JP4114398B2

JP4114398B2 - Ｉｔｏ膜付き基体の製造方法

Info

Publication number: JP4114398B2
Application number: JP2002146328A
Authority: JP
Inventors: 彰光井; 邦雄増茂
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2002-05-21
Filing date: 2002-05-21
Publication date: 2008-07-09
Anticipated expiration: 2022-05-21
Also published as: JP2003335552A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＩＴＯ膜付き基体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子に関する研究が盛んに行われている。この有機ＥＬ素子は、通常、ガラスなどの基板上に透明導電膜を形成した陽極と、正孔輸送層と、発光層と、陰極とから構成されており、１０Ｖ前後の電圧で数１００〜数１００００ｃｄ／ｍ^２と極めて高い輝度が得られるという理由により、次世代のディスプレィ素子として注目されている。
【０００３】
前記陽極は、ガラスなどの基板に導電膜を形成することにより作成され、前記導電膜として、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）膜、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）膜などが知られている。特にＩＴＯ膜は、導電性に優れ、可視光透過率が高く、耐薬品性が優れる一方で、ある種の酸には溶けるので、パターニングしやすいという優れた特徴がある。
【０００４】
導電性および耐薬品性の観点から、ＩＴＯ膜は結晶質であることが好ましい。しかし、結晶質の膜は表面に凹凸が生じやすい。ＩＴＯ膜を有機ＥＬ素子の導電膜などに用いる場合、ＩＴＯ膜表面の凹凸が大きいと、リーク電流やダークスポットなどの不具合の原因となる。
【０００５】
特開平１１−８７０６８号公報には、１０〜１５０℃の比較的低温でＩＴＯ膜を成膜した後、１００〜４５０℃で加熱処理して、ＩＴＯ膜の結晶配向を（１１１）配向とし、有機ＥＬ素子のリーク電流やダークスポットを抑制する発明が開示されている。しかし、成膜後に熱処理することは製造工程が複雑になり、生産性の点で好ましくない。
また、ＩＴＯ膜表面の研磨、酸処理などによりＩＴＯ膜の表面の凹凸を減らす試みも行われているが、いずれも製造工程が複雑になり、やはり生産性に劣る。
【０００６】
特開平１１−１２６６８９号公報には、基板にあらかじめ逆スパッタ処理を行った後、基板上にＩＴＯ膜を形成する有機ＥＬ素子の製造方法の発明が開示されている。この逆スパッタ処理では、ＩＴＯ膜の成膜時にＩＴＯ膜の結晶の異常成長が発生し、発生した生成物がＩＴＯ膜上に凹凸を生じるため、ダークスポットなどの不具合が発生しやすくなる。加えて、ＩＴＯ膜への飛来物がＩＴＯ膜上に凹凸を生じるため、ダークスポットなどの不具合が発生しやすくなる。
【０００７】
特開平１０−１０５５７号公報には、水素ガスを主成分とする雰囲気中で透明導電膜に逆スパッタ処理を行うことが開示されている。この方法では、爆発性のある水素を使用しているため、安全性の観点から好ましくない。
【０００８】
また、有機ＥＬ素子の駆動電圧は、寿命やドライバの負荷低減の観点から低い方が好ましく、駆動電圧の低い有機ＥＬ素子が望まれていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、膜表面の凹凸が小さく平坦性に優れ、成膜後の加熱処理や透明導電膜の表面の研磨といった複雑な製造工程が不要なＩＴＯ膜を有する導電膜付き基体の製造方法の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基体上に酸化ジルコニウムを主成分とする厚さが１〜１５ｎｍである下地膜を形成し、次いで前記下地膜に接して錫ドープ酸化インジウム膜を形成し、次いで酸素ガスを含むスパッタガスの雰囲気中において前記錫ドープ酸化インジウム膜を逆スパッタ処理することを特徴とする錫ドープ酸化インジウム膜付き基体の製造方法を提供する。
【００１１】
【００１２】
【００１３】
本発明において、ＩＴＯ膜表面の平均表面粗さとは、ＩＴＯ膜付き基体の表面（ＩＴＯ膜表面）の平均表面粗さの意味である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明における基体としては、透明基体が挙げられ、例えば、ガラス基板などの無機質の基体や、プラスチック基板などの有機質の基体が挙げられる。ガラス基板としては、ソーダライムシリケートガラス基板などのアルカリ含有ガラス基板や、ホウケイ酸ガラス基板などの無アルカリガラス基板などが挙げられる。無アルカリガラス基板の平均表面粗さＲ_ａは０．１〜５ｎｍ程度である。アルカリ含有ガラス基板の平均表面粗さＲ_ａは０．１〜１０ｎｍ程度である。なお、本発明において、平均表面粗さＲ_ａは、ＪＩＳＢ０６０１（１９９４年度）によって測定され、カットオフ値は０．８μｍ、評価長さは２．４μｍとする。
【００１５】
前記基体としてアルカリ含有ガラス基板を用いる場合には、ガラス基板に含まれるアルカリイオンがＩＴＯ膜へ拡散してＩＴＯ膜の抵抗値に影響を及ぼすことを防ぐため、アルカリバリア層として酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）膜などを前記基体上に形成することが好ましい。
【００１６】
前記アルカリバリア層が形成されたアルカリ含有ガラス基板の平均表面粗さＲ_ａは０．１〜１０ｎｍ程度であることが好ましい。
また、前記アルカリバリア層の膜厚は、１０〜５００ｎｍ（幾何学的膜厚を意味する。以下、同じ。）であることが好ましい。膜厚が１０ｎｍ未満ではアルカリバリア性能が不十分であり、５００ｎｍ超では表面粗さやコストの面で不利となる。膜厚が１０〜５０ｎｍであることが特に好ましい。
【００１７】
アルカリバリア層のガラス基板への形成方法は、特に限定されず、熱分解法（原料溶液を塗布後加熱して膜を形成する方法）、ＣＶＤ法、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられる。たとえば、ＳｉＯ_２膜の場合、ＳｉＯ_２ターゲットを用いたＲＦ（高周波）スパッタリング法、または、Ｓｉターゲットを用いたＲＦもしくはＤＣ（直流）スパッタリング法などの成膜法が挙げられる。Ｓｉターゲットを用いる場合、スパッタガスとしてＡｒ−Ｏ_２混合ガスを用い、ＳｉＯ_２膜が吸収のない透明な膜になるようにＡｒとＯ_２のガス比を定めることが好ましい。
【００１８】
本発明により形成されるＩＴＯ膜付き基体は、ＩＴＯ膜の下に接して酸化ジルコニウムを主成分とする下地膜を有する。前記下地膜は、ＩＴＯ膜の結晶成長に影響を及ぼし、その結果ＩＴＯ膜の結晶配向性を変えることができ、ＩＴＯ膜表面の平均表面粗さの改善に寄与する。前記下地膜には、主成分となる酸化ジルコニウムにＨｆ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｙ、Ｃａ、Ｓｉなどの不純物が含まれていてもよいが、不純物はその合量が、Ｚｒと不純物元素との総量に対して１０原子％以下、特に、１原子％以下であることが好ましい。
【００１９】
前記下地膜の膜厚は１〜１５ｎｍである。前記下地膜の膜厚を前記範囲とし、後述するようなＩＴＯ膜に逆スパッタ処理を行うことにより、ＩＴＯ膜付き基体の表面の平均表面粗さＲ_ａを１．２ｎｍ以下に容易に制御できる。下地膜の膜厚が１ｎｍ未満では、ＩＴＯ膜表面の平均表面粗さを小さくするという下地膜としての効果が得られない。また、下地膜の膜厚が１５ｎｍ超では、下地膜としての効果が下がり、ＩＴＯ膜表面の平均表面粗さＲ_ａを１．２ｎｍ以下とすることが難しくなる。なお、以上に述べた下地膜の膜厚は平均膜厚のことであり、連続膜になっていない場合も同様とする。
【００２０】
前記下地膜の形成方法は、特に限定されず、熱分解法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられ、たとえば、金属Ｚｒターゲットを用いたＲＦもしくはＤＣスパッタリング法、または安定化ジルコニアターゲットを用いたＲＦスパッタリング法、などが挙げられる。前記安定化ジルコニアターゲットは、ＹやＣａなどの不純物が多いので、前記金属Ｚｒターゲットを用いる方がより好ましい。また、スパッタリング法としては、成膜速度の観点からＤＣスパッタリング法であることが好ましい。スパッタガスとしてＡｒ−Ｏ_２混合ガスを用い、下地膜が吸収のない透明な膜になるようにＡｒとＯ_２とのガス比を定めることが好ましい。
【００２１】
本発明におけるＩＴＯ膜は、Ｉｎ_２Ｏ_３とＳｎＯ_２とからなる膜であり、その組成としては、（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２）の総量に対してＳｎＯ_２が１〜２０質量％含まれていることが好ましい。ＩＴＯ膜の膜厚は、抵抗値、透過率などの観点から５０〜３５０ｎｍであることが好ましく、特に好ましくは１００〜２００ｎｍである。膜の導電性の観点から、比抵抗値は４×１０^−４Ω・ｃｍ以下であることが好ましく、シート抵抗値としては２０Ω／□以下であることが好ましい。
【００２２】
前記ＩＴＯ膜の形成方法は、特に限定されず、熱分解法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法などが挙げられ、例えば、ＩＴＯターゲットを用いたＲＦまたはＤＣスパッタリング法などが挙げられる。スパッタガスとしてＡｒ−Ｏ_２混合ガスを用い、ＩＴＯ膜の比抵抗が最小になるようにＡｒとＯ_２のガス比を定めるのが好ましい。
【００２３】
スパッタリング法を用いて成膜する場合、スパッタリング時の基体温度は１００〜５００℃であることが好ましい。１００℃より低いと、ＩＴＯ膜が非晶質になりやすく膜の耐薬品性が低下する。５００℃より高いと、結晶性が促進され膜表面の凹凸が大きくなる。
【００２４】
本発明における逆スパッタ処理とは、通常のスパッタ処理とは異なり、基板側に電界を引加することによりプラズマを発生させ、ＩＴＯ膜表面をイオンによりスパッタエッチングを行う処理をいう。スパッタガス中に酸素ガスを含ませる理由は以下のとおりである。プラズマ中に形成された酸素負イオンは反応性が高く、膜中の原子をはじき出す（スパッタリング）能力は小さいため、酸素負イオン粒子のエネルギーは主として熱に変わると考えられる。ＩＴＯ膜表面にはＩｎ−ＯまたはＳｎ−Ｏ結合が凹凸となって存在しており、凸部分のＩｎ−ＯまたはＳｎ−Ｏ結合強度は凹部分のＩｎ−ＯまたはＳｎ−Ｏ結合強度と比較して弱いと考えられる。よって、酸素負イオンによりＩＴＯ膜表面が加熱された場合、凸部のＩｎ−ＯまたはＳｎ−Ｏ結合を選択的に蒸発させることができ、結果的にＩＴＯ膜表面の表面粗さを改善できる。
【００２５】
さらに、本発明においては、前記下地膜の膜厚を１〜１５ｎｍとし、酸素ガスを含むスパッタガスの雰囲気中において前記ＩＴＯ膜を逆スパッタ処理することにより、ＩＴＯ膜表面の平均表面粗さを１．２ｎｍ以下に容易に制御できる。この理由は、ＩＴＯ膜の主配向面が（４００）となり、（４００）面の回折強度と（２２２）面の回折強度との比、（４００）／（２２２）回折強度比が１．０以上となるため、逆スパッタ処理により発生する酸素負イオンが、ＩＴＯ膜の表面の凸部に選択的にエッチングしやすくなるためであると考えられる。
【００２６】
また、逆スパッタ処理後のＩＴＯ膜の膜厚は、５０〜３５０ｎｍであることが好ましく、逆スパッタ処理前のＩＴＯ膜の膜厚と同等である。
【００２７】
平均表面粗さＲ_ａを小さくできる点で、逆スパッタ処理におけるスパッタガス中の酸素ガスの濃度は、１０〜１００体積％であることが好ましく、さらに好ましくは５０〜１００体積％であり、特に好ましくは８０〜１００体積％である。
【００２８】
本発明のＩＴＯ膜付き基体は、透明性、導電性の点から、有機ＥＬ素子、ＬＣＤ、無機ＥＬ素子などの表示デバイスの電極や、太陽電池の電極として好適に用いられる。
【００２９】
前記有機ＥＬ素子は、陽極、正孔輸送層、発光層および陰極を有し、必要により、発光層と陰極との間に電子輸送層、電子注入層を設けることもできる。本発明のＩＴＯ膜付き基体は、特に前記有機ＥＬ素子の陽極として好適に用いられる。また、本発明のＩＴＯ膜付き基体は、前記有機ＥＬ素子の陰極としても好適に用いられる。
【００３０】
前記ＩＴＯ膜付き基体を前記有機ＥＬ素子の陽極に用いることにより、発生するダークスポットの数を減少させ、歩留まりを向上させることができる。ダークスポットとは、有機ＥＬ素子の一部に電流が流れなくなることにより電極表面に発生する黒い斑点を意味し、製品の歩留まりを下げる大きな原因となる。ダークスポット発生の主たる原因は、陽極の表面に存在する凸部により陰極にピンホールが形成され、前記ピンホールから外気中に含まれる水分が浸入し、陰極界面や発光層がピンホールを中心に劣化するためと考えられる。本発明においては、逆スパッタ処理により前記ＩＴＯ膜の凸部を消失させることができるため、発生するダークスポットの数を減少させることができる。なお、通常、水分の浸入を抑えるために、有機ＥＬ素子の周囲を保護用ガラス基板で覆い、封止接着材などで封止することが行われている。しかし、本発明においては、効果の有無を明確に判断するために、封止をしない条件、つまり水分が外部から浸入しやすく、ダークスポットが発生しやすい条件でダークスポット数を測定した。
【００３１】
また、本発明のＩＴＯ膜付き基体を有機ＥＬ素子の陽極に用いることにより、駆動電圧を下げ、歩留まりを向上させることができる。前記駆動電圧とは、有機ＥＬ素子からの発光が一定の明るさとなる時の電圧を意味し、逆方向への電流（リーク電流）が生じると、発光効率が低下し駆動電圧が上昇するため、歩留まりを向上させるためには、駆動電圧をできるだけ下げることが重要となる。このリーク電流の発生はＩＴＯ膜の凹凸と密接に関連しており、この凹凸を消失させることにより駆動電圧を下げ歩留まりを向上させることができる。
【００３２】
前記正孔輸送層の材料としては、正孔の注入または電子の障壁性を有する材料であれば特に限定されず、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’ジアミン、４，４’−ビス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル（α−ＮＰＤ）、トリフェニルジアミンなどからなる群から選ばれる１種以上が挙げられる。前記正孔輸送層の形成方法として、真空蒸着法、スピンコート法など公知の方法が使用でき、前記正孔輸送層の膜厚は５〜２００ｎｍであることが素子の電気的光学的特性の点より好ましく、さらに２０〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００３３】
前記発光層の材料としては、発光能を示す材料であれば特に限定されず。例えば、トリス（８−キリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）などが挙げられる。前記発光層の形成方法は、真空蒸着法、スピンコート法など公知の方法が使用でき、前記発光層の膜厚が５〜２００ｎｍであることが素子の電気的光学的特性の点より好ましく、さらに２０〜１００ｎｍであることが特に好ましい。
【００３４】
前記陰極の材料としては、仕事関数の小さい金属や合金が好ましく用いられ、Ａｌ、ＬｉＦ、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏなどが例示され、真空蒸着法などで成膜される。
【００３５】
また、リーク電流の防止、正孔注入障壁の低減、密着性向上を目的として、前記陽極と正孔輸送層との間に界面層を設けてもよい。前記界面層の材料として、４，４’，４’’−トリス（Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン、４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）トリフェニルアミンや銅フタロシアニンなどが使用できる。前記界面層の形成方法は、真空蒸着法、スピンコート法など公知の方法が使用でき、前記界面層の膜厚が５〜１００ｎｍであることが素子の電気的光学的特性の点より好ましい。
【００３６】
【実施例】
以下に本発明の実施例を挙げてさらに説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００３７】
[ＩＴＯ膜付き基体］
（例１）
洗浄したソーダライムシリケートガラス基板（平均表面粗さＲ_ａは０．５ｎｍ）をスパッタリング装置にセットし、基板を２５０℃に加熱し、スパッタリング成膜の際も基板温度を２５０℃に保持した。この基板の上にアルカリバリア層として、ＳｉＯ_２膜をＲＦスパッタリング法で成膜した。このとき、ターゲットには、直径１５０ｍｍの円盤状のＳｉＯ_２ターゲットを用いた。スパッタガスには、Ａｒ−Ｏ₂混合ガスを用いた。ＡｒとＯ_２のガス比は、Ａｒ：Ｏ_２＝９０：１０（体積比）とし、全圧を０．６Ｐａとした。０．５ｋＷで放電し、成膜を行った。膜厚は２０ｎｍとした。形成されたＳｉＯ_２膜付き基板のＳｉＯ_２膜表面の平均表面粗さＲ_ａは０．５ｎｍであった。
【００３８】
次に、ＳｉＯ_２膜上に、下地膜としてＺｒＯ_２膜をＲＦスパッタリング法で成膜した。このときターゲットとして、直径１５０ｍｍの円盤状の金属Ｚｒターゲットを用いた。スパッタガスには、Ａｒ−Ｏ_２混合ガスを用いた。ＡｒとＯ_２のガス比は、Ａｒ：Ｏ_２＝９０：１０（体積比）とし、全圧を０．６Ｐａとした。０．３ｋＷで放電し、成膜を行った。膜厚は８ｎｍとした。
【００３９】
ついで、下地膜の上にＩＴＯ膜をＲＦスパッタリング法で成膜した。ターゲットは、直径１５０ｍｍの円盤状のＩＴＯターゲットを用いた。ＩＴＯターゲットの組成は、（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２）の総量に対してＳｎＯ_２が１０質量％のものを用いた。スパッタガスには、Ａｒ−Ｏ_２混合ガスを用いた。ＡｒとＯ_２のガス比は、Ａｒ：Ｏ_２＝９９．５：０．５（体積比）とし、全圧を０．６Ｐａとした。０．３ｋＷで放電し、成膜を行った。膜厚は１５０ｎｍとした。得られたＩＴＯ膜の組成はターゲットの組成と同じであった。
【００４０】
ついで、ＲＦ電源を用いて、フローティングバイアスにおいて、成膜したＩＴＯ膜に逆スパッタ処理を施し、ＩＴＯ膜付き基体を得た。このとき、酸素ガスをスパッタガスとして用い、酸素ガスの全圧を２Ｐａとし、単位面積あたりの電力密度を０．４Ｗ／ｃｍ^２とした。
【００４１】
（例２）（比較例）
逆スパッタ処理を行わない以外は、例１と同様に処理し、ＩＴＯ膜付き基体を得た。
【００４２】
（例３）（比較例）
ＺｒＯ_２膜を形成しなかった以外は、例１と同様に処理し、ＩＴＯ膜付き基体を得た。
【００４３】
［ＩＴＯ膜付き基体の特性評価］
得られたＩＴＯ膜付き基体を以下の方法で評価した。
１）平均表面粗さＲ_ａ：ＪＩＳＢ０６０１（１９９４年度）によって、表面の凹凸状態をＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定した。なお、カットオフ値は０．８μｍ、評価長さは２．４μｍとした。
２）比抵抗値：四端針法により測定した。
３）シート抵抗値：膜厚を触針式膜厚計で測定し、比抵抗値を膜厚で割ることにより求めた。
４）結晶配向：表面の結晶状態をθ／２θ法によるＸ線回折測定を用いて測定した。測定条件は、Ｃｕターゲットの線源を用い、管電圧４０ｋＶ、管電流２０ｍＡ、サンプリング幅０．０２度、走査速度４度／分、発散スリット１．０度、散乱スリット１．０度、受光スリット０．１５ｍｍとした。バックグラウンドを差し引いた後のピーク高さより求めた回折強度において、得られた（４００）面の回折強度と（２２２）面との回折強度の比である（４００）／（２２２）回折強度比を計算により求めた。
【００４４】
得られたＩＴＯ膜付き基体の特性評価結果を表１に示す。
【００４５】
【表１】

【００４６】
また、触針式の膜厚測定装置を用いて、例１〜例３により得られたＩＴＯ膜付き基体のＩＴＯ膜の膜厚を測定したところ、ＩＴＯ膜の膜厚は例１〜３それぞれ１５０ｎｍであり、逆スパッタ処理を行ってもＩＴＯ膜の膜厚は変化しないことが確認された。
【００４７】
［有機ＥＬ素子］
（例４）
例１において形成されたＩＴＯ膜付き基体のＩＴＯ膜をパターニング加工し、発光部分（２ｍｍ角）と配線部分を作成した。パターニング加工を施したＩＴＯ膜の上に、ＩＴＯ膜の発光部分とは重なるが、配線部分とは重ならないようなパターニングを行うマスクをセットした。次いで、真空蒸着法により、銅フタロシアニンを材料として界面層を形成し、４，４’−ビス（Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニル（α−ＮＰＤ）を材料として正孔輸送層を形成し、トリス（８−キリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）を材料として発光層を形成し、アルミニウムを材料として陰極を形成し、有機ＥＬ素子を得た。界面層、正孔輸送層、発光層、陰極の膜厚は各々、１０ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍ、８０ｎｍであった。
【００４８】
（例５）
例１において形成されたＩＴＯ膜付き基体の替わりに、例２において形成されたＩＴＯ膜付き基体を用いた以外は、例４と同様に処理し、有機ＥＬ素子を得た。
【００４９】
［有機ＥＬ素子の発光特性評価］
例４および例５により形成された有機ＥＬ素子を、以下の方法により評価した。
１）駆動電圧：窒素雰囲気下で、有機ＥＬ素子の陽極−陰極間に電圧をかけ、有機ＥＬ素子からの発光輝度が１０００ｃｄ／ｍ^２に達する時の電圧値を測定した。なお、輝度は輝度計（ＢＭ−７トプコン社製）により測定した。
２）ダークスポット数：封止をしない条件で、大気中で陽極−陰極間に電圧をかけ、４００ｃｄ／ｍ^２の輝度で発光する時に発生する、発光面２ｍｍ角の範囲内における５０倍〜１００倍程度の倍率の光学顕微鏡観察により測定した数をダークスポット数として測定した。
【００５０】
得られた有機ＥＬ素子の発光特性評価結果を表２に示す。
【００５１】
【表２】

【００５２】
【発明の効果】
本発明によれば、酸化ジルコニウムを主成分とする膜厚を限定した下地膜を有するＩＴＯ膜に、酸素ガスを含むスパッタガスの雰囲気中において逆スパッタ処理を行うことにより、ＩＴＯ膜形成後の加熱処理やＩＴＯ膜表面の研磨、酸処理などの複雑な製造工程を経ることなく、表面の凹凸が少なく優れた平坦性を持ち、高い導電性を有するＩＴＯ膜付き基体を得ることができる。
【００５３】
さらに、本発明のＩＴＯ膜付き基体は、前述したような優れた特性を有するため、有機ＥＬ素子の陽極として好適に用いられ、リーク電流やダークスポットの発生を抑制でき、歩留まりを向上させることができる。

Claims

基体上に酸化ジルコニウムを主成分とする厚さが１〜１５ｎｍである下地膜を形成し、次いで前記下地膜に接して錫ドープ酸化インジウム膜を形成し、次いで酸素ガスを含むスパッタガスの雰囲気中において前記錫ドープ酸化インジウム膜を逆スパッタ処理することを特徴とする錫ドープ酸化インジウム膜付き基体の製造方法。
スパッタガス中の前記酸素ガスの濃度が１０〜１００体積％である請求項１に記載の錫ドープ酸化インジウム膜付き基体の製造方法。