JPH0678265B2 - １，４―ビス―（４―ヒドロキシベンゾイル）―ベンゼンの製法 - Google Patents
１，４―ビス―（４―ヒドロキシベンゾイル）―ベンゼンの製法Info
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- JPH0678265B2 JPH0678265B2 JP2515751A JP51575190A JPH0678265B2 JP H0678265 B2 JPH0678265 B2 JP H0678265B2 JP 2515751 A JP2515751 A JP 2515751A JP 51575190 A JP51575190 A JP 51575190A JP H0678265 B2 JPH0678265 B2 JP H0678265B2
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- hydroxybenzoyl
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/54—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition of compounds containing doubly bound oxygen atoms, e.g. esters
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- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、溶剤中でハロゲンアルカンスルホン酸の存在
下テレフタル酸ジフェニルエステルをフリース転位させ
て1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンを
製造する方法に関する。
下テレフタル酸ジフェニルエステルをフリース転位させ
て1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンを
製造する方法に関する。
Blicke等は、J.A.C.S.1938，第2283頁において二硫化炭
素（CS2）中でAlCl3の存在下テレフタル酸ジフェニルエ
ステルの転位を記載している。溶剤の留出後、反応混合
物を185〜190℃に加熱する。引き続いての、稀釈塩酸に
よるアルミニウム錯塩の分解後、得られる生成物を稀釈
水性苛性ソーダ液で抽出する。次に、引き続いての酸性
化は1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼン
を与え、該ベンゼンはアルコールから再結晶後297〜299
℃の融点を示す。しかしこの合成法は、これと関係した
欠点、例えばアルミニウム含有廃水及び著しく高い温度
による多数の副反応のために、工業的製造に適しない。
素（CS2）中でAlCl3の存在下テレフタル酸ジフェニルエ
ステルの転位を記載している。溶剤の留出後、反応混合
物を185〜190℃に加熱する。引き続いての、稀釈塩酸に
よるアルミニウム錯塩の分解後、得られる生成物を稀釈
水性苛性ソーダ液で抽出する。次に、引き続いての酸性
化は1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼン
を与え、該ベンゼンはアルコールから再結晶後297〜299
℃の融点を示す。しかしこの合成法は、これと関係した
欠点、例えばアルミニウム含有廃水及び著しく高い温度
による多数の副反応のために、工業的製造に適しない。
欧州特許第00 75390号明細書から1,4-ビス‐（4-ヒドロ
キシベンゾイル）‐ベンゼンの製法が公知であり、その
際フェノール及びテレフタル酸から出発させて、溶剤と
してのフルオルアカンスルホン酸中で目的化合物が製造
される。
キシベンゾイル）‐ベンゼンの製法が公知であり、その
際フェノール及びテレフタル酸から出発させて、溶剤と
してのフルオルアカンスルホン酸中で目的化合物が製造
される。
それゆえ、触媒系を小化学量論的量で使用し、容易に後
処理しそして回収することができる方法への要求があっ
た。
処理しそして回収することができる方法への要求があっ
た。
本発明者は、次の様にして、式（Ｉ） で示される1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベ
ンゼンを有利に製造することができることを見出した。
すなわち式（II） で示されるテレフタル酸ジフェニルエステルを、テレフ
タル酸ジフェニルエステルに対し、反応成分に対し不活
性な水不含有機溶剤の約３乃至約50部、好ましくは約５
乃至約20部中で、一般式（III） Ｙ（CnX2n）SO3H （III）、 好ましくは一般式（IV） Ｙ（CnF2n）SO3H （IV） （上記の式中Ｙはフッ素‐又は水素原子であり、 Ｘはフッ素‐及び／又は塩素原子を意味するが、ただし
少なくとも１個のＸはフッ素原子を示しそしてｎは１乃
至10の整数を意味する） で示されるハロゲンアルカンスルホン酸（触媒）の存在
下約10℃乃至約200℃、好ましくは約80℃乃至約130℃の
温度において転位させるのである。
ンゼンを有利に製造することができることを見出した。
すなわち式（II） で示されるテレフタル酸ジフェニルエステルを、テレフ
タル酸ジフェニルエステルに対し、反応成分に対し不活
性な水不含有機溶剤の約３乃至約50部、好ましくは約５
乃至約20部中で、一般式（III） Ｙ（CnX2n）SO3H （III）、 好ましくは一般式（IV） Ｙ（CnF2n）SO3H （IV） （上記の式中Ｙはフッ素‐又は水素原子であり、 Ｘはフッ素‐及び／又は塩素原子を意味するが、ただし
少なくとも１個のＸはフッ素原子を示しそしてｎは１乃
至10の整数を意味する） で示されるハロゲンアルカンスルホン酸（触媒）の存在
下約10℃乃至約200℃、好ましくは約80℃乃至約130℃の
温度において転位させるのである。
本発明による方法において、酸素不含条件下実施するこ
とが有利である。圧力比に関しては、例えば大気圧又は
少超過圧、特に系の固有圧−これは、特に適用された温
度により、しかし又他の因子、例えば反応容器の充填率
の程度により決められる−において実施することができ
る。例えば超過圧は10又は15バールまでの範囲であるこ
とができる。高圧において実施する場合、方法を、例え
ば特殊鋼製オートクレーブ−これは場合により耐性材
料、例えばポリテトラフルオルエチレンにより内張りさ
れている−中で、実施することができる。超過圧の適用
により、反応を促進することができるが、しかし副生成
物の増大した生成もこれと関係している。
とが有利である。圧力比に関しては、例えば大気圧又は
少超過圧、特に系の固有圧−これは、特に適用された温
度により、しかし又他の因子、例えば反応容器の充填率
の程度により決められる−において実施することができ
る。例えば超過圧は10又は15バールまでの範囲であるこ
とができる。高圧において実施する場合、方法を、例え
ば特殊鋼製オートクレーブ−これは場合により耐性材
料、例えばポリテトラフルオルエチレンにより内張りさ
れている−中で、実施することができる。超過圧の適用
により、反応を促進することができるが、しかし副生成
物の増大した生成もこれと関係している。
本発明による方法の長所は、沈澱した1,4-ビス‐（4-ヒ
ドロキシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後得られる母液
に再びテレフタル酸ジフエニルエステル又はフェノール
／テレフタル酸ジクロリドを加えそして反応媒体を多数
回、例えば６回まで、収率が著しく低下されることなし
に、再使用することができる。非常にひんぱんに回収す
る場合副生成物の富化が認められるので、約20重量％を
導出しそして新鮮な触媒で強化することが好ましい。導
出した母液は、触媒を回収するために、公知の方法によ
り外部的に後処理することができる。後処理の第二の可
能性は、溶剤−／触媒混合物の留出による反応混合物の
濃縮であり、該混合物は同様に次の反応にもどすことが
できる。両方法のいずれか最も好都合であるかは、使用
した溶剤及び使用したハロゲンアルカンスルホン酸に左
右される。分離した粗製1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベン
ゾイル）‐ベンゼンは、アルカリ水酸化物による処理及
び次のpH-制御酸性化により精製しそして共に生成した
半エステルから分離することができ、該エステルは次の
反応にもどされるべきである。
ドロキシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後得られる母液
に再びテレフタル酸ジフエニルエステル又はフェノール
／テレフタル酸ジクロリドを加えそして反応媒体を多数
回、例えば６回まで、収率が著しく低下されることなし
に、再使用することができる。非常にひんぱんに回収す
る場合副生成物の富化が認められるので、約20重量％を
導出しそして新鮮な触媒で強化することが好ましい。導
出した母液は、触媒を回収するために、公知の方法によ
り外部的に後処理することができる。後処理の第二の可
能性は、溶剤−／触媒混合物の留出による反応混合物の
濃縮であり、該混合物は同様に次の反応にもどすことが
できる。両方法のいずれか最も好都合であるかは、使用
した溶剤及び使用したハロゲンアルカンスルホン酸に左
右される。分離した粗製1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベン
ゾイル）‐ベンゼンは、アルカリ水酸化物による処理及
び次のpH-制御酸性化により精製しそして共に生成した
半エステルから分離することができ、該エステルは次の
反応にもどされるべきである。
本発明により使用される上記の式（III）の触媒は、好
ましくは多くて３個の塩素原子を含有し、特に最高１個
の塩素原子を含有する。基CnX2n又はCnF2nは、直鎖状で
あるか又は枝分かれしていることができ、その際Ｙが水
素原子である化合物は、これを多数回β‐位において含
有する。
ましくは多くて３個の塩素原子を含有し、特に最高１個
の塩素原子を含有する。基CnX2n又はCnF2nは、直鎖状で
あるか又は枝分かれしていることができ、その際Ｙが水
素原子である化合物は、これを多数回β‐位において含
有する。
本発明により使用される過フッ素化触媒は公知であり
（ドイツ特許出願公開第2139994号公報参照）、同様に
β‐H-パーフルオルアルカンスルホン酸は公知である
（J.Am.Chem.Soc.75,44595-44596、1953）。これらは公
知でない場合には、これらは、常法により得ることがで
きる。上記の一般式（III）の適当な化合物は、例えば
パーフルオロ‐n-オクタンスルホン酸、パーフルオルヘ
キサンスルホン酸、パーフルオルブタンスルホン酸、ペ
ンタフルオルエタンスルホン酸、β‐H-パーフルオルヘ
プタンスルホン酸及びβ‐H-パーフルオルペンタンスル
ホン酸である。異なる触媒の混合物も使用することがで
きる。トリフルオルメタンスルホン酸、2-クロル‐1,1,
2-トリフルオルエタンスルホン酸及び2-ヒドロパーフル
オルプロパンスルホン酸が好ましい。
（ドイツ特許出願公開第2139994号公報参照）、同様に
β‐H-パーフルオルアルカンスルホン酸は公知である
（J.Am.Chem.Soc.75,44595-44596、1953）。これらは公
知でない場合には、これらは、常法により得ることがで
きる。上記の一般式（III）の適当な化合物は、例えば
パーフルオロ‐n-オクタンスルホン酸、パーフルオルヘ
キサンスルホン酸、パーフルオルブタンスルホン酸、ペ
ンタフルオルエタンスルホン酸、β‐H-パーフルオルヘ
プタンスルホン酸及びβ‐H-パーフルオルペンタンスル
ホン酸である。異なる触媒の混合物も使用することがで
きる。トリフルオルメタンスルホン酸、2-クロル‐1,1,
2-トリフルオルエタンスルホン酸及び2-ヒドロパーフル
オルプロパンスルホン酸が好ましい。
一般に触媒を第一混合物において、テレフタル酸ジフェ
ニルエステルに対し約30乃至約500モル％の量で添加す
る。母液を所望の反応生成物の分離後又は、留出した溶
剤‐／触媒混合物を再利用する場合には、これをもどす
ことにより、結果として通例少化学量論的量の触媒が使
用される。
ニルエステルに対し約30乃至約500モル％の量で添加す
る。母液を所望の反応生成物の分離後又は、留出した溶
剤‐／触媒混合物を再利用する場合には、これをもどす
ことにより、結果として通例少化学量論的量の触媒が使
用される。
不活性有機溶剤として、例えばクロルベンゼン、o-ジク
ロルベンゼン、m-ジクロルベンゼン、o-クロルトルエ
ン、ニトロベンゼン、N-メチルピロリドン又はスルホラ
ンを使用することができる。
ロルベンゼン、m-ジクロルベンゼン、o-クロルトルエ
ン、ニトロベンゼン、N-メチルピロリドン又はスルホラ
ンを使用することができる。
転位を、ワンポット法においてもフェノール及びテレフ
タル酸ジクロリドから出発させて、テレフタル酸ジフェ
ニルエステルを中間単離せずに、実施することができ、
その際先行するエステル化が約10乃至約200℃の温度に
おいて実施される。この方法においても、転位の完結後
沈澱した反応混合物に、沈澱した1,4-ビス‐（4-ヒドロ
キシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後、フェノール／テ
レフタル酸ジクロリドを加えてそして再利用することが
できる。
タル酸ジクロリドから出発させて、テレフタル酸ジフェ
ニルエステルを中間単離せずに、実施することができ、
その際先行するエステル化が約10乃至約200℃の温度に
おいて実施される。この方法においても、転位の完結後
沈澱した反応混合物に、沈澱した1,4-ビス‐（4-ヒドロ
キシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後、フェノール／テ
レフタル酸ジクロリドを加えてそして再利用することが
できる。
本発明による方法において得られる、上記式（Ｉ）の1,
4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンは、化
学薬剤に対し安定な合成樹脂−これは高温においてもな
お安定である−用の重要な単量体である。式（Ｉ）の化
合物を、必要な場合には、溶剤、例えばエタノールから
再結晶させることができる。
4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンは、化
学薬剤に対し安定な合成樹脂−これは高温においてもな
お安定である−用の重要な単量体である。式（Ｉ）の化
合物を、必要な場合には、溶剤、例えばエタノールから
再結晶させることができる。
本発明を次の例により詳細に説明するが、本発明はこれ
に限定されてはならない。これらの例において、ｈは時
間をそしてBHBは1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイ
ル）‐ベンゼンを意味する。
に限定されてはならない。これらの例において、ｈは時
間をそしてBHBは1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイ
ル）‐ベンゼンを意味する。
例 １ テレフタル酸ジフェニルエステル0.25モル及びヘキサフ
ルオルプロパンスルホン酸0.25モルをクロルベンゼン30
0ml中で10h100〜110℃に加熱する。冷温下での撹拌後、
沈澱したBHBを濾別し、クロルベンゼン50mlで洗浄しそ
して粗生成物を乾燥する。母液を次の転位にもどすこと
ができる。
ルオルプロパンスルホン酸0.25モルをクロルベンゼン30
0ml中で10h100〜110℃に加熱する。冷温下での撹拌後、
沈澱したBHBを濾別し、クロルベンゼン50mlで洗浄しそ
して粗生成物を乾燥する。母液を次の転位にもどすこと
ができる。
収率： 理論値の85％ 純度（HPLC）： 92％ 融点： 312〜315℃。
クロルベンゼン300mlの代わりに同量のo-ジクロルベン
ゼン、m-ジクロルベンゼン又はo-クロルトルエンを使用
しそしてその他はこの例中に記載したのと同様に実施す
れば、実際上同一の結果が得られる。
ゼン、m-ジクロルベンゼン又はo-クロルトルエンを使用
しそしてその他はこの例中に記載したのと同様に実施す
れば、実際上同一の結果が得られる。
ヘキサフルオルプロパンスルホン酸0.25モルの代わりに
同量のトリフルオルメタンスルホン酸、パーフルオルブ
タンスルホン酸又は2-クロル‐1,1,2-トリフルオルエタ
ンスルホン酸を使用しその他はこの例中に記載したのと
同様に実施すれば、実際上同一の結果が得られる。
同量のトリフルオルメタンスルホン酸、パーフルオルブ
タンスルホン酸又は2-クロル‐1,1,2-トリフルオルエタ
ンスルホン酸を使用しその他はこの例中に記載したのと
同様に実施すれば、実際上同一の結果が得られる。
例 ２ フェノール0.5モル、テレフタル酸ジクロリド0.25モル
及びヘキサフルオルプロパンスルホン酸0.50モルをニト
ロベンゼン500ml中に室温において仕込みそして3h塩酸
発生下上記の温度において撹拌する。ガス発生の完結後
80℃に加熱しそして2h以内で100℃に加熱しそして8h撹
拌する。冷温下での撹拌後、沈澱したBHBを濾別し、ニ
トロベンゼン50mlで洗浄しそして粗生成物を乾燥する。
母液を次の転位にもどすことができる。
及びヘキサフルオルプロパンスルホン酸0.50モルをニト
ロベンゼン500ml中に室温において仕込みそして3h塩酸
発生下上記の温度において撹拌する。ガス発生の完結後
80℃に加熱しそして2h以内で100℃に加熱しそして8h撹
拌する。冷温下での撹拌後、沈澱したBHBを濾別し、ニ
トロベンゼン50mlで洗浄しそして粗生成物を乾燥する。
母液を次の転位にもどすことができる。
収率： 理論値の80〜85％ 純度（HPLC）： 90〜92％ 融点： 312〜314℃。
例 ３ フェノール0.5モル、テレフタル酸ジクロリド0.25モル
及びトリフルオルメタンスルホン酸0.5モルをニトロベ
ンゼン500ml中に室温において仕込みそして3h塩酸発生
下上記の温度において撹拌する。ガス発生の完結後80℃
に加熱しそしてさらに2h撹拌する。引き続いて反応混合
物を微真空（0.1mバール）において100℃で容量の五分
の１に濃縮する。得られる留出物は、次の反応に再使用
することができる。残留物をアセトン200mlで稀釈し、
これを水１リットル中にかき混ぜそしてこの場合沈澱し
た生成物を濾別する。
及びトリフルオルメタンスルホン酸0.5モルをニトロベ
ンゼン500ml中に室温において仕込みそして3h塩酸発生
下上記の温度において撹拌する。ガス発生の完結後80℃
に加熱しそしてさらに2h撹拌する。引き続いて反応混合
物を微真空（0.1mバール）において100℃で容量の五分
の１に濃縮する。得られる留出物は、次の反応に再使用
することができる。残留物をアセトン200mlで稀釈し、
これを水１リットル中にかき混ぜそしてこの場合沈澱し
た生成物を濾別する。
後処理は、次の通り実施される： 固体を、炭酸水素ナトリウム（10％）200mlで洗浄しそ
して0.2nK2CO3-溶液2.5リットル中に溶解する。溶液を
塩酸によりpH8.5に徐々に酸性化することにより、副生
成物として生成する半エステルを沈澱させそして濾過に
より分離する。pH6にさらに酸性化することにより生成
物を沈澱させる。
して0.2nK2CO3-溶液2.5リットル中に溶解する。溶液を
塩酸によりpH8.5に徐々に酸性化することにより、副生
成物として生成する半エステルを沈澱させそして濾過に
より分離する。pH6にさらに酸性化することにより生成
物を沈澱させる。
収率： 理論値の75％ 純度（HPLC）： 96％ 融点： 317〜318℃。
本発明は、請求の範囲第１項に関するものであるが、以
下の記載の発明を実施の態様として包含している： （１）約50℃乃至約160℃の温度において転位させるこ
とを特徴とする、請求の範囲第１項記載の方法。
下の記載の発明を実施の態様として包含している： （１）約50℃乃至約160℃の温度において転位させるこ
とを特徴とする、請求の範囲第１項記載の方法。
（２）約80℃乃至約130℃の温度において転位させるこ
とを特徴とする、請求の範囲第１項記載の方法。
とを特徴とする、請求の範囲第１項記載の方法。
（３）一般式（III）又は（IV）におけるＹが水素原子
を意味しそしてこれは‐SO3H-基に対するβ‐位にある
ことを特徴とする、請求の範囲第１項、上記事項第
（１）項及び第（２）項の少なくとも１項に記載の方
法。
を意味しそしてこれは‐SO3H-基に対するβ‐位にある
ことを特徴とする、請求の範囲第１項、上記事項第
（１）項及び第（２）項の少なくとも１項に記載の方
法。
（４）ヘキサフルオルプロパンスルホン酸又はトリフル
オルメタンスルホン酸の存在下転位させることを特徴と
する、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第
（３）項の少なくとも１項に記載の方法。
オルメタンスルホン酸の存在下転位させることを特徴と
する、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第
（３）項の少なくとも１項に記載の方法。
（５）不活性有機溶剤としてのクロルベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、クロルトルエン、ニトロベンゼン、N-メチ
ルピロリドン又はスルホラン中で転位させることを特徴
とする、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至
第（４）項の少なくとも１項に記載の方法。
ルベンゼン、クロルトルエン、ニトロベンゼン、N-メチ
ルピロリドン又はスルホラン中で転位させることを特徴
とする、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至
第（４）項の少なくとも１項に記載の方法。
（６）テレフタル酸ジフェニルエステルに対し、約５乃
至約20部の不活性有機溶剤中で転位させることを特徴と
する、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第
（５）項の少なくとも１項に記載の方法。
至約20部の不活性有機溶剤中で転位させることを特徴と
する、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第
（５）項の少なくとも１項に記載の方法。
（７）テレフタル酸ジフェニルエステルの転位を大気圧
乃至反応混合物の固有圧の圧力範囲において適用反応条
件下実施することを特徴とする、請求の範囲第１項及び
上記事項第（１）項乃至第（６）項の少なくとも１項に
記載の方法。
乃至反応混合物の固有圧の圧力範囲において適用反応条
件下実施することを特徴とする、請求の範囲第１項及び
上記事項第（１）項乃至第（６）項の少なくとも１項に
記載の方法。
（８）大気圧乃至約15バールの圧力範囲において転位さ
せることを特徴とする、請求の範囲第１項及び上記事項
第（１）項乃至第（７）項の少なくとも１項に記載の方
法。
せることを特徴とする、請求の範囲第１項及び上記事項
第（１）項乃至第（７）項の少なくとも１項に記載の方
法。
（９）酸素の不存在下転位させることを特徴とする、請
求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第（８）項
の少なくとも１項に記載の方法。
求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第（８）項
の少なくとも１項に記載の方法。
（10）得られる母液を、1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベン
ゾイル）‐ベンゼンの分離後、再利用することを特徴と
する、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第
（９）項の少なくとも１項に記載の方法。
ゾイル）‐ベンゼンの分離後、再利用することを特徴と
する、請求の範囲第１項及び上記事項第（１）項乃至第
（９）項の少なくとも１項に記載の方法。
（11）転位の完結後得られる反応混合物に、1,4-ビス‐
（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後、テレ
フタル酸ジフェニルエステルを加えそしてその混合物を
再利用することを特徴とする、請求の範囲第１項及び上
記事項第（１）項乃至第（10）項の少なくとも１項に記
載の方法。
（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後、テレ
フタル酸ジフェニルエステルを加えそしてその混合物を
再利用することを特徴とする、請求の範囲第１項及び上
記事項第（１）項乃至第（10）項の少なくとも１項に記
載の方法。
（12）転位を、ワンポット法において、フェノール及び
テレフタル酸ジクロリドから出発させて、テレフタル酸
ジフェニルエステルを中間単離せずに、実施し、その際
先行するエステル化を約10乃至約200℃の温度において
実施することを特徴とする、請求の範囲第１項及び上記
事項第（１）項乃至第（９）項の少なくとも１項に記載
の方法。
テレフタル酸ジクロリドから出発させて、テレフタル酸
ジフェニルエステルを中間単離せずに、実施し、その際
先行するエステル化を約10乃至約200℃の温度において
実施することを特徴とする、請求の範囲第１項及び上記
事項第（１）項乃至第（９）項の少なくとも１項に記載
の方法。
（13）転位の完結後得られる反応混合物に、1,4-ビス‐
（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後、フェ
ノール／テレフタル酸ジクロリドを加えそしてその混合
物を再利用することを特徴とする、上記事項第（12）項
記載の方法。
（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベンゼンの分離後、フェ
ノール／テレフタル酸ジクロリドを加えそしてその混合
物を再利用することを特徴とする、上記事項第（12）項
記載の方法。
Claims (1)
- 【請求項１】式（Ｉ） で示される1,4-ビス‐（4-ヒドロキシベンゾイル）‐ベ
ンゼンを製造する方法において、式（II） で示されるテレフタル酸ジフェニルエステルを、テレフ
タル酸ジフェニルエステルに対し、反応成分に対し不活
性な水不含有機溶剤の約３乃至約50部中で、一般式（II
I）又は（IV） Ｙ（CnX2n）SO3H （III） Ｙ（CnF2n）SO3H （IV） （上記の式中Ｙはフッ素‐又は水素原子を意味し、 Ｘはフッ素‐及び／又は塩素原子を示すが、ただし少な
くとも１個のＸはフッ素原子を示しそしてｎは１乃至10
の整数を意味する） で示されるハロゲンアルカンスルホン酸（触媒）約30乃
至約500モル％の存在下約10℃乃至約200℃の温度におい
て転位させることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3936399A DE3936399A1 (de) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | Verfahren zur herstellung von 1,4-bis-(4-hydroxybenzoyl)-benzol |
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