JP4090190B2 - 光結合装置及びそれを備えたソリッドステートリレー - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光手段と受光手段とが光学的に結合され一体化されてなる光結合装置及びそれを備えたソリッドステートリレーに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の光結合装置は、両端子間に印加される電圧が零電圧近傍のときのみスイッチング動作を行う受光手段を備えた光結合装置と、両端子間に印加される電圧が零電圧近傍以外でもスイッチング動作を行う受光手段を備えた光結合装置とがあり、使用目的に応じて使い分けられていた。
【0003】
受光手段の両端子間に印加される電圧が零電圧近傍以外でもスイッチング動作を行う(以下、「非ゼロクロス機能」ともいう)フォトサイリスタ型光結合装置の等価回路を図5に示す。入力側には発光ダイオード1が設けられ、出力側にはフォトサイリスタ2が設けられている。
【0004】
まずフォトサイリスタ2の等価回路について説明する。PNP型のトランジスタQ1のベースがNPN型のトランジスタQ2のコレクタに、トランジスタQ1のコレクタがトランジスタQ2のベースに、それぞれ接続されている。さらに、トランジスタQ2のベースとエミッタは抵抗R1を介して接続されている。また、トランジスタQ1のエミッタはフォトサイリスタ2のアノードに、トランジスタQ2のエミッタと抵抗R1との接続点はフォトサイリスタ2のカソードになっている。なお、フォトサイリスタは図12(a)、(b)に示すように、アノード側からカソード側に向かって順に、P型エミッタ層21、N型ベース層22、P型ベース層23、N型エミッタ層24の4層構造を持つ素子である。ここで、図12(b)はN型半導体基板にフォトサイリスタを形成した場合の断面構造を示している。半導体基板としてはシリコンウェハ等を用いるとよい。
【0005】
この光結合装置は、発光ダイオード1に電流が流れるとフォトサイリスタ2がオン状態になる。以下、フォトサイリスタ2がオン状態になる動作について詳細に説明する。
【0006】
発光ダイオード1は電流IFが流れると発光する。フォトサイリスタ2は、アノード−カソード間に順方向電圧が加わっている状態で発光ダイオード1からの光を受けるとトランジスタQ2のコレクタ−ベース間に光電流が流れてトランジスタQ2がオン状態になりコレクタ電流IC2が流れる。このコレクタ電流IC2がトランジスタQ1のベース電流IB1として働く。このベース電流IB1により、トランジスタQ1がオン状態になりコレクタ電流IC1が流れる。このコレクタ電流IC1がトランジスタQ2のベース電流IB2として働く。このような正帰還作用によりフォトサイリスタ2はオン状態となり、アノード−カソード間に印加される順方向電圧が保持電圧以下にならない限りオン状態を維持する。
【0007】
次に、受光手段の両端子間に印加される電圧が零電圧近傍であるときのみスイッチング動作を行う(以下、「ゼロクロス機能」ともいう)フォトサイリスタ型光結合装置の等価回路を図6に示す。尚、図5に示した非ゼロクロス機能フォトサイリスタ型光結合装置と同一の部分には同一の符号を付し説明を省略する。出力側には、フォトサイリスタ4とNチャネル形MOSトランジスタT1とを備えるゼロクロス機能フォトサイリスタ3が設けられている。
【0008】
ゼロクロス機能フォトサイリスタ3の等価回路について説明する。フォトサイリスタ4は、図5に示したフォトサイリスタ2と同一構造であり、トランジスタQ3はトランジスタQ1に、トランジスタQ4はトランジスタQ2に、抵抗R2は抵抗R1に、それぞれ対応している。
【0009】
また、フォトサイリスタ4とMOSトランジスタT1との接続は次のようになっている。MOSトランジスタT1のゲートは、トランジスタQ3のベースとトランジスタQ4のコレクタとの接続点に接続される。MOSトランジスタT1のソースは、トランジスタQ3のコレクタとトランジスタQ4のベースとの接続点に接続される。MOSトランジスタT1のドレインは、トランジスタQ4のエミッタと抵抗R2との接続点に接続される。
【0010】
このような構成の光結合装置は次のような動作を行う。ゼロクロス機能フォトサイリスタ3のアノード−カソード間に印加される順方向電圧が、MOSトランジスタT1の閾値電圧を越えるとトランジスタQ4の光電流はMOSトランジスタT1に流れてしまうので、トランジスタQ4はオン状態でなくなる。その結果、ゼロクロス機能フォトサイリスタ3のアノード−カソード間に印加される順方向電圧が低い場合(零電圧近傍)でのみフォトサイリスタ4がオン状態になる。尚、MOSトランジスタT1のソースを、トランジスタQ3のベースとトランジスタQ4のコレクタとの接続点ではなく、トランジスタQ3のエミッタに接続しても同様の動作を行う。
【0011】
次に非ゼロクロス機能フォトトライアック型光結合装置の等価回路を図7に示す。入力側には発光ダイオード1が設けられ、出力側にはフォトトライアック5が設けられている。
【0012】
フォトトライアック5の等価回路は、フォトサイリスタ部6とフォトサイリスタ部7とを互いに逆方向に並列接続した構成である。フォトサイリスタ部6とフォトサイリスタ部7の構成は、図5に示したフォトサイリスタ2と同一であるので、説明を省略する。尚、フォトトライアックは図13(a)(b)に示すように、P型エミッタ兼ベース層31、N型ベース層32、第2のP型エミッタ兼ベース層33、第1のN型エミッタ層34、第2のN型エミッタ層35の5層構造を持つ素子である。ここで、図13(b)はN型半導体基板にフォトトライアックを形成した場合の断面構造を示している。半導体基板としてはシリコンウェハ等を用いるとよい。
【0013】
このような構成の光結合装置の動作は、発光ダイオード1に電流が流れると発光ダイオード1からの光を受けてフォトトライアック5がオン状態になる。以下、フォトトライアック5がオン状態になる動作について詳細に説明する。
【0014】
発光ダイオード1は電流IFが流れると発光する。フォトトライアック5は、第1アノードの電位が第2アノードの電位より大きい状態で発光ダイオード1からの光を受けるとフォトサイリスタ部6がオン状態になる。一方、第1アノードの電位が第2アノードの電位より小さい状態で発光ダイオード1からの光を受けるとフォトサイリスタ部7がオン状態になる。従って、フォトトライアック5は双方向の印加電圧に対して動作する双方向素子である。
【0015】
次に、ゼロクロス機能フォトトライアック型光結合装置の等価回路を図8に示す。尚、図7に示した非ゼロクロス機能フォトトライアック型光結合装置と同一の部分には同一の符号を付し説明を省略する。出力側には、ゼロクロス機能フォトトライアック8が設けられている。ゼロクロス機能フォトトライアック8の構成は、ゼロクロス機能サイリスタ部9とゼロクロス機能サイリスタ部10とが互いに逆方向に並列接続されている。なお、ゼロクロス機能サイリスタ部9及びゼロクロス機能サイリスタ部10は、図6に示したゼロクロス機能フォトサイリスタ3と同一構造であるので、説明を省略する。
【0016】
このような構成の光結合装置の動作について説明する。第1アノードの電位が第2アノードの電位より大きい場合、ゼロクロス機能サイリスタ部9に順方向の電圧が与えられ、ゼロクロス機能サイリスタ部10に逆方向の電圧が与えられるので、ゼロクロス機能サイリスタ部9のみがスイッチング動作を行う。ゼロクロス機能フォトトライアック8の第1アノード−第2アノード間に印加される電圧がMOSトランジスタT3の閾値電圧を越えると、トランジスタQ8の光電流はMOSトランジスタT3に流れてしまうので、トランジスタQ8はオン状態でなくなる。その結果、ゼロクロス機能フォトトライアック8の第1アノード−第2アノード間に印加される電圧が低い場合(零電圧近傍)でのみゼロクロス機能フォトトライアック8がオン状態になる。
【0017】
一方、第1アノードの電位が第2アノードの電位より小さい場合、ゼロクロス機能サイリスタ部9には逆方向の電圧が与えられ、ゼロクロス機能サイリスタ部10には順方向の電圧が与えられるので、ゼロクロス機能サイリスタ部10のみがスイッチング動作を行う。ゼロクロス機能フォトトライアック8の第1アノード−第2アノード間に印加される電圧がMOSトランジスタT4の閾値電圧を越えると、トランジスタQ9の光電流はMOSトランジスタT4に流れてしまうので、トランジスタQ9はオン状態でなくなる。その結果、ゼロクロス機能フォトトライアック8の第1アノード−第2アノード間に印加される電圧が低い場合(零電圧近傍)でのみゼロクロス機能フォトトライアック8がオン状態になる。
【0018】
すなわち、ゼロクロス機能フォトトライアック8の第1アノード−第2アノード間に印加される電圧の極性に関わらず、その電圧が低い場合(零電圧近傍)のときのみゼロクロス機能フォトトライアック8がオン状態になる。尚、MOSトランジスタT3の閾値電圧とMOSトランジスタT4の閾値電圧とは、通常同じ値に設定されている。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】
上述した非ゼロクロス機能光結合装置とゼロクロス機能光結合装置との2種類をともに一つの装置に搭載し、使い分ける場合がある。その一例である光結合装置によって負荷であるランプのオン・オフを制御するランプ照明装置について図9を参照して説明する。サイリスタ型光結合装置(図5及び図6に示した光結合装置)を用いる場合の構成を図9(a)に示す。サイリスタ型光結合装置17の入力側に設けられる発光ダイオード1のアノードは抵抗R5の一端に接続される。抵抗R5の他端は定電圧が供給される端子に接続されている。また、発光ダイオード1のカソードはNPN型のトランジスタQ10のコレクタに接続されている。トランジスタQ10のエミッタは接地され、トランジスタQ10のベースは入力電流IFを制御する制御信号が供給される端子に接続されている。
【0020】
サイリスタ型光結合装置17の出力側に設けられているフォトサイリスタのアノードは、抵抗R6及び整流回路4を介してトライアック16の第1アノード及びランプ14の一端に接続されている。ランプ14の他端は、AC電源15を介してトライアック16の第2アノードに接続されている。また、サイリスタ型光結合装置17の出力側に設けられているフォトサイリスタのカソードは整流回路4を介して、トライアック16のゲートに接続されている。尚、整流回路4はダイオードD1〜D4をブリッジ接続した構成となっている。
【0021】
サイリスタ型光結合装置17の出力側に設けられているフォトサイリスタとトライアック16との間には整流回路4が設けられているので、サイリスタ型光結合装置17の出力側に設けられているフォトサイリスタのアノードには常に正の電圧が供給される。
【0022】
次に、トライアック型光結合装置(図7及び図8に示した光結合装置)を用いる場合の構成を図9(b)に示す。尚、図9(a)に示したランプ照明装置と同一の部分には同一の符号を付し説明を省略する。トライアック型光結合装置18の出力側に設けられるフォトトライアックは双方向素子なので、整流回路4を設けなくてよい。
【0023】
このような構成のランプ照明装置において、光結合装置がオン状態になるとフォトトライアック16にゲート電流が供給され、トライアック16がオン状態になる。トライアック16がオン状態になることで、ランプ14が点灯する。AC電源15が出力する電圧がゼロクロスになるとトライアック16はターンオフするので、ランプ14の点灯を維持するには、光結合装置を常にオン状態にするか若しくは所定の間隔毎に短期間オン状態にするかしなければならない。
【0024】
次に動作について説明する。ランプ14は発光していない状態では抵抗値が低く、発光して温度が上昇すると抵抗値が高くなる。このため、最初にランプ14にAC電源15から電圧を供給してランプ14をオンするときは、大きな突入電流が流れる。この突入電流を極力抑えることによって、突入電流によって発生するノイズを低減することやランプ14の寿命を長くすることができる。
【0025】
従って、最初にランプ14をオンするときは、AC電源15のゼロクロスポイントのタイミングで行うが望ましい。このため、ランプ14の点灯の際には、出力側に設けられる受光手段の両端子間に印加される電圧が零電圧近傍であるときのみスイッチング動作を行う光結合装置、すなわち図6や図8に示した光結合装置を用いる。尚、図6に示した光結合装置を用いる場合は図9(a)の構成とし、図8に示した光結合装置を用いる場合は図9(b)の構成とする。
【0026】
次に、ランプ14の明るさの調整(調光)を行うときは、所望の明るさに応じて位相設定値θを可変し、図10に示すようにAC電源15の出力電圧Eが位相設定値θになる毎に入力電流IFを大きくし光結合装置をオン状態にする位相制御が一般に行われる。位相設定値θを小さくすれば、トライアック16がオン状態である期間Tが大きくなり、その結果ランプ14は明るくなる。この場合には非ゼロクロス機能光結合装置、すなわち図5や図7に示された光結合装置を用いる。
【0027】
このようにゼロクロス機能光結合装置と非ゼロクロス機能光結合装置との2種類の光結合装置が必要である場合は、2種類の光結合装置を設けなければならなったが、省スペース化・低コスト化の観点から両方の機能を併せ持った一つの光結合装置が望まれていた。このような要望に対する解決手段として、両方の機能を併せ持った光結合装置が特公平7−112150号公報に開示されている。しかしながら、この光結合装置では、スイッチング手段として機能するフォトトランジスタを新たに設ける必要があり、図5〜図8に示したような従来の光結合装置に用いられる受光手段をそのまま利用することはできなかった。
【0028】
本発明は、上記の問題点に鑑み、簡単な構成によって非ゼロクロス機能とゼロクロス機能とを切り替えることのできる光結合装置及びそれを備えたソリッドステートリレーを提供することを目的とする。
【0029】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る光結合装置においては、入力側に発光手段を備え、出力側に前記発光手段からの光を受けてオン状態になる受光手段を備え、前記受光手段は、両端子間に印加される電圧が零電圧近傍でのみスイッチング動作をする第1の受光手段と、該第1の受光手段に並列接続され両端子間に印加される電圧が零電圧近傍以外でもスイッチング動作をする第2の受光手段と、を有するとともに、前記第1の受光手段の受光感度は前記第2の受光手段の受光感度より高くするような構成とする。
【0030】
また、前記第1の受光手段は、P型エミッタ層、N型ベース層、P型ベース層、及びN型エミッタ層からなる第1のフォトサイリスタと、前記第1のフォトサイリスタの両端に印加される順方向電圧が所定値以上のときは前記第1のフォトサイリスタをオフ状態にするゼロクロス手段と、からなり、前記第2の受光手段は、P型エミッタ層、N型ベース層、P型ベース層、及びN型エミッタ層からなる第2のフォトサイリスタである構成としてもよい。さらに、前記第1のフォトサイリスタと前記第2のフォトサイリスタとは、P型エミッタ層、N型ベース層、及びP型ベース層を共通としてもよい。
【0031】
また、前記第1の受光手段は、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層、第1のN型エミッタ層、及び第2のN型エミッタ層からなる第1のフォトトライアックと、前記第1のフォトトライアックの両端に印加される電圧の絶対値が所定値以上のときは前記第1のフォトトライアックをオフ状態にするゼロクロス手段と、とからなり、前記第2の受光手段は、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層、第1のN型エミッタ層、及び第2のN型エミッタ層からなる第2のフォトトライアックである構成としてもよい。さらに、前記第1のフォトトライアックと前記第2のフォトトライアックとは、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層を共通としてもよい。
【0032】
また、前記第1の受光手段の受光感度を前記第2の受光手段の受光感度に対して2倍より大きくするようにしてもよい。
【0033】
また、本発明に係るソリッドステートリレーは、上記構成の光結合装置を備える構成としてもよい。
【0034】
【発明の実施の形態】
本発明に係る光結合装置の一実施形態について図面を参照して説明する。第一実施形態の光結合装置の等価回路を図1に示す。尚、図5及び図6に示したフォトサイリスタ型光結合装置と同一の部分には同一の符号を付し説明を省略する。この光結合装置は、入力側に発光ダイオード1を備え、出力側にフォトサイリスタ2とゼロクロス機能フォトサイリスタ3とが並列接続されている。なお、ゼロクロス機能フォトサイリスタ3の受光感度はフォトサイリスタ2の受光感度より高く設定されている。
【0035】
このような構成の光結合装置の動作について説明する。ゼロクロス機能フォトサイリスタ3がオン状態になる光量以上、かつ、フォトサイリスタ2がオン状態になる光量未満の光を発光ダイオード1が発光するように、発光ダイオード1に供給される入力電流IFの電流値を設定する。このとき、ゼロクロス機能フォトサイリスタ3しかスイッチング動作を行わないので、アノード−カソード間に印加される電圧が零電圧近傍であるときしか動作しない。
【0036】
一方、フォトサイリスタ2がオン状態になる光量以上の光を発光ダイオード1が発光するように、発光ダイオード1に供給される入力電圧IFの電流値を設定する。この場合、フォトサイリスタ2とゼロクロス機能フォトサイリスタ3ともにスイッチング動作を行う。従って、アノード−カソード間に印加される電圧が零電圧近傍であるとき以外でも動作する。
【0037】
従って、入力電流IFの大きさを可変することで、非ゼロクロス機能とゼロクロス機能との切替を行うことができる。これにより、一つの光結合装置でゼロクロス機能と非ゼロクロス機能の切替ができる。
【0038】
次に、第二実施形態の光結合装置の等価回路図を図2に示す。尚、図7及び図8に示したフォトトライアック型光結合装置と同一の部分には同一の符号を付し説明を省略する。この光結合装置は、入力側に発光ダイオード1を備え、出力側にフォトトライアック5とゼロクロス機能フォトトライアック8とが並列接続されている。ゼロクロス機能フォトフォトトライアック8の受光感度はフォトトライアック5の受光感度より高く設定されている。
【0039】
このような構成の光結合装置の動作について説明する。ゼロクロス機能フォトトライアック8がオン状態になる光量以上、かつ、フォトトライアック5がオン状態になる光量未満の光を発光ダイオード1が発光するように、発光ダイオード1に供給される入力電流IFの電流値を設定する。このとき、ゼロクロス機能フォトトライアック8しかスイッチング動作を行わないので、第1アノード−第2アノード間に印加される電圧が零電圧近傍であるときしか動作しない。
【0040】
一方、フォトトライアック5がオン状態になる光量以上の光を発光ダイオード1が発光するように、発光ダイオード1に供給される入力電圧IFの電流値を設定する。この場合、フォトトライアック5とゼロクロス機能フォトトライアック8ともにスイッチング動作を行う。従って、第1アノード−第2アノード間に印加される電圧が零電圧近傍であるとき以外でも動作する。
【0041】
従って、入力電流IFの大きさを可変することで、非ゼロクロス機能とゼロクロス機能との切替を行うことができる。
【0042】
これにより、第一実施形態の光結合装置と同様の効果が得られる。さらに、フォトトライアックを用いているので、第1アノード−第2アノード間に印加される電圧の極性に制限がない。これにより、光結合装置の出力側後段に整流手段を設ける必要がなくなる。
【0043】
次に、第三実施形態の光結合装置の等価回路図を図3に示す。この光結合装置は、図1に示した第一実施形態の光結合装置の等価回路に設けられた二つのPNP型トランジスタを共通にした受光回路11を出力側に設けている。
【0044】
受光回路11の構成について説明する。PNP型のトランジスタQ5のエミッタは受光回路11のアノードになっている。トランジスタQ5のベースがNPN型のトランジスタQ6及びQ7のコレクタに、トランジスタQ5のコレクタがトランジスタQ6及びQ7のベースに、それぞれ接続されている。さらに、トランジスタQ6のベースとエミッタは抵抗R3を介して接続され、トランジスタQ7のベースとエミッタは抵抗R4を介して接続されている。
【0045】
MOSトランジスタT2のゲートは、トランジスタQ6及びQ7のベースとトランジスタQ5のコレクタとの接続点に接続される。MOSトランジスタT2のソースは、トランジスタQ5のコレクタとトランジスタQ6及びQ7のベースとの接続点に接続される。MOSトランジスタT2のドレインは、トランジスタQ6のエミッタと抵抗R3との接続点及びトランジスタQ7のエミッタと抵抗R4との接続点に接続され、受光回路11のカソードとなる。
【0046】
すなわち、本実施形態の光結合装置では、第一実施形態の光結合装置に設けられているフォトサイリスタ2のP型エミッタ層、N型ベース層、及びP型ベース層と、ゼロクロス機能フォトサイリスタ3のP型エミッタ層、N型ベース層、及びP型ベース層と、について同じ種類の層を共通化した構成にしている。これにより、製造工程の短縮化や製品の小型化を図ることができる。また、第一実施形態の光結合装置と同様の動作をするので、一つの光結合装置でゼロクロス機能と非ゼロクロス機能の切替ができる。
【0047】
次に、第四実施形態の光結合装置の等価回路図を図4に示す。この光結合装置では、図3に示した第三実施形態の光結合装置の等価回路に設けられた受光回路11と同一の構成である受光回路12、13が互いに逆方向に並列接続して出力側に設けられている。
【0048】
本実施形態の光結合装置では、図2に示した第二実施形態の光結合装置に設けられているフォトライアック5の第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層と、ゼロクロス機能フォトトライアック8の第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層と、について同じ種類の層を共通化した構成にしている。これにより、製造工程の短縮化や製品の小型化を図ることができる。また、第二実施形態の光結合装置と同様の動作をするので、一つの光結合装置でゼロクロス機能と非ゼロクロス機能の切替ができる。
【0049】
次に、上述した第一実施形態の光結合装置を図9のランプ照明装置に用いた場合について説明する。最初にランプをオンさせる場合、図11に示すように入力電流IFの設定をI1とする。I1はゼロクロス機能フォトサイリスタ3のトリガ電流以上、かつ、フォトサイリスタ2のトリガ電流未満の値とする。これにより、ゼロクロス機能フォトサイリスタ3のみが動作するので、零電圧近傍であるt1時点となって初めて光結合装置がオン状態となり、ランプ14に電流Iが流れる。このときのAC電源15の出力電圧Eが零電圧近傍であるので、電流Iも零近傍となり、ランプ14の突入電流を抑えることができる。これにより、突入電流によって発生するノイズを低減するとともにランプの寿命を長くすることができる。
【0050】
次の段階でランプの明るさの調整(調光)をしたい場合は、図11に示すように入力電流IFの設定をI2とする。I2はフォトサイリスタ2のトリガ電流以上の値とする。これにより、フォトサイリスタ2も動作するので、位相制御を行いフォトサイリスタ2のオン期間を変えてランプ14の明るさを調整することができる。
【0051】
第一実施形態の光結合装置に代えて、第三実施形態の光結合装置を用いても同様の効果が得られる。尚、本実施形態では光結合装置17と、トライアック16及び整流回路4と、を別構成にしたがこれらを一体としたソリッドステートリレーとしてもよい。
【0052】
また、上述した第二及び第四実施形態の光結合装置を図9(b)のランプ照明装置に用いた場合についても同様な効果が得られる。この場合も、光結合装置と、トライアック16を別構成にしたが、これらを一体としたソリッドステートリレーとしてもよい。
【0053】
また、第一〜第四実施形態の光結合装置において、ゼロクロス機能フォトサイリスタまたはゼロクロス機能トライアックの受光感度をフォトサイリスタまたはフォトトライアックの受光感度の2倍より大きくすると、5万時間以上の連続使用が可能となる。一般に発光ダイオード1の光出力は、ハーフライフ5万時間(5万時間の連続使用で光出力が1/2に劣化する)であるため、5万時間までの連続使用を可能とするためには入力電流を光結合装置のトリガ電流の2倍以上に設定する必要がある。
【0054】
従って、ゼロクロス機能フォトサイリスタまたはゼロクロス機能フォトトライアックを連続使用において5万時間まで正常に動作させるために、入力電流IFの電流値I1をゼロクロス機能フォトサイリスタまたはゼロクロス機能フォトトライアックのトリガ電流の2倍に設定する。
【0055】
入力電流IFが電流値I1以下のときは非ゼロクロス機能のフォトサイリスタまたはフォトトライアックは動作してはいけないので、フォトサイリスタまたはフォトトライアックのトリガ電流はI1より大きくする必要がある。従って、ゼロクロス機能フォトサイリスタまたはゼロクロス機能フォトトライアックの受光感度を非ゼロクロス機能のフォトサイリスタまたはフォトトライアックの受光感度の2倍より大きくする。
【0056】
また、非ゼロクロス機能のフォトサイリスタまたはフォトトライアックを連続使用で5万時間まで正常に動作させるためには入力電流IFの電流値I2を、非ゼロクロス機能のフォトサイリスタまたはフォトトライアックのトリガ電流の2倍に設定する。尚、受光感度の製造上のバラツキ等を考慮して、ゼロクロス機能フォトサイリスタまたはゼロクロス機能フォトトライアックの受光感度を非ゼロクロス機能のフォトサイリスタまたはフォトトライアックの受光感度の3倍以上にすることが推奨される。
【0057】
【発明の効果】
本発明によれば、受光手段は、両端子間に印加される電圧が零電圧近傍でのみスイッチング動作をする第1の受光手段と、該第1の受光手段に並列接続され両端子間に印加される電圧が零電圧近傍以外でもスイッチング動作をする第2の受光手段と、を有するとともに、前記第1の受光手段の受光感度は前記第2の受光手段の受光感度より高いので、前記受光手段に入力する入力電流の値を可変することで、ゼロクロス機能と非ゼロクロス機能とを切り替えることができる。これにより、光結合装置を1つにすることができ、部品スペースや部品点数やコストの削減を図ることができる。また、従来の光結合装置に用いられていた受光手段を第1および第2の受光手段に用いることができ、新たなスイッチング手段を設ける必要がないので、簡単な構成となり低コスト化が図れる。
【0058】
また、本発明によれば、前記第1の受光手段は、P型エミッタ層、N型ベース層、P型ベース層、及びN型エミッタ層からなる第1のフォトサイリスタと、前記第1のフォトサイリスタの両端に印加される順方向電圧が所定値以上のときは前記第1のフォトサイリスタをオフ状態にするゼロクロス手段と、からなり、前記第2の受光手段は、P型エミッタ層、N型ベース層、P型ベース層、及びN型エミッタ層からなる第2のフォトサイリスタであるので、光結合装置の出力側に供給される電圧の極性が順方向であれば光結合装置が動作し、上述した効果が得られる。
【0059】
また、本発明によれば、前記第1の受光手段は、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層、第1のN型エミッタ層、及び第2のN型エミッタ層からなる第1のフォトトライアックと、前記第1のフォトトライアックの両端に印加される電圧の絶対値が所定値以上のときは前記第1のフォトトライアックをオフ状態にするゼロクロス手段と、からなり、前記第2の受光手段は、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層、第1のN型エミッタ層、及び第2のN型エミッタ層からなる第2のフォトトライアックであるので、光結合装置の出力側に供給される電圧の極性に関わらず、光結合装置が動作する。これにより、光結合装置の後段に整流手段を設ける必要がなくなるので、さらに部品スペースや部品点数やコストの削減を図ることができる。
【0060】
また、本発明によれば、前記第1のフォトサイリスタと前記第2のフォトサイリスタとは、P型エミッタ層、N型ベース層、及びP型ベース層を共通とするので、より一層部品スペースや部品点数やコストの削減を図ることができる。
【0061】
また、本発明によれば、前記第1のフォトトライアックと前記第2のフォトトライアックとは、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層を共通とするので、より一層部品スペースや部品点数やコストの削減を図ることができる。
【0062】
また、本発明によれば、前記第1の受光手段の受光感度を前記第2の受光手段の受光感度に対して2倍より大きくするので、前記発光手段の光出力が半減しても光結合装置は正常に動作する。これにより、5万時間以上の連続使用が可能となる。
【0063】
また、本発明によれば、ソリッドステートリレーは、上述した光結合装置を備えているので、部品スペースの低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る第一実施形態の光結合装置の等価回路図である。
【図2】 本発明に係る第二実施形態の光結合装置の等価回路図である。
【図3】 本発明に係る第三実施形態の光結合装置の等価回路図である。
【図4】 本発明に係る第四実施形態の光結合装置の等価回路図である。
【図5】 従来の非ゼロクロス機能サイリスタ型の光結合装置の等価回路図である。
【図6】 従来のゼロクロス機能サイリスタ型の光結合装置の等価回路図である。
【図7】 従来の非ゼロクロス機能トライアック型の光結合装置の等価回路図である。
【図8】 従来のゼロクロス機能トライアック型の光結合装置の等価回路図である。
【図9】 ランプ照明装置の構成を示す図である。
【図10】 従来の非ゼロクロス機能光結合装置において位相制御を行ったときの動作波形を示す図である。
【図11】 本発明の光結合装置の動作波形を示す図である。
【図12】 フォトサイリスタの構成を示す図である。
【図13】 フォトトライアックの構成を示す図である。
【符号の説明】
1 発光ダイオード
2 フォトサイリスタ
3 ゼロクロス機能フォトサイリスタ
5 フォトトライアック
8 ゼロクロス機能フォトトライアック
11、12、13 受光回路
16 トライアック
T1〜T4 MOSトランジスタ
Claims (7)
- 入力側に発光手段を備え、出力側に前記発光手段からの光を受けてオン状態になる受光手段を備えた光結合装置において、
前記受光手段は、
両端子間に印加される電圧が零電圧近傍でのみスイッチング動作をする第1の受光手段と、
該第1の受光手段に並列接続され両端子間に印加される電圧が零電圧近傍以外でもスイッチング動作をする第2の受光手段と、
を有するとともに、
前記第1の受光手段の受光感度は前記第2の受光手段の受光感度より高いことを特徴とする光結合装置。 - 前記第1の受光手段は、
P型エミッタ層、N型ベース層、P型ベース層、及びN型エミッタ層からなる第1のフォトサイリスタと、
前記第1のフォトサイリスタの両端に印加される順方向電圧が所定値以上のときは前記第1のフォトサイリスタをオフ状態にするゼロクロス手段と、
からなり、
前記第2の受光手段は、P型エミッタ層、N型ベース層、P型ベース層、及びN型エミッタ層からなる第2のフォトサイリスタである請求項1に記載の光結合装置。 - 前記第1の受光手段は、
第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層、第1のN型エミッタ層、及び第2のN型エミッタ層からなる第1のフォトトライアックと、
前記第1のフォトトライアックの両端に印加される電圧の絶対値が所定値以上のときは前記第1のフォトトライアックをオフ状態にするゼロクロス手段と、
からなり、
前記第2の受光手段は、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層、第1のN型エミッタ層、及び第2のN型エミッタ層からなる第2のフォトトライアックである請求項1に記載の光結合装置。 - 前記第1のフォトサイリスタと前記第2のフォトサイリスタとは、第1のP型エミッタ層、N型ベース層、及びP型ベース層を共通とする請求項2に記載の光結合装置。
- 前記第1のフォトトライアックと前記第2のフォトトライアックとは、第1のP型エミッタ兼ベース層、N型ベース層、第2のP型エミッタ兼ベース層を共通とする請求項3に記載の光結合装置。
- 前記第1の受光手段の受光感度を前記第2の受光手段の受光感度に対して2倍より大きくする請求項1〜5のいずれかに記載の光結合装置。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の光結合装置を備えることを特徴とするソリッドステートリレー。
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