JP4105641B2 - プラズマ処理装置及び試料の処理方法 - Google Patents
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- 真空処理室と、プラズマ発生装置と、前記真空処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、前記真空処理室内で処理される試料を保持する試料載置面を備えた試料台と、前記真空処理室を減圧する真空排気系とを有するプラズマ処理装置において、
前記試料台は、静電吸着力により試料を前記試料載置面に保持する静電吸着手段と、該試料載置面の外側部に該試料台を覆うようにして設けられた試料台カバーと、前記試料載置面と前記試料下面との間に試料冷却用伝熱用ガスを導入する経路を有するガス導入手段と、該ガス導入手段の経路から前記試料台内で分岐し該試料台と前記試料台カバーとの間に前記伝熱用ガスの一部を導入する手段とを具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記試料台と前記試料台カバーとの間にガス封止手段を備えたことを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 真空処理室と、プラズマ発生装置と、前記真空処理室に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、前記真空処理室内で処理される試料を保持する試料台と、前記真空処理室を減圧する真空排気系とを有するプラズマ処理装置による試料の処理方法において、
静電吸着装置が形成される前記試料台の試料載置面に前記試料を載置し、
前記試料載置面と前記試料下面との間にガス導入手段の経路から試料冷却用伝熱用ガスを導入すると共に、該ガス導入手段の経路から前記試料台内で分岐して前記試料台と前記試料台カバーとの間に前記伝熱用ガスの一部を導入させ、
前記試料及び前記試料台カバーの温度変動を抑制するようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置による試料の処理方法。
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