JP4088867B2 - 半導体発光素子の固着方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体発光素子の固着方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体発光装置としての半導体レーザ装置は、半導体発光素子である半導体レーザ素子を有し、レーザビームプリンタや光ディスクドライブ等の様々な装置に使用されている。ここで、図5は従来の半導体レーザ装置に取り付けられた半導体レーザ素子の周辺部分を示す縦断側面図である。図5に示すように、半導体レーザ素子100が固着されるサブマウント101は、Cu製のヒートシンク102の上にハンダ103で固着されている。サブマウント101の上には、電極となる金属層104が形成され、この金属層104の上には、半導体レーザ素子100をサブマウント101に固着するためのハンダ層105が形成されている。
【0003】
半導体レーザ素子100は、pn接合部(ジャンクション)106の近傍に位置する面がサブマウント101側に位置付けられ、さらに、レーザ光Lを出射するための出射面100aがサブマウント101の側面101aと同じ平面上に位置付けられて、サブマウント101の上面にハンダ層105により固着されている。なお、pn接合部106の近傍に位置する面をサブマウント101側に位置付けて半導体レーザ素子100を固着するジャンクションダウン方式を用いることで半導体レーザ素子100の放熱効率が高められている。
【0004】
ここで、サブマウント101の上面に半導体レーザ素子100を固着する固着工程は次のように行われる。まず、共晶温度よりも低い250℃程度の窒素雰囲気中に、ハンダ層105が形成されたサブマウント101を入れ、このハンダ層105の上に半導体レーザ素子100を載置する。その後、ハンダ層105を320℃程度まで加熱して溶融し、速やかに急冷して共晶状態にすることで、半導体レーザ素子100はサブマウント101の上面に固着される。
【0005】
このような固着工程においては、ハンダ層105を溶融すると、溶融されたハンダ層105から余剰ハンダ105aが流れ出し、半導体レーザ素子100の出射面100aに余剰ハンダ105aによる盛り上りが発生する場合がある(図5参照)。一方、半導体レーザ素子100のpn接合部106はハンダ層105から数μmの距離に位置付けられている。したがって、余剰ハンダ105aによる盛り上りが発生した場合には、この盛り上りによって半導体レーザ素子100から出射されたレーザ光Lが散乱されるので、レーザ光Lの品質が低下するという問題が生じる。
【0006】
このような盛り上りを防ぐ方法としては、一般的に、サブマウント101の側面101aから半導体レーザ素子100の出射面100aを10μm程度突出させて半導体レーザ素子100をサブマウント101の上面に固着する方法が用いられている。しかし、この方法では、半導体レーザ素子100の放熱が不十分になるので、半導体レーザ素子100の寿命が短くなってしまう。そこで、半導体レーザ素子100の出射面100aをサブマウント101の側面101aから突出させなくても、余剰ハンダ105aによる盛り上りを防ぐ方法が提案されている。
【0007】
この方法としては、サブマウント101の上面に半導体レーザ素子100の形状より一回り小さくハンダ層105を形成する方法が提案されている。他の方法としては、特開平6−350202号公報において、サブマウント101の上面に形成された金属層104をサブマウント101の側面101aまで延伸させる方法が提案されている。この方法では、溶融されたハンダ層105から流れ出した余剰ハンダ105aは、サブマウント101の側面101aに位置する金属層104の表面に沿って広がる。これにより、余剰ハンダ105aによる盛り上りの発生を防止することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、半導体レーザ素子100の形状より一回り小さくハンダ層105を形成することやサブマウント101の側面101aに金属層104を形成することは難しい。特に、サブマウント101の側面101aに金属層104を形成するためには、マスク工程等の複雑な工程が必要となり、工程数も増加するという問題がある。
【0009】
一方、半導体レーザ素子100をサブマウント101の上面に固着するときに、ハンダ層105の劣化によって半導体レーザ素子100の密着不良が発生する場合がある。すなわち、半導体レーザ素子100を固着する前にハンダ層105を250℃程度に加熱する予備加熱の間に、ハンダ層105に含まれるSnが酸化してハンダ層105の表面に被膜が形成されることで、半導体レーザ素子100の密着不良が発生するという問題がある。
【0010】
本発明の目的は、複雑な工程を必要とせずに余剰ハンダによる盛り上りが半導体発光素子の出射面に発生することを防止することができる半導体発光素子の固着方法を提供することである。
【0011】
本発明の目的は、半導体発光素子の密着不良を防止することができる半導体発光素子の固着方法を提供する。
【0012】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明の半導体発光素子の固着方法は、光を出射するための出射面を有する半導体発光素子が固着される被固着部材の被固着面となる上面に、前記半導体発光素子を固着するためのハンダ層を形成する第1の層形成工程と、前記ハンダ層の表面を覆う保護層とこの保護層から伸びて前記被固着部材の側面に位置して前記ハンダ層が溶融されたときに前記ハンダ層から流れ出したハンダを前記被固着部材の側面に導く案内層とを一体に形成する第2の層形成工程と、前記第2の層形成工程後に前記被固着部材の上面に前記ハンダ層及び前記保護層を介して前記被固着部材の前記案内層が形成された側面側に前記出射面を位置付けて前記半導体発光素子を載置する載置工程と、前記第2の層形成工程後に前記ハンダ層と前記保護層とを溶融する溶融工程と、前記載置工程及び前記溶融工程後に、前記溶融工程で前記保護層と融合した前記ハンダ層を凝固させる凝固工程と、を有する。
【0013】
したがって、被固着部材の上面に、ハンダ層を形成し、その後、保護層と案内層とを一体に形成し、被固着部材の案内層が形成された側面側に出射面を位置付けて半導体発光素子を固着することによって、溶融されたハンダ層から流れ出した余剰ハンダが案内層に沿って被固着部材の側面に広がり、さらに、ハンダ層が溶融されるときにハンダ層の劣化、例えばハンダ層にSnが含まれていた場合には、Snの酸化を防ぐことが可能になる。
【0014】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の半導体発光素子の固着方法において、前記第2の層形成工程では、前記被固着部材の上面に対して斜め上方から金属を蒸着することで前記保護層と前記案内層とを形成するようにした。
【0015】
したがって、被固着部材の上面に対して斜め上方から金属を蒸着することによって、複雑な工程、例えばマスク工程等を行うことなく容易に保護層と案内層とを形成することが可能になる。
【0016】
請求項3記載の発明は、請求項2記載の半導体発光素子の固着方法において、前記被固着部材が、金属が蒸着される側面に下端から上端方向へ伸びて金属が蒸着されない部分を形成するようにそれぞれ間隔を空けて複数個並べられている。
【0017】
したがって、被固着部材の側面に下端から上端方向へ伸びて金属が蒸着されない部分を形成することによって、案内層が被固着部材の下端まで達しないように形成される。
【0018】
請求項4記載の発明は、請求項1、2又は3記載の半導体発光素子の固着方法において、前記保護層が、前記ハンダ層を構成する複数の金属の中から選択された金属で形成されている。
【0019】
したがって、ハンダ層を構成する複数の金属の中から選択された金属で保護層を形成することによって、ハンダ層が溶融されたときに保護層が溶けてハンダ層と融合しても、ハンダ層の組成は変化しない。
【0020】
請求項5記載の発明は、請求項1、2、3又は4記載の半導体発光素子の固着方法において、前記ハンダ層がAu−Sn合金で形成されており、前記案内層がAuで形成されている。
【0021】
したがって、ハンダ層をAu−Sn合金で形成し、案内層をAuで形成することによって、Auの濡れ性がAu−Sn合金に対して良いため、溶融されたハンダ層から流れ出したハンダが案内層に沿って簡単に広がる。
【0028】
【発明の実施の形態】
本発明の第一の実施の形態を図1及び図2に基づいて説明する。本実施の形態は、被固着部材に半導体発光素子を固着する半導体発光素子の固着方法の一例である。なお、本実施の形態では、半導体発光素子としての半導体レーザ素子1を備える半導体レーザ装置において、半導体レーザ素子1を被固着部材としてのサブマウント2に固着する固着方法について説明する。ここで、図1(a)は本実施の形態の半導体レーザ装置に取り付けられた半導体レーザ素子1の周辺部分を示す縦断側面図、図1(b)はサブマウント2を示す外観斜視図である。
【0029】
図1に示すように、レーザ光Lを出射するための出射面1aを有する半導体レーザ素子1が固着されるサブマウント2は、Cu製のヒートシンク3の上にハンダ4で固着されている。サブマウント2の被固着面となる上面には、電極となる金属層5が形成され、この金属層5の上には、半導体レーザ素子1をサブマウント2に固着するためのハンダ層6が形成されている。なお、ハンダ層6は、半導体レーザ素子1が載置される領域だけに約3μmの厚さで形成されているが、これに限るものではない。
【0030】
サブマウント2は、半導体レーザ素子1で発生する熱の放熱やヒートシンク3との熱応力緩和のために用いられており、このサブマウント2の側面2aには、ハンダ層6が溶融されたときにハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aを側面2aに導く案内層7が設けられている。この案内層7は、サブマウント2の側面2aの上端から下端方向へ伸び、下端まで達しないように形成されている。
【0031】
半導体レーザ素子1は、pn接合部(ジャンクション)8の近傍に位置する面がサブマウント2側に位置付けられ、さらに、出射面1aがサブマウント2の案内層7が形成された側面2a側に位置付けられて、サブマウント2の上面にハンダ層6により固着されている。このとき、半導体レーザ素子1の出射面1aは、サブマウント2の案内層7が形成された側面2aと同一平面上に位置している。なお、pn接合部8の近傍に位置する面をサブマウント2側に位置付けて半導体レーザ素子1を固着するジャンクションダウン方式を用いることで半導体レーザ素子1の放熱効率が高められている。
【0032】
ここで、サブマウント2を形成する材料としては、AlN(窒化アルミ)やシリコン等が用いられている。これらは、熱伝導率が高く、線膨張係数が半導体レーザ素子1の基板に使用されるGaAsの線膨張係数に近い材料である。金属層5を形成する材料としては、Ti,Pt,Auが用いられている。これらの材料を順次積層することで、金属層5はTi(0.01μm)/Pt(0.05μm)/Au(0.5μm)という層構造になっている。ハンダ層6を形成する材料としては、接着強度が強く、共晶温度が280℃と低いAu−Sn共晶ハンダ(Au80wt%,Sn20wt%)が用いられている。案内層7は、ハンダ層6を構成する金属としてのAuで形成され、Au−Sn共晶ハンダに対して良い濡れ性を有している。
【0033】
このような構成の半導体レーザ装置において、サブマウント2に半導体レーザ素子1を固着する半導体レーザ素子1の固着方法について説明する。これは、金属層5、ハンダ層6及び案内層7の各種の層を形成する層形成工程と各種の層が形成されたサブマウント2の上面に半導体レーザ素子1を固着する固着工程とから構成されている。
【0034】
まず、層形成工程について説明する。ここで、図2は層形成工程の概略を示す縦断側面図である。
【0035】
図2(a)に示すように、サブマウント2を形成するためのサブマウント基板2bに金属層5を形成する。次に、この金属層5の上で半導体レーザ素子1が載置される領域にハンダ層6を形成する。これが、第1の層形成工程である。
【0036】
ハンダ層6が形成されたサブマウント基板2bからダイシングソー等により半導体レーザ素子1のサイズに複数のサブマウント2を切り出す。
【0037】
その後、切り出されたサブマウント2にハンダ層6の表面を覆ってハンダ層6の劣化、すなわちハンダ層6に含まれるSnの酸化を防ぐ保護層9とこの保護層9から伸びてサブマウント2の側面2aに位置する案内層7とを一体的に形成する。これが、第2の層形成工程である。
【0038】
詳述すると、図2(b)に示すように、複数のサブマウント2を真空蒸着装置に入れて一定間隔で並べ、サブマウント2の上面に対して斜め上方からサブマウント2にAuを蒸着する(図2(b)において矢印方向)。
【0039】
これにより、図2(c)に示すように、ハンダ層6の表面には、保護層9が形成され、サブマウント2の側面2aには、保護層9から伸びる案内層7が形成される。なお、サブマウント2の上面に対して斜め上方からAuを蒸着するときの角度や複数のサブマウント2を並べるときの間隔等を設定することでサブマウント2の側面2aに下端から上端方向へ伸びて金属が蒸着されない部分を形成することによって、案内層7がサブマウント2の側面2aの下端まで達しないように形成される。
【0040】
次に、固着工程について説明する。案内層7が側面2aに形成されたサブマウント2を共晶温度よりも低い250℃程度の窒素雰囲気中に入れ、サブマウント2の上面にハンダ層6及び保護層9を介し、サブマウント2の案内層7が形成された側面2a側に出射面1aを位置付けて半導体レーザ素子1を載置する。これが、載置工程である。
【0041】
その後、窒素雰囲気中の温度を上昇させて、ハンダ層6を320℃程度まで加熱して溶融し、同時に保護層9を溶融する。これが、溶融工程である。これにより、ハンダ層6は保護層9と融合する。
【0042】
このとき、溶融されたハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aは案内層7に沿ってサブマウント2の側面2aに広がる(図1(a)参照)。これにより、余剰ハンダ6aによる盛り上りの発生を防止することができる。
【0043】
最後に、保護層9と融合したハンダ層6を急冷して共晶状態にする。これが、凝固工程である。これにより、半導体レーザ素子1がサブマウント2の上面に固着される。
【0044】
このように、本実施の形態では、サブマウント2の上面に、ハンダ層6を形成し、その後、案内層7と保護層9とを一体的に形成し、サブマウント2の案内層7が形成された側面2a側に出射面1aを位置付けて半導体レーザ素子1を固着することによって、溶融されたハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aが案内層7に沿ってサブマウント2の側面2aに広がるので、複雑な工程を必要とせずに余剰ハンダ6aによる盛り上りが半導体レーザ素子1の出射面1aに発生することを防止することができ、さらに、固着工程においてハンダ層6を予備加熱するときに、ハンダ層6に含まれるSnの酸化を防ぐことが可能になるので、半導体レーザ素子1のサブマウント2に対する密着不良を防止することができる。
【0045】
さらに、サブマウント2の上面に対して斜め上方から金属を蒸着することによって、複雑な工程、例えばマスク工程等を行うことなく容易に案内層7と保護層9とを形成することができる。また、サブマウント2の側面2aに下端から上端方向へ伸びて金属が蒸着されない部分を形成することによって、案内層7がサブマウント2の側面2aの下端まで達しないように形成されるので、ヒートシンク3と半導体レーザ素子1とを電気的に絶縁することができる。
【0046】
また、ハンダ層6をAu−Sn合金で形成し、案内層7をAuで形成することによって、Auの濡れ性がAu−Sn合金に対して良いため、溶融されたハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aが案内層7に沿って簡単に広がるので、余剰ハンダ6aによる盛り上りの発生を確実に防止することができる。さらに、ハンダ層6を構成する金属から選択されたAuで保護層9を形成することによって、ハンダ層6が溶融されたときに保護層9が溶けてハンダ層6と融合しても、ハンダ層6の組成は変化しないので、ハンダ層6を溶融してもハンダ層6の組成を維持することができる。
【0047】
本発明の第二の実施の形態を図3及び図4に基づいて説明する。本実施の形態は、半導体発光素子を被固着部材に固着する半導体発光素子の固着方法の一例である。なお、本実施の形態では、半導体発光素子としての半導体レーザ素子1を備える半導体レーザ装置において、半導体レーザ素子1を被固着部材としてのサブマウント20に固着する固着方法について説明する。ここで、図3(a)は本実施の形態の半導体レーザ装置に取り付けられた半導体レーザ素子1の周辺部分を示す縦断側面図、図3(b)はサブマウント20を示す外観斜視図である。なお、第一の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示す。
【0048】
図3に示すように、レーザ光Lを出射するための出射面1aを有する半導体レーザ素子1が固着されるサブマウント20は、Cu製のヒートシンク3の上にハンダ4で固着されている。サブマウント20の被固着面となる上面には、電極となる金属層5が形成され、この金属層5の上には、半導体レーザ素子1をサブマウント20に固着するためのハンダ層6が形成されている。なお、ハンダ層6は、半導体レーザ素子1が載置される領域だけに約3μmの厚さで形成されているが、これに限るものではない。
【0049】
サブマウント20は、半導体レーザ素子1で発生する熱の放熱やヒートシンク3との熱応力緩和のために用いられている。このサブマウント20には、対向する側面20aと側面20bとからそれぞれ一部が露出してハンダ層6が溶融されたときにハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aをサブマウント20の側面20aに導く2つの案内部21が設けられている。この案内部22は、サブマウント20の下面まで達しないように形成されている。さらに、案内部22は、露出部分がサブマウント20の側面20aの上端から下端方向へ伸びて余剰ハンダ6aを導くことができる幅を有するように形成されている。
【0050】
半導体レーザ素子1は、pn接合部(ジャンクション)8の近傍に位置する面がサブマウント20側に位置付けられ、さらに、出射面1aがサブマウント20の案内部21が形成された側面20a側に位置付けられて、サブマウント20の上面にハンダ層6により固着されている。このとき、半導体レーザ素子1の出射面1aは、サブマウント20の案内部21が形成された側面20aと同一平面上に位置している。なお、pn接合部8の近傍に位置する面をサブマウント20側に位置付けて半導体レーザ素子1を固着するジャンクションダウン方式を用いることで半導体レーザ素子1の放熱効率が高められている。
【0051】
ここで、サブマウント20を形成する材料としては、AlN(窒化アルミ)やシリコン等が用いられている。これらは、熱伝導率が高く、線膨張係数が半導体レーザ素子1の基板に使用されるGaAsの線膨張係数に近い材料である。金属層5を形成する材料としては、Ti,Pt,Auが用いられている。これらの材料を順次積層することで、金属層5はTi(0.01μm)/Pt(0.05μm)/Au(0.5μm)という層構造になっている。ハンダ層6を形成する材料としては、接着強度が強く、共晶温度が280℃と低いAu−Sn共晶ハンダ(Au80wt%,Sn20wt%)が用いられている。案内部21を形成する材料としては、Au−Sn共晶ハンダに対して良い濡れ性を有するPtが用いられているが、これに限るものではない。
【0052】
このような構成の半導体レーザ装置において、サブマウント20に半導体レーザ素子1を固着する半導体レーザ素子1の固着方法について説明する。これは、サブマウント20に案内部21を形成する案内部形成工程と、金属層5及びハンダ層6の各種の層を形成する層形成工程と、案内部21及び各種の層が形成されたサブマウント20の上面に半導体レーザ素子1を固着する固着工程と、から構成されている。
【0053】
まず、案内部形成工程と層形成工程とについて説明する。ここで、図4は案内部形成工程と層形成工程との概略を示す縦断側面図である。
【0054】
図4(a)に示すように、焼結前のAlNで形成された2枚のグリーンシート22a,22bを使用して、サブマウント20を形成するためのサブマウント基板20cを形成する。このサブマウント基板20cが被固着部材基板である。すなわち、グリーンシート22aにパンチング装置等により円形の埋込穴23を形成し、その後、この埋込穴23が形成されたグリーンシート22aを上にして2枚のグリーンシート22a,22bを積層する。これが、案内部形成工程の一部である。
【0055】
次に、図4(b)に示すように、サブマウント基板20cの埋込穴23にペースト状態のPtを充填した後、サブマウント基板20cを600〜1400℃で焼結して、サブマウント基板20cに表面から内部へ伸びる金属部24を形成する。これが、案内部形成工程の一部である。
【0056】
その後、図4(c)に示すように、サブマウント基板20cの表面に金属層5を形成し、この金属層5の上で半導体レーザ素子1が載置される領域にハンダ層6を形成する。これが、層形成工程である。
【0057】
最後に、切断面から金属部24の一部が露出するように金属部24の上、例えば図4(c)において破線からダイシングソー等でサブマウント基板20cを切断して、サブマウント基板20cから複数のサブマウント20を切り出す。これが、案内部形成工程の一部である。
【0058】
これにより、サブマウント20の2つの切断面、すなわち、サブマウント20の対向する側面20aと側面20bとから金属部24の一部が露出する。したがって、この金属部24によって、サブマウント20にその対向する側面20aと側面20bとからそれぞれ一部が露出する2つの案内部21が形成される(図3(b)参照)。
【0059】
次に、固着工程について説明する。形成工程で案内部21が形成されたサブマウント20を共晶温度よりも低い250℃程度の窒素雰囲気中に入れ、サブマウント20の上にハンダ層6を介し、サブマウント20の案内部21が形成された側面20a側に出射面1aを位置付けて半導体レーザ素子1を載置する。これが、載置工程である。
【0060】
その後、窒素雰囲気中の温度を上昇させて、ハンダ層6を320℃程度まで加熱して溶融する。これが、溶融工程である。
【0061】
このとき、溶融されたハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aは案内部21に沿ってサブマウント20の側面20aに広がる(図3(a)参照)。これにより、余剰ハンダ6aによる盛り上りの発生を防止することができる。
【0062】
最後に、ハンダ層6を急冷して共晶状態にする。これが、凝固工程である。これにより、半導体レーザ素子1がサブマウント20の上面に固着される。
【0063】
したがって、本実施の形態では、サブマウント20にその側面20aから一部が露出する案内部21を形成し、サブマウント20の上面にサブマウント20の案内部21が形成された側面20a側に出射面1aを位置付けて半導体レーザ素子1を固着することによって、溶融されたハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aが案内部21に沿ってサブマウント20の側面20aに広がるので、複雑な工程を必要とせずに余剰ハンダ6aによる盛り上りが半導体レーザ素子1の出射面1aに発生することを防止することができる。
【0064】
また、サブマウント20を形成するときにサブマウント20の側面20aから一部が露出する金属部24を形成することによって、案内部21がサブマウント20に簡単に形成されるので、複雑な装置も必要とせず容易に案内部21を形成することができる。そして、案内部21をサブマウント20の下面まで達しないように形成することによって、ヒートシンク3と半導体レーザ素子1とを電気的に絶縁することができる。
【0065】
さらに、サブマウント20に対向する側面20aと側面20bとからそれぞれ一部が露出する2つの案内部21を形成することによって、半導体レーザ素子1の出射面1aに対向する側面から出射されるレーザ光をモニター光として使用する場合に、レーザ光が余剰ハンダ6aによって遮られないので、半導体レーザ素子1のレーザ光の強度等を正確に測定することができる。
【0066】
また、案内部21をPtで形成することによって、Ptの濡れ性が共晶ハンダに対して良いため、溶融されたハンダ層6から流れ出した余剰ハンダ6aが案内部21に沿って簡単に広がるので、余剰ハンダ6aによる盛り上りの発生を確実に防止することができる。
【0067】
なお、第一の実施の形態においては、案内層7と保護層9とを金属の蒸着によって形成しているが、これに限るものではない。
【0068】
また、第二の実施の形態においては、グリーンシート22aに埋込穴23を円形に形成しているが、これに限るものではなく、例えば、埋込穴23を四角に形成しても良い。
【0069】
また、各実施の形態においては、載置工程後に溶融工程を行っているが、これに限るものではなく、例えば、溶融工程後に載置工程を行っても良い。
【0070】
また、各実施の形態においては、半導体発光素子として半導体レーザ素子1を用いているが、これに限るものではない。
【0071】
最後に、各実施の形態においては、ハンダ層6を形成する材料としてAu−Sn合金を用いているが、これに限るものではなく、例えば、Pb−Sn合金やAu−Si合金等を用いても良い。
【0072】
【発明の効果】
請求項1記載の発明の半導体発光素子の固着方法によれば、光を出射するための出射面を有する半導体発光素子が固着される被固着部材の被固着面となる上面に、前記半導体発光素子を固着するためのハンダ層を形成する第1の層形成工程と、前記ハンダ層の表面を覆う保護層とこの保護層から伸びて前記被固着部材の側面に位置して前記ハンダ層が溶融されたときに前記ハンダ層から流れ出したハンダを前記被固着部材の側面に導く案内層とを一体に形成する第2の層形成工程と、前記第2の層形成工程後に前記被固着部材の上面に前記ハンダ層及び前記保護層を介して前記被固着部材の前記案内層が形成された側面側に前記出射面を位置付けて前記半導体発光素子を載置する載置工程と、前記第2の層形成工程後に前記ハンダ層と前記保護層とを溶融する溶融工程と、前記載置工程及び前記溶融工程後に、前記溶融工程で前記保護層と融合した前記ハンダ層を凝固させる凝固工程と、を有することから、被固着部材の上面に、ハンダ層を形成し、その後、保護層と案内層とを一体に形成し、被固着部材の案内層が形成された側面側に出射面を位置付けて半導体発光素子を固着することによって、溶融されたハンダ層から流れ出した余剰ハンダが案内層に沿って被固着部材の側面に広がるので、複雑な工程を必要とせずに余剰ハンダによる盛り上りが半導体発光素子の出射面に発生することを防止することができ、さらに、ハンダ層が溶融されるときにハンダ層の劣化、例えばハンダ層にSnが含まれていた場合には、Snの酸化を防ぐことが可能になるので、半導体発光素子の密着不良を防止することができる。
【0073】
請求項2記載の発明によれば、請求項1記載の半導体発光素子の固着方法において、前記第2の層形成工程では、前記被固着部材の上面に対して斜め上方から金属を蒸着することで前記保護層と前記案内層とを形成するようにしたことから、複雑な工程、例えばマスク工程等を行うことなく容易に保護層と案内層とを形成することができる。
【0074】
請求項3記載の発明によれば、請求項2記載の半導体発光素子の固着方法において、前記被固着部材は、金属が蒸着される側面に下端から上端方向へ伸びて金属が蒸着されない部分を形成するようにそれぞれ間隔を空けて複数個並べられていることから、案内層が被固着部材の下端まで達しないように形成されるので、被固着部材が取り付けられる部材、例えばヒートシンクと半導体発光素子とを電気的に絶縁することができる。
【0075】
請求項4記載の発明によれば、請求項1、2又は3記載の半導体発光素子の固着方法において、前記保護層は、前記ハンダ層を構成する複数の金属の中から選択された金属で形成されていることから、ハンダ層が溶融されたときに保護層が溶けてハンダ層と融合しても、ハンダ層の組成は変化しないので、ハンダ層を溶融してもハンダ層の組成を維持することができる。
【0076】
請求項5記載の発明によれば、請求項1、2、3又は4記載の半導体発光素子の固着方法において、前記ハンダ層はAu−Sn合金で形成されており、前記案内層はAuで形成されていることから、Auの濡れ性がAu−Sn合金に対して良いため、溶融されたハンダ層から流れ出したハンダが案内層に沿って簡単に広がるので、余剰ハンダによる盛り上りの発生を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の第一の実施の形態の半導体レーザ装置に取り付けられた半導体レーザ素子の周辺部分を示す縦断側面図、(b)は半導体レーザ素子が固着されるサブマウントを示す外観斜視図である。
【図2】サブマウントに各種の層を形成する層形成工程の概略を示す縦断側面図である。
【図3】(a)は本発明の第二の実施の形態の半導体レーザ装置に取り付けられた半導体レーザ素子の周辺部分を示す縦断側面図、(b)は半導体レーザ素子が固着されるサブマウントを示す外観斜視図である。
【図4】サブマウントに案内部を形成する案内部形成工程とサブマウントに各種の層を形成する層形成工程との概略を示す縦断側面図である。
【図5】従来の半導体レーザ装置に取り付けられた半導体レーザ素子の周辺部分を示す縦断側面図である。
【符号の説明】
1a 出射面
2a 側面
6 ハンダ層
7 案内層
9 保護層
20a 側面
21 案内部
24 金属部
Claims (5)
- 光を出射するための出射面を有する半導体発光素子が固着される被固着部材の被固着面となる上面に、前記半導体発光素子を固着するためのハンダ層を形成する第1の層形成工程と、
前記ハンダ層の表面を覆う保護層とこの保護層から伸びて前記被固着部材の側面に位置して前記ハンダ層が溶融されたときに前記ハンダ層から流れ出したハンダを前記被固着部材の側面に導く案内層とを一体に形成する第2の層形成工程と、
前記第2の層形成工程後に前記被固着部材の上面に前記ハンダ層及び前記保護層を介して前記被固着部材の前記案内層が形成された側面側に前記出射面を位置付けて前記半導体発光素子を載置する載置工程と、
前記第2の層形成工程後に前記ハンダ層と前記保護層とを溶融する溶融工程と、
前記載置工程及び前記溶融工程後に、前記溶融工程で前記保護層と融合した前記ハンダ層を凝固させる凝固工程と、
を有する半導体発光素子の固着方法。 - 前記第2の層形成工程では、前記被固着部材の上面に対して斜め上方から金属を蒸着することで前記保護層と前記案内層とを形成するようにした請求項1記載の半導体発光素子の固着方法。
- 前記被固着部材は、金属が蒸着される側面に下端から上端方向へ伸びて金属が蒸着されない部分を形成するようにそれぞれ間隔を空けて複数個並べられている請求項2記載の半導体発光素子の固着方法。
- 前記保護層は、前記ハンダ層を構成する複数の金属の中から選択された金属で形成されている請求項1、2又は3記載の半導体発光素子の固着方法。
- 前記ハンダ層はAu−Sn合金で形成されており、
前記案内層はAuで形成されている請求項1、2、3又は4記載の半導体発光素子の固着方法。
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