JP3999574B2 - 基板処理システム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板処理システムに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体や液晶ディスプレイなどの製品は、基板に対して洗浄、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、層間絶縁膜の形成、熱処理などの一連の諸処理を施すことにより製造されている。従来より、これらの諸処理はレジスト塗布処理ユニットや現像処理ユニット等を組み込んだ基板処理装置において行われている。基板処理装置に設けられた搬送ロボットが各処理ユニットに基板を順次搬送することによって該基板に一連の処理が行われるのである。
【0003】
このような基板処理装置を構成する部品には消耗品も含まれている。かかる消耗品としては、例えば、処理槽内に吐出されて溢れ出た処理液を回収して元の処理液供給経路に戻す際の不純物除去用のフィルタや、除去液を排出するための除去液ポンプ及び純粋を送出するための純粋ポンプ等のポンプ類や、基板を回転させるためのスピンモータ及び搬送ロボット等を駆動するための搬送モータ等のモータ類等がある。
【0004】
このような消耗品は、使用とともに消耗・劣化するものであって、消耗の程度が進行すると、使用不能となるため、定期的に新たな部品を発注して交換する必要がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来においては、複数の基板処理装置が設置されている場合に、消耗品の交換の要否や発注管理を各基板処理装置毎に実施していたため、作業が繁雑であり、また新たな部品の発注をまとめて行うなどの効率的な管理が困難であった。
【0006】
そこで、この発明の課題は、複数の基板処理装置内の消耗品の管理を効率的に実施し得る基板処理システム及びそれに関連する技術を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく、請求項1に記載の発明は、工場内に設置され、コントローラによって動作が制御される複数の処理部が配置される複数の基板処理装置と、前記基板処理装置に対応して設置され、前記基板処理装置に接続されて、当該各基板処理装置内の各処理部における消耗品の消耗度に関するデータを収集するデータ収集コントローラと、前記データ収集コントローラに工場内ネットワークを通じて接続された単一の消耗品一括管理手段と、を備え、前記基板処理装置が、当該基板処理装置内の各処理部において前記消耗品の消耗度に関するデータを測定して、接続された前記データ収集コントローラにデータを出力する消耗度計測手段、をそれぞれ当該基板処理装置内に設けられて有し、前記消耗品一括管理手段が、前記消耗度計測手段で計測されて各処理部から前記データ収集コントローラを介して前記工場内ネットワークを通じて得られたデータに基づいて、前記各消耗品が消耗しているか否かを判断する消耗判断手段と、前記消耗判断手段で消耗していると判断された消耗品のうち少なくとも同一種類の消耗品についてはその全てを特定する情報を一括して前記基板処理装置ごとに表示する表示手段と、を備えるものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理システムであって、前記処理部における消耗品は、流体を供給するための所定の管路に着脱可能に設けられるフィルターと、流体を供給するための着脱可能なポンプと、着脱可能なモータと、である。
【0008】
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理システムであって、前記消耗品が、流体を供給するための所定の管路に着脱可能に設けられるフィルターを含み、前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記管路の1次側における前記流体の圧力を測定する圧力センサを含み、前記消耗判断手段が、前記圧力センサで測定された圧力が所定の圧力基準値を超えた場合に前記フィルターが消耗していると判断するものである。
【0009】
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の基板処理システムであって、前記消耗品が、流体を供給するための所定の管路に着脱可能に設けられるフィルターを含み、前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記管路の2次側における前記流体の流量を測定する流量センサを含み、前記消耗判断手段が、前記流量センサで測定された流量が所定の流量基準値未満であった場合に前記フィルターが消耗していると判断するものである。
【0010】
請求項5に記載の発明は、請求項3に記載の基板処理システムであって、前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記管路の2次側における前記流体の流量を測定する流量センサを含み、前記消耗判断手段が、前記流量センサで測定された流量が所定の流量基準値未満であった場合に前記フィルターが消耗していると判断するものである。
【0011】
請求項6に記載の発明は、請求項1、および請求項3ないし請求項5のいずれかに記載の基板処理システムであって、前記消耗品が、流体を供給するための着脱可能なポンプを含み、前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、流体を供給するためのポンプの動作を検出するポンプ動作センサを含み、前記消耗判断手段が、前記ポンプ動作センサで検出された前記ポンプの動作の回数をカウントし、当該カウント結果が所定の基準回数を超えた場合に前記ポンプが消耗していると判断するものである。
【0012】
請求項7に記載の発明は、請求項1、および請求項3ないし請求項6のいずれかに記載の基板処理システムであって、前記消耗品が着脱可能なモータを含み、前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記モータの駆動状態を検出するモータ状態検出センサを含み、前記消耗判断手段が、前記モータ状態検出センサで検出された前記モータの駆動状態が所定の許容範囲を超えた場合に前記モータが消耗していると判断するものである。
【0013】
【発明の実施の形態】
近年、半導体製造工場内の各種装置の有効稼働率の改善と性能維持・向上を目的として、EES(Equipment Engineering System)と呼ばれるネットワークシステムが構築されつつある。この発明の一の実施の形態の基板処理システムは、図1の如く、半導体製造工場1内において複数の基板処理装置2a,2b…が設置されている場合に、これらの各基板処理装置2a,2b…内に装備された消耗品の交換管理について、EESとしての工場ネットワークを用いて一括管理するものである。
【0014】
即ち、この基板処理システムは、複数の基板処理装置2a,2b…と、各基板処理装置2a,2b…の消耗品の消耗度に関するデータを収集するデータ収集コントローラ3a,3b…と、工場内ネットワーク5に接続されて各基板処理装置2a,2b…内の消耗品を一括管理するホストコンピュータ(消耗品一括管理手段)6とを備える。
【0015】
基板処理装置2a,2b…の例として、ポリマーが生成された半導体基板からポリマーを除去するポリマー除去処理装置を説明する。
【0016】
この各基板処理装置2a,2b…は、図2の如く、搬入搬出部13及び回転処理部15が並べて配置されてなる。
【0017】
搬入搬出部13は、未処理の基板Wを収容したキャリアCが載置される搬入部25と、処理済みの基板Wを収容したキャリアCが載置される搬出部21と、受渡し部23とを有する。
【0018】
搬入部25はテーブル状の載置台を有し、装置外の搬送機構によってキャリアCが2個、搬入される。キャリアCは例えば25枚の基板Wを水平姿勢で互いに間隔を空けて垂直方向に並べた状態で保持する。搬出部21もテーブル状の載置台を有し、該載置台に2個のキャリアCが載置され、該2個のキャリアCは装置外の搬送機構によって搬出される。
【0019】
受渡し部23は搬入部25、搬出部21のキャリアCの並び方向に沿って移動し、かつキャリアCに対して基板Wを搬入、搬出する搬入搬出機構27と、受渡し台29とを有する。搬入搬出機構27は、図示を省略する搬入搬出用アームを備え、水平方向に沿った移動の他に鉛直方向を軸とする回転動作や鉛直方向に沿った昇降動作や該搬入搬出用アームの進退動作を行うことができる。これにより、搬入搬出機構27はキャリアCに対して基板Wの搬出入を行うとともに、受渡し台29に対して基板Wを授受する。
【0020】
回転処理部15は搬入搬出部13に隣接して設けられ、基板Wを収容して反応生成物の除去処理を施す4つの回転処理ユニット31と、受渡し台29に対して基板Wを授受するとともに、4つの回転処理ユニット31に対して基板Wを授受する基板搬送機構33とを有している。
【0021】
回転処理ユニット31は搬入搬出部13のキャリアCの並び方向と直交する方向に沿って2つ並ぶことで回転処理ユニット31の列を形成し、この回転処理ユニット31の列が間隔を開けて合計2列、キャリアCの並び方向に沿って並んでいる。そして、前記回転処理ユニット31の列と列との間隔に基板搬送機構33が設けられている。なお、回転処理ユニット31の詳細についてはさらに後述する。
【0022】
基板搬送機構33は、搬送アーム35を備え、水平方向に沿った移動、鉛直方向を軸とする回転動作、鉛直方向に沿った昇降動作および搬送アーム35の進退動作を行うことができる。これにより、基板搬送機構33は、回転処理ユニット31の列と列との間隔に沿って走行し、各回転処理ユニット31に対して基板Wを授受するとともに、受渡し台29に対して基板Wを授受する。
【0023】
図3は回転処理ユニット31の構成を示す模式図である。
【0024】
回転処理ユニット31は、1枚の基板Wを水平状態に保持して回転する基板保持手段41と、保持された基板Wの周囲を取り囲むカップ42と、保持された基板Wに除去液を供給する除去液供給手段43と、保持された基板Wに純水を供給する純水供給手段44と、基板保持手段41に保持されている基板Wを収容するチャンバ45とを有する。また、回転処理ユニット31は、チャンバ45に対して基板を搬出入するための搬出入口50から進入する光を遮光するためのシャッタ51と、チャンバ45の内部を照明するランプ52と、チャンバ45の内部を観察するための観察窓53とを備えている。なお、カップ42は不図示の機構で昇降する。
【0025】
チャンバ45は、基板Wを収容して反応生成物の除去処理を行うための処理室である。チャンバ45は、光を透過しない遮光材料によって構成されている。チャンバ45の側壁(基板搬送機構33側の側壁)には、チャンバ45に対して基板Wを搬出入するための搬出入口50が設けられている。なお、チャンバ45内は常に常圧の状態であり、チャンバ45内の雰囲気は不図示の排気機構によって、装置外の所定の排気ダクトへ排出されている。このため、処理液のミストや蒸気などを含んだ雰囲気がチャンバ45から漏出することが防止されている。
【0026】
また、チャンバ45にはシャッタ51が設けられている。シャッタ51は、図3中矢印AR51にて示すように、シャッタ開閉機構54によって昇降自在とされている。シャッタ開閉機構54がシャッタ51を上昇させているときには、シャッタ51が搬出入口50を閉鎖する。シャッタ51も光を透過しない遮光材料によって構成されており、シャッタ51が搬出入口50を閉鎖しているときには、搬出入口50からチャンバ45の内部に進入する光を遮光することができる。一方、シャッタ開閉機構54がシャッタ51を下降させているときには、搬出入口50が開放される。搬出入口50が開放されているときには、基板搬送機構33(図2)が搬出入口50からチャンバ45内に基板Wを搬入または搬出することができる。なお、後述するように、少なくとも除去液によって反応生成物の除去処理を行っている間は、シャッタ51によって搬出入口50を閉鎖するようにしている。
【0027】
基板保持手段41は、チャンバ45の外部に設けられたモータ46と、モータ46に駆動されることによって垂直方向に沿った軸を中心に回転するチャック47とを有する。
【0028】
カップ42は上面視略ドーナツ型で中央の開口にチャック47が通過可能な開口を有している。また、カップ42は回転する基板Wから飛散する液体(例えば除去液や純水)を捕集するとともに下部に設けられている排液口48から捕集した液体を排出する。排液口48にはドレン60へ通ずるドレン配管61が連通接続され、該ドレン配管61の途中にはドレン配管61の管路を開閉するドレン弁62が設けられている。ドレン弁62を開放することによって、排液口48からドレン60へと液体を排出することができる。
【0029】
除去液供給手段43はチャンバ45の外部にねじ止め等により着脱可能に設けられたモータ63と、モータ63によって回動するアーム64と、アーム64の先端に設けられ除去液を下方に吐出する除去液ノズル65と、除去液ノズル65に向って除去液を供給するための第1のポンプ66aが設置された除去液源66とを有する。尚、第1のポンプ66aは、チャンバ45内でねじ止め等により着脱可能に固定される。また、除去液ノズル65と除去液源66とは管路によって連通接続され、該管路には除去液弁67が設けられているとともに、除去液を濾過して異物を除去するための第1のフィルター81が、チャンバ45に形成された所定のスリットに填め込まれるなどして着脱自在に取り付けられる。なお、モータ63を昇降させることで除去液ノズル65を昇降させる不図示の昇降手段が設けられている。
【0030】
このモータ63を駆動することによって、除去液ノズル65は基板Wの回転中心の上方の吐出位置とカップ42外の待機位置との間で往復移動する(図2参照)。
【0031】
純水供給手段44は、チャンバ45の外部にねじ止め等により着脱可能に設けられたモータ68と、モータ68によって回動するアーム69と、アーム69の先端に設けられ純水を下方に吐出する純水ノズル71と、純水ノズル71に向って純水を供給するための第2のポンプ72aが設置された純水源72とを有する。尚、第2のポンプ72aは、チャンバ45内でねじ止め等により着脱可能に固定される。また、純水ノズル71と純水源72は管路によって連通接続され、該管路には純水弁73が設けられているとともに、純水を濾過して異物を除去するための第2のフィルター82が、チャンバ45に形成された所定のスリットに填め込まれるなどして着脱自在に取り付けられる。なお、モータ68を昇降させることで純水ノズル71を昇降させる不図示の昇降手段が設けられている。
【0032】
このモータ68を駆動することによって、純水ノズル71は基板Wの回転中心の上方の吐出位置とカップ42外の待機位置との間で往復移動する。
【0033】
チャンバ45の側壁(基板搬送機構33と反対側の側壁)には、チャンバ45の内部を観察するための観察窓53が設けられている。また、チャンバ45には観察窓53を開閉するための観察扉75が設けられている。観察扉75は図3中矢印AR75にて示すように開閉可能とされており、観察扉75が図中実線位置にあるときは観察窓53が開放状態とされ、図中二点差線位置にあるときは観察窓53が閉鎖状態とされる。観察扉75も光を透過しない遮光材料によって構成されており、観察扉75が観察窓53を閉鎖しているときには、観察窓53からチャンバ45の内部に進入する光を遮光することができる。
【0034】
一方、観察扉75が観察窓53を開放しているときには、オペレータが観察窓53からチャンバ45の内部を観察することができる。なお、チャンバ45には開閉ロック機構76が設けられている。開閉ロック機構76は、観察窓53が閉鎖されているときに観察扉75を図中二点差線位置に固定する機能、すなわち観察窓53の開放を禁止する機能を有する。具体的には、例えば観察扉75がステンレス製であるときには電磁石を作動させて観察窓53の開放を禁止するようにすれば良い。また、開閉ロック機構76は、機械的に観察窓53の開放を禁止するようにしても良い。
【0035】
また、チャンバ45の内側天井部分には、チャンバ45の内部を照明するランプ52が設けられている。ランプ52を点灯させた状態にて観察窓53を開放することにより、ダミーランニング等の際にオペレータは観察窓53からチャンバ45の内部を観察することができ、例えば除去液ノズル65から基板Wの回転中心に正確に除去液が吐出されているか否かを確認することができる。
【0036】
さらに、回転処理ユニット31はチャンバ45の外部にコントローラ77を備えている。コントローラ77は、少なくともシャッタ開閉機構54、ランプ52、開閉ロック機構76および除去液弁67と電気的に接続されており、これらの動作を制御する。その具体的な制御態様についてはさらに後述する。また、コントローラ77に、モータ46,63,68等を制御させて回転処理ユニット31全体の動作を管理させるようにしても良い。
【0037】
そして、この基板処理装置2a,2b…には、各フィルター81,82、各ポンプ66a,72a及び各モータ63,68といった消耗品の消耗度に関するデータを計測する消耗度計測手段を備えており、具体的には、図3及び図4の如く、第1のフィルター81の除去液源66側(1次側)の圧力を測定する第1の圧力センサ83と、第1のフィルター81の除去液ノズル65側(2次側)における除去液の流量を測定する第1の流量センサ84と、第2のフィルター82の純水源72側(1次側)の圧力を測定する第2の圧力センサ85と、第2のフィルター82の純水ノズル71側(2次側)における純水の流量を測定する第2の流量センサ86と、第1のポンプ66aの動作毎にオン/オフ切換する第1のポンプ動作センサ87と、第2のポンプ72aの動作毎にオン/オフ切換する第2のポンプ動作センサ88と、除去液供給手段43のモータ63の回転速度等の所定の動作状態を監視するための第1のモータ状態検出センサ89と、純水供給手段44のモータ68の回転速度等の所定の動作状態を監視するための第2のモータ状態検出センサ90とを備えている。
【0038】
そして、これらの各消耗度計測手段83〜90が、それぞれの基板処理装置2a,2b…に対応して設置されたデータ収集コントローラ3a,3b…に接続され、それぞれにおいて計測された各データが、データ収集コントローラ3a,3b…を通じてホストコンピュータ6に与えられる。
【0039】
データ収集コントローラ3a,3b…は、各圧力センサ83,85、各流量センサ84,86、各ポンプ動作センサ87,88及び各モータ状態検出センサ89,90から与えられたデータを、その基板処理装置2a,2b…に固有の識別データを付与して工場内ネットワーク5を通じてホストコンピュータ6に送信する。
【0040】
ホストコンピュータ6は、図5の如く、ハードディスク装置、ROM、RAM及びCPU等を備えたコンピュータ本体94とディスプレイ装置(表示手段)95等の周辺装置とを備えた一般的なコンピュータ装置であって、工場内ネットワーク5を通じた通信機能を有しており、工場内ネットワーク5を通じて全てのデータ収集コントローラ3a,3b…から与えられた各基板処理装置2a,2b…のデータを収集して各消耗品が消耗しているか否かを判断する機能を有している。具体的に、このホストコンピュータ6のコンピュータ本体94は、ハードディスク装置内に予め格納されたソフトウェアプログラムで規律された手順に従ってCPUが動作することで動作する機能要素であり、工場内の全ての基板処理装置2a,2b…の各圧力センサ83,85で測定された各フィルター81,82の1次側の圧力と各流量センサ84,86で測定された2次側での流量とに基づいて各フィルター81,82の消耗の有無を一括して判断するフィルター一括管理機能91と、工場内の全ての基板処理装置2a,2b…の各ポンプ動作センサ87,88で検出された各ポンプ66a,72aの動作に基づいて各ポンプ66a,72aの消耗の有無を一括して判断するポンプ一括管理機能機能92と、工場内の全ての基板処理装置2a,2b…の各モータ状態検出センサ89,90で検出された各モータ63,68の回転速度等の動作状態に基づいて各モータ63,68の消耗の有無を一括して判断するモータ一括管理機能93とを備える。これらフィルター一括管理機能91、ポンプ一括管理機能機能92及びモータ一括管理機能93は、消耗度計測手段83〜90が計測してデータ収集コントローラ3a,3b…を介して得られた各種データに基づいて、各消耗品(各フィルター81,82、各ポンプ66a,72a及び各モータ63,68)が消耗しているか否かを判断する消耗判断手段として機能する。
【0041】
フィルター一括管理機能91では、各フィルター81,82が目詰まりしているか否かを判断するようになっており、各圧力センサ83,85で測定された各フィルター81,82の1次側の圧力が所定の圧力基準値を超えた場合に、当該各フィルター81,82が消耗したと判断する一方、各フィルター81,82の1次側の圧力が上記圧力基準値未満の場合に、当該各フィルター81,82が消耗していないと判断する圧力判断機能と、各流量センサ84,86で測定された2次側での流量が所定の流量基準値を超えた場合に、当該各フィルター81,82が消耗したと判断する一方、各フィルター81,82の2次側での流量が上記流量基準値未満の場合に、当該各フィルター81,82が消耗していないと判断する流量判断機能とを備える。尚、圧力判断機能及び流量判断機能において、測定された圧力や流量が圧力基準値や流量基準値と等しい場合には、各フィルター81,82が消耗したと判断することとしてもよいし、または各フィルター81,82が消耗していないと判断することとしてもよい。そして、フィルター一括管理機能91は、消耗していると判断されたフィルター81,82が存在している場合は、そのフィルター81,82と当該フィルター81,82が実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報をディスプレイ装置95に一括して表示する。
【0042】
ポンプ一括管理機能機能92は、各基板処理装置2a,2b…の各ポンプ動作センサ87,88のオン/オフ切換の回数をカウントし、所定の基準回数を超えた場合にそのポンプ66a,72aが消耗したと判断する一方、上記基準回数を超えていない場合にそのポンプ66a,72aが消耗していないと判断する。尚、ポンプ一括管理機能機能92において、測定された圧力や流量が圧力基準値や流量基準値と等しい場合には、各ポンプ66a,72aが消耗したと判断することとしてもよいし、または各ポンプ66a,72aが消耗していないと判断することとしてもよい。そして、ポンプ一括管理機能機能92は、消耗していると判断された各ポンプ66a,72aが存在する場合に、そのポンプ66a,72a及び当該ポンプ66a,72aが実装された基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報をディスプレイ装置95に一括して表示する。
【0043】
モータ一括管理機能93は、各基板処理装置2a,2b…の各モータ状態検出センサ89,90で検出されたモータ回転速度等のデータの値が所定の許容範囲内であるか否かを比較判断し、許容範囲外である場合にモータ63,68が消耗していると判断する一方、許容範囲内である場合にモータ63,68が消耗していないと判断する。そして、モータ一括管理機能93は、消耗していると判断されたモータ63,68が存在する場合に、そのモータ63,68及び当該モータ63,68が実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報をディスプレイ装置95に一括して表示する。
【0044】
上記構成の基板処理システムにおいて、まず、キャリアCに収容された基板Wが搬入部21に搬入される。そして、搬入部21のキャリアCから搬入搬出機構27により基板Wが1枚取り出され、受渡し台29に載置される。受渡し台29に載置された基板Wは基板搬送機構33により持ち出され、4つの回転処理ユニット31のうちの所定の1つに搬入される。回転処理ユニット31ではシャッタ51を下降させて搬出入口50を開放し、基板搬送機構33が搬送してきた基板Wをチャック47にて受取り保持する。基板Wを受けとった回転処理ユニット31では基板保持手段41が基板を保持する。またドレン弁62は開放しておく。
【0045】
次に、基板保持手段41はモータ46を回転させて基板Wを回転させる。そして、基板Wが所定の回転速度に達すると除去液供給が実行される。即ち、モータ63が回動して待機位置にある除去液ノズル65が吐出位置に移動する。
【0046】
この際、第1のモータ状態検出センサ89は、モータ63の回転速度等の駆動状態を検出しており、ホストコンピュータ6のコンピュータ本体94のモータ一括管理機能93は、第1のモータ状態検出センサ89で検出されたモータ回転速度等が所定の許容範囲内であるか否かを比較判断し、許容範囲外である場合にモータ63が消耗していると判断する。ここでモータ63が消耗していると判断された場合は、そのモータ63及び当該モータ63が実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報がディスプレイ装置95に一括して表示される。
【0047】
そして、除去液弁67を開放して、第1のフィルター81により不純物を濾過しながら、除去液ノズル65から基板Wに除去液を供給する。基板Wに供給された除去液は基板Wの外に落下してカップ42にて集められ、ドレン配管61を通じてドレン60に排出される。
【0048】
この際、各基板処理装置2a,2b…中の第1の圧力センサ83は、第1のフィルター81の除去液源66側(1次側)の圧力を測定している。そして、ホストコンピュータ6のコンピュータ本体94のフィルター一括管理機能91において、第1のフィルター81の1次側の圧力が所定の圧力基準値を超えた場合に、当該第1のフィルター81が消耗していると判断する。
【0049】
また、各基板処理装置2a,2b…中の第1の流量センサ84は、各第1のフィルター81の除去液ノズル65側(2次側)における除去液の流量を測定している。そして、第1の流量センサ84で測定された流量が所定の流量基準値を超えた場合に、当該第1のフィルター81が消耗したと判断する。
【0050】
このように第1のフィルター81が消耗していると判断した場合には、その旨と、その消耗している第1のフィルター81及びこれが実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報を示す情報がディスプレイ装置95に一括して表示される。
【0051】
さらに、この間、各基板処理装置2a,2b…中の第1のポンプ動作センサ87は、除去液を供給するための第1のポンプ66aの動作毎にオン/オフ切換を行っている。そして、ホストコンピュータ6のコンピュータ本体94のポンプ一括管理機能機能92において、第1のポンプ動作センサ87のオン/オフ回数をカウントし、そのカウント結果(即ち、第1のポンプ66aの動作回数)が所定の回数基準値を超えた場合に、当該第1のポンプ66aが消耗していると判断する。このように第1のポンプ66aが消耗していると判断した場合には、その旨と、その消耗している第1のポンプ66a及びこれが実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報がディスプレイ装置95に一括して表示される。
【0052】
所定時間、除去液を供給すると除去液弁67を閉止し、除去液ノズル65を待機位置に戻す。
【0053】
除去液によって反応生成物の除去処理を行っている間は、コントローラ77がシャッタ開閉機構54を制御してシャッタ51によって搬出入口50を閉鎖するとともに、ランプ52を消灯する。さらに、少なくとも除去液によって反応生成物の除去処理を行っている間は、コントローラ77が開閉ロック機構76を制御して観察窓53の開放を禁止するようなインターロックをかけている。このため、少なくとも除去液によって基板上の反応生成物の除去処理を行っている間は、シャッタ51によって搬出入口50が遮光されるとともに、観察窓53も遮光されることとなり、光を触媒とした悪影響を防止するためにチャンバ45内が暗室とされる。
【0054】
次に純水供給が実行される。純水供給ではモータ68が回動して待機位置にある純水ノズル71が吐出位置に移動する。
【0055】
この際、第2のモータ状態検出センサ90は、モータ68の回転速度等の駆動状態を検出しており、ホストコンピュータ6のコンピュータ本体94のモータ一括管理機能93は、第2のモータ状態検出センサ90で検出されたモータ回転速度等が所定の許容範囲内であるか否かを比較判断し、許容範囲外である場合にモータ68が消耗していると判断する。ここでモータ68が消耗していると判断された場合は、そのモータ68及び当該モータ68が実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報がディスプレイ装置95に一括して表示される。
【0056】
そして、純水弁73を開放して、第2のフィルター82で不純物を濾過しながら、純水ノズル71から基板Wに純水を供給して、基板W上の汚染物質を洗い流す。基板Wに供給された純水は基板Wの外に落下してカップ42にて集められ、ドレン配管61を通じてドレン60に排出される。
【0057】
この際、各基板処理装置2a,2b…中の第2の圧力センサ85は、第2のフィルター82の純水源72側(1次側)の圧力を測定している。そして、ホストコンピュータ6のコンピュータ本体94のフィルター一括管理機能91において、第2の圧力センサ85で測定された1次側の圧力が所定の圧力基準値を超えた場合に、当該第2のフィルター82が消耗していると判断する。
【0058】
また、各基板処理装置2a,2b…中の第2の流量センサ86は、各第2のフィルター82の純水ノズル71側(2次側)における純水の流量を測定している。そして、第2の流量センサ86で測定された流量が所定の流量基準値を超えた場合に、当該第2のフィルター82が消耗したと判断する。
【0059】
このように第2のフィルター82が消耗していると判断した場合には、その旨と、その消耗している第2のフィルター82及びこれが実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報がディスプレイ装置95に一括して表示される。
【0060】
さらに、この間、各基板処理装置2a,2b…中の第2のポンプ動作センサ88は、除去液を供給するための第2のポンプ72aの動作毎にオン/オフ切換を行っている。そして、ホストコンピュータ6のコンピュータ本体94のポンプ一括管理機能機能92において、第2のポンプ動作センサ88のオン/オフ回数をカウントし、そのカウント結果(即ち、第2のポンプ72aの動作回数)が所定の回数基準値を超えた場合に、当該第2のポンプ72aが消耗していると判断する。このように第2のポンプ72aが消耗していると判断した場合には、その旨と、その消耗している第2のポンプ72a及びこれが実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報がディスプレイ装置95に一括して表示される。
【0061】
所定時間、純水を供給すると純水弁73を閉止し、純水ノズル71を待機位置に戻す。
【0062】
次に液切りが実行される。液切りでは基板Wを高速で回転させることにより、基板W上にある液体を振切る。これにより、基板Wがほぼ乾燥する。
【0063】
その後、基板搬送機構33によって基板Wが搬出される。
【0064】
かかる一連の動作は、工場内の全ての基板処理装置2a,2b…について実行され、各フィルター81,82、各ポンプ66a,72aまたは各モータ63,68といった消耗品が消耗していた場合は、それらの消耗品及び当該消耗品が実装されている基板処理装置2a,2b…のそれぞれを特定する情報が自動的にディスプレイ装置95に一括して表示される。したがって、これらの消耗品の交換の要否や発注管理を、工場内の全ての基板処理装置2a,2b…に対して一括して実施することができるので、新たな部品の発注をまとめて行うなどの効率的な管理を実施することが可能となる。
【0065】
図6は、図1のディスプレイ6における上記の一括表示の例を示している。この表示例では、交換が必要とされた消耗品の種別ごとに、それが属する複数の基板処理装置の識別番号(No.0001、No.0002など)が一括表示される。ただし、これらの基板処理装置は、図1における基板処理装置2a,2b…に相当する。
【0066】
図7は、ディスプレイ6における一括表示の他の例を示しており、この場合には、交換を要する消耗品のリストが装置ごとに列挙され、各装置について同様のリストが並列的に表示されることによって消耗品の一括表示がなされる。
【0067】
なお、いずれの場合においても、交換を要する全ての消耗品を特定する情報を一括表示することにより消耗品としての全体管理が特に容易になるが、実質的に同一の構成を持つ消耗品の種別ごと(たとえばフィルターごと、モータごと)に一括表示してもかまわない。 尚、この実施の形態では、基板処理装置2a,2b…としてポリマー除去処理装置を例に挙げて説明したが、これに限るものではなく、フィルター81,82等の消耗品を利用している基板処理装置であればどのようなものについて適用しても差し支えない。
【0068】
また、消耗品として、除去液供給手段43及び純水供給手段44に実装されるフィルター81,82、ポンプ66a,72a及びモータ63,68を例に挙げて説明したが、例えばエアフィルターや、基板を回転させるためのスピンモータまたは搬送ロボット等を駆動するための搬送モータ等を適用しても差し支えない。
【0069】
【発明の効果】
請求項1に記載の発明によれば、複数の基板処理装置内にそれぞれ設けられた消耗度計測手段での計測結果に基づいて、各消耗品が消耗しているか否かを判断し、消耗していると判断された消耗品のうち少なくとも同一種類の消耗品についてその全てを特定する情報を単一の表示手段に一括して表示するので、これらの消耗品の交換の要否や発注管理を、工場内の全ての基板処理装置に対して一括して実施することができる。したがって、新たな部品の発注をまとめて行うなどの効率的な管理を実施することが可能となる。
【0070】
請求項3に記載の発明によれば、消耗度計測手段としての圧力センサが管路の1次側における流体の圧力を測定し、その圧力が所定の圧力基準値を超えた場合に管路内に設けられたフィルターの目詰まりの状態を判断できるので、そのフィルターの消耗について容易に一括管理できる。
【0071】
請求項4及び請求項5に記載の発明によれば、消耗度計測手段としての流量センサが管路の2次側における流体の流量を測定し、その流量が所定の流量基準値を超えた場合に管路内に設けられたフィルターの目詰まりの状態を判断できるので、そのフィルターの消耗について容易に一括管理できる。
【0072】
請求項6に記載の発明によれば、消耗品が、流体を供給するための着脱可能なポンプを含み、消耗度計測手段が、流体を供給するためのポンプの動作を検出するポンプ動作センサを含み、消耗判断手段が、ポンプ動作センサで検出されたポンプの動作の回数をカウントし、当該カウント結果が所定の基準回数を超えた場合にポンプが消耗していると判断するので、ポンプの消耗について容易に一括管理することができる。
【0073】
請求項7に記載の発明によれば、消耗品が着脱可能なモータを含み、消耗度計測手段が、モータの駆動状態を監視するモータ状態検出センサを含み、消耗判断手段が、モータ状態検出センサで検出されたモータの駆動状態が所定の許容範囲を超えた場合にモータが消耗していると判断するので、モータの消耗について容易に一括管理できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一の実施の形態に係る基板処理システムの全体構成を示すブロック図である。
【図2】基板処理装置の一例を示す平面図である。
【図3】基板処理装置の一例において回転処理ユニットの構成を示す模式図である。
【図4】基板処理装置内の消耗度計測手段及びデータ収集コントローラを示すブロック図である。
【図5】消耗品一括管理手段としてのホストコンピュータを示すブロック図である。
【図6】交換を要する消耗品の一括表示の例を示す図である。
【図7】交換を要する消耗品の一括表示の他の例を示す図である。
【符号の説明】
1 半導体製造工場
2a,2b… 基板処理装置
3a,3b… データ収集コントローラ
5 工場内ネットワーク
6 ホストコンピュータ
43 除去液供給手段
44 純水供給手段
63,68 モータ
66a,72a ポンプ
81,82 フィルター
83,85 圧力センサ
84,86 流量センサ
87,88 ポンプ動作センサ
89,90 モータ状態検出センサ
91 フィルター一括管理機能
92 ポンプ一括管理機能機能
93 モータ一括管理機能
94 コンピュータ本体
95 ディスプレイ装置
W 基板
Claims (7)
- 工場内に設置され、コントローラによって動作が制御される複数の処理部が配置される複数の基板処理装置と、
前記基板処理装置に対応して設置され、前記基板処理装置に接続されて、当該各基板処理装置内の各処理部における消耗品の消耗度に関するデータを収集するデータ収集コントローラと、
前記データ収集コントローラに工場内ネットワークを通じて接続された単一の消耗品一括管理手段と、
を備え、
前記基板処理装置が、
当該基板処理装置内の各処理部において前記消耗品の消耗度に関するデータを測定して、接続された前記データ収集コントローラにデータを出力する消耗度計測手段、
をそれぞれ当該基板処理装置内に設けられて有し、
前記消耗品一括管理手段が、
前記消耗度計測手段で計測されて各処理部から前記データ収集コントローラを介して前記工場内ネットワークを通じて得られたデータに基づいて、前記各消耗品が消耗しているか否かを判断する消耗判断手段と、
前記消耗判断手段で消耗していると判断された消耗品のうち少なくとも同一種類の消耗品についてはその全てを特定する情報を一括して前記基板処理装置ごとに表示する表示手段と、
を備える基板処理システム。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記処理部における消耗品は、
流体を供給するための所定の管路に着脱可能に設けられるフィルターと、
流体を供給するための着脱可能なポンプと、
着脱可能なモータと、
であることを特徴とする基板処理システム。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記消耗品が、流体を供給するための所定の管路に着脱可能に設けられるフィルターを含み、
前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記管路の1次側における前記流体の圧力を測定する圧力センサを含み、
前記消耗判断手段が、前記圧力センサで測定された圧力が所定の圧力基準値を超えた場合に前記フィルターが消耗していると判断することを特徴とする基板処理システム。 - 請求項1に記載の基板処理システムであって、
前記消耗品が、流体を供給するための所定の管路に着脱可能に設けられるフィルターを含み、
前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記管路の2次側における前記流体の流量を測定する流量センサを含み、
前記消耗判断手段が、前記流量センサで測定された流量が所定の流量基準値未満であった場合に前記フィルターが消耗していると判断することを特徴とする基板処理システム。 - 請求項3に記載の基板処理システムであって、
前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記管路の2次側における前記流体の流量を測定する流量センサを含み、
前記消耗判断手段が、前記流量センサで測定された流量が所定の流量基準値未満であった場合に前記フィルターが消耗していると判断することを特徴とする基板処理システム。 - 請求項1、および請求項3ないし請求項5のいずれかに記載の基板処理システムであって、
前記消耗品が、流体を供給するための着脱可能なポンプを含み、
前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、流体を供給するためのポンプの動作を検出するポンプ動作センサを含み、
前記消耗判断手段が、前記ポンプ動作センサで検出された前記ポンプの動作の回数をカウントし、当該カウント結果が所定の基準回数を超えた場合に前記ポンプが消耗していると判断することを特徴とする基板処理システム。 - 請求項1、および請求項3ないし請求項6のいずれかに記載の基板処理システムであって、
前記消耗品が着脱可能なモータを含み、
前記消耗度計測手段が、前記消耗度に関するデータとして、前記モータの駆動状態を検出するモータ状態検出センサを含み、
前記消耗判断手段が、前記モータ状態検出センサで検出された前記モータの駆動状態が所定の許容範囲を超えた場合に前記モータが消耗していると判断することを特徴とする基板処理システム。
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