JP4136531B2

JP4136531B2 - 透明導電膜、及びその製造方法

Info

Publication number: JP4136531B2
Application number: JP2002237715A
Authority: JP
Inventors: 一朗中林; 俊広森賀; 喜久雄富永
Original assignee: Okura Kogyo KK
Current assignee: Okura Kogyo KK
Priority date: 2002-08-19
Filing date: 2002-08-19
Publication date: 2008-08-20
Anticipated expiration: 2022-08-19
Also published as: JP2004076094A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、酸化亜鉛−酸化インジウム系透明導電膜、特にＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質のホモロガス化合物からなる表面平滑性に優れた透明導電膜、及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス等の透明電極として、酸化錫や酸化インジウムのような金属酸化物からなる透明導電膜、特にスズをドープした酸化インジウム（Indium Tin Oxide:ＩＴＯ）膜がよく使用されている。これは、ＩＴＯ膜が導電性、透明性に優れている上、経時安定性にも優れていることによるものである。ところが、最近の表示材料の大面積化、高精細化に伴って、光線透過率を下げることなく従来に比べてより低抵抗で、しかも表面が平滑な透明導電膜を提供することが要求されている。
【０００３】
従来から、ＩＴＯ膜を製膜する際に、基板温度を高くしてスパッタリングして、結晶性の高いＩＴＯ膜を形成することによって導電性を向上させる方法がよく知られている。しかしながら、結晶性の高いＩＴＯ膜は、かなり表面の凹凸が大きく、透明電極として要求される表面平滑性に劣っているという問題があった。このような問題を解決する方法として、例えば、特開平９−１８５０３２号公報には、アモルファス成分を含むＩＴＯ膜を形成し、次いで１５０〜３００℃でアニールすることにより表面が平滑で、しかも低い抵抗値と高い光線透過率を有するＩＴＯ膜を形成することが、特開平５−１６７４７９号公報には、非晶質なまたは微結晶からなる非晶質に近いＩＴＯ膜を作製し、その後減圧下又は非酸化性雰囲気中１００〜５００℃でアニールし平板状に結晶成長させ、その後、酸化性雰囲気１００〜５００℃でアニールするか又はプラズマ照射により、表面高低差の小さい低抵抗のＩＴＯ膜を提供することが記載されている。
これらの方法はいずれも、表面平滑性に優れた非晶質のＩＴＯ膜を形成し、しかる後に得られた非晶質のＩＴＯ膜を結晶化させることによって表面平滑性と低抵抗の透明導電膜を得ようとするものである。
【０００４】
これに対して、酸化亜鉛−酸化インジウム系材料をスパッタリングすることによって非晶質でありながら低抵抗な透明導電膜が得られることが知られている（特開平６−３１８４０６号公報、特開平９−１７５８３７号公報、特許第２６９５６０５号公報等）。また、先に本発明者等はターゲットとしての酸化インジウムと酸化亜鉛とを互いに対向するように配置して、特定条件でスパッタリングすることにより優れた透明性と低抵抗性を有するＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質ホモロガス化合物からなる透明導電膜が得られることを提案した（特願２００２−１５００５２）。そして、この方法により予め特定の組成比を有する焼結体ターゲットを使用することなく所望のｋ値を有するＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表されるホモロガス化合物からなる透明導電膜を形成することが可能となるばかりでなく、文献未記載のＺｎＩｎ_２Ｏ_４で表されるホモロガス化合物からなる透明導電膜も形成することが可能となった。しかしながら、単に非晶質の酸化亜鉛−酸化インジウム系透明導電膜を形成するだけでは十分な表面平滑性を有する透明導電膜は得られなかった。
【０００５】
このような問題点を解決する方法として、インジウム元素の原子比が０．８２以上、０．９２未満のターゲット、特にＩｎ_２Ｏ_３（ＺｎＯ）_ｍ（ｍ＝２〜２０、好ましくはｍ＝２〜８、特に好ましくはｍ＝２〜６）で表される六方晶層状化合物を含む焼結体ターゲットを使用し、これを２００Ｖ未満という低電圧でスパッタリングすることによりインジウム元素の原子比が０．８以上、０．９未満であり、比抵抗が２．０×１０^−４Ω・ｃｍ以下、表面の凹凸が１０ｎｍ以内という極めて低い抵抗値と優れた表面平滑性を有する非晶質の酸化亜鉛−酸化インジウム系透明導電膜が得られることが提案されている（特開平９−９２０３７号公報）。しかしながら、この方法では酸化インジウムの原子比が０．８〜０．９の範囲に限定されるという問題があるばかりか、スパッタリングの条件によっては低抵抗性と表面平滑性に優れた透明導電膜が得られないという問題があった。
【０００６】
一方、上述したように表面平滑性に優れた非晶質のＩＴＯ膜を形成した後、アニールすることによって結晶化させて表面平滑性と低抵抗性に優れた透明導電膜を形成することは公知であるが、酸化亜鉛−酸化インジウム系透明導電膜は非晶質であっても十分低抵抗であることから熱処理（アニール）することについてはあまり検討されていなかった。なお、特開２０００−６７６５７号公報には酸化亜鉛−酸化インジウム系透明導電膜を低酸素雰囲気中、約１５０〜３５０℃で加熱処理することが記載されているが、これは上記目的とは異なり赤外線波長領域における透過率を向上させることを目的とするものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは上述した問題点を解決して、表面平滑性に優れ、低抵抗なＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質のホモロガス化合物からなる酸化亜鉛−酸化インジウム系透明導電膜及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、低抵抗で、透明性に優れた非晶質のホモロガス化合物からなる酸化亜鉛−酸化インジウム系透明導電膜を不活性ガス雰囲気下又は還元雰囲気下、２５０〜５００℃の温度で加熱処理することにより極めて表面が平滑な透明導電膜が得られることを見出し本発明に到った。
【０００９】
すなわち、本発明は
（１）Ｚｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質ホモロガス化合物からなる薄膜を不活性ガス雰囲気下又は還元雰囲気下、２５０〜５００℃の温度で加熱処理することを特徴とする表面の凹凸が１０ｎｍ以下である透明導電膜の製造方法。
（２）酸化インジウムターゲット（Ｔ_Ｉｎ）と酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）とを互いに対向するように配置して、基板温度が２００℃以下、かつδ＝Ｉ_Ｉｎ／（Ｉ_Ｉｎ＋Ｉ_Ｚｎ）で定義されるＴ_Ｉｎに印可した電流値（Ｉ_Ｉｎ）とＴ_Ｚｎに印可した電流値（Ｉ_Ｚｎ）との電流比δが０．４０〜０．７０の条件下でスパッタリングしてＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質ホモロガス化合物からなる薄膜を形成し、次いで該薄膜を不活性ガス雰囲気下又は還元雰囲気下、２５０〜５００℃の温度で加熱処理することを特徴とする表面の凹凸が１０ｎｍ以下である透明導電膜の製造方法。
（３）酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）が酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）を１．０〜５．０ｗｔ％含有していることを特徴とする（２）記載の透明導電膜の製造方法をその要旨とするものである。
【００１０】
【実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を具体的に説明する。
まず、本発明の透明導電膜はＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質ホモロガス化合物からなり、表面の凹凸が１０ｎｍ以下であることを特徴とするものである。ここでＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表されるホモロガス化合物とは、Ｉｎ_２Ｏ_３八面体が稜共有してＩｎＯ_２ ⁻層を形成し、次いで残りのＩｎ^３＋とＺｎ^２＋がＯ^２−イオンによって形成された四面体席あるいは三方両錐体席をランダムに占め、（ＩｎＺｎ_ｋ）Ｏ_ｋ＋１ ^＋層を形成していて、これらの層がｃ軸方向に積み重なって結晶構造を形づくっている化合物である。従来、Ｚｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは２以上の整数。）で表される結晶性のホモロガス化合物については良く知られていたが、本発明の透明導電膜は非晶性のホモロガス化合物に関するのもであるところに特徴を有するものである。また、当該透明導電膜の表面の凹凸は１０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以下である。表面の凹凸が１０ｎｍを超えると、例えば、透明電極に使用した場合凸部にかかる電界が大きくなり、その部分で微小な放電が生じて素子を破壊する恐れがある。
なお、本発明において表面の凹凸は、表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察した結果を示すイメージを目視にて評価したものである。
【００１１】
このような特性を有する透明導電膜は以下のようにして製造することができる。
まず、本発明において使用するスパッタ装置としては、上述した酸化インジウムターゲット（Ｔ_Ｉｎ）及び酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）を対向して配置できる２個のターゲットホルダーを有していて、しかも各々のターゲットに印可する電流値が制御可能なものを使用する。
このような条件を満たすスパッタ装置１としては、例えば、図１に示すように一方のターゲットホルダー１１が時計の１２時の方向に、もう一方のターゲットホルダー１２が６時の方向に、そして基板ホルダー１３が９時の方向になるように配置した対向ターゲット式ＤＣマグネトロンスパッタ装置１を使用するのが好ましいが、これに制限されるものではない。
【００１２】
また、スパッタリングターゲットとしては酸化インジウムターゲット（Ｔ_Ｉｎ）及び酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）を使用する。酸化インジウムターゲット（Ｔ_Ｉｎ）、酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）としては、例えば、従来公知のディスク状のセラミックターゲット等が特に制限なく使用できる。更に、これらのターゲットには上述した酸化亜鉛や酸化インジウム以外の成分を混合することも勿論可能である。特に、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）を１．０〜５．０ｗｔ％、好ましくは１．５〜４ｗｔ％含有させた酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）をスパッタリングターゲットとして使用した場合、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）を含有させていない場合に比べて比抵抗率が低く、幅広い組成の非晶質ホモロガス化合物からなる薄膜が得られるので好ましい。
【００１３】
また、本発明において使用する基板としては、特に制限はないが、本発明が透明導電膜の製造を目的としている関係上、透明基板を使用するのが好ましい。具体的には、透明ガラス、サファイア基板、或いはポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂等の透明高分子材からなるフィルム、板状体が挙げられる。
【００１４】
本発明においては、まず、非晶質のホモロガス化合物からなる薄膜を上述したターゲット、基板、スパッタ装置を使用して形成するするのであるが、その際の手順は以下の通りである。
一方のターゲットホルダー１１又は１２に酸化インジウムターゲット（Ｔ_Ｉｎ）を、もう一方のターゲットホルダー１２又は１１に酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）を装着するとともに基板ホルダー１３に基板を装着する。次いで、以下の条件でスパッタリングを行う。
【００１５】
［スパッタリング時の真空度］
スパッタリング時の真空度は１×１０^−４〜５×１０^−２ｔｏｒｒ程度、好ましくは３×１０^−４〜５×１０^−３ｔｏｒｒである。スパッタリング時の真空度が１×１０^−４ｔｏｒｒに満たないとプラズマの安定性が悪くなるので好ましくない。
［スパッタガス］
スパッタガスとしては、アルゴンガス等の不活性ガスを使用するのが好ましい。
［基板温度］
本発明においては基板温度を２００℃以下、すなわち室温〜２００℃にしてスパッタリングする必要がある。基板温度が２００℃を越えると結晶化しやすくなって非晶質な薄膜が得られないので好ましくない。
［印可電流］
印可電流はスパッタ装置の仕様にもよるが概ね１０〜１５０ｍＡとすることが好ましい。
更に、本発明においてはδ＝Ｉ_Ｉｎ／（Ｉ_Ｉｎ＋Ｉ_Ｚｎ）で定義されるＴ_Ｉｎに印可した電流値（Ｉ_Ｉｎ）とＴ_Ｚｎに印可した電流値（Ｉ_Ｚｎ）との電流比δを０．４０〜０．７０の範囲で適宜選択してスパッタリングすることにより所望するインジウム元素の原子比を有し、かつＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質ホモロガス化合物からなる薄膜が形成されるのである。この電流比δが０．４０未満では結晶化しやすくなって目的とする非晶質の薄膜が得られないので好ましくなく、逆に電流比δが０．７０を越えると後述する熱処理の際に当該薄膜が結晶化しやすくなるので好ましくない。
【００１６】
上述した方法によって、Ｚｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質のホモロガス化合物からなる薄膜を形成した後、本発明においては当該薄膜を窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下又は窒素中に水素を含有させた混合ガス等の還元雰囲気下、好ましくは還元雰囲気下で、２５０〜５００℃、好ましくは３００〜４５０℃の温度条件で加熱処理する必要がある。この加熱処理によって薄膜が非晶質の状態を保ったままで表面の凹凸の少ない（すなわち、平滑な）、低抵抗で、透明性に優れた透明導電膜が得られるのである。
【００１７】
【作用】
本発明においては、スパッタリング時の電流比δ＝Ｉ_Ｉｎ／（Ｉ_Ｉｎ＋Ｉ_Ｚｎ）を適宜設定することによって所望する構造のＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質のホモロガス化合物からなる薄膜が得られるのである。当該薄膜の構造を決定する正確な境界条件は、その他のスパッタリング条件によっても多少異なるが電流比δを０．６０〜０．７０に設定した場合はＺｎＩｎ_２Ｏ_４の構造を有する非晶質のホモロガス化合物（すなわちｋ＝１）、電流比δを０．４７〜０．６０に設定した場合はＺｎ_２Ｉｎ_２Ｏ_５の構造を有する非晶質のホモロガス化合物（すなわちｋ＝２）、電流比δを０．３７〜０．４７に設定した場合はＺｎ_３Ｉｎ_２Ｏ_６の構造を有する非晶質のホモロガス化合物（すなわちｋ＝３）、電流比δを０．３０〜０．３７に設定した場合はＺｎ_４Ｉｎ_２Ｏ_７の構造を有する非晶質のホモロガス化合物（すなわちｋ＝４）からなる薄膜が形成される。
【００１８】
更に、得られた薄膜を不活性ガス雰囲気下又は還元雰囲気下、２５０〜５００℃の温度で加熱処理することによってキャリアー濃度が増加し、ホールモビリティが減少する結果抵抗率はほとんど変化は生じないものの表面の平滑性が大きく向上する。
【００１９】
【実施例】
本実施例においては図１に示す対向ターゲット式ＤＣマグネトロンスパッタ装置１を使用し、ターゲットホルダー１１には酸化インジウムのディスク状セラミックターゲット（Ｔ_Ｉｎ）を、ターゲットホルダー１２には酸化亜鉛のディスク状セラミックターゲット（Ｔ_Ｚｎ）を配し、基板ホルダー１３には基板としてガラス板（Corning#7059）を配してスパッタガス：Ａｒガス、ガス圧：１ｍＴｏｒｒ、所定の基板温度にして、ターゲットに印可する印可電流を１０〜８０ｍＡの範囲で適宜設定してスパッタリングを行った。また、スパッタリング時間は２時間とした。
また、加熱処理はスパッタリングの結果得られた薄膜を還元性雰囲気としての水素／窒素混合ガス（Ｈ_２／Ｎ_２＝４／９６）気流下で４００℃、１時間処理することによって行った。
【００２０】
得られる透明導電膜の性質は以下の方法で測定し、評価した。
＜電気的特性＞
四端子法、Van der Pauw 法にて透明導電膜の抵抗率（Ωｃｍ）を測定した。
＜光学的特性＞
紫外可視分光光度計を用いて光線透過率を測定した。透明性の評価は波長５５０ｎｍにおける光線透過率で行った。
＜インジウムの原子比＞
透明導電膜中のインジウム（Ｉｎ）の原子比（［Ｉｎ］／（［Ｉｎ］＋［Ｚｎ］））は蛍光Ｘ線分析装置を使用して測定した結果から求めた。
【００２１】
＜構造解析＞
得られた透明導電膜の構造は、当該透明導電膜のＸ線解析図形における２θ＝３２゜付近に現れるブロードな回折ピークのピーク位置（２θ）を求め、それと下記の方法で得られるＣの値とを比較することによってＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表されるホモロガス化合物の構造、すなわちｋの値を推定した。
【００２２】
すなわち、本発明の方法で得られる透明導電膜が非晶質である場合にはＸ線解析図形の２θ＝３２゜付近にブロードな回折ピークが見られる。一般にＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表されるホモロガス化合物には、３０゜＜２θ＜３６゜においてｋが偶数ならば、Ａ：（００２（ｋ＋２））とＢ：（１０ｋ＋２）の２本のピークが、ｋが奇数ならばＡ：（００３（ｋ＋２））とＢ：（１０３／２（ｋ＋２）−１／２）、（０１３／２（ｋ＋２）＋１／２）の３本のピークが現れる。ここでＡは薄膜時に配向する回折ピーク、Ｂはバルク試料で強く現れるピークである。ｋが奇数の場合、Ｂに当たるピークが２本存在するので、その２本のピークの位置の平均値とＡのピークの位置との平均値Ｃを求めた。ｋが偶数の場合はＡとＢの平均値をＣとした。このＣの値が非晶質のホモロガス化合物のＸ線回折図形における２θ＝３２゜付近のブロードな回折ピークに対応するものと考えられる。
【００２３】
このようにして求めたＣの値は、ｋ＝１の場合Ｃ：２θ＝３２．１８９゜、ｋ＝２の場合Ｃ：２θ＝３２．７１６゜、ｋ＝３の場合Ｃ：２θ＝３３．０９７゜、ｋ＝４の場合Ｃ：２θ＝３３．５０２゜、ｋ＝５の場合Ｃ：２θ＝３３．７０７゜である。
【００２４】
製造例１〜７
表１に示すスパッタリング条件で基板上に薄膜を形成した。得られた薄膜についてＸ線回折図形から２θの値を読み取って構造を推定するとともに、光学的特性、電気的特性も測定した。結果を同じく表１に示す。
【００２５】
【表１】

【００２６】
表１からも明らかなように、製造例１〜５の薄膜はいずれもＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質のホモロガス化合物からなるものであった。一方、基板温度２５０℃でスパッタリングして得られた製造例６の薄膜や、電流比δを０．２としてスパッタリングして得られた製造例７の薄膜はいずれも結晶化していて非晶質の薄膜は得られなかった。
【００２７】
実施例１及び比較例１
製造例２で得られた非晶質のホモロガス化合物からなる薄膜を水素／窒素混合ガス（Ｈ_２／Ｎ_２＝４／９６）気流下で４００℃、１時間加熱処理して本発明の透明導電膜を得た。得られた透明導電膜はＸ線回折図形からＺｎＩｎ_２Ｏ_４で表される非晶質のホモロガス化合物であり、その抵抗率は２．６×１０^−４Ωｃｍ、光線透過率は７８％であり、加熱処理前とほぼ同程度であった。また、得られた透明導電膜の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察したところ表面の凹凸も２ｎｍ以下と表面が極めて平滑であり（図３ｂの右側図参照）、加熱処理を施していない製造例２で得られた非晶質のホモロガス化合物からなる比較例１にかかる薄膜（表面の凹凸は３０ｎｍ以上(図３ａの右側図参照)）に比べて平滑性が大きく向上したことがわかる。図２に加熱処理前（図２Ａ）及び加熱処理後（図２Ｂ）のＸ線回折図形を、図３に加熱処理前（ａ）及び加熱処理後（ｂ）の走査顕微鏡（ＳＥＭ）写真（左側図）及び原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）イメージ（右側図）を示す。
【００２８】
比較例２
製造例１で得られた非晶質のホモロガス化合物からなる薄膜を水素／窒素混合ガス（Ｈ_２／Ｎ_２＝４／９６）気流下で４００℃、１時間加熱処理したところ結晶化して非晶質な透明導電膜とはならなかった。図２に加熱処理前（図２Ｃ）及び加熱処理後（図２Ｄ）のＸ線回折図形を示す。
【００２９】
【効果】
本発明によって、低抵抗で、優れた透明性を有しており、しかも表面が平滑なＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質のホモロガス化合物からなる透明導電膜を容易に製造することが可能となった。また、この非晶質のホモロガス化合物からなる透明導電膜は組成によっては従来公知のＩＴＯ膜よりも導電性に優れているので液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス等の透明電極として極めて有用なものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明で使用するスパッタ装置の一例を示す模式平面図である。
【図２】製造例１及び製造例２の薄膜の加熱処理前、加熱処理後のＸ線回折図形である。
【図３】（ａ）加熱処理していない比較例１にかかる透明導電膜表面の走査顕微鏡（ＳＥＭ）写真（左側図）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）イメージ（右側図）、及び（ｂ）本発明の加熱処理した実施例１にかかる透明導電膜表面の走査顕微鏡（ＳＥＭ）写真（左側図）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）イメージ（右側図）である。
【符号の説明】
１スパッタ装置
１１、１２ターゲットホルダー
１３基板ホルダー

Claims

Ｚｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質ホモロガス化合物からなる薄膜を不活性ガス雰囲気下又は還元雰囲気下、２５０〜５００℃の温度で加熱処理することを特徴とする表面の凹凸が１０ｎｍ以下である透明導電膜の製造方法。
酸化インジウムターゲット（Ｔ_Ｉｎ）と酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）とを互いに対向するように配置して、基板温度が２００℃以下、かつδ＝Ｉ_Ｉｎ／（Ｉ_Ｉｎ＋Ｉ_Ｚｎ）で定義されるＴ_Ｉｎに印可した電流値（Ｉ_Ｉｎ）とＴ_Ｚｎに印可した電流値（Ｉ_Ｚｎ）との電流比δが０．４０〜０．７０の条件下でスパッタリングしてＺｎ_ｋＩｎ_２Ｏ_ｋ＋３（ｋは１〜４の整数。）で表される非晶質ホモロガス化合物からなる薄膜を形成し、次いで該薄膜を不活性ガス雰囲気下又は還元雰囲気下、２５０〜５００℃の温度で加熱処理することを特徴とする表面の凹凸が１０ｎｍ以下である透明導電膜の製造方法。
酸化亜鉛ターゲット（Ｔ_Ｚｎ）が酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）を１．０〜５．０ｗｔ％含有していることを特徴とする請求項２記載の透明導電膜の製造方法。