JP4048783B2 - 電子装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば発光素子等からなる部品を用いた電子装置の製造方法に関するものである。
【0002】
従来、微細な電子部品、電子デバイス及びそれらをプラスチックのような絶縁体に埋め込んでなる回路部品等を実装基板上に実装する方法としては、実装する回路部品を仮固定する支持基板から、プリント配線基板である転写(実装)基板に貼りあわせて転写する方法がある。
【0003】
この転写方法としては、先ず、図4(a)に示すように、プリント配線基板59上の所定の位置に、蒸着法やスパッタリング等により薄膜配線としての配線58をパターン化して形成し、更に、このプリント配線基板59及び配線58を覆うように接着剤(樹脂)層52をプリント配線基板59上に塗布形成する。
【0004】
次に、図4(b)に示すように、電子部品51の供給源となる基板53上に、ポリイミドからなる剥離犠牲接着剤(樹脂)層68によって電子部品51を所定の間隔で仮固定し、これを樹脂層52を塗布形成したプリント配線基板59に対向させる。電子部品51は、リード線65によって接続された外部端子60及び発光素子61とこれらを覆うモールド樹脂66とからなる。
【0005】
次に、図4(c)に示すように、基板53上に仮固定された複数の電子部品51をプリント配線基板59上の樹脂層52に接触させ、その後、基板53の外側から紫外線のパルスレーザー光70を照射して、レーザーアブレーション(焼灼)によって、ポリイミドからなる剥離犠牲樹脂層68を蒸発させて接着力を減少させ、図4(d)に示すように、複数の電子部品51を基板53から剥離して、プリント配線基板59上に一括して全面転写することができる。
【0006】
この時に、プリント配線基板59上には樹脂層52が既に塗布形成されていると共に、電子部品51の上面には剥離犠牲樹脂層68の蒸発しきれなかった残留物68aが付着し、更にプリント配線基板59上にはレーザーアブレーションによって蒸発した剥離犠牲樹脂層68の残滓物(図示せず)も付着する。
【0007】
次に、図5(e)に示すように、この状態でプリント配線基板59上の樹脂層52及び電子部品51の上に、保護層となる絶縁層62を形成する。
【0008】
次に、図5(f)に示すように、電子部品51内の外部端子60上のモールド樹脂66、剥離犠牲樹脂層68a及び絶縁層62、及び配線58上の樹脂層52及び絶縁層62に、配線接続用のビアホール64をレーザ処理等によって形成する。
【0009】
最後に、図6(g)に示すように、ビアホール64内及び絶縁層62上に配線63をスパッタ法等によって形成し、電子部品51をプリント配線基板59に対し電気的に接続し、実装を終了する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
上記の実装方法においては、図4(c)の工程で、電子部品51と仮固定用の基板53との接触面において、紫外線のパルスレーザーを用いてレーザーアブレーションを生じさせるために、レーザー照射によって蒸発し易いPI(ポリイミド)等からなる剥離犠牲樹脂層68を接着剤として形成するのが一般的な方法である。
【0011】
そして、この剥離犠牲樹脂層68は、図4(d)に示したように、レーザーアブレーションの際に、電子部品51の上部に一部が蒸発せずに残滓物68aとして残留する。
【0012】
このため、図5(f)に示したように、プリント配線基板59に転写固定した電子部品51上にビアホール64を形成して導通を取る(電気的に接続する)準備をする際に、剥離犠牲樹脂層68aの材質が絶縁層62及びモールド樹脂66の材質と異なるために、ビアホール64aに示すように、ビアホール64が剥離犠牲樹脂層68に阻まれて発光素子61の外部端子60まで形成できなかったり、或いはビアホール64bに示すように、外部端子60まで到達できたとしても、剥離犠牲樹脂層68aとモールド樹脂層66との界面付近に凹状部(空洞)が生じてしまう。
【0013】
それゆえに、図6(g)に示すように、この状態で更に配線63をビアホール64a及び64b内等にスパッタ法等で形成すると、例えば、配線63と外部端子60との電気的な接続ができなかったり、或いは、剥離犠牲樹脂層68とモールド樹脂層66との界面付近において配線63が連続して形成できずに配線63の段切れが生じてしまう。
【0014】
また、電子部品51をプリント配線基板59上に実装(固定)する場合には、予め樹脂層52又ははんだ等を、プリント配線基板59上若しくは電子部品51の下面(プリント配線基板59に固定する面)に、選択的に形成(パターニング)しておくことがあるが、上述の全面転写方法の場合には、複数の電子部品51全てに樹脂層52又ははんだ等の層を予め選択的に塗布しておくのは技術的に困難である。
【0015】
従って、プリント配線基板59上にこれらの層を予めパターニングして形成するか、若しくは、プリント配線基板59上の全面にこれらの層を塗布形成する必要があるが、前者の方法も作業性や信頼性の面で問題がある。
【0016】
また、後者の方法では、プリント配線基板59の全面に樹脂層52を塗布形成した場合に、例えば、電子部品51が固定されていない部分の配線58上にも樹脂層52が形成されるために、図5(f)に示したように、配線58上にビアホール64を形成して導通を取る(電気的に接続する)準備をする際には、下記のような状態が生じる。
【0017】
即ち、ビアホール64cのように、望ましい状態にビアホール64が形成されることも有るが、樹脂層52の材質が絶縁層62の材質と異なるために、例えば、ビアホール64を配線58上まで形成できたとしても、ビアホール64dのように、配線58の表面上のビアホールの開口面積が減少し、その結果、図6(g)に示したように、配線63を形成する際に、配線63とプリント配線基板59上の配線58との接触面積が減少して十分な導通を取る(電気的に接続する)のに支障となることがある。
【0018】
また、上述の全面転写工程においては、紫外線レーザー光の照射によるレーザーアブレーションで電子部品51を基板53から剥離したり、或いは、基板53の後部から基板53を針で突いて電子部品51を剥離したりする物理的動作を行うために、コンタミネーション(汚染物質)が発生する。
【0019】
そして、この汚染物質は樹脂層52上に付着する。ここで、汚染物質は主に炭素の化合物で導電性が有るために、配線間をショートさせたり、或いは次工程における絶縁層62の形成時に絶縁層62と樹脂層52との密着性を低下させたり、ビアホール64の形成時に不良を招く可能性が有る。
【0020】
そこで、本発明の目的は、樹脂層又は接着剤層の形成を容易にすると共に、基板上の絶縁層の一部を確実にかつ十分に除去して、接続孔及び配線層を確実にかつ信頼性良く形成することのできる電子装置の製造方法を提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、
基体上に接着剤層を形成する工程と、
転写により前記接着剤層上に部品を接着する工程と、
前記部品上の転写後の残留物と、露出した前記接着剤層とをエッチングにより同時に 除去する工程と、
前記エッチング後に、前記部品上、及び前記基体上に形成された第1の配線上に絶縁 層を形成する工程と、
前記絶縁層に接続孔を形成する工程と、
前記絶縁層上及び前記接続孔内に第2の配線を形成し、この第2の配線を介して前記 部品と前記第1の配線とを電気的に接続する工程と
を有する、電子装置の製造方法に係るものである。
【0024】
本発明の製造方法によって、基体と、この基体上に形成された接着剤層と、この接着剤層に接着固定された部品と、この部品上、及び前記基体上に形成された第1の配線上に形成された絶縁層と、この絶縁層に形成された接続孔と、前記絶縁層上、及び前記接続孔内に形成された第2の配線とを有し、前記第2の配線を介して前記部品と前記第1の配線とが電気的に接続されていて、前記接着剤層は前記部品の直下にのみ存在し、前記部品上の残留物、及び前記部品の直下以外の露出した接着剤層がエッチングにより同時に除去されている、電子装置を製造することができる。
【0025】
本発明によれば、転写により前記接着剤層上に部品を接着した後に、前記部品上の転写後の残留物と露出した前記接着剤層とをエッチングにより同時に除去するので、前記部品の直下にのみ前記接着剤層を残すことができ、基体上の全面に前記接着剤層を形成することができ、パターニングが不要となって接着剤層の形成が容易になり、また接着剤層の種類も広く採用可能となる。このため、接着剤の選択塗布が不可能な程に小さい部品も実装できることになる。
【0026】
また、前記部品上の不所望な物質や前記部品間に露出した接着剤層をエッチングで同時に除去するので、前記部品と前記基体上の配線層とを電気的に接続するために基体上の絶縁層の一部を除去する際に、除去する部分の材質が均一であって不所望な物質が存在しないために、絶縁層の一部を確実かつ十分に除去し易くなり、次工程において配線層を確実に形成して接触不良を防ぐことができる。
【0027】
【発明の実施の形態】
本発明においては、前記部品上の転写後の残留物と、前記の露出した接着剤層とをエッチングにより同時に除去することによって、これらを1つのプロセスで除去できるが、このプロセスでは、前記部品の転写時に付着した基体上の汚染物質も除去することができる。
【0028】
また、前記エッチングをドライエッチングにより行うのが望ましく、O2等の酸化性ガス、Ar等の不活性ガス及びCF4等の反応性ガスからなる群より選ばれた少なくとも1種を前記ドライエッチング時のエッチングガスとして用いるのが望ましい。
【0029】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を図面の参照下に詳しく説明する。
【0030】
本実施の形態においては、図1に示すような工程を経るが、その内、図1(a)、(b)、(c)及び(d)の工程は、上述の図4(b)、(c)及び(d)の工程とそれぞれ同様である。即ち、図1において、基板3にポリイミド等の剥離犠牲樹脂層18によって仮固定した電子部品1は上述の51と同様であって、熱可塑性樹脂層2を全面塗布したプリント配線基板9に対向させ(図1(a))、密着させた状態でレーザーアブレーションし(図1(b))、基板3を分離して(図1(c))、図1(d)の状態とする。
【0031】
次に、図1(e)に示すように、電子部品1を転写したプリント配線基板9を真空チャンバー19内に入れ、プラズマガス17の雰囲気に曝してドライエッチング及びアッシング等の処理を行うことによって、電子部品1上の剥離犠牲樹脂残留物18a及びプリント配線基板9上の露出した熱可塑性樹脂層(接着剤層)2、更には転写時に付着した汚染物質等を除去する。
【0032】
ここで、熱可塑性樹脂層2の材質としては、例えば、アクリル系のポリメチルメタクリレート等を使用してよい。従って、レーザーアブレーションによる転写時に、基板3上に仮固定された複数の電子部品1をプリント配線基板9上の熱可塑性樹脂層2に接触させると同時に、例えば、図示しないヒートステージ等においてプリント配線基板9及び熱可塑性樹脂層2を加熱するか、或いは高周波電界によって誘電加熱するか、若しくは加熱雰囲気に曝して加熱するかして、熱可塑性樹脂層2を可塑状態にして接着力を発現させ、この加熱状態から冷却することによって、電子部品1をプリント配線基板9上に接着固定する。その後、基板3の外側から紫外線等のレーザー照射を行うことができる。
【0033】
次に、このドライエッチング工程を図2について詳しく説明する。
【0034】
先ず、図1(d)に相当する図2(a)は、上述の図4(d)と同様の状態を示し、電子部品1を仮固定用の基板3から剥離して、プリント配線基板9上に転写固定したものである。
【0035】
この時に、プリント配線基板9上には熱可塑性樹脂層2が全面に塗布形成されていると共に、電子部品1の上面にはポリイミドからなる剥離犠牲樹脂層18の蒸発しきれなかった残留物18aが付着し、更に電子部品1上及びプリント配線基板9上には、基板3からの転写時にレーザーアブレーションによって蒸発した剥離犠牲樹脂層18の残滓物(図示せず)も付着する。
【0036】
次に、図1(e)に相当する図2(b)に示すように、チャンバー19内でドライエッチングを行うことにより、電子部品1の下面以外の露出した部分の熱可塑性樹脂層2を除去すると同時に、電子部品1上に付着している剥離犠牲樹脂層18a等も除去する。電子部品1は例えば、リード線15で接続した発光素子11と外部端子10をモールド樹脂16で固めてなるものである。
【0037】
ここで、これらの層2、18a等を除去するに際しては、先ず、真空チャンバー19内に電子部品1を固定したプリント配線基板9を入れ、次に、真空チャンバー19内を真空にした後、その中にO2等の酸化性ガス、或いはAr等の不活性ガス、またはCF4等の反応性ガスを導入し、プラズマ17を発生させることによって、エッチングと同時にアッシング(灰化)と呼ばれる物理現象を生じさせ、それによって電子部品1間の熱可塑性樹脂層2と剥離犠牲樹脂層18aとを同時に除去することができる。
【0038】
実際に、除去すべき剥離犠牲樹脂層18aと熱可塑性樹脂層2との両層を同時に除去するためには、プラズマガス17と処理時間とのプロファイル、及び剥離犠牲樹脂層18aと熱可塑性樹脂層2との両層の厚さのバランスを適切にとっておく必要がある。
【0039】
この場合、剥離犠牲樹脂層18と熱可塑性樹脂層2との両層の厚さの比率は、適切な範囲とするのが好ましい。この範囲外になると、除去処理後にどちらか一方の層が残留してしまう恐れがある。
【0040】
また、上述のように剥離犠牲樹脂層18にポリイミドを用いる際には、プラズマガス17としてO2とCF4とを混在させると効果的に除去できる。何故ならば、ポリイミドにはフィラーとしてSiO2が混入しているために、これを除去するためにCF4が必要だからである。また、熱可塑性樹脂層2の除去においても、O2とCF4とを混合するガスの環境(雰囲気)下で行うと効果的に除去できる。
【0041】
この他、RIE(Reactive Ion Etching)等でも同様の処理が可能である。また、上記のドライエッチングの副次的効果として、全面転写工程でのレーザーアブレーションの際に発生してプリント配線基板9上に付着しているコンタミネーションも同時に除去できる。このことによって、後工程におけるビアホール14の形成不良等を防止することができる。
【0042】
次に、図2(c)に示すように、ドライエッチング後にプリント配線基板9上の熱可塑性樹脂層2及び電子部品1の上に、保護層となる絶縁層12を形成する。
【0043】
次に、図3(d)に示すように、電子部品1内の外部端子10上のモールド樹脂16及び絶縁層12、及び配線8上の絶縁層12に、配線接続用のビアホール14をレーザ処理等によって形成する。この場合、既に電子部品1上の剥離犠牲樹脂層18a及び配線8上の熱可塑性樹脂層2が除去されているため、絶縁層12のみをエッチングすればよく、確実かつ十分にビアホール14を形成できる。
【0044】
最後に、図3(e)に示すように、ビアホール14内及び絶縁層12上に配線13をスパッタ法等によって形成し、電子部品1をプリント配線基板9に対し電気的に接続して実装を終了するが、ビアホール14が確実かつ十分に形成されているために、このビアホール14内に形成される配線13の段切れ及び接触不良等は発生しない。
【0045】
このように、本実施の形態によれば、基板3からの転写により熱可塑性樹脂層2上に電子部品1を接着した後に、少なくとも電子部品1上部の剥離犠牲樹脂層18a及び露出した熱可塑性樹脂層2をエッチングにより同時に除去するために、プリント配線基板9上の全面に熱可塑性樹脂層2を形成してもこれを選択的に除去でき、熱可塑性樹脂層2の形成が容易になる。
【0046】
また、電子部品1の外部端子10とプリント配線基板9上の配線8とを電気的に接続するために、プリント配線基板9上の絶縁層12及びモールド樹脂16の一部を除去してビアホール14を形成する際に、除去する部分の材質がほぼ均一であるため、確実にかつ十分に除去することができ、次工程において配線13を確実に形成し、接触不良を防止できる。
【0047】
更に、熱可塑性樹脂層2をプリント配線基板9上に予めパターニングして形成するする必要がないために、熱可塑性樹脂層2の材質の選択に幅が出ると共に、接着剤のパターニングが不可能なほどに小さな電子部品1であっても実装することが可能になる。
【0048】
以上に説明した実施の形態は、本発明の技術的思想に基づいて更に変更が可能である。
【0049】
例えば、プラズマガス17の種類、混合比、濃度、組み合わせ等、またプラズマガス17による処理時間、処理方法、処理工程の変更等、また剥離犠牲樹脂層18の厚さ、材質等、また熱可塑性樹脂層2の厚さ、材質等、また剥離犠牲樹脂層18の厚さと熱可塑性樹脂層2の厚さとの比率等は、所定の効果が有れば、任意に変えてよい。また、除去すべき剥離犠牲樹脂層18及び熱可塑性樹脂層2の除去方法又は条件は、所定の効果が有れば、任意に変えて良い。接着剤も熱可塑性樹脂以外を用いてもよい。
【0050】
また、電子部品1としては、LED素子や有機EL素子等の発光素子以外に、抵抗部品等の他の部品を用いてもよい。
【0051】
【発明の作用効果】
上述したように、本発明によれば、転写により前記接着剤層上に部品を接着した後に、前記部品上の転写後の残留物と、露出した前記接着剤層とをエッチングにより同時に除去するので、前記部品の直下にのみ前記接着剤層を残すことができ、基体上の全面に前記接着剤層を形成することができ、パターニングが不要となって接着剤層の形成が容易になり、また接着剤層の種類も広く採用可能となる。このため、接着剤の選択塗布が不可能な程に小さい部品も実装できることになる。
【0052】
また、前記部品上の不所望な物質や前記部品間に露出した接着剤層をエッチングで同時に除去するので、前記部品と前記基体上の配線層とを電気的に接続するために基体上の絶縁層の一部を除去する際に、除去する部分の材質が均一であって不所望な物質が存在しないために、絶縁層の一部を確実かつ十分に除去し易くなり、次工程において配線層を確実に形成して接触不良を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態による電子部品の実装及び電子装置の製造の工程を順次示す断面図である。
【図2】同、工程を順次示す断面図である。
【図3】同、工程を順次示す断面図である。
【図4】従来例による電子部品の実装及び電子装置の製造の工程を順次示す断面図である。
【図5】同、工程を順次示す断面図である。
【図6】同、工程を示す断面図である。
【符号の説明】
1…電子部品、2…熱可塑性樹脂層、3…基板、8、13…配線、
9…プリント配線基板、10…外部端子、11…半導体(発光)素子、
12絶縁層、14…ビアホール、15…リード線、16…モールド樹脂、
17…プラズマガス、18、18a…剥離犠牲樹脂層、19…チャンバー
Claims (3)
- 基体上に接着剤層を形成する工程と、
転写により前記接着剤層上に部品を接着する工程と、
前記部品上の転写後の残留物と、露出した前記接着剤層とをエッチングにより同時に 除去する工程と、
前記エッチング後に、前記部品上、及び前記基体上に形成された第1の配線上に絶縁 層を形成する工程と、
前記絶縁層に接続孔を形成する工程と、
前記絶縁層上及び前記接続孔内に第2の配線を形成し、この第2の配線を介して前記 部品と前記第1の配線とを電気的に接続する工程と
を有する、電子装置の製造方法。 - 前記エッチングをドライエッチングにより行う、請求項1に記載の電子装置の製造方法。
- 酸化性ガス、不活性ガス及び反応性ガスからなる群より選ばれた少なくとも1種を前記ドライエッチングに用いる、請求項2に記載の電子装置の製造方法。
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