JP4138979B2 - ファイバーレーザー装置及びレーザー加工装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバー内部に有するレーザー活性物質に励起光を供給することによってレーザー発振を行うレーザー装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
光通信又はレーザー加工の分野では、より高出力でより安価なレーザー装置の開発が望まれているが、従来よりこの要請を満たせる可能性の高いものとして光ファイバーレーザ一装置が知られている。光ファイバーレーザー装置は、コア径並びに、コアとクラッドの屈折率差等を適切に選定することで比較的簡単にレーザー発振の横モードを単一にすることが出来る。また、光を高密度に閉じこめることでレーザー活性物質と光との相互作用を高められる。かつ、光ファイバーの長さを長くすることで相互作用長を大きくとれるので高い効率で空間的に高品質のレーザー光を発生することが出来る。従って質の良いレーザ一光を比較的安価に得ることが出来る。
【0003】
ここで、レーザー光のさらなる高出力化又は高効率化を実現するには、光ファイバーのレーザー活性イオン又は色素、その他の発光中心(以下、レーザー活性物質という)の添加領域(通常はコア部)に効率よく励起光を導入する必要がある。ところが、通常、単一モードの導波条件を満たすようにコア径を設定すると、その径は十数μm以下に限定されるので、この径に効率よく励起光を導入するのは一般的に困難である。これを克服する手段として、いわゆる2重クラッド型ファイバーレーザーが提案されている(参考文献:例えば、H.Zenmer,U.Willamowski,A.Tunnermann,and H.Welling,Optics Letters.Vo1.20,No.6,pp,578ー580,March,1995.参照)。
【0004】
2重クラッド型ファイバーレーザーでは、コア部の周りに、コア部より屈折率の低い第一のクラッド部があり、その外側にさらに屈折率の低い第二のクラッド部を設けたものである。これにより、第一のクラッド部に導入された励起光は、第一のクラッド部と第二のクラッド部の屈折率差による全反射により、第一のクラッド部に閉じこめられた状態を保ちながら伝搬する。この伝搬の際に励起光はコア部を繰り返し通過し、コア部のレーザー活性物質を励起することになる。第一のクラッド部はコア部よりも数百から千倍程度大きな面積を持つため、より多くの励起光を導入することが可能になり高出力化が可能になる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
2重クラッド型ファイバーレーザーは、発振効率が高く、また発振横モードが単一でしかも安定であるという利点を持ち、レーザーダイオ一ド(以下LD)を使って数ワットから10ワット程度の出力が得られるので、それ以前のコア励起型のファイバーレーザーに比べると遥かに高出力化が為されたと言える。
【0006】
しかしながら、上述の2重クラッド型ファイバーレーザーは、結局のところファイバーの一端又は両端部からの端面励起であるので、励起用LDの数を増やせないという問題点がある。つまり、LDの高輝度・高出力化以外に、高出力化の方法は無いといえる。この欠点を克服する方法として直感的に発想される手段として、2重クラッド型ファイバーレーザーを複数本束ねて高出力化を図る方法が挙げられる。この場合、平均出力は束ねた本数分だけ増やすことが出来るが、コアに比べて遥かに大きいクラッド部(直径で約100倍)が、それぞれのコア部に付いているため、発光点であるコア部が広く空間に点在する形となって輝度は低下してしまうという問題点がある。
【0007】
本発明は、上述の背景のもとでなされたものであり、集光性に優れ、熱的に出力や横モードが安定であるといったファイバーレーザーの長所を維持しつつ、そのレーザー出力を格段に向上させることを可能にするレーザー装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決する手段として、請求項1の発明は、
レーザー活性物質を含むコアを有し、前記活性物質が励起されることにより端部よりレーザー光を出力する光ファイバーと、
前記活性物質を励起するための励起光を発生する励起光源と、
前記励起光を閉じ込める得る構造体とを備え、
前記光ファイバー側面の少なくとも一部と前記構造体とが直接または光学媒質を介して間接的に接触しており、その接触した部分を通じて入射する励起光により前記活性物質が励起されることを特徴とするファイバーレーザー装置である。
【0009】
請求項2の発明は、
前記構造体が周囲に光ファイバーを巻回可能な形状を有するとともに、前記構造体の表面及び/又は前記構造体に接する光学媒質の表面において励起光が全反射を繰返し、前記光ファイバー側面に接触した部分より前記励起光が前記構造体から前記光ファイバーヘと取り出されるものであることを特徴とする請求項1に記載のファイバーレーザー装置である。
【0010】
請求項3の発明は
柱状形状の構造体の側面に光ファイバーが巻回され、前記構造体中に入射した励起光が前記構造体側面及び/又は前記側面に接する光学媒質の表面で全反射を繰返し前記構造体の軸の周りに螺旋形状の光路を描きながら前記コアに含まれる活性物質により吸収される構造を有する請求項2に記載のファイバーレーザー装置である。
【0011】
請求項4の発明は、
励起光が前記柱状形状の構造体の底面より入射することを特徴とする請求項3に記載のファイバーレーザー装置である。
【0012】
請求項5の発明は、
前記柱状形状の構造体の少なくとも一部が、前記構造体の軸に垂直な断面の面積が前記軸方向に沿って連続的に変化する形状であることを特徴とする請求項3又は4に記載のファイバーレーザー装置である。
【0013】
請求項6の発明は、
前記構造体の表面に密着されたプリズム、前記構造体の表面に光学媒質を介して密着されたプリズム、前記構造体の表面に直接設けられた溝、構造体表面に密着した光学媒質に設けられた溝、前記構造体の表面に設けられた回折格子、又は、前記構造体表面に密着した光学媒質に設けられた回折格子の中から選ばれた部分より前記構造体中に励起光が入射するものであることを特徴する請求項1ないし5のいずれかに記載のファイバーレーザー装置である。
【0014】
請求項7の発明は、
前記構造体の周囲に光ファイバーが巻回され、巻回された光ファイバーの少なくとも一部が前記構造体とその屈折率が同じか又はそれより大きい屈折率を有する光学媒質で覆われていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載のファイバーレーザー装置である。
【0015】
請求項8の発明は、
前記構造体の周囲に光ファイバーが巻回され、巻回された光ファイバーの少なくとも一部が、前記光ファイバーの最外周よりも屈折率の小さい光学媒質で覆われていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載のファイバーレーザー装置である。
【0016】
請求項9の発明は、
ファイバーレーザー装置と、このファイバーレーザー装置から出射されたレーザー光を被加工対象に集光する集光光学系とを有するレーザー加工装置において、
前記ファイバーレーザー装置として、請求項1ないし8のいずれかに記載されたファイバーレーザー装置を用いることを特徴とするレーザー加工装置である。
【0017】
【発明の実施の形態】
(実施例1)
図1は本発明の実施例1にかかるファイバーレーザー装置の概略構成を示す斜視図である。図1に示されるように、この実施例のファイバーレーザー装置は、レーザーファイバー1がガラス円柱体2の円周面2aに巻回され、ガラス円柱体2の軸方向の一端面(図中上端面)2bの外周よりの端部には2つの励起光導入用のプリズム31,32が取り付けられており、また、これらプリズム31,32を通じてガラス円柱体2内に導入される励起光L1及びL2をそれぞれ発生する2台の半導体レーザー装置41,42が設けられている。励起光L1,L2は半導体レーザー装置41,42にそれぞれカップリングされた光ファイバ41a,42aを通じてプリズム31,32の入射面の近傍まで導かれ、コリメータレンズ41b,42bを通じてほぼ平行光にされてからプリズム31,32に入射されるようになっている。
【0018】
レーザーファイバー1は、コア径90μm、クラッド径100μm、長さ50mのレーザーファイバーである。このレーザーファイバー1のコア部には0.5at%の濃度でNd3+イオンがドープされている。ファイバーの母材には、リン酸塩系ガラス(例えば、HOYA株式会社製の商品名LHGー8を適用できる)を用いられている。ファイバーの一端は平面研磨後に、レーザー発振波長1.06μmにおいて反射率98%以上の多層膜コートが施され、また、もう一端にはレーザー発振波長1.06μmにおいて反射率約10%の多層膜コートが施されている。
【0019】
ガラス円柱体2は、直径10cm、長さ5cmのパイレックスガラス製円柱体である。両端面及び外周面には光学研磨が施されている。
【0020】
半導体レーザ装置41,42は、発振波長0.8μm、出力15Wのファイバーカップル型半導体レーザー装置であり、光ファイバー41a,42aを通じて発振レーザー光を外部に出力するものである。
【0021】
コリメートレンズ41b,42bは、焦点距離約7mmの非球面レンズ(例えば、HOYAオプティクス株式会社製の商品名LMーA129を適用できる)を用いた。
【0022】
図2は図1におけるプリズム31の近傍の拡大側面図であり、図3は図1におけるプリズム31の近傍の拡大平面図である。なお、プリズム32の近傍の構成もこのプリズム31の近傍の構成と同じである。図2,3に示されるように、プリズム31はいわゆる三角柱型のプリズムであり、その互いに平行な面である両側面を除く3面のうちの1面を入射面31aとし、他の1面(底面)をガラス円柱体2の端面2bに密接して固定したものである。
【0023】
光ファイバー41aから出射した励起光L1は、コリメートレンズ41bによってほぼ平行光にされてプリズム31の入射面31aから入射した後、ガラス円柱体2の端面2bの1点I0からガラス円柱体2内に導入される。ガラス円柱体1に入射した励起光L1とガラス円柱体2の端面2bとのなす角度θは約5°になるように設定した。また、図3に示されるように、励起光L1の平面視の方向は、ガラス円柱体2の端面2bの輪郭円の点Iにおける接線Sと平行な方向である。なお、点Iは、ガラス円柱体2の中心と点I0とを結ぶ線が輪郭円と交わる点である。励起光L1と接線Sとのなす距離dは1mm程度に設定した。
【0024】
ガラス円柱体2に入射した励起光L1は、円周面2aの内側面に到達し、ここでガラスと空気との屈折率差によって全反射される。全反射された励起光L1は、また直進し、円周面2aの内側面で次々と全反射を繰り返して円周面2aの内側面の近傍を螺旋状の軌跡を描きながらガラス円柱体2内を図中下方に進行し、端面2bの反対側の端面(底面)に至って全反射され、端面2bのほうに進行するというようにしてガラス円柱体2の内部で全反射を繰り返しながら該ガラス円柱体2内に閉じこめられたような状態になる。この点は励起光L2についても全く同じである。
【0025】
図4は上記励起光L1の軌跡をコンピューターシミュレーションによって求めて三次元(x,y,z)的に表示した図、図5は図4の軌跡をz軸方向(ガラス円柱体2の軸方向)からみた図、図6は図4の軌跡を側面方向(y軸方向)からみた図、図7は図4の軌跡を側面(x軸方向)からみた図である。
【0026】
ここで、ガラス円柱体2の外周面2aにはレーザーファイバー1が巻回されている。すなわち、外周面2aにはレーザーファイバー1のクラッド部が密接して接触された状態、つまり、部分的に光結合された状態にある。ガラス円柱体2の屈折率とレーザーファイバー1のクラッド部の屈折率はほぼ等しい。それゆえ、もしその接触部分に励起光L1が至ると全反射されずにレーザーファイバー1内に励起光が導入される。したがって、ガラス円柱体2内に閉じこめられた励起光L1は、ガラス円柱体2内を巡回するうちにレーザーファイバー1内に高い効率で導入されることになる。
【0027】
この実施例では、レーザーファイバー1の出力端から、波長1.06μmでレーザー出力8Wという良好な出力レーザー光L0を得ることができた。
【0028】
そこで、このファイバーレーザー装置の出力レーザー光を集光する集光レンズ系(焦点距離10mm)を設けてレーザー加工装置を構成したところ、直径200μm以内に出力の90%以上のエネルギーを集光出来た。その場合、出力レーザー光の集光径はレーザー出力や熱の状態によらず常に安定であった。
【0029】
上記実施例のファイバーレーザー装置にあっては、ガラス円柱体2の外周面にレーザーファイバー1を多数回巻回し、主として外周面の内側面で全反射を繰り返しながら該ガラス円柱体2内に閉じこめられた状態になるようにガラス円柱体2の内部に励起光を導入するようにしてレーザファイバー1に励起光を導入するようにしたので、極めて効率の高い励起が可能である。
【0030】
また、ガラス円柱体2の円周面2aの内側面の近傍を螺旋状の軌跡を描きながら進行するようにしたので、閉じこめられた光線が光源や光線の入射口等と干渉することがなく、したがって、多数の光源の使用が可能になり、レーザーのさらなる高出力化が可能ということになる。
【0031】
なお、上記実施例の出力値はこのファイバーレーザー装置の限界ではなく、励起用に用意した半導体レーザーアレイが少なかったために8Wしか出ていないが、レーザー装置としての上限は1kW以上あるものと予想される。
【0032】
また、上記実施例では、入射光L1,L2の端面2bに対する角度θを5°にした例を掲げたがこれは他の角度でもよい。例えば、θを小さい値に設定すれば螺旋のピッチが小さくなり、θを大きくすれば螺旋のピッチが大きくなる。図8,9,10は、θを1°にした場合のガラス円柱体2内における励起光の軌跡を示す図であり、図11,12,13は、θを10°にした場合のガラス円柱体内における励起光の軌跡を示す図である。θはレーザーファイバー1の特性、ガラス円柱体2の寸法、目標とする出力等の条件に応じて適切な値を選ぶことができる。
【0033】
さらに、上記実施例では、励起光の導入をプリズム31,32を介してガラス円柱体2内に導入するようにして、導入の際における表面反射による損失を軽減するようにしたが、図14に示されるように、このプリズム31,32の代わり回折格子5を用いたり、溝部6を形成するようにしてもよい。
【0034】
また、上記実施例では、レーザーファイバー1をガラス円柱体2に単層に巻回した例を掲げたが、これは複数層に巻回してもよい。
【0035】
さらに、上記実施例では、ガラス円柱体を用いた例を掲げたが、これは必ずしもガラスでなくてもよく、励起光に対して透明な材料であれば何でもよく、例えば、プラスチック等を用いることもできる。
【0036】
(実施例2)
図15は本発明の実施例2にかかるファイバーレーザー装置の概要を示す部分断面図である。図15に示されるように、この実施例は、ガラス円柱体2の外周面2aにピッチ0.2mmの螺旋状(ネジ状)の溝切り加工を施して螺旋溝2cを形成し、この螺旋溝2cに嵌め込むようにしてレーザーファイバー1を巻回し、さらに、巻回したレーザーファイバー1を覆うようにして透明接着剤層7を外周面2aに形成したものである。その外の構成は実施例1と同じであるのでその詳細説明は省略する。
【0037】
この実施例では、波長1.06μmでレーザー出力9Wというより良好な結果が得られた。なお、透明接着剤層7の代わりにガラス又は他の樹脂の層を設けてもよい。これら光学媒質である透明接着剤層、ガラス又は他の樹脂の層の屈折率が構造体であるガラス円柱体の屈折率と等しいか、近い値を有するものであることが好ましい。また、螺旋溝がない構造体についても上記光学媒質を用いることができる。このような光学媒質としての役割の他、ファイバーの固定を強固にする役割も果たす。また、この実施例にあっても実施例1と同様の変形例が考えられる。
【0038】
(実施例3)
図16は本発明の実施例3にがかるファイバーレーザー装置の概略構成を示す斜視図である。実施例1におけるガラス円柱体2として、図中上端部の直径が10cm、下端部の直径が9.8cm、長さ10cmの先細りのテーパ状のガラス円柱体を用い、また、ガラス円柱体2の図中下方寄りにレーザーファイバー1を巻回し、さらに、巻回したレーザーファイバー1を覆うようにして透明接着剤層7を外周面2aに形成したものである。その外の構成は実施例1と同じであるのでその詳細説明は省略する。
【0039】
この実施例では、ガラス円柱体2を先細りのテーパ状のガラス円柱体としたことから、励起光は、螺旋のピッチがレーザーファイバー1の巻回されている下方に行くにしたがって密になるような軌跡を描く。
【0040】
図17は実施例3にかかるファイバーレーザー装置においてθを10°に設定した場合についてコンピューターシミュレーションによって求めた励起光L1の軌跡を三次元(x,y,z)的に表示した図、図18は図17に示される軌跡をz軸(ガラス円柱体2の軸方向)からみた図、図19は図17に示される軌跡を側面方向(y軸方向)からみた図、図20は図17に示される軌跡をを側面(x軸方向)からみた図である。
【0041】
ガラス円柱体2をテーパ状の円柱体で構成した場合には、励起光の軌跡は、θを変えることによって螺旋のピッチの変化状態等が変わるが、基本的に図17に示されるような軌跡を描く。
【0042】
この実施例ではθを10°に設定した。その結果、入射面(端面2b)から下方に8cmの付近で一度停滞し、今度は入射面に向かって戻ってくるような軌跡を描いた。それゆえ、この実施例では、励起光が一度停滞する付近での励起効率がより高くなる効果が得られ、波長1.06μmでレーザー出力11Wという非常に良好な結果が得られた。
【0043】
そこで、このファイバーレーザー装置の出力レーザー光を集光する集光レンズ系(焦点距離10mm)を設けてレーザー加工装置を構成したところ、直径200μm以内に出力の90%以上のエネルギーを集光出来た。その場合、出力レーザー光の集光径はレーザー出力や熱の状態によらず常に安定であった。
【0044】
なお、上記実施例では、ガラス円柱体2のテーパの形態として、径が直線的に減少する単純なテーパ形態の例を掲げたが、高次関数曲線を描いて減少していくようなテーパ形態、あるいは、途中までは径が一定で途中からテーパ状になるような形態であってもよい。
【0045】
(実施例4)
図21は本発明の実施例4にかかるファイバーレーザー装置の概略構成を示す図である。この実施例は、ガラス円柱体2内への励起光の入射を、端面2bからではなく、外周面2aに設けた入射溝部300を通じて行なうことにした外は実施例3と同じであるので、以下ではその相違点のみを説明し、同一の部分の説明は省略する。
【0046】
入射溝300は、ガラス円柱体2のレーザーファイバー1を巻いていない外周面2aの部分に形成された長さ約10mm、幅約1mm、深さ約0.7mmのV字形の溝である。また、入射溝300から入射する励起光の発生装置としては、発振波長0.8μm、出力20Wのシリンドリカルレンズ400b付きの半導体レーザーアレイ400を用いた。図示しないがこの実施例では、入射溝300を2つ設け、上記半導体レーザーアレイ400を2台用いて励起光をガラス円柱体2内に導入した。
【0047】
その結果、波長1.06μmでレーザー出力6Wという比較的良好な結果が得られた。そこで、このファイバーレーザー装置の出力レーザー光を集光する集光レンズ系(焦点距離10mm)を設けてレーザー加工装置を構成したところ、直径200μm以内に出力の90%以上のエネルギーを集光出来た。その場合、出力レーザー光の集光径はレーザー出力や熱の状態によらず常に安定であった。
【0048】
(実施例5)
図22は本発明の実施例5にかかるファイバーレーザー装置の概略を示す図であり、図23は図22のファイバーレーザー装置の部分断面図である。これらの図に示されるように、この実施例のファイバーレーザー装置は、ガラス円管20の外周面20aに、レーザーファイバー10を巻回し、このレーザーファイバー10を覆うようにして樹脂層70を外周面20aに形成して固定したものである。また、ガラス円管20の一端面、すなわち、図中上端面20bに3つの励起光導入用のプリズム331,332,333を光学的に密接して設けてある。なお、この実施例が上述の各実施例と異なる主たる点は、ガラス円柱体2に代えてガラス円管20を用いた点である。
【0049】
ガラス円管20は、外径10cm、長さ10cm、厚さtが1.5mmの石英ガラス製の円管である。このガラス円管20の上下端面は円管の中心軸に直交する面と平行に形成されて鏡面研磨されている。また、外周面も鏡面研磨されている。
【0050】
このガラス円管20の外周面20aに巻回されたレーザーファイバー10は、コア部10aの径が90μm、クラッド部10bの径が125μm、長さ150mのレーザーファイバーである。このレーザファイバーのコア部10aには0.2at%の濃度でNd3+イオンがドープされている。また、ファイバーの母材は石英ガラスである。このレーザーファイバーの長手方向の一端面には、該面を平面研磨した後に多層膜コートが施されている。この一端面の反射率は、レーザー発振波長1.06μmに対して98%以上である。また、上記レーザーファイバーの他端面は、ファイバーを垂直破断しただけの面であり、コート処理等もなされていない。この他端面の反射率は、レーザー発振波長1.06μmに対して4%程度である。
【0051】
樹脂層70としては、石英ガラスの屈折率1.47に近い屈折率をもつ紫外線硬化樹脂(例えば、米国、EPOXYTECHNOLOGY社のOGl25)を用いたが、ガラス円管に近い屈折率を有するガラスを用いてもよい。
【0052】
このファイバーレーザー装置の励起を行う励起光発生源としては、図示しないが、発振波長0.8μm、出力15Wのファイバーカップル型半導体レーザー装置3台を用いる。各ファイバーカップル型半導体レーザー装置の光出射部にはレンズが取り付けてあり、励起用の出射光を直径600μmのビームに集光してそれぞれ上述の励起光入射用の3つのプリズム331,332,333を通じてガラス円管20内に導入するようになっている。
【0053】
この場合、各励起光がガラス円管20の上端面20bに入射する際の入射角度は約5°である。また、各励起光を円管の中心軸方向から投影視した場合の方向は、上端面を含む面上において円管の中心と励起光の入射点とを結ぶ直線が外周面20aと交わる点における外周面の接線とほぼ平行な方向である。
【0054】
この結果、波長1.06μmでレーザー出力17Wという非常に良好な結果が得られた。尚、この出力値はこのファイバーレーザー装置の限界ではなく、励起用に用意した半導体レーザー装置の数が少なかったために17Wしが出ていないが、半導体レーザー装置をより多数用いればより高出力が得られる。本実施例のファイバーレーザー装置の出力の上限は、少なくとも1kW以上はあるものと予想される。
【0055】
このファイバーレーザー装置の出力を焦点距離10mmのレンズ系で集光したところ、直径200μm以内に出力の90%以上のエネルギーを集光できた。また、このファイバーレーザー装置の集光径はレーザー出力や熱の状態によらず常に安定であった。
【0056】
この実施例では、励起光を閉じこめる構造体として、ガラス円管を用いたことで放熱性が向上し、高平均出力動作に有利である。このガラス円管の厚さは薄いほど放熱性が良い。また、ガラス円管の厚さが薄いほどレーザーファイバーの励起効率が増す効果もある。このように、励起光を閉じこめる構造体の形状が開口部を有する中空形状であることが望ましく、このような形状の構造体を用いることによって、放熱性が向上し、高平均出力動作を行うに有利である。この場合、中空の形状は原理的にはどの様な形状であってもよい。
【0057】
また、レーザーファイバー10の母材として、リン酸塩系レーザーガラスでなく、石英ガラスを用いたことでレーザー光耐性が向上しているので、高輝度動作にも有利である。なお、勿論、実施例1〜4においても本実施例のような石英ガラスレーザーファイバーを用いることができる。
【0058】
この実施例では、励起光の入射口として、ガラス円管端面にプリズムを接着して用いる方式を採用したが、ガラス円管端面にV溝加工を施したり、回折格子を形成しても良い。要するに、励起光を入射可能であれば、どの様な入射口でもよい。
【0059】
また、励起光を閉じ込め得る構造体に接する光学媒質(上記実施例5では樹脂層であるがガラスである場合でも同じ)屈折率は、上記構造体(上記実施例5では石英ガラス管であるが他の材質もしくは形状の構造体でも同じ)と同じであることが好ましいが、上記構造体よりも高い屈折率であってもよい。しかし、構造体よりも屈折率が低いと、構造体内に入った励起光が光学媒質との境界面でほとんど全反射されてレーザファイバーに入射することができず、レーザファイバーがほとんど励起されないことになる。また、光学媒質の屈折率は、光ファイバーのコアの屈折率以下とすることが、励起光を効率よくコアに導く上で好ましい。
【0060】
また、励起光発生源としての半導体レーザー装置として、ファイバーカップルされたものを使用したが、LDチップまたはLDアレイにコリメートレンズを付けたものを使用してもよい。
【0061】
以上の実施例では、励起光を閉じ込め得る構造体としてガラス円柱体及び円管体を用いた例を掲げたが、同様の機能を有するものであれば他の構造体でもよい。また、励起光の発生源として半導体レーザー装置を用いたが、他のレーザー装置若しくはレーザー装置以外の光発生装置を用いてもよい。
【0062】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明は、レーザーファイバーの側面の一部を、該レーザーファイバーを励起する励起光を閉じ込め得る構造体に直接若しくは間接的に接触させ、その接触した部分を通じて励起光をレーザーファイバーに導入して励起するようにしたもので、これにより、複数の励起光源からの励起光を上記構造体に閉じ込めてレーザーファイバーに吸収させることを可能にし、これまで困難だったファイバーレーザー装置の高出力化を可能にしたものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1にかかるファイバーレーザー装置の概略構成を示す斜視図である。
【図2】図1におけるプリズム31の近傍の拡大側面図である。
【図3】図1におけるプリズム31の近傍の拡大平面図である。
【図4】実施例1にかかるファイバーレーザー装置における励起光L1の軌跡をコンピューターシミュレーションによって求めて三次元(x,y,z)的に表示した図である。
【図5】図4の軌跡をz軸方向(ガラス円柱体2の軸方向)からみた図である。
【図6】図4の軌跡を側面方向(y軸方向)からみた図である。
【図7】図4の軌跡を側面(x軸方向)からみた図である。
【図8】実施例1にかかるファイバーレーザー装置においてθを1°にした場合における励起光L1の軌跡をコンピューターシミュレーションによって求めて三次元(x,y,z)的に表示した図である。
【図9】図8の軌跡をz軸方向(ガラス円柱体2の軸方向)からみた図である。
【図10】図8の軌跡を側面方向(y軸方向)からみた図である。
【図11】実施例1にかかるファイバーレーザー装置においてθを10°にした場合における励起光L1の軌跡をコンピューターシミュレーションによって求めて三次元(x,y,z)的に表示した図である。
【図12】図11の軌跡をz軸方向(ガラス円柱体2の軸方向)からみた図である。
【図13】図11の軌跡を側面方向(y軸方向)からみた図である。
【図14】実施例1の変形例を示す図である。
【図15】本発明の実施例2にかかるファイバーレーザー装置の概要を示す部分断面図である。
【図16】本発明の実施例3にかかるファイバーレーザー装置の概要を示す部分断面図である。
【図17】実施例3にかかるファイバーレーザー装置においてθを10°にした場合における励起光L1の軌跡をコンピューターシミュレーションによって求めて三次元(x,y,z)的に表示した図である。
【図18】図17の軌跡をz軸方向(ガラス円柱体2の軸方向)からみた図である。
【図19】図17の軌跡を側面方向(y軸方向)からみた図である。
【図20】図17の軌跡を側面方向(x軸方向)からみた図である。
【図21】本発明の実施例4にかかるファイバーレーザー装置の概要を示す部分断面図である。
【図22】本発明の実施例5にかかるファイバーレーザー装置の概略を示す図である。
【図23】図22のファイバーレーザー装置の部分断面図である。
【符号の説明】
1…レーザーファイバー、2…ガラス円柱体、31,32…プリズム、41,41…レーザーダイオード、41b,42b…コリメートレンズ。
Claims (7)
- レーザー活性物質を含むコアを有し、前記活性物質が励起されることにより端部よりレーザー光を出力する光ファイバーと、前記活性物質を励起するための励起光を発生する励起光源と、前記励起光を閉じ込め得る柱状形状の構造体とを備え、
前記柱状形状の構造体の側面に前記光ファイバーが巻回され、
前記光ファイバー側面の少なくとも一部と前記構造体とが直接または光学媒質を介して間接的に接触しており、
前記柱状形状の構造体中に入射し、前記構造体側面及び/又は前記側面に接する光学媒質の表面で全反射を繰返し、前記構造体の軸の周りに螺旋形状の光路を描きながら前記構造体に閉じ込められた励起光のうち、前記光ファイバ側面と前記構造体とが直接または光学媒質を挟んで間接的に接触した部分を通じて前記構造体から前記光ファイバーヘ入射する励起光により前記レーザー活性物質が励起されることを特徴とするファイバーレーザー装置。 - 前記励起光が前記柱状形状の構造体の底面より入射することを特徴とする請求項1に記載のファイバーレーザー装置。
- 前記柱状形状の構造体の少なくとも一部が、前記構造体の軸に垂直な断面の面積が前記軸方向に沿って連続的に変化する形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載のファイバーレーザー装置。
- 前記構造体の表面に密着されたプリズム、前記構造体の表面に光学媒質を介して密着されたプリズム、前記構造体の表面に直接設けられた溝、構造体表面に密着した光学媒質に設けられた溝、前記構造体の表面に設けられた回折格子、又は、前記構造体表面に密着した光学媒質に設けられた回折格子の中から選ばれた部分より前記構造体中に励起光が入射するものであることを特徴する請求項1ないし3のいずれかに記載のファイバーレーザー装置。
- 前記構造体の周囲に光ファイバーが巻回され、巻回された光ファイバーの少なくとも一部が前記構造体とその屈折率が同じか又はそれより大きい屈折率を有する光学媒質で覆われていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のファイバーレーザー装置。
- 前記構造体の周囲に光ファイバーが巻回され、巻回された光ファイバーの少なくとも一部が、前記光ファイバーの最外周よりも屈折率の小さい光学媒質で覆われていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のファイバーレーザー装置。
- ファイバーレーザー装置と、このファイバーレーザー装置から出射されたレーザー光を被加工対象に集光する集光光学系とを有するレーザー加工装置において、前記ファイバーレーザー装置として、請求項1ないし6のいずれかに記載されたファイバーレーザー装置を用いることを特徴とするレーザー加工装置。
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