JP3997799B2

JP3997799B2 - スルホン酸無水物の製造方法

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Publication number: JP3997799B2
Application number: JP2002059001A
Authority: JP
Inventors: 健一滝沢
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2001-12-13
Filing date: 2002-03-05
Publication date: 2007-10-24
Anticipated expiration: 2022-03-05
Also published as: JP2003238519A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はスルホン酸無水物の製造方法に関する。詳しくは、カルボン酸無水物の存在下でスルホン酸からスルホン酸無水物を効率よく製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に行われているスルホン酸無水物の製造方法としては、対応するスルホン酸をジシクロヘキシルカルボジイミド（以下、ＤＣＣと略す）や塩化チオニル、五酸化二燐等で脱水する方法が良く知られている。しかしながら、これらの公知の方法では、高価なＤＣＣや塩化チオニル、五酸化二燐等を、基質であるスルホン酸に対していずれも相当量使用する必要があり、さらに収率の問題や、反応時や脱水剤再生時の操作が難しいなどの問題もあって、必ずしも経済的で容易な方法とは言えず、これらに代わる効率的な合成手法が期待されてきた。
【０００３】
効率的なスルホン酸無水物合成法に関し、上記の他にも様々な試薬を用いての検討が行なわれてきた。例えば、パラトルエンスルホン酸とジフェニル水銀およびトリブチルホスフィンをベンゼン中で混合・加熱し、水銀やトリブチルホスフィンオキサイドとともにパラトルエンスルホン酸無水物を得る方法（Ｔ．Ｍｕｋａｉｙａｍａ，Ｉ．Ｋｕｗａｊｉｍａ，Ｚ．Ｓｕｚｕｋｉ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２８，２０２４（１９６３））やメトキシアセチレンとパラトルエンスルホン酸とを塩化メチレン中において反応させ、酢酸メチルとともにパラトルエンスルホン酸無水物を得る方法（Ｇ，Ｅｇｌｉｎｔｏｎ，Ｅ．Ｒ．Ｈ．Ｊｏｎｅｓ，Ｂ．Ｌ．Ｓｈａｗ，Ｍ．Ｃ．Ｗｈｉｔｉｎｇ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１８６０（１９５４））、またパラトルエンスルホン酸をコハク酸ジクロライドと反応させ、パラトルエン無水物をコハク酸無水物、塩化水素とともに得る方法（Ｍ．Ｈ．Ｋａｒｇｅｒ，Ｙ．Ｍａｚｕｒ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３６，５２８（１９７１））等が提案されている。
【０００４】
しかしながら、これらのパラトルエンスルホン酸無水物合成法も、いずれも試薬が高価なことや収率の不十分さ等の理由から工業的な製造方法としては必ずしも満足し得るものではない。
またベンゼンスルホン酸無水物については、ベンゼンスルホン酸銀をアセチルクロライド中で加熱還流して濾過後１００℃−０．１ｍｍＨｇにて蒸留することにより合成する方法（Ｗ．Ｆｌａｖｅｌｌ，Ｎ．Ｃ．Ｒｏｓｓ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，５４７４（１９６４））が、さらにメタンスルホン酸無水物についてはメタンスルホン酸とアセチルクロライドとを混合して加熱還流し、過剰のアセチルクロライドを蒸留により取り除くことでメタンスルホン酸無水物を得る方法（Ｍ．Ｈ．Ｋａｒｇｅｒ，Ｙ．Ｍａｚｕｒ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３６，５２８（１９７１））等が提案されているが、これらもすべて経済的な問題等を克服できてはいない。
【０００５】
また、パラトルエンスルホン酸と無水酢酸とから合成可能である混合酸無水物のアセチルパラトルエンスルホネートが、微量のジメチルエーテル存在下で比較的容易に（３０℃ １２ｈ）分解し、ほぼ完全にパラトルエンスルホン酸無水物と無水酢酸に不均化したという報告と、同様にメタンスルホン酸と無水酢酸からも合成可能であるアセチルメタンスルホネートをアセチルクロライドとメタンスルホン酸から合成する過程において、還流時間を短縮してそのまま１２０℃−１０^-3ｍｍＨｇで蒸留することによりメタンスルホン酸無水物を収率約５０％で得ることに成功したという報告（ともにＭ．Ｈ．Ｋａｒｇｅｒ，Ｙ．Ｍａｚｕｒ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，３６，５２８（１９７１））はあるが、いずれも非常に長時間の反応時間や高温・高真空での蒸留過程を要している等の問題点を抱えている他、反応時における酢酸の影響ないしはその除去の必要性について全く言及しておらず、反応の全行程にわたる理解の不足と反応の最適化の未実施のために、上記微量のジメチルエーテル存在したにおけるアセチルパラトルエンスルホネートがほぼ完全に不均化したという非定量的な記載以外においてはいずれも収率が低い。
【０００６】
さらに、当該文献中における後者の反応についてはアセチルメタンスルホネートのメタンスルホン酸無水物と無水酢酸への不均化がメタンスルホン酸という酸によって触媒された反応としてのみ捉え、混合酸無水物とスルホン酸との１：１対応の反応については何も述べられていないし、蒸留時に高温に晒すことによって生ずる発色性不純物の軽減化についても何ら言及されていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述の問題点を克服し、スルホン酸無水物類を容易に経済的に高収率で、さらには不純物少なく製造する方法を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らはスルホン酸無水物の合成法について鋭意検討した結果、高価な脱水剤や反応試剤を使用しなくても、スルホン酸と安価なカルボン酸無水物とを混合して、副生ないし残留するカルボン酸およびカルボン酸無水物を系外に除きながら反応を行うことで、従来よりも容易にかつ経済的にスルホン酸無水物が得られることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、スルホン酸からスルホン酸無水物を合成する方法において、スルホン酸とカルボン酸無水物とを混合し、副生するカルボン酸を系外に除きながら反応を行うことを特徴とするスルホン酸無水物の製造方法に存する。
【０００９】
本発明の好適な態様としては、上記スルホン酸無水物の製造方法において、該スルホン酸が芳香族スルホン酸又は脂肪族スルホン酸から選ばれ、例えば置換基を有し得るベンゼンスルホン酸またはアルキルスルホン酸であり、特にパラトルエンスルホン酸、ヨードベンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸もしくはトリフルオロメタンスルホン酸であること、カルボン酸無水物が脂肪族カルボン酸無水物または芳香族カルボン酸無水物、特に無水酢酸や無水プロピオン酸等に代表される比較的低沸点で安価なカルボン酸無水物であること、さらに好ましくは無水酢酸であることを挙げることができる。
【００１０】
又、その他本発明の好適な態様としては、上記スルホン酸無水物の製造方法において、カルボン酸無水物がスルホン酸に対して０．１〜５０当量の範囲で使用されることと、反応温度が０℃から２５０℃の間であることが挙げられる。
さらに、反応物種、反応中間体種、生成物種、ないしはこれらの混合物の少なくともいずれかの融点が操作温度以下であることが望まれる。即ち通常はこれらいずれかの融点が２５０℃以下であることが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の詳細について説明する。
（スルホン酸）
本発明の合成反応で使用される原料のスルホン酸には何ら制限されることなく公知のスルホン酸が適用される。スルホン酸として具体的には、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ｍ−キシレン−４−スルホン酸、パラオクチルベンゼンスルホン酸、パラドデシルベンゼンスルホン酸、２，４−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、メシチレンスルホン酸等のアルキルベンゼンスルホン酸類、ビフェニルスルホン酸、また１−ナフタレンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、ジイソプロピルナフタレンスルホン酸、ジイソブチルナフタレンスルホン酸等のアルキルナフタレンスルホン酸類、またメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、オクタンスルホン酸等のアルキルスルホン酸類、さらにはメシチレンジスルホン酸やベンゼン−ｍ−ジスルホン酸等の多価スルホン酸類等が挙げられる。またこれらのスルホン酸類はその炭素上にＣｌ、Ｂｒ、Ｆなどのハロゲンやアシル基、アルコキシ基等の置換基を含有していても良い。なかでもメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０のアルキルないしアリールスルホン酸が好ましく適用され、特にパラトルエンスルホン酸、ヨードベンゼンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸が好適である。
【００１２】
（カルボン酸無水物）
本発明において用いられるカルボン酸無水物は、特に限定されるものではなく、具体的には無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ブチル酸、無水イソブチル酸、シクロヘキシル酢酸無水物等の直鎖状の脂肪族カルボン酸無水物のほか、無水マレイン酸、無水コハク酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等の分子内脱水により環状となった脂肪族カルボン酸無水物、その他無水フタル酸、無水安息香酸等の各種芳香族カルボン酸無水物等が挙げられる。またこれらのカルボン酸無水物類はすべて、その分子内の炭素上の水素原子がハロゲン原子やアシル基、アルコキシ基等によって置換されていても良い。
これらのカルボン酸無水物を本発明に適用する場合、カルボン酸無水物に由来するカルボン酸やカルボン酸無水物自身を反応過程で系外に除くことが出来るようスルホン酸や目的のスルホン酸無水物との組み合わせを考慮して適宜選択することが肝要である。
なかでもカルボン酸無水物自身と、そのカルボン酸無水物が加水分解して生成するカルボン酸との沸点が３００℃以下のものが好ましく適用され、特に無水酢酸が好適である。
【００１３】
本発明におけるカルボン酸無水物の使用量は、特に制限されるものではないが、一般的には、スルホン酸に対して約０．１〜５０当量使用される。高収率・高純度のスルホン酸無水物を合成する場合には、１〜２５当量、好ましくは１〜１０当量の範囲で使用される。また、収率よりもむしろ、微量不純物の生成を懸念し、低温の操作によって選択性良く反応を進行させたい場合には、０．１〜３当量、好ましくは０．２５〜１．５当量、更に好ましくは０．２５〜１当量の範囲で用いられる。この範囲を超えて少な過ぎると十分なスルホン酸無水物収量が得られず、他方、過多に過ぎると反応器内のホールド量が多くなって経済的効果が減少する。さらに、低温の操作によって選択性良く反応を進行させたい場合には、過多に過ぎると仕込みのスルホン酸のほとんどが反応初期に容易にスルホン酸とカルボン酸との混合酸無水物になり、スルホン酸無水物へと変換する際に高温を要し、従って不純物の生成量が多くなってしまう。
【００１４】
（溶媒または添加物）
本発明のスルホン酸無水物合成反応においては、経済的観点からも反応剤としての機能を持つ当該カルボン酸無水物以外には特に反応溶媒や添加物なるものを使用しない方が好ましいが、添加物ないしは溶媒として使用することができるものに、例えば、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ドデカン等の脂肪族炭化水素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、メトキシベンゼン等の芳香族炭化水素化合物、アセトニトリル、プロパンニトリル、カプロニトリル、アジポニトリル、ベンゾニトリル、トルニトリル等のニトリル化合物、フタル酸ジメチル、フタル酸ジブチル、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル化合物、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジグライム、テトラヒドロフラン等のエーテル化合物、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化アルキル化合物、ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド化合物等を挙げることが出来る。なかでも、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトニトリル等の二トリル類、ハロゲン化アルキル類等が反応上好ましい。また、これらは単独でも混合しても使用することが出来る。
【００１５】
（反応条件）
本発明の製造方法において、スルホン酸からスルホン酸無水物が生成する反応は下記式（１）の通りである。なお、この例では原料のスルホン酸としてパラトルエンスルホン酸、カルボン酸無水物として無水酢酸を用いており、目的のスルホン酸無水物はパラトルエンスルホン酸無水物である。
【００１６】
【化１】

【００１７】
まず、パラトルエンスルホン酸（Ａ）と無水酢酸（Ｂ）が反応して中間生成物として混合酸無水物（Ｃ）が生成する。このとき、無水酢酸に由来する酢酸（Ｄ）が副生物として生成する。混合酸無水物は、不均化反応（後段−１）及び／又は更にパラトルエンスルホン酸（Ａ）と反応（後段−２）することにより、パラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）を生成する。そして、この一連の反応のトータルとしては、２分子のパラトルエンスルホン酸（Ａ）と１分子の無水酢酸（Ｂ）から、１分子のパラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）と２分子の酢酸（Ｄ）が生成することとなる。
【００１８】
もし、仕込みの無水酢酸（Ｂ）がパラトルエンスルホン酸（Ａ）量に比べて比較的少なければ、中間体生成後に系中に余分なパラトルエンスルホン酸（Ａ）が残ることとなる。従って中間体である混合酸無水物（Ｃ）は、更にもう一分子のパラトルエンスルホン酸（Ａ）と反応することにより、パラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）と酢酸（Ｄ）を生成する（後段−２）。逆にもし仕込みの無水酢酸（Ｂ）が十分に多ければ仕込みのパラトルエンスルホン酸（Ａ）のほぼすべてが２５℃での混合後まもなく中間体（Ｃ）となってしまう。その場合には中間体（Ｃ）を不均化させて目的生成物であるパラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）を得ることとなる（後段−１）。仕込みの無水酢酸（Ｂ）の量が多い場合には非常に高収率・高純度でパラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）が得られるが、通常８５℃〜１２０℃の高温と減圧とが必要になるために高温故の不純物が生成し、通常生成物は黒色を呈する。しかしながら、仕込みの無水酢酸（Ｂ）量を抑えることにより、例えば６０℃といった低温であっても減圧にすることによって副生する酢酸（Ｄ）を系外に取り除きながら後段−２の反応を進行させて収率は低いながらも発色性の不純物の生成を抑制しながら目的生成物であるパラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）を合成することができる。
【００１９】
また、パラトルエンスルホン酸（Ａ）そのものには、中間体であるアセチルパラトルエンスルホネート（Ｃ）の不均化反応（後段−１）に対する触媒活性があり、パラトルエンスルホン酸（Ａ）の存在下では、６０℃という低温下であっても無水酢酸（Ｂ）を系外に取り除きながら後段−１の反応をも十分に進行させることができる。斯くて、仕込みの無水酢酸量を抑えて比較的低温で反応を遂行させることにより、後段−１および−２の双方の反応の併発によって不純物が少なく色の薄いパラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）を得ることができる。
【００２０】
本発明において、高収率でスルホン酸無水物を合成できる理由、また、低温での製造方法がスルホン酸無水物中の不純物を軽減させる上で優れた効果を発揮する理由はいずれも必ずしも明確ではないが、以下のように推定している。
まず、前段の反応も後段の反応（１および２）もいずれもそれぞれ平衡反応と考えられる。そこで、反応系中で副生する酢酸（Ｄ）（ないしは無水酢酸（Ｂ））を減圧で系中から取り除き、またこの場合には目的物であるパラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）を晶析によって系中から取り除くことによって反応をより一層進行させることが可能となる。
【００２１】
また、高温反応における発色性不純物については、中間体である混合酸無水物（Ｃ）が高温に晒されるとパラトルエンスルホン酸（Ａ）とケテンに分解するので、その際に出来る微量のケテン重合物由来の物質等と思われる。そこで、反応の平衡特性を駆使して極力低温にて反応することによって、不純物の生成を抑えて色の薄いパラトルエンスルホン酸無水物（Ｅ）を得ることが出来る。
【００２２】
本発明の製造方法において、副生物のカルボン酸を除く方法は特に限定されないが、具体的には、１）減圧下に留去する方法、２）当該反応に対して不活性ないしはなんら悪影響を及ぼさないガスを流通させ、同伴留去する方法、３）晶析する方法等が挙げられる。
これらの除去方法は単独で用いても組み合わせて用いても良い。また、カルボン酸と共に、残留ないしは後段で生成するカルボン酸無水物又は目的物であるスルホン酸無水物を必要に応じて除去することも好ましい。
反応後の系中のカルボン酸濃度は一定値以下にすることが好ましく、具体的には反応生成物中における重量百分率として１０％、さらに好ましくは５％以下が好ましい。
【００２３】
カルボン酸やカルボン酸無水物を減圧下に留去する場合の圧力としては、大気圧より低ければ良いが、好ましくは０．０１Ｐａ〜９９０００Ｐａであり、更に好ましくは０．０５Ｐａ〜５００００Ｐａである。減圧下に留去することによって、カルボン酸を除く場合、反応物であるスルホン酸や中間体である混合酸無水物、また出来れば目的のスルホン酸無水物よりも除くべきカルボン酸の沸点が低い必要があるので、これら単独のまた混合物の沸点を勘案して基質のカルボン酸無水物を選定する。
【００２４】
カルボン酸を当該反応に対して不活性ないしはなんら悪影響を及ぼさないガスを流通させ、同伴留去する場合に用いられる不活性なガスとしては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、窒素、メタン、エタン、プロパン、あるいはこれらの混合ガスを挙げることができる。
ガスに同伴留去する場合、反応物であるスルホン酸や中間体である混合酸無水物、また出来れば目的のスルホン酸無水物よりも除くべきカルボン酸の揮発性が高い必要があるので、これら単独のまた混合物の揮発性を勘案して基質のカルボン酸無水物を選定する。
【００２５】
カルボン酸を晶析して取り除く場合には、反応の中途で晶析のために温度を下げたり、貧溶媒を加える等の方法がある。晶析により系外に除く場合、反応物であるスルホン酸や中間体である混合酸無水物、また出来れば目的のスルホン酸無水物よりも除くべきカルボン酸の融点が低い必要があるので、これら単独のまた混合物の融点を勘案して基質のカルボン酸無水物を選定する。また、貧溶媒を用いる場合には、用いる溶媒に対して、反応物であるスルホン酸や中間体である混合酸無水物、また出来れば目的のスルホン酸無水物よりも除くべきカルボン酸の溶解度が低くなるように基質のカルボン酸無水物を選定する。
【００２６】
なお、本発明において、「副生するカルボン酸を除きながら反応を行う」とは、反応中途のいずれかの時点でカルボン酸を除く操作を加えることを意味しており、反応中連続的にカルボン酸を除く操作を加えるのみならず、断続的にカルボン酸を除く操作を行っても良い。
【００２７】
本発明の製造方法の好ましい一実施態様としては、反応途上で中間生成物として得られる混合酸無水物を単離することなく目的のスルホン酸無水物を得るものである。カルボン酸やカルボン酸無水物を系外に除くことにより、混合酸無水物は最終的には消費されるので、単離しないほうが、操作上簡便となり、また、本反応の場合、単離しなくとも良い収率・高い選択性が達成可能である。
【００２８】
本発明の製造方法の別の好ましい一実施態様としては、実質的に無溶媒で反応を行うものである。実質的に無溶媒とは、反応系中に、反応に何ら悪影響を及ぼさず、且つ基質の濃度を実質的に下げない範囲で、不活性なガスや固体を存在させることを妨げるものではなく、具体的には反応混合物中の基質と反応生成物以外の溶媒物質が重量百分率で１０％以下、好ましくは５％以下であることを意味する。
溶媒を用いないことにより基質濃度を高くすることが出来、反応速度が速くなる他、反応後の処理が簡便となる。また、本反応の場合、溶媒を用いなくとも良い収率と選択性が達成可能である。
【００２９】
本発明方法を実施する条件としては特に規定されないが、反応温度は通常０℃から２５０℃、好ましくは１０℃から１３０℃、更に好ましくは１５℃から１２０℃の範囲で実施される。反応圧力も特に制限されるものでなく、減圧〜加圧条件下で実施される。好ましくは減圧〜常圧下で実施される。さらに好ましくは、５００００Ｐａ以下の減圧下で実施される。また、上記反応圧力に関わらず、不活性ガス等を流通しながら反応を行うのも好ましい。さらに、反応時間については、昇温過程・減圧過程も含めて通常５分〜３０時間であり、好ましくは１０分〜１５時間である。
【００３０】
本発明ではスルホン酸とカルボン酸無水物のいずれを先に反応器に投入しても反応は進行する。また、いずれかを先に所定の温度に加熱し、次いで他方を添加するという順序であっても反応は進行する。さらに、加熱・減圧・ガス流通を組み合わせて反応を行う場合においては、それぞれどのような組み合わせ方を選択しても反応は進行するし、どれを先に行っても、また二者ないし三者を同時に開始しても反応を進行させることが出来る。
【００３１】
本発明の反応を実施する反応形式は特に規定されるものではなく、回分反応、連続流通反応のいずれでも実施することができる。反応器の形式についても特に制約はなく、１槽あるいは２槽以上の連続した攪拌槽からなる反応器や、チューブラー型反応器等、一般的な反応器を使用することができる。本発明では酸を用いるため、反応器材質は耐腐食性材質のものを用いるのが好ましく、例えばステンレス鋼、ハステロイ、モネル、インコネル、チタン、チタン合金、ジルコニウム、ジルコニウム合金、ニッケル、ニッケル合金、タンタル、又はフッ素樹脂、各種ガラスを内側にコーテイングした材料などが例示できる。
反応で使用されるスルホン酸、カルボン酸無水物、反応溶媒は予め充分な水分除去を施した後に反応に供するほうが好ましい。
【００３２】
本発明の反応形式につき、以下、回文反応の例を挙げて述べる。
スルホン酸とカルボン酸無水物を必要に応じ溶媒とともに反応器に供給し、所定の温度、所定の圧力にて所望の時間反応させ、生成したスルホン酸無水物、カルボン酸および未反応スルホン酸とカルボン酸無水物を含む反応混合物を取り出す。当該反応生成物は反応条件を好適に選定することにより相当高純度なスルホン酸無水物として回収することが出来、更なる精製は必要としない。ただし、必要に応じて蒸留・晶析・洗浄・抽出等を行って精製することも可能である。
【００３３】
【実施例】
本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の例において、スルホン酸無水物の収率（％）は仕込みスルホン酸（参考例１および２にあっては仕込み混合酸無水物）に対する生成スルホン酸無水物のモル比の百分率の２倍で表した。
【００３４】
［実施例１］（無水酢酸の量を抑え、６０℃という低温で実施した反応例）
乾燥機で乾燥した５０ｍｌの二つ口フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸４．０２ｇ（２３．３２ｍｍｏｌ）と無水酢酸１．１９ｇ（１１．６６ｍｍｏｌ）を仕込んで２５℃で２０分攪拌した。その後オイルバスにて６０℃まで加温して２０分攪拌し、ついで６０℃のまま５００Ｐａ以下に減圧してその状態で６０分攪拌した（圧力の平均は１００Ｐａ程度であった）。
その後、２５℃に冷却しつつ乾燥窒素にて復圧した。
得られた反応生成物は黄色のペースト状であった。ついで、これを窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
【００３５】
その結果、得られた粗パラトルエンスルホン酸無水物の収率は５６．４％、生成物中におけるパラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率（純度）は５３．７％であった。
含有されていた主な不純物は、パラトルエンスルホン酸、アセチルパラトルエンスルホネート、酢酸であり、各々重量百分率では、３８．３％、４．２％、３．８％であった。また、得られた粗パラトエルエンスルホン酸無水物は薄黄色を呈していた。
【００３６】
次に、該粗パラトルエンスルホン酸無水物に乾燥窒素雰囲気下にて無水酢酸を３．６ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）加えて２５℃にて２０分間攪拌し、その後乾燥空気雰囲気下にて減圧濾過を行って、濾残に上から６．０ｇ（５８．３ｍｍｏｌ）の無水酢酸を振りかけてリンス洗浄を行った。得られたケーキは２５℃下、約１５０Ｐａにて２時間半減圧乾燥した。
最終的に得られた精製パラトルエンスルホン酸無水物（白色）を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は当初に仕込んだパラトルエンスルホン酸から換算して４７．８％であり、パラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率（純度）は９９．９％であった。また、このときスルホン酸骨格含有不純物としては、アセチルパラトルエンスルホネートが０．１％含有されていて、その他の不純物としては酢酸および無水酢酸がそれぞれ極微量含まれていた。
【００３７】
［実施例２］
乾燥機で乾燥した５０ｍｌのナス型フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸３．７６ｇ（２１．８３ｍｍｏｌ）と無水酢酸２．６７ｇ（２６．２０ｍｍｏｌ）を仕込んで２５℃で２０分攪拌した。その後６０℃まで加温して２０分攪拌し、ついで６０℃のまま２００Ｐａまで減圧してその状態で２０分攪拌。さらに９５℃まで昇温して１．５時間攪拌を行った。
２５℃に冷却・復圧したのち、反応物に窒素下にて１．７９ｇ（１７．４９ｍｍｏｌ）の無水酢酸を再添加し、２５℃で２０分攪拌した。その後６０℃まで加温して２０分攪拌し、ついで６０℃のまま２５０Ｐａまで減圧してその状態で２０分攪拌。さらに９５℃まで昇温して１．５時間攪拌し、２５℃に冷却して乾燥窒素にて復圧した。
得られた反応生成物を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は９６．８％、生成物中におけるパラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率（純度）は９６．７％であった。
含有されていた主な不純物は、パラトルエンスルホン酸とアセチルパラトルエンスルホネートであり、各々重量百分率は、３．２％、０．１％であった。その他、酢酸が極微量含まれていた。
また、生成物は微量の発色性不純物によって、黒褐色を呈していた。
【００３８】
［実施例３］
乾燥機で乾燥した５０ｍｌのナス型フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸３．７５ｇ（２１．７７ｍｍｏｌ）と無水酢酸２．４５ｇ（２４．０１ｍｍｏｌ）を仕込んで２５℃で２５分攪拌した。その後７０℃まで加温して１時間攪拌し、ついで７０℃のまま１５０Ｐａまで減圧してその状態で１時間攪拌。さらに９５℃まで昇温して１．５時間攪拌。
２５℃に冷却して乾燥窒素にて復圧。
得られた反応生成物を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は８５．３％、生成物中におけるパラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率（純度）は８３．５％であった。
含有されていた主な不純物は、パラトルエンスルホン酸と酢酸であり、各々重量百分率では１６．３％、０．１％であった。
また、生成物は微量の発色性不純物によって、黒褐色を呈していた。
【００３９】
［実施例４］
乾燥機で乾燥した５０ｍｌのナス型フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸３．８３ｇ（２２．２４ｍｍｏｌ）と無水酢酸６．７０ｇ（６５．６２ｍｍｏｌ）を仕込んで２５℃で２０分攪拌した。その後７０℃まで加温して１０分間攪拌し、ついで７０℃のまま約１５０Ｐａまで減圧してその状態で１５分間攪拌、さらに９５℃まで昇温して１．３時間攪拌した。その後、２５℃に冷却して乾燥窒素にて復圧した。
得られた反応生成物を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は７８．４％、生成物中におけるパラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率（純度）は７５．４％であった。
含有されていた主な不純物は、パラトルエンスルホン酸とアセチルパラトルエンスルホネート、酢酸であり、各々重量百分率は１０．７％、１２．９％、１．０％であった。
また、生成物は微量の発色性不純物によって、赤黒色を呈していた。
【００４０】
［比較例１］（カルボン酸無水物を使用することなく減圧にして反応を行った例）
乾燥機で乾燥した５０ｍｌのナス型フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸３．７５ｇ（２１．７８ｍｍｏｌ）を仕込んで７０℃まで加温して１５分攪拌し、ついで７０℃のままで１５０Ｐａまで減圧してその状態で１５分攪拌、さらに９５℃まで昇温して２．５時間攪拌した。次いで、２５℃に冷却して乾燥窒素にて復圧した。
得られた反応生成物を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は０％であり、パラトルエンスルホン酸がそのまま残留していた。
【００４１】
［比較例２］（常圧にて、無水酢酸の使用量を抑えた６０℃反応を行い、副生する酢酸を系外に取り除くことなく反応を実施した例）
乾燥機で乾燥した５０ｍｌの二つ口フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸３．９４ｇ（２２．８７ｍｍｏｌ）と無水酢酸１．２０ｇ（１１．７３ｍｍｏｌ）を仕込んで２５℃で２０分攪拌した。その後オイルバスにて６０℃まで加温して２時間攪拌した。その後、２５℃に冷却した。
得られた反応生成物は橙色の溶液状であり、２５℃に冷却後しばらくしても溶液状態を保っていた。ついで、これを窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、得られた粗パラトルエンスルホン酸無水物の収率は６．５％、生成物中におけるパラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率（純度）は４．７％であった。
含有されていた主な不純物は、パラトルエンスルホン酸、アセチルパラトルエンスルホネート、酢酸、無水酢酸であり、各々重量百分率では、４０．７％、３８．４％、１５．０％、１．２％であった。
【００４２】
［比較例３］（パラトルエンスルホン酸に対して過剰量の無水酢酸を使用し、副生する酢酸を系外に取り除くことなく常圧反応を実施した例）
乾燥機で乾燥した５０ｍｌのナス型フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸０．５０ｇ（２．９１ｍｍｏｌ）と無水酢酸０．９０ｇ（８．７７ｍｍｏｌ）を仕込んで２５℃で２０分攪拌した。その後６０℃まで加温して２０分攪拌し、ついで９５℃まで昇温して４．５時間攪拌した。その後、２５℃に冷却した。
得られた反応生成物を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は１．８％であった。また、アセチルパラトルエンスルホネートが仕込んだパラトルエンスルホン酸に対して８８．４％の収率で得られた。
各成分の重量百分率は以下の通りである。
パラトルエンスルホン酸無水物：０．８％、パラトルエンスルホン酸：５．４％、アセチルパラトルエンスルホネート：４２．３％、無水酢酸：３６．９％、酢酸：１４．６％
【００４３】
［比較例４］（パラトルエンスルホン酸に対して過剰量の無水酢酸を使用し、６０℃で減圧反応を実施した例）
乾燥機で乾燥した５０ｍｌの二つ口フラスコを乾燥窒素で置換後、パラトルエンスルホン酸７．０４ｇ（４０．８６ｍｍｏｌ）と無水酢酸１６．７６ｇ（１６４．１６ｍｍｏｌ）を仕込んで２５℃で１５分攪拌した。その後オイルバスにて６０℃まで加温し、ついですぐに６０℃のまま約１５０Ｐａ程度にまで減圧してその状態で６５分攪拌した。
その後、２５℃に冷却しつつ乾燥窒素にて復圧した。
得られた反応生成物は２５℃に冷却すると茶色の結晶（結晶そのものは無色透明で、微量不純物によって色がついていると思われる）となった。ついで、これを窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、得られた粗生成物中にパラトルエンスルホン酸無水物はほとんど含まれておらず、生成物中におけるパラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率（純度）は１．９％であった。
ほとんどがアセチルパラトルエンスルホネートであり、この重量百分率は９７．１％であった。
また、これらの他に含有されていた主な不純物は、パラトルエンスルホン酸と無水酢酸であり、各々重量百分率では０．８％と０．１％であった。
【００４４】
［参考例］（別途合成した混合酸無水物であるアセチルパラトルエンスルホネートを特に副生する無水酢酸等を系外に取り出すことなく単に加温した例）
【００４５】
［参考例１］
乾燥機で乾燥した５０ｍｌのナス型フラスコを乾燥窒素で置換後、アセチルパラトルエンスルホネート５．５５ｇ（２５．８９ｍｍｏｌ）を仕込んでオイルバスにて１５０℃まで加温して１時間半攪拌した。
その後、２５℃に冷却。得られた物質は粘性の高い黒色の液体であった。
得られたこの反応生成物を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は０％であり、パラトルエンスルホン酸骨格を有する物質としてはもっぱらパラトルエンスルホン酸が存していた。また、パラトルエンスルホン酸以外の含有物質としては、酢酸のみが確認された。この酢酸のモル数は得られたパラトルエンスルホン酸のモル数に比して１７％と非常に少なく、そのほとんどがガス状のケテンとしてフラスコ外に出たものと思われる。
【００４６】
［参考例２］
乾燥機で乾燥した２０ｍｌのシュレンクを乾燥窒素で置換後、アセチルパラトルエンスルホネート０．４０ｇ（１．８６ｍｍｏｌ）を仕込んでオイルバスにて９０℃まで加温して１時間攪拌した。
その後、２５℃に冷却。赤黒色の液体が得られた。
この反応生成物を窒素下にてＣＤＣｌ₃に溶解させ１Ｈ−ＮＭＲで分析した。
その結果、パラトルエンスルホン酸無水物の収率は１９．２％であり、生成物中におけるパラトルエンスルホン酸無水物の重量百分率は、１４．２％であった。
【００４７】
【発明の効果】
本発明方法によれば、スルホン酸からスルホン酸無水物を容易に経済的に高収率で、さらには不純物少なく製造することが出来るため、工業的に有利な方法である。

Claims

スルホン酸から該スルホン酸無水物を合成する方法において、スルホン酸とカルボン酸無水物とを混合し、副生するカルボン酸を系外に除きながら反応を行うことを特徴とするスルホン酸無水物の製造方法。
反応途上で該スルホン酸と該カルボン酸とから反応系中で生成する混合酸無水物を単離することなくスルホン酸無水物を合成することを特徴とする請求項１に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
カルボン酸無水物と反応系中で副生するカルボン酸が、原料スルホン酸又は該スルホン酸無水物よりも低沸点であることを特徴とする請求項１又は２に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
副生又は残留するカルボン酸およびカルボン酸無水物を減圧下に留去しながら反応を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
反応系に当該反応に対して不活性なガスを流通させることにより、副生又は残留するカルボン酸およびカルボン酸無水物を同伴留去しながら反応を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
反応途上で、副生するカルボン酸を晶析で系中から除去しながら反応を進行させることを特徴とする請求項１又は２に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
カルボン酸無水物をスルホン酸に対して０．１〜５０当量使用することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
反応温度が０℃から２５０℃の間であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
該スルホン酸と、該カルボン酸無水物とを無溶媒で反応を行うことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
該カルボン酸無水物が、無水酢酸であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のスルホン酸無水物の製造方法。
該スルホン酸が炭素数１〜１０のアルキルないしアリールスルホン酸であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載のスルホン酸無水物の製造方法。