JP4090232B2 - 芳香族化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物の該アルキル基を酸化して芳香族化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来技術】
従来、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物の該アルキル基の酸化により、例えば芳香族カルボン酸を製造する方法には臭素化合物やコバルトやマンガンなどの遷移金属の化合物の存在下に酢酸を始めとする低級アルカン酸や水を溶媒として液相中で実施されている。
【０００３】
特開２０００−１０３７５８号にはＲ−ＣＨ2−基を有する芳香族化合物を液相酸化して芳香族ケトンを製造する方法が開示されている。ここで使用されるヘテロポリ酸は欠損構造部位を有さないヘテロポリ酸が使用されており、かつ芳香族ケトンの製法を対象としている。特開平８−５３３９１号、特開平９−１６９６９４号および特開平９−２８６７５６号各号には、欠損構造部位を有するヘテロポリ酸骨格に、遷移金属を組み込んだ化合物を触媒として水媒体中で芳香族カルボン酸を製造する方法が開示されている。特開平９−２８６７５７号には欠損構造部位を有するヘテロポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中で１００℃以上で加熱処理した触媒を用いて芳香族カルボン酸を製造する方法が開示されている。特開平１１−１４４７号にはヘテロポリ酸ないしその塩およびヘテロポリ酸に組み込まれていない遷移金属の存在下に水溶液中で芳香族カルボン酸を製造する方法が開示されている。しかしながら、これら公報に開示されている芳香族カルボン酸の製造に使用されるヘテロポリ酸触媒には、２欠損構造を有するヘテロポリ酸触媒の具体的開示はない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、触媒として腐食性の臭素イオンを使わず、また酸化雰囲気でも分解せずに安定に、かつ再使用可能な触媒を使用して少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物を酸化して酸素を含有する芳香族化合物を製造する方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物の該アルキル基を、分子状酸素含有ガスで酸化するに際して、ヘテロ原子がリン、珪素、およびゲルマニウムから選ばれる少なくとも１種の元素であり、かつ、ポリ原子がモリブデン、タングステン、バナジウム、およびニオブから選ばれる１種以上の元素からなり、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンと、周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種以上の元素とを含む触媒を用いて酸化する方法に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明について詳細に説明する。本発明における触媒は、ヘテロ原子がリン、珪素およびゲルマニウムから選ばれる少なくとも１種の元素であり、かつ、ポリ原子がモリブテン、タングステン、バナジウム、およびニオブから選ばれる１種以上の元素からなり、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンと、周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素とを含む触媒である。周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種以上の元素のうち好ましい元素は、Ｖ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ、Ｎｉ，Ａｕ等であり、特に好ましくはＶ，Ａｕである。本発明における周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素は触媒中に２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオン骨格に少なくとも１部組み込まれていてもよいし、また組み込まれていなくてもよい。
【０００７】
さらに、本発明においては、周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素が２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンの骨格に組み込まれる場合は、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンの１個当たり２個組み込まれる場合がより好ましく、さらには２個が互いに陵共有を形成するように組み込まれることがより好ましい。周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素はヘテロポリオキソメタレートアニオン１分子当たり、０．００１個以上存在させることが好ましい。
【０００８】
ここで使われる２欠損構造部位を持つヘテロポリオキソメタレートアニオンの骨格は、ケギン型ヘテロポリ酸イオン構造である。この構造の一般式は
【０００９】
【化２】
【００１０】
（ここで、Ｙは珪素、ゲルマニウムおよびリンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を表し、Ｍはモリブデン、タングステン、バナジウムおよびニオブよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を表し、ｑは元素Ｙや元素Ｍのイオンの価数により決まる正の整数を表す。）で表される。
【００１１】
この構造式をわかり易くするために図１に示した。例えば、本発明に用いられる２欠損構造部位を持つヘテロポリオキソメタレートアニオンの調製は、水野等のＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９８，１２０，９２６７に記載されている方法で実施することができる。一般に、２欠損構造部位を有するケギン型ヘテロポリオキソメタレートアニオンには、γ型、δ型、ε型等の異性体が存在するが、本発明においては、好ましくはγ型である。この２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンの対カチオンには、例えば酸化反応を水媒体中で行なう場合には水に可溶なプロトン、Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ等のアルカリ金属イオンが好ましく使用され、また有機溶媒中で反応が行なわれる場合にはテトラアルキルアンモニウムイオン、アルキル基で置換されたピリジウムイオン等が使用される。しかしながら、その選択に当たって制限はされない。
【００１２】
また、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオン骨格に、周期律表ＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，ＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれた少なくとも１種の元素を組み込むにはヘテロポリオキソメタレートアニオンを溶媒に溶解後、周期律表ＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，ＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれた少なくとも１種の元素の化合物を加え熱処理をおこなうことも可能である。本発明における触媒の使用量は、触媒と反応基質とのモル比で表すなら１：１〜１：１，０００，０００の範囲が選ばれ、好ましくは１：１０〜１：１００，０００の範囲が選ばれる。
【００１３】
本発明において使用される反応基質には、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物が使用される。アルキル基としては、通常炭素数１〜８程度のものを使用するが、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロピル基等のアルキル基が挙げられる。芳香環にはナフタレン環のような多環式芳香族環も挙げられる。
【００１４】
さらに、芳香族化合物には、窒素、イオウ元素を含むヘテロ元素含有芳香族化合物、例えばピリジン類化合物やチオフェン類化合物なども挙げられる。本発明は、またアルキル基以外にヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基などで更に置換されている芳香族化合物にも適用される。
【００１５】
これらの出発原料としてはどのような方法で得られたものでも使用可能である。このような化合物として具体的には、トルエン、エチルベンゼン、エチルトルエン、ジエチルベンゼン、イソプロピルエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、４，４’−ジメチルビフェニル、クメン、ブチルベンゼン、４−ｔ−ブチル−１−メチルベンゼン、３−エチルトルエン、４−エチルトルエン、クロロエチルベンゼン、ジクロロエチルベンゼン、ニトロエチルベンゼン、ｏ−，ｍ−，ｐ−クレゾール、ｏ−，ｍ−，ｐ−キシレン、ｏ−，ｍ−，ｐ−ジイソプロピルベンゼン、１，２，３−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、ｏ−，ｍ−，ｐ−トルイル酸、ｏ−，ｍ−，ｐ−トルアルデヒド、２，４−ジメチルベンズアルデヒド、２，４，５−トリメチルベンズアルデヒド、あるいはこれらの混合物などを挙げることができる。
【００１６】
本発明により、得られる化合物である芳香族カルボニル化合物とは、芳香環に直接カルボニル基を有する芳香族化合物であり、具体的にはベンズアルデヒド、アセトフェノン、ヒドロキシベンズアルデヒド、カルボキシベンズアルデヒド、アセトキシベンズアルデヒドなどを挙げることができる。また本発明により、得られる化合物である芳香族カルボン酸とは、芳香環に直接カルボキシル基を少なくとも１個を含む芳香族化合物であり、具体的には安息香酸、テレフタル酸、ヒドロキシ安息香酸などを挙げることができる。
【００１７】
なお、本願発明においては芳香環に付いたアルキル基を酸化してカルボキシル基にまで進行するにはそれに対応するカルボニル基を経由して進行すると推定される。例えばトルエン酸化においてはベンズアルデヒドを経由してさらに酸化されて安息香酸にまで進むと考えられる。
【００１８】
本発明による酸化方法は、反応基質を触媒の存在下に分子状酸素含有ガスと接触させて行なわれる。反応は、触媒と反応物を典型的な溶媒に溶解させて液相均一系で行なうことができる。典型的な溶媒は水あるいは通常、反応に不活性な有機溶媒が使用される。もちろん水と有機溶媒の混合系ないしニ相系で反応を実施することも可能である。例えば酢酸、プロピオン酸などの有機酸、アセトニトリル、プロピオニトリル、べンゾニトリルなどのニトリル類、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ベンゼン、ナフタリンなどの芳香族炭化水素、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、ニトロベンゼン、ニトロメタンなどのニトロ化合物、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ジメチルスルホオキシド、そしてこれらの混合物が溶媒として使用される。また基質が溶媒ともなりうる。反応基質以外の溶媒を使用する場合は、溶媒と反応基質との重量比は１：１０〜１０００：１の範囲で選ばれ、好ましくは１：１〜１００：１の範囲から選ばれる。触媒は溶媒に溶解させずに液相に懸濁させることも可能であり、また触媒を固相とし、反応物をガス相とするいわゆる不均一反応系も可能である。例えば触媒は担体に坦持したり、それ自体固体として使用して、そこに反応基質を加えることも可能である。触媒用担体には各種イオン交換樹脂、シリカ、アルミナや他の酸化物といった一般的に不均一系接触反応に使われる担体が使用可能である。
【００１９】
本発明で使用される分子状酸素含有ガスは特に限定はされない。純粋な酸素でも、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈された酸素でもよい。空気が安全性、操作性、経済性から好ましい。分子状酸素含有ガスの使用量は反応原料基質や目的生成化合物の種類に応じて選択でき、基質１モルあたり分子状酸素として０．０１モル以上、好ましくは０．１〜１００モル、より好ましくは１〜５０モルである。
【００２０】
反応温度は５０〜３５０℃の範囲である。より好ましくは１００〜２５０℃、さらに好ましくは１００〜２２０℃である。
【００２１】
反応圧力は常圧でも加圧状態下でもよいが、通常は常圧〜１０ＭＰａ、好ましくは常圧〜８ＭＰａである。
【００２２】
反応時間は反応温度、反応圧力、使用触媒の種類などに応じて選ばれるが、例えば１０分〜１００時間、好ましくは２〜４８時間の範囲から選ばれる。
【００２３】
反応液のｐＨは触媒の安定性を考慮するとき、その都度ｐＨ緩衝液等を使用してｐＨ調整される。
【００２４】
本発明により実施されて製造された酸素含有芳香族化合物はろ過、遠心分離、蒸留などの方法で分離精製される。目的とする酸素含有芳香族化合物を分離したあとの使用済み触媒を含む溶液は再度、場合によっては触媒を追加して再利用することができる。
【００２５】
【実施例】
本願発明は実施例を示すことで、より具体的に示すが、これらの実施例に限定されるものではない。以下の実施例は、本願発明の実施態様を説明している。
【００２６】
２欠損構造型γ−ケイタングステン酸のカリウム塩（Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ）の調製
（１欠損構造型Ｋ8［β2−Ｓｉ1Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏの調製）
ビーカにタングステン酸ナトリウム二水和物の１８２ｇと水３００ｍｌを仕込んだ。この液に攪拌しながら４ｍｏｌ／リットルの塩酸１６５ｍｌを約１０分かけて加えた。この反応液に別に１００ｍｌの水に溶解した珪酸ナトリウム九水和物１４．２ｇの水溶液を加え、さらに４ｍｏｌ／リットル塩酸にてｐＨ５〜６に保ちながら室温で１５分間攪拌を続けて反応を完結させた。そこに塩化カリウム９０ｇを添加して塩析を行なった。得られた白色固体をろ過して回収し、ろ過物を２ｍｏｌ／リットル−ＫＣｌ水溶液１００ｍｌで洗浄し精製を行なった。この回収固形物を１２時間風乾にて乾燥を行ない、１欠損構造型γ−ケイタングステン酸のカリウム塩（Ｋ8［β2−Ｓｉ1Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏ）を得た。
【００２７】
（２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏの調製）
上で得られた１欠損型Ｋ8［β2−Ｓｉ1Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏ ３０ｇを１００ｍｌの水に溶解させた。不溶解物があれば直ちにろ過して取り除いた。この液に２ｍｏｌ／リットル−Ｋ2ＣＯ3を添加し、ｐＨ９．１にすばやく調整した。このｐＨ値を保ちながら１６分攪拌を続けた。続いて塩化カリウム８０ｇを加え塩析を行なった。この溶液をろ過し、ろ過物をさらに１ｍｏｌ／リットル−ＫＣｌ１００ｍｌで洗浄し、１２時間風乾して２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏを得た。
【００２８】
触媒Ａ（鉄元素で置換された２置換型ケイタングステン酸塩：［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］3.5Ｈ2.5［γ−Ｓｉ1Ｗ10｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝2Ｏ38］・Ｈ2Ｏの調製］
２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇを３０ｍｌの水に溶解し、濃硝酸にてｐＨを３．９に調整後、５ｍｌの水に硝酸第二鉄九水和物０．８１ｇを溶解した水溶液を加え、５分間攪拌した。続いてテトラブチルアンモニウムナイトレート３．０４ｇを加え、１５分攪拌した。生成した白黄色固体を吸引ろ過、乾燥した。回収固体を１５ｍｌのアセトニトリルに溶解させ、３００ｍｌの水をゆっくり加え、攪拌しながら氷水に浸けて再結晶化を行なった。生成した黄褐色固体をろ別回収し、水５０ｍｌで２回洗浄を行なった後、吸引乾燥した。さらに、この再結晶操作をもう１度繰り返して触媒Ａを得た（以下、該触媒をＦｅ−ＰＯＭと表記）。
【００２９】
触媒Ｂ（Ｍｎ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
２欠損型Ｋ8［γ−ＳｉＷ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇをイオン交換水３０ｍｌに溶解し酸性とした後、硝酸マンガン（ＩＩ）六水和物０．５７ｇ加え、攪拌の後、テトラブチルアンモニウムナイトレート４．１ｇを加えて沈殿物を得た。この沈殿物をろ過し、１５ｍｌのアセトニトリルに溶解し、次に３００ｍｌの水を加えて生成物を再沈殿させることを２回繰り返して精製し触媒Ｂを得た（以下、該触媒をＭｎ−ＰＯＭと表記）。
【００３０】
触媒Ｃ（Ｃｏ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
触媒Ａの調製において硝酸第二鉄九水和物に変えて硝酸コバルト（ＩＩ）六水和物０．５８ｇを使用した以外は触媒Ａと同じ方法で調製した（以下、該触媒をＣｏ−ＰＯＭと表記）。
【００３１】
触媒Ｄ（Ｃｏ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレートのカリウム塩化合物の調製）
２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇを３０ｍｌの水に溶解し、濃硝酸にてｐＨを３．９に調整後、５ｍｌの水に硝酸コバルト（ＩＩ）六水和物０．５８ｇを溶解させた水溶液を加え、５分間攪拌した。続いて塩化カリウム３０ｇを加え、１５分攪拌した。その後減圧濃縮して乾固した。得られた固形物を水１００ｍｌに溶解後、エーテルを加え沈殿物をろ過後減圧して固形物中のエーテルを除き、Ｃｏ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレートのカリウム塩化合物を得た（以下、該触媒をＣｏ−ＰＯＭ−Ｋと表記）。
【００３２】
触媒Ｅ（Ｎｉ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
触媒Ａの調製において硝酸第二鉄九水和物に変えて硝酸ニッケル（ＩＩ）六水和物０．５８ｇを使用した以外は触媒Ａと同じ方法で調製した（以下、該触媒をＮｉ−ＰＯＭと表記）。
【００３３】
触媒Ｆ（Ｖ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇを１ｍｏｌ／リットル−ＨＣｌ １１ｍｏｌに溶解し、濃硝酸にてｐＨを３．９に調整後、０．５ｍｏｌ／リットル−ＮａＶＯ3溶液４．１ｍｌを加え、５分間攪拌した。沈殿物をろ過後、続いてテトラブチルアンモニウムブロマイド２．６５４ｇを加え、１５分攪拌した。生成した白黄色固体を吸引ろ過、乾燥した。回収固体を１５ｍｌのアセトニトリルに溶解させ、３００ｍｌの水をゆっくり加え、攪拌しながら氷水に浸けて再結晶化を行なった。生成した黄褐色固体をろ別回収し、水５０ｍｌで２回洗浄を行なった後、吸引乾燥した。さらに、この再結晶操作をもう１度繰り返して触媒Ｆを得た（以下、該触媒をＶ−ＰＯＭと表記）。
【００３４】
触媒Ｇ（Ａｕ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
触媒Ａの調製において硝酸第二鉄九水和物に変えて、５ｍｌの水に塩化金酸四水和物０．８２ｇを溶解させた水溶液を使用した以外は触媒Ａと同じ方法で調製した（以下、該触媒をＡｕ−ＰＯＭと表記）。
【００３５】
触媒Ｈ（鉄元素で置換された１置換型ケイタングステン酸塩：［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］4.25Ｈ0.75［α−ＳｉＷ11｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝Ｏ39］の調製）
１欠損型Ｋ8［β2−ＳｉＷ11Ｏ39］−１４Ｈ2Ｏ３２ｇを９５℃に加熱した６０ｍｌの水に溶解し、この溶液に硝酸第二鉄九水和物４．１ｇを加えた。１０分後溶液をろ過し、ろ液に１００ｍｌのメタノール−エタノール混合溶液（１：１）を加え、生成した沈殿をろ過により回収し、さらに水−メタノール混合溶液で精製することにより、Ｋ5［ＳｉＦｅ（ＯＨ2）Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏを得た。このカリウム塩２．５ｇの水溶液にテトラブチルアンモニウムブロマイド４．３ｇを加え生じた沈殿を、アセトニトリルに溶解し水で沈殿させる操作を繰り返し行なうことで精製し、鉄１置換型ケイタングステン酸塩［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］4.25Ｈ0.75［α−ＳｉＷ11｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝Ｏ39］を得た（以下、該触媒を１−ＰＯＭ−Ｆｅと表記）。
【００３６】
触媒Ｉ（鉄元素で置換された３置換型ケイタングステン酸塩：［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］3.25Ｈ3.75［α−ＳｉＷ9｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝3Ｏ37］の調製）
≪３欠損構造型Ｎａ10［α−ＳｉＷ9Ｏ34］・１８Ｈ2Ｏの調製≫
タングステン酸ナトリウム二水和物１８２ｇと珪酸ナトリウム九水和物１１ｇを８５℃の熱水２００ｍｌに溶解し、３０分攪拌した後に６ｍｏｌ／リットル−ＨＣｌ １３０ｍｌを滴々加えた。そこで体積がおよそ３００ｍｌになるまで濃縮した後、ろ過した。このろ液に１５０ｍｌの水に溶解した５０ｇの無水炭酸ナトリウムの水溶液をゆっくり加え、３時間、攪拌を続けた。生成した白色沈殿物をろ過し、ろ過物を４ｍｏｌ／リットル−ＮａＣｌ １０００ｍｌに分散し、更に１時間攪拌を行なった。その後白色沈殿物をろ過後エタノール１００ｍｌで２回洗浄、更にエチルエーテル１００ｍｌで洗浄し３欠損構造型Ｎａ10［α−ＳｉＷ9Ｏ34］・１８Ｈ2Ｏを得た。
【００３７】
６．８ｇのＣＨ3ＣＯＯＮａ・３Ｈ2Ｏを１００ｍｌの水に溶解させ、そこに水５０ｍｌに溶解させた５．３９ｇの硝酸第二鉄九水和物水溶液を加えた。そして７０℃に加熱して、上記の方法で得た３欠損構造型Ｎａ10［α−ＳｉＷ9Ｏ34］・１８Ｈ2Ｏ １１．２５ｇを１時間かけて加えた。続いて１時間攪拌の後、室温に冷却した。このようにして得た溶液をＮａ+型の陽イオン交換樹脂に３回通し黄褐色透明溶液に４０ｍｌの水に溶解したテトラブチルアンモニウムブロマイド１６．８ｇの水溶液を加え室温で１時間攪拌後ろ過した。黄褐色回収固体を４０ｍｌのアセトニトリルに溶解させてそこに水５００ｍｌを加え、氷水浴中で１時間攪拌後ろ過して室温で一晩乾燥して鉄３置換型ケイタングステン酸塩［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］3.25Ｈ3.75［α−ＳｉＷ9｛Ｆｅ（ＯＨ2）3｝Ｏ37］を得た（以下、該触媒を３−ＰＯＭ−Ｆｅと表記）。
【００３８】
実施例１
トルエンの酸化反応を行なった。溶媒としてジメチルスルホキシド５ｍｌ，１，２−ジクロロエタン１．５ｍｌおよびアセトニトリル０．１ｍｌの入った反応容器に１．５μｍｏｌの触媒Ａとトルエン１９ｍｍｏｌを加え、反応容器を０℃冷却し、次に気相部を純酸素で満たし、反応容器を密閉後１８０℃のオイルバスに浸けて激しく攪拌しながら２４時間反応を行なった。そこで反応液を室温に下げて生成物を液体クロマトグラフィーにより分析した。その結果、仕込みトルエンに対してベンズアルデヒドの収率は０．６ｍｏｌ％であり、安息香酸の収率は２．７ｍｏｌ％であった。反応終了後に反応溶液中の有機物を減圧乾燥して取り除き、残さを触媒Ａとして再利用し実施例２とした。その結果を、表１に示す。
【００３９】
実施例２
実施例１の反応液を減圧乾燥して有機物成分を取り除き、残さを実施例１の触媒Ａの代わりとし、さらに溶媒を、酢酸１５ｍｌとした以外は実施例１に従って反応を行なった。その結果を、表１に示す。このように触媒は再利用できることが分かった。
【００４０】
実施例３
触媒として触媒Ｄを使用し、溶媒には水１５ｍｌを使用した以外は、実施例１にしたがってトルエン酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４１】
実施例４
触媒には１．５μｍｏｌの２欠損カリウム塩Ｋ8［γ−ＳｉＷ10Ｏ38］１２Ｈ2Ｏと硝酸第二鉄九水和物４μｍｏｌを使用し、溶媒として１５ｍｌの水のみを使用した以外は、実施例１にしたがって、トルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４２】
実施例５
触媒として触媒Ｃを使用した以外は、実施例１にしたがってトルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４３】
実施例６
触媒として触媒Ｅを使用した以外は、実施例１にしたがってトルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４４】
比較例１
触媒として触媒Ａに代えて触媒Ｈを使用した以外は、実施例１にしたがって、トルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４５】
比較例２
触媒として触媒Ａに代えて触媒Ｉを使用した以外は、実施例１にしたがって、トルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４６】
実施例７
反応基質であるトルエンに代えてｐ−クレゾールを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、ｐ−クレゾールの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４７】
実施例８
反応基質であるトルエンに代えてエチルベンゼンを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、エチルベンゼン酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４８】
実施例９
反応基質であるトルエンに代えてアセトキシトルエンを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、アセトキシトルエン酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４９】
実施例１０
反応基質であるトルエンに代えてｐ−トルイル酸を使用し、触媒として触媒Ｆを使用し、溶媒には水を使用した以外は、実施例１にしたがって、ｐ−トルイル酸の酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５０】
実施例１１
反応基質であるトルエンに代えてｐ−キシレンを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、ｐ−キシレンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５１】
実施例１２
触媒として触媒Ｂを使用した以外は実施例１１にしたがって、ｐ−キシレンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５２】
実施例１３
触媒として触媒Ｇを使用した以外は実施例１１にしたがって、ｐ−キシレンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５３】
【表１】
【００５４】
【発明の効果】
本発明の方法は、少なくとも一つのアルキル基を有する芳香族化合物を、装置の腐食を伴わないでかつ最小限の触媒量で酸化することにより、有用な含酸素芳香族カルボニル化合物および／または芳香族カルボン酸を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 代表的な金属イオン２個で置換されたポリオキソメタレート［γ−ＳｉＷ10｛Ｍ｝2Ｏ38］q-の分子構造を示す。Ｍは影をつけた八面体で示されている。ＷＯ6は白い八面体で示している。ＳｉＯ2は中心の黒い四面体で示している。図中の数字はＷｎのｎを表し、Ｗｎはケギン構造中のＷＯ6でＩＵＰＡＣに基づいた数を示す。
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物の該アルキル基を酸化して芳香族化合物を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来技術】
従来、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物の該アルキル基の酸化により、例えば芳香族カルボン酸を製造する方法には臭素化合物やコバルトやマンガンなどの遷移金属の化合物の存在下に酢酸を始めとする低級アルカン酸や水を溶媒として液相中で実施されている。
【０００３】
特開２０００−１０３７５８号にはＲ−ＣＨ2−基を有する芳香族化合物を液相酸化して芳香族ケトンを製造する方法が開示されている。ここで使用されるヘテロポリ酸は欠損構造部位を有さないヘテロポリ酸が使用されており、かつ芳香族ケトンの製法を対象としている。特開平８−５３３９１号、特開平９−１６９６９４号および特開平９−２８６７５６号各号には、欠損構造部位を有するヘテロポリ酸骨格に、遷移金属を組み込んだ化合物を触媒として水媒体中で芳香族カルボン酸を製造する方法が開示されている。特開平９−２８６７５７号には欠損構造部位を有するヘテロポリ酸イオンと遷移金属塩とを水系媒体中で１００℃以上で加熱処理した触媒を用いて芳香族カルボン酸を製造する方法が開示されている。特開平１１−１４４７号にはヘテロポリ酸ないしその塩およびヘテロポリ酸に組み込まれていない遷移金属の存在下に水溶液中で芳香族カルボン酸を製造する方法が開示されている。しかしながら、これら公報に開示されている芳香族カルボン酸の製造に使用されるヘテロポリ酸触媒には、２欠損構造を有するヘテロポリ酸触媒の具体的開示はない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、触媒として腐食性の臭素イオンを使わず、また酸化雰囲気でも分解せずに安定に、かつ再使用可能な触媒を使用して少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物を酸化して酸素を含有する芳香族化合物を製造する方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物の該アルキル基を、分子状酸素含有ガスで酸化するに際して、ヘテロ原子がリン、珪素、およびゲルマニウムから選ばれる少なくとも１種の元素であり、かつ、ポリ原子がモリブデン、タングステン、バナジウム、およびニオブから選ばれる１種以上の元素からなり、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンと、周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種以上の元素とを含む触媒を用いて酸化する方法に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明について詳細に説明する。本発明における触媒は、ヘテロ原子がリン、珪素およびゲルマニウムから選ばれる少なくとも１種の元素であり、かつ、ポリ原子がモリブテン、タングステン、バナジウム、およびニオブから選ばれる１種以上の元素からなり、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンと、周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素とを含む触媒である。周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種以上の元素のうち好ましい元素は、Ｖ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ、Ｎｉ，Ａｕ等であり、特に好ましくはＶ，Ａｕである。本発明における周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素は触媒中に２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオン骨格に少なくとも１部組み込まれていてもよいし、また組み込まれていなくてもよい。
【０００７】
さらに、本発明においては、周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素が２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンの骨格に組み込まれる場合は、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンの１個当たり２個組み込まれる場合がより好ましく、さらには２個が互いに陵共有を形成するように組み込まれることがより好ましい。周期律表のＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，およびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれる少なくとも１種の元素はヘテロポリオキソメタレートアニオン１分子当たり、０．００１個以上存在させることが好ましい。
【０００８】
ここで使われる２欠損構造部位を持つヘテロポリオキソメタレートアニオンの骨格は、ケギン型ヘテロポリ酸イオン構造である。この構造の一般式は
【０００９】
【化２】
（ここで、Ｙは珪素、ゲルマニウムおよびリンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を表し、Ｍはモリブデン、タングステン、バナジウムおよびニオブよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を表し、ｑは元素Ｙや元素Ｍのイオンの価数により決まる正の整数を表す。）で表される。
【００１１】
この構造式をわかり易くするために図１に示した。例えば、本発明に用いられる２欠損構造部位を持つヘテロポリオキソメタレートアニオンの調製は、水野等のＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９８，１２０，９２６７に記載されている方法で実施することができる。一般に、２欠損構造部位を有するケギン型ヘテロポリオキソメタレートアニオンには、γ型、δ型、ε型等の異性体が存在するが、本発明においては、好ましくはγ型である。この２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンの対カチオンには、例えば酸化反応を水媒体中で行なう場合には水に可溶なプロトン、Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ等のアルカリ金属イオンが好ましく使用され、また有機溶媒中で反応が行なわれる場合にはテトラアルキルアンモニウムイオン、アルキル基で置換されたピリジウムイオン等が使用される。しかしながら、その選択に当たって制限はされない。
【００１２】
また、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオン骨格に、周期律表ＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，ＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれた少なくとも１種の元素を組み込むにはヘテロポリオキソメタレートアニオンを溶媒に溶解後、周期律表ＩＢ、ＶＡ，ＶＩＩＡ，ＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素の群から選ばれた少なくとも１種の元素の化合物を加え熱処理をおこなうことも可能である。本発明における触媒の使用量は、触媒と反応基質とのモル比で表すなら１：１〜１：１，０００，０００の範囲が選ばれ、好ましくは１：１０〜１：１００，０００の範囲が選ばれる。
【００１３】
本発明において使用される反応基質には、少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物が使用される。アルキル基としては、通常炭素数１〜８程度のものを使用するが、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロピル基等のアルキル基が挙げられる。芳香環にはナフタレン環のような多環式芳香族環も挙げられる。
【００１４】
さらに、芳香族化合物には、窒素、イオウ元素を含むヘテロ元素含有芳香族化合物、例えばピリジン類化合物やチオフェン類化合物なども挙げられる。本発明は、またアルキル基以外にヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基などで更に置換されている芳香族化合物にも適用される。
【００１５】
これらの出発原料としてはどのような方法で得られたものでも使用可能である。このような化合物として具体的には、トルエン、エチルベンゼン、エチルトルエン、ジエチルベンゼン、イソプロピルエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、４，４’−ジメチルビフェニル、クメン、ブチルベンゼン、４−ｔ−ブチル−１−メチルベンゼン、３−エチルトルエン、４−エチルトルエン、クロロエチルベンゼン、ジクロロエチルベンゼン、ニトロエチルベンゼン、ｏ−，ｍ−，ｐ−クレゾール、ｏ−，ｍ−，ｐ−キシレン、ｏ−，ｍ−，ｐ−ジイソプロピルベンゼン、１，２，３−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、ｏ−，ｍ−，ｐ−トルイル酸、ｏ−，ｍ−，ｐ−トルアルデヒド、２，４−ジメチルベンズアルデヒド、２，４，５−トリメチルベンズアルデヒド、あるいはこれらの混合物などを挙げることができる。
【００１６】
本発明により、得られる化合物である芳香族カルボニル化合物とは、芳香環に直接カルボニル基を有する芳香族化合物であり、具体的にはベンズアルデヒド、アセトフェノン、ヒドロキシベンズアルデヒド、カルボキシベンズアルデヒド、アセトキシベンズアルデヒドなどを挙げることができる。また本発明により、得られる化合物である芳香族カルボン酸とは、芳香環に直接カルボキシル基を少なくとも１個を含む芳香族化合物であり、具体的には安息香酸、テレフタル酸、ヒドロキシ安息香酸などを挙げることができる。
【００１７】
なお、本願発明においては芳香環に付いたアルキル基を酸化してカルボキシル基にまで進行するにはそれに対応するカルボニル基を経由して進行すると推定される。例えばトルエン酸化においてはベンズアルデヒドを経由してさらに酸化されて安息香酸にまで進むと考えられる。
【００１８】
本発明による酸化方法は、反応基質を触媒の存在下に分子状酸素含有ガスと接触させて行なわれる。反応は、触媒と反応物を典型的な溶媒に溶解させて液相均一系で行なうことができる。典型的な溶媒は水あるいは通常、反応に不活性な有機溶媒が使用される。もちろん水と有機溶媒の混合系ないしニ相系で反応を実施することも可能である。例えば酢酸、プロピオン酸などの有機酸、アセトニトリル、プロピオニトリル、べンゾニトリルなどのニトリル類、ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ベンゼン、ナフタリンなどの芳香族炭化水素、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、ニトロベンゼン、ニトロメタンなどのニトロ化合物、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ジメチルスルホオキシド、そしてこれらの混合物が溶媒として使用される。また基質が溶媒ともなりうる。反応基質以外の溶媒を使用する場合は、溶媒と反応基質との重量比は１：１０〜１０００：１の範囲で選ばれ、好ましくは１：１〜１００：１の範囲から選ばれる。触媒は溶媒に溶解させずに液相に懸濁させることも可能であり、また触媒を固相とし、反応物をガス相とするいわゆる不均一反応系も可能である。例えば触媒は担体に坦持したり、それ自体固体として使用して、そこに反応基質を加えることも可能である。触媒用担体には各種イオン交換樹脂、シリカ、アルミナや他の酸化物といった一般的に不均一系接触反応に使われる担体が使用可能である。
【００１９】
本発明で使用される分子状酸素含有ガスは特に限定はされない。純粋な酸素でも、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不活性ガスで希釈された酸素でもよい。空気が安全性、操作性、経済性から好ましい。分子状酸素含有ガスの使用量は反応原料基質や目的生成化合物の種類に応じて選択でき、基質１モルあたり分子状酸素として０．０１モル以上、好ましくは０．１〜１００モル、より好ましくは１〜５０モルである。
【００２０】
反応温度は５０〜３５０℃の範囲である。より好ましくは１００〜２５０℃、さらに好ましくは１００〜２２０℃である。
【００２１】
反応圧力は常圧でも加圧状態下でもよいが、通常は常圧〜１０ＭＰａ、好ましくは常圧〜８ＭＰａである。
【００２２】
反応時間は反応温度、反応圧力、使用触媒の種類などに応じて選ばれるが、例えば１０分〜１００時間、好ましくは２〜４８時間の範囲から選ばれる。
【００２３】
反応液のｐＨは触媒の安定性を考慮するとき、その都度ｐＨ緩衝液等を使用してｐＨ調整される。
【００２４】
本発明により実施されて製造された酸素含有芳香族化合物はろ過、遠心分離、蒸留などの方法で分離精製される。目的とする酸素含有芳香族化合物を分離したあとの使用済み触媒を含む溶液は再度、場合によっては触媒を追加して再利用することができる。
【００２５】
【実施例】
本願発明は実施例を示すことで、より具体的に示すが、これらの実施例に限定されるものではない。以下の実施例は、本願発明の実施態様を説明している。
【００２６】
２欠損構造型γ−ケイタングステン酸のカリウム塩（Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ）の調製
（１欠損構造型Ｋ8［β2−Ｓｉ1Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏの調製）
ビーカにタングステン酸ナトリウム二水和物の１８２ｇと水３００ｍｌを仕込んだ。この液に攪拌しながら４ｍｏｌ／リットルの塩酸１６５ｍｌを約１０分かけて加えた。この反応液に別に１００ｍｌの水に溶解した珪酸ナトリウム九水和物１４．２ｇの水溶液を加え、さらに４ｍｏｌ／リットル塩酸にてｐＨ５〜６に保ちながら室温で１５分間攪拌を続けて反応を完結させた。そこに塩化カリウム９０ｇを添加して塩析を行なった。得られた白色固体をろ過して回収し、ろ過物を２ｍｏｌ／リットル−ＫＣｌ水溶液１００ｍｌで洗浄し精製を行なった。この回収固形物を１２時間風乾にて乾燥を行ない、１欠損構造型γ−ケイタングステン酸のカリウム塩（Ｋ8［β2−Ｓｉ1Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏ）を得た。
【００２７】
（２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏの調製）
上で得られた１欠損型Ｋ8［β2−Ｓｉ1Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏ ３０ｇを１００ｍｌの水に溶解させた。不溶解物があれば直ちにろ過して取り除いた。この液に２ｍｏｌ／リットル−Ｋ2ＣＯ3を添加し、ｐＨ９．１にすばやく調整した。このｐＨ値を保ちながら１６分攪拌を続けた。続いて塩化カリウム８０ｇを加え塩析を行なった。この溶液をろ過し、ろ過物をさらに１ｍｏｌ／リットル−ＫＣｌ１００ｍｌで洗浄し、１２時間風乾して２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏを得た。
【００２８】
触媒Ａ（鉄元素で置換された２置換型ケイタングステン酸塩：［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］3.5Ｈ2.5［γ−Ｓｉ1Ｗ10｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝2Ｏ38］・Ｈ2Ｏの調製］
２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇを３０ｍｌの水に溶解し、濃硝酸にてｐＨを３．９に調整後、５ｍｌの水に硝酸第二鉄九水和物０．８１ｇを溶解した水溶液を加え、５分間攪拌した。続いてテトラブチルアンモニウムナイトレート３．０４ｇを加え、１５分攪拌した。生成した白黄色固体を吸引ろ過、乾燥した。回収固体を１５ｍｌのアセトニトリルに溶解させ、３００ｍｌの水をゆっくり加え、攪拌しながら氷水に浸けて再結晶化を行なった。生成した黄褐色固体をろ別回収し、水５０ｍｌで２回洗浄を行なった後、吸引乾燥した。さらに、この再結晶操作をもう１度繰り返して触媒Ａを得た（以下、該触媒をＦｅ−ＰＯＭと表記）。
【００２９】
触媒Ｂ（Ｍｎ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
２欠損型Ｋ8［γ−ＳｉＷ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇをイオン交換水３０ｍｌに溶解し酸性とした後、硝酸マンガン（ＩＩ）六水和物０．５７ｇ加え、攪拌の後、テトラブチルアンモニウムナイトレート４．１ｇを加えて沈殿物を得た。この沈殿物をろ過し、１５ｍｌのアセトニトリルに溶解し、次に３００ｍｌの水を加えて生成物を再沈殿させることを２回繰り返して精製し触媒Ｂを得た（以下、該触媒をＭｎ−ＰＯＭと表記）。
【００３０】
触媒Ｃ（Ｃｏ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
触媒Ａの調製において硝酸第二鉄九水和物に変えて硝酸コバルト（ＩＩ）六水和物０．５８ｇを使用した以外は触媒Ａと同じ方法で調製した（以下、該触媒をＣｏ−ＰＯＭと表記）。
【００３１】
触媒Ｄ（Ｃｏ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレートのカリウム塩化合物の調製）
２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇを３０ｍｌの水に溶解し、濃硝酸にてｐＨを３．９に調整後、５ｍｌの水に硝酸コバルト（ＩＩ）六水和物０．５８ｇを溶解させた水溶液を加え、５分間攪拌した。続いて塩化カリウム３０ｇを加え、１５分攪拌した。その後減圧濃縮して乾固した。得られた固形物を水１００ｍｌに溶解後、エーテルを加え沈殿物をろ過後減圧して固形物中のエーテルを除き、Ｃｏ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレートのカリウム塩化合物を得た（以下、該触媒をＣｏ−ＰＯＭ−Ｋと表記）。
【００３２】
触媒Ｅ（Ｎｉ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
触媒Ａの調製において硝酸第二鉄九水和物に変えて硝酸ニッケル（ＩＩ）六水和物０．５８ｇを使用した以外は触媒Ａと同じ方法で調製した（以下、該触媒をＮｉ−ＰＯＭと表記）。
【００３３】
触媒Ｆ（Ｖ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
２欠損型Ｋ8［γ−Ｓｉ1Ｗ10Ｏ36］・１２Ｈ2Ｏ ３．０ｇを１ｍｏｌ／リットル−ＨＣｌ １１ｍｏｌに溶解し、濃硝酸にてｐＨを３．９に調整後、０．５ｍｏｌ／リットル−ＮａＶＯ3溶液４．１ｍｌを加え、５分間攪拌した。沈殿物をろ過後、続いてテトラブチルアンモニウムブロマイド２．６５４ｇを加え、１５分攪拌した。生成した白黄色固体を吸引ろ過、乾燥した。回収固体を１５ｍｌのアセトニトリルに溶解させ、３００ｍｌの水をゆっくり加え、攪拌しながら氷水に浸けて再結晶化を行なった。生成した黄褐色固体をろ別回収し、水５０ｍｌで２回洗浄を行なった後、吸引乾燥した。さらに、この再結晶操作をもう１度繰り返して触媒Ｆを得た（以下、該触媒をＶ−ＰＯＭと表記）。
【００３４】
触媒Ｇ（Ａｕ元素で置換されたγ−ケギン型２欠損ヘテロポリオキソメタレート化合物の調製）
触媒Ａの調製において硝酸第二鉄九水和物に変えて、５ｍｌの水に塩化金酸四水和物０．８２ｇを溶解させた水溶液を使用した以外は触媒Ａと同じ方法で調製した（以下、該触媒をＡｕ−ＰＯＭと表記）。
【００３５】
触媒Ｈ（鉄元素で置換された１置換型ケイタングステン酸塩：［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］4.25Ｈ0.75［α−ＳｉＷ11｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝Ｏ39］の調製）
１欠損型Ｋ8［β2−ＳｉＷ11Ｏ39］−１４Ｈ2Ｏ３２ｇを９５℃に加熱した６０ｍｌの水に溶解し、この溶液に硝酸第二鉄九水和物４．１ｇを加えた。１０分後溶液をろ過し、ろ液に１００ｍｌのメタノール−エタノール混合溶液（１：１）を加え、生成した沈殿をろ過により回収し、さらに水−メタノール混合溶液で精製することにより、Ｋ5［ＳｉＦｅ（ＯＨ2）Ｗ11Ｏ39］・１４Ｈ2Ｏを得た。このカリウム塩２．５ｇの水溶液にテトラブチルアンモニウムブロマイド４．３ｇを加え生じた沈殿を、アセトニトリルに溶解し水で沈殿させる操作を繰り返し行なうことで精製し、鉄１置換型ケイタングステン酸塩［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］4.25Ｈ0.75［α−ＳｉＷ11｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝Ｏ39］を得た（以下、該触媒を１−ＰＯＭ−Ｆｅと表記）。
【００３６】
触媒Ｉ（鉄元素で置換された３置換型ケイタングステン酸塩：［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］3.25Ｈ3.75［α−ＳｉＷ9｛Ｆｅ（ＯＨ2）｝3Ｏ37］の調製）
≪３欠損構造型Ｎａ10［α−ＳｉＷ9Ｏ34］・１８Ｈ2Ｏの調製≫
タングステン酸ナトリウム二水和物１８２ｇと珪酸ナトリウム九水和物１１ｇを８５℃の熱水２００ｍｌに溶解し、３０分攪拌した後に６ｍｏｌ／リットル−ＨＣｌ １３０ｍｌを滴々加えた。そこで体積がおよそ３００ｍｌになるまで濃縮した後、ろ過した。このろ液に１５０ｍｌの水に溶解した５０ｇの無水炭酸ナトリウムの水溶液をゆっくり加え、３時間、攪拌を続けた。生成した白色沈殿物をろ過し、ろ過物を４ｍｏｌ／リットル−ＮａＣｌ １０００ｍｌに分散し、更に１時間攪拌を行なった。その後白色沈殿物をろ過後エタノール１００ｍｌで２回洗浄、更にエチルエーテル１００ｍｌで洗浄し３欠損構造型Ｎａ10［α−ＳｉＷ9Ｏ34］・１８Ｈ2Ｏを得た。
【００３７】
６．８ｇのＣＨ3ＣＯＯＮａ・３Ｈ2Ｏを１００ｍｌの水に溶解させ、そこに水５０ｍｌに溶解させた５．３９ｇの硝酸第二鉄九水和物水溶液を加えた。そして７０℃に加熱して、上記の方法で得た３欠損構造型Ｎａ10［α−ＳｉＷ9Ｏ34］・１８Ｈ2Ｏ １１．２５ｇを１時間かけて加えた。続いて１時間攪拌の後、室温に冷却した。このようにして得た溶液をＮａ+型の陽イオン交換樹脂に３回通し黄褐色透明溶液に４０ｍｌの水に溶解したテトラブチルアンモニウムブロマイド１６．８ｇの水溶液を加え室温で１時間攪拌後ろ過した。黄褐色回収固体を４０ｍｌのアセトニトリルに溶解させてそこに水５００ｍｌを加え、氷水浴中で１時間攪拌後ろ過して室温で一晩乾燥して鉄３置換型ケイタングステン酸塩［（Ｃ4Ｈ9）4Ｎ］3.25Ｈ3.75［α−ＳｉＷ9｛Ｆｅ（ＯＨ2）3｝Ｏ37］を得た（以下、該触媒を３−ＰＯＭ−Ｆｅと表記）。
【００３８】
実施例１
トルエンの酸化反応を行なった。溶媒としてジメチルスルホキシド５ｍｌ，１，２−ジクロロエタン１．５ｍｌおよびアセトニトリル０．１ｍｌの入った反応容器に１．５μｍｏｌの触媒Ａとトルエン１９ｍｍｏｌを加え、反応容器を０℃冷却し、次に気相部を純酸素で満たし、反応容器を密閉後１８０℃のオイルバスに浸けて激しく攪拌しながら２４時間反応を行なった。そこで反応液を室温に下げて生成物を液体クロマトグラフィーにより分析した。その結果、仕込みトルエンに対してベンズアルデヒドの収率は０．６ｍｏｌ％であり、安息香酸の収率は２．７ｍｏｌ％であった。反応終了後に反応溶液中の有機物を減圧乾燥して取り除き、残さを触媒Ａとして再利用し実施例２とした。その結果を、表１に示す。
【００３９】
実施例２
実施例１の反応液を減圧乾燥して有機物成分を取り除き、残さを実施例１の触媒Ａの代わりとし、さらに溶媒を、酢酸１５ｍｌとした以外は実施例１に従って反応を行なった。その結果を、表１に示す。このように触媒は再利用できることが分かった。
【００４０】
実施例３
触媒として触媒Ｄを使用し、溶媒には水１５ｍｌを使用した以外は、実施例１にしたがってトルエン酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４１】
実施例４
触媒には１．５μｍｏｌの２欠損カリウム塩Ｋ8［γ−ＳｉＷ10Ｏ38］１２Ｈ2Ｏと硝酸第二鉄九水和物４μｍｏｌを使用し、溶媒として１５ｍｌの水のみを使用した以外は、実施例１にしたがって、トルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４２】
実施例５
触媒として触媒Ｃを使用した以外は、実施例１にしたがってトルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４３】
実施例６
触媒として触媒Ｅを使用した以外は、実施例１にしたがってトルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４４】
比較例１
触媒として触媒Ａに代えて触媒Ｈを使用した以外は、実施例１にしたがって、トルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４５】
比較例２
触媒として触媒Ａに代えて触媒Ｉを使用した以外は、実施例１にしたがって、トルエンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４６】
実施例７
反応基質であるトルエンに代えてｐ−クレゾールを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、ｐ−クレゾールの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４７】
実施例８
反応基質であるトルエンに代えてエチルベンゼンを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、エチルベンゼン酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４８】
実施例９
反応基質であるトルエンに代えてアセトキシトルエンを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、アセトキシトルエン酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００４９】
実施例１０
反応基質であるトルエンに代えてｐ−トルイル酸を使用し、触媒として触媒Ｆを使用し、溶媒には水を使用した以外は、実施例１にしたがって、ｐ−トルイル酸の酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５０】
実施例１１
反応基質であるトルエンに代えてｐ−キシレンを使用し、触媒として触媒Ｆを使用した以外は、実施例１にしたがって、ｐ−キシレンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５１】
実施例１２
触媒として触媒Ｂを使用した以外は実施例１１にしたがって、ｐ−キシレンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５２】
実施例１３
触媒として触媒Ｇを使用した以外は実施例１１にしたがって、ｐ−キシレンの酸化反応を行った。その結果を、表１に示す。
【００５３】
【表１】
【発明の効果】
本発明の方法は、少なくとも一つのアルキル基を有する芳香族化合物を、装置の腐食を伴わないでかつ最小限の触媒量で酸化することにより、有用な含酸素芳香族カルボニル化合物および／または芳香族カルボン酸を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 代表的な金属イオン２個で置換されたポリオキソメタレート［γ−ＳｉＷ10｛Ｍ｝2Ｏ38］q-の分子構造を示す。Ｍは影をつけた八面体で示されている。ＷＯ6は白い八面体で示している。ＳｉＯ2は中心の黒い四面体で示している。図中の数字はＷｎのｎを表し、Ｗｎはケギン構造中のＷＯ6でＩＵＰＡＣに基づいた数を示す。
Claims (3)
- 少なくとも一つのアルキル置換基を有する芳香族化合物の該アルキル基を、分子状酸素を含有するガスにより酸化するに際して、ヘテロ原子がリン、珪素およびゲルマニウムよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素であり、かつ、ポリ原子がモリブデン、タングステン、バナジウムおよびニオブよりなる群から選ばれた少なくとも１種の元素からなり、２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンと、周期律表のＩＢ，ＶＡ，ＶＩＩＡおよびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素よりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素とを含む触媒を用いることを特徴とする芳香族カルボニル化合物および／または芳香族カルボン酸の製造方法。
- ２欠損構造部位を有するヘテロポリオキソメタレートアニオンの骨格が下記の一般式（１）で表されるγ、δ、ε異性体の少なくとも１種を含む２欠損構造部位を有するケギン型ヘテロポリ酸イオンであることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
- 周期律表のＩＢ，ＶＡ，ＶＩＩＡおよびＶＩＩＩ族の４〜６周期の元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素の２個がヘテロポリオキソメタレートアニオンの骨格に互いに陵共有を形成するように隣接して組み込まれることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
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