JP4081246B2 - スライダ支持機構及び倣い装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ベースに支持されたスライダ本体を、水平方向に沿って変位自在に支持するスライダ支持機構及びそれを用いた倣い装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、図10(a)に示すように、倣い装置80は、凹状半球面81aを有する支持台81と、凸状半球面82aを有する揺動ステージ82とを備えている。支持台81の凹状半球面81aと揺動ステージ82の凸状半球面82aとは、同じ曲率半径に設定されている。そして、揺動ステージ82は、それら半球面81a,82aが重なり合うように支持台81に組み付けられ、凹状半球面81aに沿って回動するようになっている。
【0003】
この種の倣い装置80は、例えばワーク83をプレスするのに使用される。その方法としては、図10(b)に示すように、揺動ステージ82の上方に昇降可能に設けられたプレス治具84の下端面にワーク83をエアによって吸着させる。次いで、プレス治具84を下降させ、ワーク83を揺動ステージ82の上端面に押し付けると、揺動ステージ82が回動されてICチップ83に対して倣う。その後、プレス治具84によってワーク83をプレスすれば、ワーク83は均等な荷重で全体がプレスされる。ワーク83としては、例えばICチップ等がある。この場合、ICチップをプレスすることにより、そのICチップに設けられた複数のバンプをレベリングすることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来の倣い装置80においては、プレス治具84にある程度の押し付け荷重を加えることで、ワーク83に揺動ステージ82を倣わせている。ここで、倣い時におけるプレス治具84の押し付け荷重と、その押し付け荷重距離との関係を示すグラフがある。なお、プレス治具84の押し付け荷重距離とは、プレス治具84の中心から外縁までの距離(図10(b)に示す符号a)をいう。図11のグラフから明らかなように、揺動ステージ82とワーク83との摩擦係数が高いほどプレス治具84の押し付け荷重が大きい。すなわち、揺動ステージ82とワーク83が接した後、微小のすべりが生じて倣う。従って、摩擦係数が高いほど、ワーク83にも大きい押し付け荷重が加わることとなり、ワーク83が破損するおそれがある。
【0005】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的は、極めて小さい抵抗力でスライダ本体を変位させることが可能なスライダ支持機構を提供することにある。又、倣い部材を倣わせるときにおいて、ワークが破損するのを防止することが可能な倣い装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項1に記載の発明では、ベースに支持されたスライダ本体を、水平方向に沿って変位自在に支持するスライダ支持機構において、前記スライダ本体及びベースのうち少なくともいずれか一方に、それらが鉛直方向において互いに対峙する面に向けて表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材を設け、前記スライダ本体と前記ベースとは弾性体を介して連接されるとともに該弾性体の弾性力によって前記スライダ本体が前記ベースの中央部にセンタリングされ、前記ベースには前記弾性体の弾性力を調節可能な調節部材を設けたことを要旨とする。
【0007】
請求項2に記載の発明では、請求項1に記載のスライダ支持機構において、前記ベースは前記スライダ本体が配置される収容穴を有する筒状に形成され、前記スライダ本体には水平方向に沿って支持穴が形成されるとともに該支持穴に前記弾性体が遊挿され、前記ベースには前記支持穴と対向する位置に水平方向に沿って貫通孔が形成されるとともに該貫通孔内を進退可能に前記調節部材が挿入され、前記弾性体は前記調節部材に係合されていることを要旨とする。
【0008】
請求項3に記載の発明では、請求項1に記載のスライダ支持機構において、前記スライダ本体は該スライダ本体に対してその軸線方向に移動可能な支持部を有し、前記弾性体は、その第1端部が前記支持部に固定されるとともにその第2端部が前記ベースの外面に固定されることで前記スライダ本体の軸線方向に沿って配置され、前記調節手段は前記支持体の位置を調節することを要旨とする。
【0009】
請求項4に記載の発明では、請求項1〜3のいずれかに記載のスライダ支持機構において、前記ベースには、前記スライダ本体を加圧エアを噴出することによって所定の位置でロックするロック手段が設けられていることを要旨とする。
【0010】
請求項5に記載の発明では、互いに対峙して設けられる倣い部材及びそれを支持する支持部材のうちいずれか一方に凹状半球面を設けるとともに、他方に前記凹状半球面に係合する凸状半球面を設け、前記倣い部材を半球面に沿って回動させながらワークに当接させ、その当接面をワークの特定面に対し平行となるように倣わせる倣い装置において、前記支持部材を変位可能に支持するベースを設け、ベース及び支持部材のうち少なくともいずれか一方に、それらが鉛直方向において互いに対峙する面に向けて表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材を設けるとともに、倣い部材及び支持部材のうち少なくともいずれか一方に、倣い部材及び支持部材が互いに対峙する面に向けて表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材を設けたことを要旨とする。
請求項6に記載の発明では、請求項5に記載の倣い装置において、前記ベースは前記支持部材が配置される収容穴を有する筒状に形成され、前記ベースには、前記ベースと前記支持部材とが水平方向において対峙する面にその表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材が設けられ、該流体噴出材は前記支持部材を所定の位置に変位させて位置決めすることを要旨とする。
【0011】
以下、本発明の「作用」について説明する。
請求項1〜4に記載の発明によると、流体噴出材の表面全体から流体が吹き出されると、ベースとスライダ本体との界面に静圧が発生する。そのため、スライダ本体を極めて小さい抵抗力で変位させることが可能になる。
【0012】
特に請求項4に記載の発明によると、スライダ本体は、ロック手段によって所定の位置にロックされる。例えば、スライダ本体を搬送するときには、それがロックされることによりがたつくのを防止することが可能になる。
【0014】
請求項5に記載の発明によると、倣い部材をワークに当接させると、その当接面はワークの特定面に対して平行となるように倣う。ここで、流体噴出材の表面全体から流体が吹き出されることにより、ベースと支持部材との界面に静圧が発生する。そのため、倣い部材がワークに当接するとき、支持部材は極めて小さい抵抗力で変位する。この結果、倣い部材によってワークにかかる荷重を低減することができ、ワークの破損を確実に防止することが可能になる。
請求項6に記載の発明によると、位置決め手段は、流体圧によってスライダ本体を所定の位置に位置決めする。
【0015】
【発明の実施の形態】
(第1実施形態)
以下、本発明のスライダ支持機構を倣い装置に使用されるセンタリングデバイスに具体化した第1実施形態を図面に基づき詳細に説明する。
【0016】
図1は、倣い装置10の断面図を示し、同図の上下方向を鉛直方向とし、左右方向を水平方向とする。図1,図2に示すように、倣い装置10は、スライダ支持機構としてのセンタリングデバイス11を備えている。センタリングデバイス11のベース12の中央部には、上側が開口され、鉛直方向に沿って延びる収容穴14が凹設されている。この収容穴14内には、スライダ本体としての倣い装置本体15が水平方向に沿って変位可能に遊挿されている。本実施形態において、装置本体15が変位する距離は、数μmとなっている。
【0017】
前記収容穴14の下部におけるベース12の底面には、下部エア噴出材17が配設されている。下部エア噴出材17は、薄板状に形成され、その表面は収容穴14の底面と同一になっている。この下部エア噴出材17は多孔質であって、その形成材料として例えば焼結アルミニウム、焼結銅、焼結ステンレス等の金属材料を使用することができる。その他にも、焼結三ふっ化樹脂、焼結四ふっ化樹脂、焼結ナイロン樹脂、焼結ポリアセタール樹脂等のような合成樹脂材料や、焼結カーボン、焼結セラミックス等が使用可能である。
【0018】
ベース12において下部エア噴出材17の裏側に位置する箇所には、図示しないエア供給手段及びエア吸引手段に接続された下部エア通路18が形成されている。そして、エア供給手段によって下部エア通路18に流体としてのエアが供給されると、下部エア噴出材17の表面全体から、倣い装置本体15の下面に向けてエアが均等に噴出される。これにより、ベース12の底面と倣い装置本体15の下面との間に静圧が発生するようになっている。反対に、エア吸引手段によって下部エア通路18からエアが吸引されると、下部エア噴出材17の表面全体から均等にエアが吸引される。
【0019】
倣い装置本体15の外周を囲むベース12の側壁(壁部)20の内周面には、環状の側部エア噴出材21が配設されている。側部エア噴出材21は、薄板状に形成され、その表面はベース12の側壁20の内周面と同一になっている。この側部エア噴出材21は、前記下部エア噴出材17と同じ多孔質材料から構成されている。ベース12において側部エア噴出材21の裏側に位置する箇所には図示しないエア供給手段に接続された側部エア通路22が形成されている。
【0020】
そして、エア供給手段によって側部エア通路22にエアが供給されると、側部エア噴出材21の表面全体から、倣い装置本体15の外周面に向けてエアが均等に噴出される。これにより、ベース12の側壁と倣い装置本体15の外周面との間に静圧が発生するようになっている。つまり、倣い装置本体15の外周面全体に向けて側部エア噴出材21の表面からエアが噴出されるので、倣い装置本体15はエア圧によってベース12の中央にセンタリングされる。従って、本実施形態では、側部エア噴出材21によってセンタリング手段が構成されている。
【0021】
続いて、倣い装置本体15について説明する。
図1,図2に示すように、倣い装置本体15は、支持部材としての支持台25を備え、その上面には、表面に凹状半球面26aを有する倣い用エア噴出材26が設けられている。倣い用エア噴出材26は、前記下部エア噴出材17と同じ多孔質材料から構成されている。
【0022】
支持台25において倣い用エア噴出材26の凹状半球面26aと対峙する箇所には、ワーク32が押し付けられる倣い部材としての揺動ステージ28が設けられている。揺動ステージ28の上方には、ワーク32を吸着可能なプレス治具31が揺動ステージ28に対して接近可能に設けられている。プレス治具31にはその下端面において開口するエア吸引通路31aが設けられている。そして、このエア吸引通路31aを介してエアが吸引されることにより、プレス治具31の下端面にワーク32が吸着される。
【0023】
揺動ステージ28の下面には、凸状半球面28aが形成され、この凸状半球面28aの曲率半径は、前記凹状半球面26aの曲率半径と同じになっている。よって、揺動ステージ28の凸状半球面28aが倣い用エア噴出材26の凹状半球面26aに重なり合うように係合され、揺動ステージ28は凹状半球面26aに沿って回動する。
【0024】
支持台25において倣い用エア噴出材26の裏側に位置する箇所には図示しないエア供給手段及びエア吸引手段に接続されたエア通路30が形成されている。そして、エア供給手段によってエア通路30にエアが供給されると、倣い用エア噴出材26の凹状半球面26aの表面全体からエアが均等に噴出される。これにより、支持台25と揺動ステージ28との間に静圧が発生するようになっている。反対に、エア吸引手段によってエア通路30からエアが吸引されると、倣い用エア噴出材26の凹状半球面26aの表面全体から均等にエアが吸引される。
【0025】
本実施形態では、揺動ステージ28の上面にその回動中心Cが存在している。ちなみに、揺動ステージ28が振れる最大角度(最大倣い角度)θは、図5に示す平常時のバランス状態を0゜とした場合に、±0.5゜の範囲に設定されている。ここでいうバランス状態とは、揺動ステージ28の中心線に対し、支持台25の中心線が一致していることをいう。よって、支持台25の中心線に対し揺動ステージ28の中心線がずれている角度が倣い角度θとなる。
【0026】
次に、上記のように構成された倣い装置10によってワークとしてのICチップに設けられた複数のバンプをレベリングするには次のように行う。
図4(a)に示すように、各エア噴出材17,21からエアが噴出されると、倣い装置本体15とベース12との間に静圧が生じ、倣い装置本体15は非接触状態となる。しかも、側部エア噴出材21から噴出されるエア圧により倣い装置本体15は、ベース12に形成された収容穴14の中心部にセンタリングされる。それとともに、倣い用エア噴出材26の表面からエアが噴出されると、支持台25と揺動ステージ28との間に静圧が生じ、揺動ステージ28は非接触状態となる。このような状態で、プレス治具31の下端面にワーク32が吸着され、そのプレス治具31が下降する。
【0027】
すると、図4(b)に示すように、揺動ステージ28にプレス治具31が接近され、プレス治具31がワーク32に当接する直前において、側部エア噴出材21の表面から噴出しているエアの供給が停止される。つまり、下部エア噴出材17の表面のみからエアが噴出されることとなり、収容穴14の中心部以外の位置に極めて小さい抵抗力で変位可能な状態になる。要するに、倣い装置本体15は水平方向への変位が許容されることとなる。このような状態で、プレス治具31の下端面(先端面)が揺動ステージ28のワーク32に当接する。
【0028】
すると、ワーク32の当接面(下端面)が水平面に対して傾斜していれば、揺動ステージ28はその当接面に対し平行となるように倣う。このとき、図4(b)に示すように、揺動ステージ28の右側が下に傾けば、倣い装置本体15は、揺動ステージ28が傾いた方向とは逆の方向、つまり左側へ変位する。反対に、図示しないが、揺動ステージ28が左側に傾けば、倣い装置本体15は右側へ変位する。この変位により、ワーク32に対するプレス治具31の押し付け荷重を小さくして、揺動ステージ28を倣わせることが可能となる。
【0029】
図5に示すように、倣い装置本体15が変位する距離をΔL、プレス治具31とワーク32とが当接している部分において、揺動ステージ28の回動中心Cから外縁までの距離をa、揺動ステージ28の倣い角度をθとする。すると、倣い装置本体15が変位する距離は、ΔL=a・tanθ・sinθとなる。
【0030】
すなわち、ワーク32と揺動ステージ28の接触点がすべるのではなく、倣い装置本体15が極めて小さい抵抗力でΔL変位して倣うことが可能になる。
図4(c)に示すように、倣い用エア噴出材26の表面から噴出するエアの供給が停止され、エア通路30内のエアが吸引される。すると、倣い用エア噴出材26の凹状半球面26aの表面にはエアによる吸引力が働く。つまり、揺動ステージ28を支持台25に引き寄せようとする力が働く。これにより、支持台25に対して揺動ステージ28は押圧されて回動不能となる。この結果、揺動ステージ28は、その凸状半球面28aと倣い用エア噴出材26の凹状半球面26aとの間に生じる摩擦力により、プレス治具31の下端面に倣った状態に保持される。倣いを終えた後、図4(d)に示すように、プレス治具31が上昇され、側部エア噴出材21の表面全体からエアが噴出される。これにより、倣い装置本体15は変位した位置から、収容穴14の中央位置にセンタリングされる。
【0031】
更に、図4(e)に示すように、下部エア噴出材17の表面から噴出するエアの供給が停止され、エア通路18内のエアが吸引される。これにより、下部エア噴出材17の表面にはエアによる吸引力が働く。すると、ベース12の底面に倣い装置本体15が押圧される。そのような状態で、プレス治具31が下降されることにより、ワーク32が所定の荷重で押圧される。
【0032】
前記ワーク32としては、例えばICチップ等がある。図3に示すように、プレス治具31によってICチップを押圧すれば、そこに設けられた各バンプがレベリングされる。バンプをレベリングすることにより、ICチップの下端面に対して各バンプの上端面が平行になる。ちなみに、その平行度は1μmとなっている。なお、図3に示すICチップは、説明を分かり易くするために、実際のものよりも誇張して描いてある。
【0033】
本実施形態の特徴を以下に示す。
(1) ベース12に形成された収容穴14の底面には下部エア噴出材17が設けられ、その下部エア噴出材17から噴出されるエアによってセンタリングデバイス11と倣い装置本体15との間に静圧を発生させることができる。そして、その静圧によって倣い装置本体15を水平方向へ極めて小さい抵抗力で変位させることができる。従って、プレス治具31に吸着されたワーク32に対して揺動ステージ28を倣わせるときに、極めて小さい(ほぼゼロに近い)抵抗力で倣い装置本体15を僅かに変位させることができる。この結果、プレス治具31をワーク32に強く押し付けることなく、揺動ステージ28を倣わせることができ、ワーク32が破損するのを防止することができる。特に、ワーク32がICチップ等のような脆弱なものである場合には効果的である。
【0034】
(2) 下部エア噴出材17の表面全体から吹き出すエアによる静圧で倣い装置本体15を水平方向へ変位可能になっているため、ベース12と倣い装置本体15とが機械的に接触する部分がない。このことから、例えばボールベアリングを介して倣い装置本体15を水平方向へ変位させることに比べて、バックラッシが全くない。従って、倣い装置本体15をスムーズに変位させることができ、ワーク32に悪影響が及ぶのを防止することができる。
【0035】
(3) ベース12と倣い装置本体15とが機械的に接触する部分がないので、潤滑油を使用しなくてもよい。そのため、ベース12の収容穴14内にゴミ等の異物が付着しなくなる。よって、衛生管理の厳しい環境下、例えば半導体製造工場、食品加工工場等での使用が可能になる。
【0036】
(4) ベース12の側壁20の内周面には、側部エア噴出材21が設けられている。そして、この側部エア噴出材21からエアが吹き出されることにより、ベース12に形成された収容穴14の中央部に装置本体15がセンタリングされる。よって、装置本体15とベース12の側壁20の内周面との間の間隔を、どの部位であってもほぼ同じにできる。換言すれば、それらの間隔が特定の箇所で狭められていることはない。従って、装置本体15が変位するとき、その変位量が設計通りの範囲内であることを満たせば、装置本体15が側壁20の内周面に当たるのを確実に防止することができる。
【0037】
(5) 側部エア噴出材21は装置本体15の外周面に対峙するように環状に形成されているため、装置本体15の外周面に対してエアを均一に当てることができる。従って、ベース12に形成された収容穴14の中央部に装置本体15を高精度にセンタリングすることができる。
【0038】
(第2実施形態)
次に、スライダ支持機構をチャック装置に使用されるセンタリングデバイスに具体化した第2実施形態を図面に基づき詳細に説明する。
【0039】
図6,図7に示すように、チャック装置50は、スライダ支持機構としてのセンタリングデバイス49を備えており、そのセンタリングデバイス49のベース51には、下側が開口された収容穴52が凹設され、その収容穴52内には、スライダ本体としてのチャック装置本体53の上端部が遊挿されている。収容穴52内におけるベース51の内底面及び内頂面には、リング状の上下両エア噴出材54,55が配設されている。各エア噴出材54,55は多孔質であって、その形成材料としては、前記第1実施形態に示すエア噴出材17と同じである。
【0040】
ベース51における各エア噴出材54,55の裏側に位置する箇所には、図示しないエア供給手段に接続されたエア通路56,57が形成されている。そして、エア供給手段によって上部エア噴出材54の表面全体から下側に向けて噴出されるとともに、下部エア噴出材55の表面全体から上側に向けて噴出される。
【0041】
次に、チャック装置本体53について説明する。
チャック装置本体53は、断面T字状の吊下部材58と、その下端部に設けられたチャック機構59とから構成されている。チャック機構59には互いに接近又は離間可能な一対の挟持アーム59aが設けられ、この挟持アーム59aによってワーク60が挟持される。ワーク60としては例えば光ファイバの芯線やDVD用レンズがある。
【0042】
前記吊下部材58の上端部は外方へ張り出され、そのスライダ部58aの上下両面に対し、前記各エア噴出材54,55からのエアが吹き当てられるようになっている。そして、吊下部材58の上端部に形成された円柱状のスライダ部58aと各エア噴出材54,55との間に、エアによる静圧が生じるようになっている。スライダ部58aの外周面には、複数(本実施形態では4つ)のバネ支持穴61が凹設され、各バネ支持穴61内には、位置決め手段としての圧縮バネ62が遊挿されている。その圧縮バネ62は、同一円周上に等間隔に配置され、それらの弾性力によって吊下部材58を収容穴52の中央部にセンタリングされる。圧縮バネ62はバネ支持穴61から外部に突出され、その突出部分は、ベース51の側壁に螺合されたアジャスタ63に係合支持されている。圧縮バネ62の存在により、チャック装置本体53がその中心軸線周りに回動するのが防止される。
【0043】
アジャスタ63は進退可能となっており、アジャスタ63の位置を変更することにより圧縮バネ62の弾性力を調節できるようになっている。つまり、アジャスタ63をベース51の内側に位置させるほど圧縮バネ62の弾性力を大きくでき、外側に位置させるほど圧縮バネ62の弾性力を弱くすることが可能になる。
【0044】
ベース51の中央内頂部においてスライダ部58aの上方に位置する箇所には、ロック手段としてのエア吸引凹部65が形成されている。このエア吸引凹部65は、図示しないエア吸引手段に接続されている。そして、エア吸引手段によってエア吸引凹部65からエアが吸引されると、スライダ部58aは上部エア噴出材54に引き付けられる。
【0045】
次に、上記のように構成されたチャック装置50を用いてワーク60を搬送するには次のように行う。
図8(a)に示すように、搬送前において、ワーク60は接着剤によって設置面に着脱可能に取り付けられ、そのワーク60から離れた上方位置にチャック装置50が配置されているものとする。そして、上下両エア噴出材54,55からエアが噴出されると、チャック装置本体53は非接触状態でベース51に支持される。この状態で、チャック装置50が下降されると、そのチャック機構59はワーク60に接近する。
【0046】
図8(b)に示すように、ワーク60がチャック機構59によって把持された後、上下両エア噴出材54,55からエアの吹き出しが停止されるとともに、エア吸引手段によりエア吸引凹部65からエアが真空引きされる。すると、吊下部材58の上端面は上部エア噴出材54に引き付けられる。これにより、チャック装置本体53は所定の位置にロックされることとなる。この状態でチャック装置50が上昇すると、設置面からワーク60が引き離される。そして、チャック装置50が上昇され、ワーク60の搬送先であるワーク挿入穴66の上部に移動される。この移動時において、チャック装置本体53はロックされているため、不用意にがたつくことはない。
【0047】
図8(c)に示すように、チャック装置50がワーク挿入穴66のほぼ真上に位置したところで、チャック装置50が下降される。すると、ワーク挿入穴66の外端にワーク60を挿入する直前にエア吸引凹部65からの真空引きが解除される。それとともに、エア通路56,57にエアが供給され、上下両エア噴出材54,55からエアが吹き出される。この状態で、チャック装置50がさらに下降されると、ワーク60がワーク挿入穴66内に挿入される。ここで、ワーク挿入穴66からワーク60が若干位置ずれしていると、ワーク60の下端がワーク挿入穴66に形成されたテーパ部66aに当たる。このとき、チャック装置本体53は非接触状態でベース51に支持されていることから、極めて小さい抵抗力でチャック装置本体53が水平方向に変位する。この変位によって、ワーク60にかかる荷重を低減することが可能になる。
【0048】
本実施形態の特徴を以下に示す。
(1)ベース51に形成された収容穴52の上下両面にはエア噴出材54,55がそれぞれ設けられている。そして、各エア噴出材54,55から噴出されるエアによって、センタリングデバイス49とチャック装置本体53の上端部との間には静圧が発生するようになっている。従って、ワーク挿入穴66にワーク60を挿入するときにおいて、ワーク60がワーク挿入穴66のテーパ部66aに当たっても、極めて小さい抵抗力でチャック装置本体53を変位させることができる。この結果、ワーク60に大きな荷重がかかるのを防止でき、ワーク60が破損するのを防止することができる。特に、ワーク32が例えば光ファイバの芯線やDVD用レンズ等のようなものである場合には効果的である。
【0049】
(2)ワーク60を搬送するときには、センタリングデバイス49にチャック装置本体53がロックされる。従って、搬送中にチャック装置本体53ががたついたりしてワーク60が周囲の機器に当たる等して破損するのを未然に防ぐことができる。
【0050】
(3)センタリングデバイス49には複数の圧縮バネ62が設けられ、それらの弾性力によって、チャック装置本体53がロックされているとき以外は、吊下部材58を収容穴52の中央部に常にセンタリングすることができる。そのため、吊下部材58のスライダ部58aの外周面と収容穴52の内周面との間の間隔をどの部位であってもほぼ同じにすることができる。従って、チャック装置本体53が変位するときに、その変位量が設計通りの範囲内であれば、チャック装置本体53がセンタリングデバイス49に当たるのを確実に防止できる。
【0051】
なお、本発明の実施形態は以下のように変更してもよい。
・ 第2実施形態の別例として図9に示す構成としてもよい。すなわち、センタリングデバイス49に設けた複数の圧縮バネ62を吊下部材58に圧縮バネ68を外挿する。そして、その圧縮バネ68の下端を吊下部材58に螺合したバネ支持部69に固定するとともに、上端をセンタリングデバイス49の下面に固定する。吊下部材58を固定する手段としては接着剤が好ましい。この構成を採用しても、チャック装置本体53をセンタリングすることができるとともに、チャック装置本体53がその中心軸線周りに回動するのを防止することができる。しかも、第2実施形態と比較して圧縮バネ62を省略できる分だけセンタリングデバイス49を小型化することができる。それとともに、圧縮バネ68の数が1つで済むので、組み付け工数を低減でき、結果として製造コストの低減を図ることができる。又、ネジ70によってバネ支持部69を吊下部材58の軸線方向に沿って移動調節できるようにしてもよい。この構成を採用すれば、圧縮バネ68の弾性力を調節することができる。
【0052】
・ 前記第1実施形態では、センタリングデバイス11側のみにエア噴出材17を設けた。その他の構成として、装置本体15の支持台25の下面にもエア噴出材を設けてもよい。そして、センタリングデバイス11及び装置本体15の両側からエアを吹き出すようにしてもよい。或いは、装置本体15の支持台25の下面のみにエア噴出材を設けてもよい。
【0053】
・ 前記第2実施形態では、センタリングデバイス49側のみに、エア噴出材54,55を設けた。その他の構成として、スライダ部58aの上下両面にエア噴出材をそれぞれ設けてもよい。そして、センタリングデバイス49及びチャック装置本体53の両側からエアを吹き出すようにしてもよい。或いは、スライダ部58aの上下両面のみにエア噴出材を設けてもよい。
【0054】
・ 前記第2実施形態では、センタリングデバイス49の収容穴52の上下両面にエア噴出材54,55を設けたが、下部エア噴出材55のみとしてもよい。
・ 前記第2実施形態では、エア等の流体の圧力でチャック装置本体53をロックしたが、これ以外にもモータ等の電動アクチュエータでロックするようにしてもよい。
【0055】
・ 前記第2実施形態では、エア吸引凹部65からエアを吸引することで、スライダ部58aは上部エア噴出材54に引き付け、チャック装置本体53をロックした。これ以外に、エア吸引凹部65を、加圧エアを噴出するエア加圧凹部としてもよい。こうした場合であっても、エア加圧凹部からエアを噴出することにより、スライダ部58aを下部エア噴出材55に押さえ付けることができ、チャック装置本体53をロックすることができる。
【0056】
・ 前記実施形態では、側部エア噴出材21を環状に形成したが、四角状といったように角形状に変更することも許容される。
次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に示す。
【0057】
(1) 前記ベースは前記スライダ本体が配置される収容穴を有する筒状に形成され、その側壁の内周面には流体圧によってスライダ本体を前記収容穴の中央部に寄せるセンタリング手段が設けられていることを特徴とするスライダ支持機構。
【0058】
(2) 前記流体噴出材は気体を通過させることが可能な多孔質材であることを特徴とするスライダ支持機構。
(3) 前記位置決め手段は、気体を通過させることが可能な多孔質材からなり、その多孔質材の表面全体からスライダ本体に向けて気体が吹き出されることを特徴とするスライダ支持機構。
【0059】
(4) 前記ベースは前記スライダ本体が配置される収容穴を有する筒状に形成され、前記位置決め手段は、スライダ本体を前記収容穴の中央部に寄せることを特徴とするスライダ支持機構。
【0060】
(5) 前記ロック手段は、流体圧によってスライダ本体をベースに対して吸引するものであることを特徴とするスライダ支持機構。
【0061】
(6) 前記流体噴出材は気体を通過させることが可能な多孔質材であることを特徴とする倣い装置。
(7) 支持部材と倣い部材との界面には、表面全体から流体を吹き出すことが可能な流体噴出材が設けられている倣い装置。この構成にすれば、流体噴出材から流体を吹き出させることにより、支持部材と倣い部材との界面に静圧を発生させることができる。従って、支持部材に対する倣い部材の摩擦をゼロにすることができ、高精度な倣いを行うことができる。
【0062】
(8) 互いに対峙して設けられる倣い部材及びそれを支持する支持部材のうちいずれか一方に凹状半球面を設けるとともに、他方に前記凹状半球面に係合する凸状半球面を設け、前記倣い部材を半球面に沿って回動させながらワークに当接させ、その当接面をワークの特定面に対し平行となるように倣わせる倣い方法において、倣い部材をワークに当接する際に、それらが互いに当接する方向に対し直交する方向へ支持部材を変位させるようにしたことを特徴とする倣い方法。
【0063】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項1〜4に記載の発明によれば、極めて小さい抵抗力でスライダ本体を変位させることができる。
【0064】
請求項5及び6に記載の発明によれば、倣い部材を倣わせるときにおいて、ワークが破損するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態における倣い装置の断面図。
【図2】倣い装置の平面図。
【図3】ICチップの概略図。
【図4】(a)〜(d)は倣い装置の動作を示す説明図。
【図5】倣い装置本体15の変位量を示す説明図。
【図6】第2実施形態におけるチャック装置の断面図。
【図7】図6の7−7断面図。
【図8】(a)〜(c)はチャックの動作を示す説明図。
【図9】別の実施形態を示すチャックの断面図。
【図10】(a),(b)は従来技術を示す倣い装置の断面図。
【図11】倣い荷重とその荷重距離との関係を示すグラフ。
【符号の説明】
11…センタリングデバイス(スライダ支持機構)、12…ベース、15…倣い装置本体(スライダ本体)、17…下部エア噴出材(流体噴出材)、20…側壁(壁部)、21…側部エア噴出材(位置決め手段)、25…支持台(支持部材)、32…ワーク、28…揺動ステージ(倣い部材)、28a…凸状半球面、25…支持台(支持部材)、26a…凹状半球面、49…センタリングデバイス(スライダ支持機構)、51…ベース、54…上部エア噴出材(流体噴出材)、55…下部エア噴出材(流体噴出材)、53…チャック装置本体(スライダ本体)、60…ワーク、62…圧縮バネ(位置決め手段)、65…エア吸引凹部(ロック手段)。
Claims (6)
- ベースに支持されたスライダ本体を、水平方向に沿って変位自在に支持するスライダ支持機構において、
前記スライダ本体及びベースのうち少なくともいずれか一方に、それらが鉛直方向において互いに対峙する面に向けて表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材を設け、前記スライダ本体と前記ベースとは弾性体を介して連接されるとともに該弾性体の弾性力によって前記スライダ本体が前記ベースの中央部にセンタリングされ、前記ベースには前記弾性体の弾性力を調節可能な調節部材を設けたことを特徴とするスライダ支持機構。 - 前記ベースは前記スライダ本体が配置される収容穴を有する筒状に形成され、前記スライダ本体には水平方向に沿って支持穴が形成されるとともに該支持穴に前記弾性体が遊挿され、前記ベースには前記支持穴と対向する位置に水平方向に沿って貫通孔が形成されるとともに該貫通孔内を進退可能に前記調節部材が挿入され、前記弾性体は前記調節部材に係合されていることを特徴とする請求項1に記載のスライダ支持機構。
- 前記スライダ本体は該スライダ本体に対してその軸線方向に移動可能な支持部を有し、前記弾性体は、その第1端部が前記支持部に固定されるとともにその第2端部が前記ベースの外面に固定されることで前記スライダ本体の軸線方向に沿って配置され、前記調節手段は前記支持体の位置を調節することを特徴とする請求項1に記載のスライダ支持機構。
- 前記ベースには、前記スライダ本体を加圧エアを噴出することによって所定の位置でロックするロック手段が設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のスライダ支持機構。
- 互いに対峙して設けられる倣い部材及びそれを支持する支持部材のうちいずれか一方に凹状半球面を設けるとともに、他方に前記凹状半球面に係合する凸状半球面を設け、前記倣い部材を半球面に沿って回動させながらワークに当接させ、その当接面をワークの特定面に対し平行となるように倣わせる倣い装置において、
前記支持部材を変位可能に支持するベースを設け、ベース及び支持部材のうち少なくともいずれか一方に、それらが鉛直方向において互いに対峙する面に向けて表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材を設けるとともに、倣い部材及び支持部材のうち少なくともいずれか一方に、倣い部材及び支持部材が互いに対峙する面に向けて表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材を設けたことを特徴とする倣い装置。 - 前記ベースは前記支持部材が配置される収容穴を有する筒状に形成され、前記ベースには、前記ベースと前記支持部材とが水平方向において対峙する面にその表面全体から流体を吹き出させることが可能な流体噴出材が設けられ、該流体噴出材は前記支持部材を所定の位置に変位させて位置決めすることを特徴とする請求項5に記載の倣い装置。
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