JP4002715B2 - 多結晶シリコン及び太陽電池用シリコンウエーハ - Google Patents

多結晶シリコン及び太陽電池用シリコンウエーハ Download PDF

Info

Publication number
JP4002715B2
JP4002715B2 JP2000256592A JP2000256592A JP4002715B2 JP 4002715 B2 JP4002715 B2 JP 4002715B2 JP 2000256592 A JP2000256592 A JP 2000256592A JP 2000256592 A JP2000256592 A JP 2000256592A JP 4002715 B2 JP4002715 B2 JP 4002715B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polycrystalline silicon
crystal
gallium
conversion efficiency
silicon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000256592A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002068724A (ja
Inventor
透 山田
勝志 徳永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd, Shin Etsu Handotai Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2000256592A priority Critical patent/JP4002715B2/ja
Publication of JP2002068724A publication Critical patent/JP2002068724A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4002715B2 publication Critical patent/JP4002715B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/546Polycrystalline silicon PV cells

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多結晶シリコンに関し、さらに詳しくは太陽電池セルの材料として有用な太陽電池用多結晶シリコンウエーハに関する。
【0002】
【従来の技術】
太陽電池の材料にはアモルファスシリコン、シリコン結晶、化合物半導体結晶などが用いられるが、変換効率、安定性、安全性、資源の存在量などの観点からシリコン結晶が最も多く用いられる。シリコン結晶太陽電池には単結晶シリコンを用いるものと多結晶シリコンを用いるものがあるが、多結晶シリコンの方が量産性に優れ、低コストにできると言われている。
【0003】
太陽電池セルは光によって発生するキャリアを内部電界で分離して起電力を発生させるので、発生するキャリアの寿命が長いことが望ましい。しかしながら従来のボロンをドーピング剤として添加した多結晶シリコンを基板とする太陽電池セルは、光を照射することによりキャリア寿命が低下し、その結果変換効率が低下するという問題があった。
【0004】
このような問題点を解決するため本出願人は先の出願において、p型のドーピング剤としてボロン(B)の代わりにガリウム(Ga)を使用することを提案した(特願2000−061435)。この提案では、ガリウムをドーピング剤とした多結晶シリコンは光照射によるライフタイムの低下が無く、光照射による変換効率の低下も無い事が分かっている。
【0005】
しかしながら、ガリウムの偏析係数は0.008であり、ボロンの偏析係数0.8に比べて著しく小さいため多結晶インゴットを育成した場合、ガリウム原子が結晶粒子内よりも結晶粒界に集まりやすく、所望の抵抗率を得るべくガリウムの添加量を計算して添加しても、実際に太陽電池セルとして機能する個々の結晶粒子の内部では所望の抵抗率よりも高くなってしまうため、予定した変換効率を得ることが難しいという問題が生じた。また、粒界に奪われるガリウムの量をあらかじめ予想して添加しても、結晶の平均粒径がわずかに異なっただけで粒界に奪われるガリウムの量は大幅に変わるので、固化(原料シリコンを溶解した状態から凝固させること)条件等のばらつきにより結晶粒子内の抵抗は変動し、最終的に生産される太陽電池セルの変換効率のばらつきを押さえることが難しかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、ガリウムをドープした多結晶シリコンにおいて、固化条件等のばらつきにより結晶粒子内の抵抗が変動し、最終的に生産される太陽電池セルの変換効率を高くし、さらにばらつきが発生することを防止することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記問題点を解決するための本発明は、ドーピング剤としてガリウムを含む多結晶シリコンであって、結晶の平均粒径が2mm以上であることを特徴とする多結晶シリコンである
【0008】
このように、原料シリコンを溶解し凝固させる際、固液界面付近の温度勾配を小さくすること等により平均粒径を2mmより大きくする。これにより全インゴット体積に対する粒界領域の体積の割合が小さくなり、粒界に捕獲されるガリウム原子の量が少なくなるので結晶粒子内部の抵抗率を正確に制御できるようになる。これにより太陽電池セルの変換効率のばらつきを小さくすることができる。なお、本発明で言う平均粒径とは結晶から直方体のブロックを切り出して、このブロックの面に現れた結晶粒子の数を計数し、ブロック面の面積をこの数で割ったものの平方根を言う。
【0009】
そして、本発明の多結晶シリコンから作製された太陽電池用多結晶シリコンウエーハは結晶粒子内の抵抗率のバラツキが少ない上にボロンドープウエーハのような光照射による変換効率の劣化が生じないため、太陽電池セル製作用のウエーハとして最適なものとなる。
【0010】
また、本発明の太陽電池用多結晶シリコンウエーハから作製された太陽電池セルは変換効率にバラツキが生じることがなく、加えて光照射による変換効率の低下もない優れた品質の太陽電池セルとなる。
【0011】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明者らは、ドーピング剤としてガリウムを含む多結晶シリコンについて、その欠点である抵抗率のバラツキを解決すべく、鋭意研究した結果本発明に想到したものである。
【0012】
前述したように、ガリウムはボロンに比べて偏析係数が非常に小さいため、多結晶インゴットを育成した場合、ガリウム原子が結晶粒子内よりも結晶粒界に集まりやすく、僅かな平均結晶粒径の変化により結晶粒子内の抵抗率が変化しやすいため、太陽電池セルを形成した場合に変換効率のバラツキが生じ易かった。
【0013】
ここで、粒界とは「結晶粒の境界」の意味である。粒界は格子が乱れているので、ガリウムの溶解度が結晶粒子内に比べて高く、ガリウム原子が集中する。
特に多結晶の粒径が小さいときには粒界の総面積が大きいので、粒径が少しでも変化すると粒界面積が大きく変動し、ここに捕われるガリウム原子の量が大きく変わり、結果的に結晶粒子内のガリウム濃度が大きく変動する。しかし、ある程度粒径が大きければ粒界の総面積が小さくなるので、同じ割合で粒子径が変動したとしても影響が小さいと考えられる。
【0014】
そこで、本発明者らは結晶粒径を大きくすることにより、ガリウム濃度の変動を抑えることを発想した。例えば、一辺が10cmで高さが10cmの多結晶インゴットがあって、これを一辺が0.1cmで高さが10cmの細長い柱状晶が10000本集合したものと考えると、この時の粒界面積はおおよそ10×10×(10/0.1)×2=20000cmとなる。仮に柱状晶の一辺の長さが一割減少したとすると10×10×(10/0.09)×2=22222cmとなり、その差は2222cmとなる。ところが、もとの柱状晶の一辺が0.5cmとより大きいのであれば、もとの粒界面積はおおよそ10×10×(10/0.5)×2=4000cmであり、柱状晶の一辺の長さが一割減少したとしても10×10×(10/0.45)×2=4444cmとなり、その差は444cmとはるかに小さなものとなる。
【0015】
このように粒径変化が同じ割合で起っても粒界面積の変化の絶対量は粒径が大きい方が小さいことがわかる。このことから、粒径を大きくした多結晶の方が、粒界にとらわれるガリウムの量の変化が小さく、言い換えれば粒径が変動しても抵抗率変化も小さく、その結果、変換効率のバラツキを小さくできると言える。さらに、ガリウムドープ多結晶は、結晶の粒径が異なっても、太陽電池セルの光照射による変換効率の劣化がないというガリウムドープ多結晶の本来の性質は変わらない。従って、従来よりも結晶の平均粒径が大きいガリウムドープ多結晶シリコンであれば、光照射による変換効率の劣化がなく、かつ変換効率のバラツキが少ない理想的な多結晶シリコンとなる。
本発明はこのような基本思想に基づき、諸条件を検討の結果、完成したものである。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
多結晶シリコンの製造について述べる。図1(a)は、多結晶シリコンを成長させるための装置の概略を示す図である。例えば、原料シリコンとガリウムを含むドーピング剤を石英ルツボ3に入れておく。電気炉1の炉体2内壁にヒーター4があり、ルツボ3が下から上に上がって来て炉内に入ると、原料シリコンが溶解し、全て溶解した後、今度はルツボを引き下げる。温度が下がるに従い溶解したシリコンが凝固してルツボの底から多結晶が成長する。ここで、本発明の結晶の平均粒径が2mm以上という多結晶シリコンを製造するためには、原料シリコンを溶解させてから凝固させる際、結晶の温度がシリコンの融点を通過することになるが、その融点を含む近傍の温度領域において、冷却速度を遅くすればよい。簡単にはルツボの引き下げ速度を遅くすればよいが、生産性が悪化するので、以下の方法を用いればよい。
【0017】
図1(b)は、電気炉1内部の温度分布を示す図である。図1(b)の右側の温度分布▲1▼は、ヒーター4のパワーを上げて融点よりも大きく高い温度とした場合を示し、左側の温度分布▲2▼は、ヒーター4のパワーを調整して融点よりも少しだけ高い温度とした場合を示す。この図1(b)から、左側の温度分布▲2▼の方が、右側の温度分布▲1▼に比べて、固液界面(融点)付近における温度勾配が小さいことがわかる。つまり、温度勾配を小さく、即ち冷却速度を遅くするためには、ヒーター4のパワーを調整して融点よりも少しだけ高い温度とすれば良い。このようにすれば、多結晶シリコンの生産効率に影響を与えることなく、平均粒径が2mm以上の多結晶シリコンを製造することができる。
【0018】
ここで、平均粒径を2mm以上としたのは、平均粒径が2mm以上であれば、太陽電池セルを形成した場合にその変換効率のバラツキを±0.1〜0.3%前後に抑えることができるからである。また、この程度のバラツキであれば実用に耐え得る。
【0019】
この場合、結晶の平均粒径が大きければ大きいほど、粒界面積は小さくなるため変換効率のバラツキは小さいものとなるが、通常、多結晶シリコンは石英ルツボか黒鉛ルツボの中で製造されるため、ルツボの底や壁と接触している部分のいたるところから結晶が成長し始め、結晶粒子はあまり大きくはできない。また、ある程度結晶粒径が大きくなると、それ以上大きくしても粒界の面積はそれほど減らなくなるため、実質的には結晶粒径は20mm以下とすることが好ましい。これ以上大きくしようとすると結晶育成時間が長くなる等、コストがかさむ。
【0020】
また、ルツボ内の融液へのガリウムの添加は、例えば予め高濃度のガリウムを添加したシリコン結晶を育成し、この高濃度ガリウムドープシリコン結晶を砕いて作製したドーピング剤を、計算により適切な量だけシリコン融液に添加するようにすれば、正確な量のガリウムをドープすることができる。
【0021】
このようにして製造された柱状の多結晶シリコンをスライスして、エッチング、洗浄等の所定の工程を経て多結晶シリコンウエーハを製造する。そして、このような多結晶シリコンウエーハに、一般的な太陽電池セルの作製プロセスとして、pn接合形成工程、電極形成工程、反射防止膜形成工程等を施して太陽電池セルが形成される。
このようにして得られた本発明の太陽電池セルは、光照射による変換効率の劣化が少なく、変換効率のバラツキも少ないものとなる。
【0022】
【実施例】
以下、本発明の実施例および比較例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例1)
初めに半導体級シリコン5kgとガリウム50gを直径15cm、深さ25cmの石英ルツボに入れ、清浄な電気炉中で溶解後急冷してガリウムが高濃度にドープされたシリコン結晶を作製した。以後これを砕いたものをドーピング剤として用いた。
【0023】
次に半導体級シリコン5kgと上記のドーピング剤25gを離型剤を塗布した直径15cm、深さ25cmの石英ルツボに入れ清浄な電気炉中で溶解した後、ルツボを加熱領域から引き下げて冷却し、柱状の結晶を成長させながら多結晶シリコンを作製した。なお、本実施例1では冷却する際に冷却速度を20℃/minとした。このようにして作製された結晶の中心部から5cm角、厚さ2cmの直方体を5cm角の面が水平になるように切り出し、厚さ方向の抵抗率を測定したところ1.1Ω・cmであった。また、このブロックの5cm角の面に現れた結晶粒子の数を計数し、面積をこの数で割ったものの平方根を平均粒径として求めたところ2.1mmであった。さらに、この直方体の結晶を柱状に成長した結晶の向きに垂直にスライスして多結晶シリコンウエーハを作製した。
【0024】
この5cm角のウエハを水酸化ナトリウム溶液に浸して加工ひずみ層を除き、次にPOClによる拡散法でシート抵抗78Ω/□の0.2μmの浅い接合を形成した。その後、表面安定化のためのSiOパッシベーション膜とTiO膜を順次積層した。続いて裏面拡散層をエッチングで除去した後、Alペーストの印刷、焼成により少数キャリアの再結合損を低減するためのBSF(Back surface field)層を形成し、TiO膜の上からAgペーストの印刷、焼成により受光面電極を形成し、さらに裏面にAgペーストの印刷、焼成により裏面電極を形成して、最後に反射防止膜としてMgF膜を蒸着して太陽電池セルとした。
【0025】
同様にして5つの太陽電池セルを作製し、得られた太陽電池セルの変換効率を測定した。変換効率の測定は、25℃に温度調節された測定台に太陽電池セルをのせ、ハロゲンランプを光源としたソーラーシミュレータでAM(エアマス)1.5の条件下で定常光をセルに照射し、セルから取り出すことができた電圧と電流を測定して、太陽電池セルの変換効率を算出した。測定結果を表1に示す。
【0026】
【表1】
Figure 0004002715
【0027】
表1より、本実施例1の太陽電池セルは、各々の平均変換効率が最も小さな値が15.9%であり、最も大きな値が16.2%とバラツキが小さいことが判る。
【0028】
(実施例2)
冷却速度を10℃/minと実施例1よりさらに小さくした以外は実施例1と同様にして多結晶シリコンを作製した。このようにして作製された結晶の抵抗率を実施例1と同様に測定したところ、実施例1と同様に1.1Ω・cmであった。また、実施例1と同様に、この多結晶シリコンの平均粒径を求めたところ2.9mmであった。さらに、この直方体の結晶を柱状に成長した結晶の向きに垂直にスライスして多結晶シリコンウエーハを作製した。
【0029】
このようにして製造した多結晶シリコンウエーハから実施例1と同様に5つの太陽電池セルを作製し、その変換効率を測定した。その結果を表1に併記する。表1より、本実施例2の太陽電池セルは、各々の平均変換効率が最も小さな値が16.0%であり、最も大きな値が16.3%とバラツキが小さいことが判る。
【0030】
(比較例)
冷却速度を40℃/minと実施例より大きくする以外は実施例と同様にして多結晶シリコンを作製した。このようにして作製された結晶の抵抗率を実施例と同様に測定したところ、1.0Ω・cmであった。また、実施例と同様に、この多結晶シリコンの平均粒径を求めたところ、固液界面の温度勾配が大きいため、1.8mmと小さな粒径となった。さらに、この直方体の結晶を柱状に成長した結晶の向きに垂直にスライスして多結晶シリコンウエーハを作製した。
【0031】
このようにして製造した多結晶シリコンウエーハから実施例と同様に5つの太陽電池セルを作製し、その変換効率を測定した。その結果を表1に併記する。表1より、比較例の太陽電池セルは、各々の平均変換効率が最も小さな値が14.3%であり、最も大きな値が15.9%と大きな範囲でばらついていることが判る。また、変換効率も実施例より低下傾向が見られる。
【0032】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【0033】
例えば、上記では、ガリウムドープ多結晶シリコンの平均粒径を2mm以上とするのに、ヒーターのパワーを調節して冷却速度を遅くすることにより行ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、ガリウムドープ多結晶シリコンであって平均粒径が2mm以上であれば、どのような方法により作製されてもよいことは言うまでもない。
【0034】
【発明の効果】
以上のように、本発明の多結晶シリコンによれば、正確に結晶粒子内部の抵抗率を制御できるようになり、最終的に生産される太陽電池セルの変換効率のばらつきを少なくし、また変換効率も高くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、多結晶シリコンを成長させるための装置の概略を示す図であり、(b)は、この装置の炉内の温度分布の例を示す図である。
【符号の説明】
1…電気炉、 2…炉体、 3…ルツボ、 4…ヒーター

Claims (3)

  1. ドーピング剤としてガリウムを含む柱状に成長させた多結晶シリコンであって、結晶から直方体のブロックを柱状に成長した結晶の向きに垂直になるように切り出して、このブロックの柱状に成長した結晶の向きに垂直な面に現れた結晶粒子の数を計数し、前記垂直な面の面積をこの数で割ったものの平方根を平均粒径としたとき、結晶の平均粒径が2mm以上であることを特徴とする多結晶シリコン。
  2. 請求項1に記載の多結晶シリコンから作製された太陽電池用多結晶シリコンウエーハ。
  3. 請求項2に記載の太陽電池用多結晶シリコンウエーハから作製された太陽電池セル。
JP2000256592A 2000-08-28 2000-08-28 多結晶シリコン及び太陽電池用シリコンウエーハ Expired - Lifetime JP4002715B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000256592A JP4002715B2 (ja) 2000-08-28 2000-08-28 多結晶シリコン及び太陽電池用シリコンウエーハ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000256592A JP4002715B2 (ja) 2000-08-28 2000-08-28 多結晶シリコン及び太陽電池用シリコンウエーハ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002068724A JP2002068724A (ja) 2002-03-08
JP4002715B2 true JP4002715B2 (ja) 2007-11-07

Family

ID=18745178

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000256592A Expired - Lifetime JP4002715B2 (ja) 2000-08-28 2000-08-28 多結晶シリコン及び太陽電池用シリコンウエーハ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4002715B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3855082B2 (ja) 2002-10-07 2006-12-06 国立大学法人東京農工大学 多結晶シリコンの作製方法、多結晶シリコン、及び太陽電池
JP4599067B2 (ja) * 2004-02-24 2010-12-15 株式会社第一機電 Ga化合物ドープ多結晶シリコンとその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002068724A (ja) 2002-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101815620B1 (ko) 폴리결정질 실리콘 잉곳, 이에 의해 제조된 실리콘 웨이퍼 및 폴리결정질 실리콘 잉곳의 제조방법
JP4723071B2 (ja) シリコン結晶及びシリコン結晶ウエーハ並びにその製造方法
JP2011146528A (ja) 多結晶シリコン系太陽電池およびその製造方法
JP2004123494A (ja) 多結晶シリコンの作製方法、多結晶シリコン、及び太陽電池
JP2005159312A (ja) 太陽電池用多結晶シリコン基板の母材および太陽電池用多結晶シリコン基板
JP2007142370A (ja) 太陽電池用シリコン単結晶基板および太陽電池素子、並びにその製造方法
JP4607304B2 (ja) 太陽電池用シリコン単結晶及び太陽電池用シリコン単結晶ウエーハ並びにその製造方法
JP4002715B2 (ja) 多結晶シリコン及び太陽電池用シリコンウエーハ
US6313398B1 (en) Ga-doped multi-crytsalline silicon, Ga-doped multi-crystalline silicon wafer and method for producing the same
CN102312292A (zh) 一种掺杂的直拉单晶硅
TW201623703A (zh) 用以製造具有經控制濃度之基於氧氣的熱施體的n型單晶矽之晶棒的方法
JP4164267B2 (ja) 多結晶シリコン基板及び太陽電池の製造方法
JP2001064007A (ja) Ga添加多結晶シリコンおよびGa添加多結晶シリコンウエーハ並びにその製造方法
JP4383639B2 (ja) Gaドープシリコン単結晶の製造方法およびGaドープシリコン単結晶、並びにこれから作製されたシリコン単結晶太陽電池
JP2007137756A (ja) 太陽電池用シリコン単結晶基板および太陽電池素子、並びにその製造方法
JP4674327B2 (ja) Si多結晶インゴット、Si多結晶インゴットの製造方法およびSi多結晶ウェハー
EP4001477A1 (en) Silicon ingot, silicon block, silicon substrate, silicon ingot production method, and solar cell
JP4607307B2 (ja) 太陽電池用シリコン単結晶及び太陽電池用シリコン単結晶ウエーハ並びにその製造方法
JP2003095630A (ja) シリコンシートとそれを含む太陽電池
JP2004140087A (ja) 太陽電池用多結晶シリコン基板とその製造法、及びこの基板を用いた太陽電池の製造法
JP4723082B2 (ja) Gaドープシリコン単結晶の製造方法
JP2011046565A (ja) 単結晶シリコンインゴット、単結晶シリコンウェハ、単結晶シリコン太陽電池セル、および単結晶シリコンインゴットの製造方法
US10087080B2 (en) Methods of fabricating a poly-crystalline silcon ingot from a nucleation promotion layer comprised of chips and chunks of silicon-containing particles
TW201209232A (en) Silicon ribbon, spherical silicon, solar cell, solar cell module, method for producing silicon ribbon, and method for producing spherical silicon
JP2011046564A (ja) シリコンインゴットの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060815

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061004

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070410

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070605

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070625

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070724

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070820

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100824

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4002715

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100824

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100824

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100824

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130824

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

EXPY Cancellation because of completion of term