JP4056488B2 - 半導体装置の試験方法及び製造方法 - Google Patents
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Description
これらのフェイルメモリの論理演算(例えばAND)をとることにより、フェイルビットとその予備群の両方を救済する工程を含む。
フェイルメモリの逆データパターンをマスクデータとする工程と、
前記マスクデータを用いてもう一方の符号のパス/フェイル判定を導くことにより、フェイルビットとその予備群の両方のアドレスを決定し、冗長セルで救済するセルを導く。
(A1)全ビットに所定値データを書き込む工程と、
(A2)積符号の第1の符号による符号化として、半導体記憶装置のデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを半導体記憶装置に書き込む工程と、
(A3)所定期間のリフレッシュを行う工程と、
(A4)第1の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
(A5)メモリアレイの全ビットを読み出しパス/フェイルを判定し第1のフェイルマップを作成する工程と、
(A6)全ビットに所定値データを書き込む工程と、
(A7)積符号の第2の符号による符号化として、半導体記憶装置のデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを半導体記憶装置に書き込む工程と、
(A8)所定期間のリフレッシュを行う工程と、
(A9)第2の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
(A10)メモリアレイの全ビットを読み出しパス/フェイルを判定し第2のフェイルマップを作成する工程と、
(A11)第1、第2のフェイルマップの所定の論理演算(例えばAND)をとり、論理演算から、冗長セルによる救済を行うセル(アドレス)を決定する工程と、を含む。
(B1)全ビットに所定値データを書き込む工程と、
(B2)積符号の第1の符号による符号化として、半導体記憶装置のデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを半導体記憶装置に書き込む工程と、
(B3)所定期間のリフレッシュを行う工程と、
(B4)第1の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
(B5)メモリアレイの全ビットを読み出しパス/フェイルを判定し第1のフェイルマップを作成する工程と、
(B6)前記第1のフェイルマップの相補パターンをマスクパターンとして作成する工程と、
(B7)全ビットに所定値データを書き込む工程と、
(B8)積符号の第2の符号による符号化として、半導体記憶装置のデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを半導体記憶装置に書き込む工程と、
(B9)所定期間のリフレッシュを行う工程と、
(B10)第2の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
(B11)メモリアレイの全ビットを読み出しパス/フェイルを判定し、前記マスクパターンによりマスクすることで、第2のフェイルマップを作成し、冗長セルによる救済を行うセル(アドレス)を決定する工程と、を含む。
20 ECCコントローラ
30 パリティ生成/シンドローム演算回路
31 パリティ生成回路
32 シンドローム演算回路
40 冗長救済用コントローラ
100 バンク
101 符号器/復号器
102 ライトバッファ/メインアンプ
103 SDRAMインタフェース
104 ECCコントローラ
201 符号化1回路
202 符号化2回路
203 復号1回路
204 復号2回路
205 アドレス生成回路
206 出力レジスタ
207〜212 スイッチ
Claims (8)
- メモリの誤り訂正を行うために積符号のECC(error checking and correcting)回路を備えた半導体装置の試験方法において、
積符号の第1、第2の符号からそれぞれ独立に訂正動作による第1、第2のパス/フェイル判定結果を取得し、第1、第2のフェイルメモリに記録する工程と、
前記第1及び第2のフェイルメモリに関して所定の論理演算をとることにより、フェイルビットとその予備群の両方を救済する工程と、
を含む、ことを特徴とする試験方法。 - メモリの誤り訂正を行うために積符号のECC(error checking and correcting)回路を備えた半導体装置の試験方法において、
積符号の1つの符号によるパス/フェイル判定結果を導きフェイルメモリに記録する工程と、
前記フェイルメモリの相補のパターンをマスクデータとする工程と、
前記マスクデータを用いて他方の符号のパス/フェイル判定を導くことにより、フェイルビットとその予備群の両方を救済する工程と、
を含む、ことを特徴とする試験方法。 - 積符号によるパリティデータ格納領域を有するメモリアレイを含むダイナミック型の半導体記憶装置の試験方法において、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第1の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを、前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから、第1の符号を読み出して、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、第1のフェイルメモリに記録する工程と、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第2の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから第2の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、第2のフェイルメモリに記録する工程と、
前記第1のフェイルメモリと前記第2のフェイルメモリの所定の論理演算をとり、冗長セルによる救済を行うセルを導く工程と、
を含む、ことを特徴とする試験方法。 - 積符号によるパリティデータ格納領域を有するメモリアレイを含むダイナミック型の半導体記憶装置の試験方法において、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第1の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから第1の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、第1のフェイルメモリに記録する工程と、
前記第1のフェイルメモリの相補パターンをマスクデータとして作成する工程と、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第2の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから第2の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、フェイル情報を、前記マスクデータでマスクしたフェイル情報を作成し、冗長セルによる救済を行うセルを導く工程と、
を含む、ことを特徴とする試験方法。 - メモリの誤り訂正を行うために積符号のECC(error checking and correcting)回路を備えた半導体装置の製造方法であって、
積符号の第1、第2の符号からそれぞれ独立に訂正動作による第1、第2のパス/フェイル判定結果を取得し、第1、第2のフェイルメモリに記録する工程と、
前記第1及び第2のフェイルメモリに関して所定の論理演算をとることにより、フェイルビットとその予備群の両方を救済する工程と、
を含む、ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - メモリの誤り訂正を行うために積符号のECC(error checking and correcting)回路を備えた半導体装置の製造方法であって、
積符号の1つの符号によるパス/フェイル判定結果を導きフェイルメモリに記録する工程と、
前記フェイルメモリの相補のパターンをマスクデータとする工程と、
前記マスクデータを用いて他方の符号のパス/フェイル判定を導くことにより、フェイルビットとその予備群の両方を救済する工程と、
を含む、ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 積符号によるパリティデータ格納領域を有するメモリアレイを含むダイナミック型の半導体記憶装置の製造方法において、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第1の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを、前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから、第1の符号を読み出して、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、第1のフェイルメモリに記録する工程と、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第2の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから第2の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、第2のフェイルメモリに記録する工程と、
前記第1のフェイルメモリと前記第2のフェイルメモリの所定の論理演算をとり、冗長セルによる救済を行うセルを導く工程と、
を含む、ことを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。 - 積符号によるパリティデータ格納領域を有するメモリアレイを含むダイナミック型の半導体記憶装置の製造方法において、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第1の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから第1の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、第1のフェイルメモリに記録する工程と、
前記第1のフェイルメモリの相補パターンをマスクデータとして作成する工程と、
前記メモリアレイに所定値データを書き込む工程と、
積符号の第2の符号による符号化として、前記メモリアレイのデータを読み出し、パリティを生成し、生成したパリティを前記メモリアレイに書き込む工程と、
所定期間のリフレッシュを行う工程と、
前記メモリアレイから第2の符号を読み出し、復号し、訂正ビットを書き込む工程と、
前記メモリアレイを読み出してパス/フェイルを判定し、フェイル情報を、前記マスクデータでマスクしたフェイル情報を作成し、冗長セルによる救済を行うセルを導く工程と、
を含む、ことを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。
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