は前記支柱部30の側面で該支柱部30の上端より1段低い位置に、前記内鍔部31の先端が前記ホルダプレート27の中心方向を指す様、固着されている。
【0019】
図11を参照して前記ボート7と前記カセット棚3間での前記ウェーハ11の移載について説明する。
【0020】
前記チャッキングヘッド10を後退させ、前記ツィザ12が前記進退機構部9より突出しない状態として該進退機構部9を回転させ、前記チャッキングヘッド10を前記カセット棚3の前記ウェーハカセット23に対峙させる。前記チャッキングヘッド10を前進させ、複数段、図11では5段の前記ツィザ12を前記ウェーハカセット23内に挿入し、移載機エレベータ(図示せず)により前記進退機構部9を若干上昇させ、前記ウェーハ11を前記各ツィザ12上に載置する。該ツィザ12上に前記ウェーハ11を載置した状態で、前記チャッキングヘッド10を後退させ前記ツィザ12が前記進退機構部9より突出しない状態として該進退機構部9を回転させ、前記チャッキングヘッド10を前記ボート7の所要位置に対峙させる。前記チャッキングヘッド10を前進させ前記各ツィザ12を前記ボート7内に挿入し、前記移載機エレベータ(図示せず)により前記進退機構部9を若干下降させ、前記ウェーハ11を前記爪29の前記内鍔部31上に載置する。
【0021】
前記動作を繰返し、予定された数の前記ホルダプレート27の前記爪29の前記内鍔部31上に前記ウェーハ11を載置する。又、処理完了後の前記ボート7から前記カセット棚3への移載は前記手順の逆の手順で行う。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】
生産性を向上させる為、一度に処理するウェーハの枚数を増大させるという要望があり、斯かる要望に対応する為にはボートに装填されるウェーハの枚数を増大させる必要がある。ところが、半導体製造装置が設置されるスペースには建屋、クリーンルーム等による高さ制限があり、ボートに装填するウェーハの枚数を増大させるにはホルダプレート間のピッチを狭くせざるを得ない。
【0023】
上記した従来のボートでは、ボートにツィザを装入する際に必要な間隙、ツィザの撓み等を考慮すると、ホルダプレート間の間隙を狭くするには限界があり、ボートに保持できるウェーハの枚数を増やすことができず、スループットの向上、生産コストの低減化が図れないという問題があった。
【0024】
本発明は斯かる実情に鑑み、1回に処理されるウェーハの枚数を増やし、スループットの向上を図ろうとするものである。
【0025】
【課題を解決するための手段】
本発明は、複数の支柱にホルダプレートを水平姿勢で多段に固着し、該ホルダプレート上面にウェーハ受載用の爪を突設すると共にウェーハ移載用ツィザが遊嵌可能な凹部を設けた半導体製造装置のボートに係り、凹部位置にツィザが進入し、凹部によりツィザの上下移動の空間を確保する。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。尚、図1〜図3中、図6〜図10と同等のものには同符号を付し説明は省略する。
【0027】
ボート36は底板37と天板38間に掛渡って複数本の支柱39が立設された構成を有し、該支柱39はウェーハの出入れが可能な様に略半円周の範囲で配設されている。該支柱39には円環上の石英製ホルダプレート40が水平姿勢で多段に溶接され、該ホルダプレート40の上面には該ホルダプレート40の中心線41上のウェーハの出入れ側の反対側に1個、又、前記中心線41に対して左右対称位置に1個ずつ計3個の爪42が固着されている。該爪42は支柱部43と内鍔部44で構成され、該内鍔部44は前記支柱部43の側面で該支柱部43の上端より1段低い位置に、前記内鍔部44の先端が前記ホルダプレート40の中心方向を指す様、固着されている。
【0028】
前記ホルダプレート40の上面で前記中心線41上の前記爪42の両側には、それぞれ第1凹部45が形成され、該各第1凹部45はツィザ12の双股形状の先端部分の幅より広く、且前記ホルダプレート40の円環幅より狭くなっている。又、前記ホルダプレート40の上面でウェーハの出入れ側には第2凹部46が形成され、該第2凹部は前記ツィザ12の基端部分の幅より広く、且前記ホルダプレート40の円環幅全体に渡り設けられ、前記ツィザ12は前記第1凹部45、第2凹部46に遊嵌可能となっている。
【0029】
以下作動を説明する。
【0030】
カセット棚3のウェーハカセット23から前記ツィザ12上にウェーハ11を受載し、前記ツィザ12をボート7の所要位置に対峙させる。チャッキングヘッド10を前進させ、前記ツィザ12を前記ボート7内に挿入し、移載機エレベータ(図示せず)により進退機構部9を若干下降させ、前記ウェーハ11を前記爪42上に載置し、前記ツィザ12を前記第1凹部45、第2凹部46位置に進入させ、前記ツィザ12を前記ボート7より引出す。前記第1凹部45、第2凹部46の分だけ上下方向の間隔に余裕ができ、前記ツィザ12を前記ボート7より引出す時の前記ツィザ12上面と前記爪42上に載置された前記ウェーハ11下面とのクリアランス及び前記ツイザ12下面と前記ホルダプレート40上面とのクリアランスが拡大し、前記ツィザ12が撓んでも前記ホルダプレート40と接触することはない。
【0031】
【比較例】
図12〜図14は従来のボートとツィザとの関係を示しており、前記ホルダプレート27の上下間ピッチを8.5mmと仮定する。前記ツィザ12の厚みが1.85mm、前記ウェーハ11の厚みが0.8mmである為、図12に示す様に、前記ツィザ12上に前記ウェーハ11を載置した状態で前記ツィザ12を前記ボート7に挿入する時は、前記ウェーハ11上面と該ウェーハ11の直上の前記ホルダプレート27下面及び前記ウェーハ11下面と前記内鍔部31上面とのクリアランスが共に1.1mmとなり移載作業が可能である。しかし、図13に示す様に、前記ツィザ12を前記ボート7より引出す時は、前記ツィザ12上面と前記ウェーハ11下面とのクリアランス及び前記ツイザ12下面と前記ホルダプレート27上面とのクリアランスは共に0.825mmとなり、図14に示す様に前記ツィザ12の通常の撓み量は0.35mmであり、機械の作動誤差等を考えるとクリアランスが充分ではない為、前記ウェーハ11の移載作業が不可能となる。
【0032】
本発明の実施例に於いては、ホルダプレート40の上下間ピッチを8.5mmとし、前記第1凹部45、第2凹部46の前記ホルダプレート40上面からの段差は0.5mmとする。
【0033】
前記ツィザ12上に厚さ0.8mmのウェーハ11を載置した状態で前記ツィザ12を前記ボート36に装入する時は、図12に示す従来の場合と同様に、前記ウェーハ11上面と該ウェーハ11直上の前記ホルダプレート40下面及び前記ウェーハ11下面と前記内鍔部44上面とのクリアランスが共に1.1mmとなり、又、前記ツィザ12を前記ボート36より引出す時は、前記ツィザ12上面と前記ウェーハ11下面とのクリアランス及び前記ツィザ12下面と前記ホルダプレート40上面とのクリアランスは共に、図13で示す従来の場合より0.25mmずつ大きくとれる為、1.075mmとなり前記ウェーハ11の移載作業が可能となる。
【0034】
従って、1回に生産する製品用のウェーハの枚数を75枚から100枚に増やすことができ、スループットの向上が図れ、又、生産コストの低減化が可能となる等、種々の優れた効果を発揮する。
【0035】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、ホルダプレート間のピッチを縮め、ボートに保持できるウェーハの枚数を増やすことができる為、スループットの向上が図れ、又、生産コストの低減化が可能となる等、種々の優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す立面図である。
【図2】該実施の形態に於けるホルダプレートの斜視図である。
【図3】該実施の形態に於けるホルダプレートの平面図である。
【図4】半導体製造装置の説明図である。
【図5】ボートを具備した縦型炉の断面図である。
【図6】従来のボートにホルダプレートを取付けた状態の平面図である。
【図7】従来のホルダプレートの側面図である。
【図8】図7のA矢視部分拡大図である。
【図9】従来のボートの斜視図である。
【図10】従来のボートの立面図である。
【図11】ボートとカセット棚間でのウェーハの移載についての説明図である。
【図12】従来のボートにツィザを挿入した時の側面図である。
【図13】従来のボートからツィザを引出した時の側面図である。
【図14】従来のツィザにウェーハを載置した時の撓み量を示す説明図である。
【符号の説明】
36 ボート
39 支柱
40 ホルダプレート
42 爪
45 第1凹部
46 第2凹部
Claims (3)
- ホルダプレートを多段に有し、該ホルダプレートに被処理基板を保持したボートを縦型炉に装入して、前記被処理基板を処理する半導体製造装置であって、前記ホルダプレートは円環状であり、該ホルダプレート上面には該ホルダプレートの中心線上のウェーハ出入れ側の反対側に、少なくとも1つのウェーハ受載用の爪が突設されると共に、前記ホルダプレートの前記爪の両側にウェーハ移載用ツィザの先端が進入可能な第1凹部が設けられ、前記ホルダプレートのウェーハ出入れ側には前記ウェーハ移載用ツィザが遊嵌可能な第2凹部が設けられたことを特徴とする半導体製造装置。
- 円環状のホルダプレートを多段に有し、該ホルダプレート上面には該ホルダプレートの中心線上のウェーハ出入れ側の反対側に、少なくとも1つのウェーハ受載用の爪が突設されると共に、前記ホルダプレートの前記爪の両側にウェーハ移載用ツィザの先端が進入可能な第1凹部が設けられ、前記ホルダプレートのウェーハ出入れ側には前記ウェーハ移載用ツィザが遊嵌可能な第2凹部が設けられたことを特徴とする半導体製造装置のボート。
- 円環状のホルダプレートを多段に有し、該ホルダプレート上面には該ホルダプレートの中心線上のウェーハ出入れ側の反対側に、少なくとも1つのウェーハ受載用の爪が突設されると共に、前記ホルダプレートの前記爪の両側にウェーハ移載用ツィザの先端が進入可能な第1凹部が設けられ、前記ホルダプレートのウェーハ出入れ側には前記ウェーハ移載用ツィザが遊嵌可能な第2凹部が設けられたボートを具備し、該ボートに被処理基板を多段に保持して縦型炉に装入し、前記被処理基板を処理する半導体製造方法であって、被処理基板を受載した前記ツィザが前記第2凹部に進入して前記被処理基板を前記ホルダプレートに載置する工程と、基板を保持したボートを縦型炉に装入して前記被処理基板を加熱処理する工程と、前記ボートを前記縦型炉から引出す工程とを有することを特徴とする半導体製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21137597A JP4169813B2 (ja) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | 半導体製造装置及びボート及び半導体製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21137597A JP4169813B2 (ja) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | 半導体製造装置及びボート及び半導体製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006122803A Division JP4719070B2 (ja) | 2006-04-27 | 2006-04-27 | 半導体製造装置及び半導体製造方法及びボート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1140509A JPH1140509A (ja) | 1999-02-12 |
JP4169813B2 true JP4169813B2 (ja) | 2008-10-22 |
Family
ID=16604929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21137597A Expired - Lifetime JP4169813B2 (ja) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | 半導体製造装置及びボート及び半導体製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4169813B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100542707B1 (ko) * | 1999-06-04 | 2006-01-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 웨이퍼 지지용 보우트 및 이에 장착되는 링 |
US7077913B2 (en) | 2002-01-17 | 2006-07-18 | Hitachi Kokusai Electric, Inc. | Apparatus for fabricating a semiconductor device |
US7455734B2 (en) | 2003-11-27 | 2008-11-25 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus, substrate holder, and manufacturing method of semiconductor device |
JP5042950B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2012-10-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置及び基板支持具 |
CN102487109A (zh) * | 2009-12-22 | 2012-06-06 | 无锡尚德太阳能电力有限公司 | 一种水平石墨舟 |
WO2016046947A1 (ja) * | 2014-09-25 | 2016-03-31 | 株式会社日立国際電気 | 基板保持具、基板処理装置および半導体装置の製造方法 |
CN111843193A (zh) * | 2020-06-29 | 2020-10-30 | 广东桦升科技有限公司 | 一种电机轴外壳焊接装置及其焊接方法 |
-
1997
- 1997-07-22 JP JP21137597A patent/JP4169813B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1140509A (ja) | 1999-02-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040716 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040716 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071120 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080722 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080806 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130815 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140815 Year of fee payment: 6 |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |