JP3974014B2 - Ｖａ型液晶セル用光学補償偏光板及び表示装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、液晶セルによる位相差の光学補償等に好適なＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板、及びそれを設けたＶＡ型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＶＡ型やＯＣＢ型の液晶セルにおける複屈折による位相差を補償して良視認の視野角の拡大には、面内の屈折率をｎx、ｎy、厚さ方向の屈折率をｎzとしたときにその面内の二方向と厚さ方向の三次元の屈折率を制御してｎx≧ｎy＞ｎzの特性を付与した位相差板が有用なことが知られている。
【０００３】
従来、前記したｎx≧ｎy＞ｎzの特性を付与した位相差板としては、ポリマーからなる一軸延伸フィルムの一対を面内の遅相軸方向が直交するように積層してなる積層位相差板や、高分子フィルムにテンターによる横延伸又は二軸延伸を施してなる単層の位相差板が知られていた（特開平３−３３７１９号公報、特開平３−２４５０２号公報）。
【０００４】
しかしながら従来の積層位相差板では、厚さが大きくて偏光板と併用した場合に更に嵩高化し、また１枚毎の接着処理を要して製造効率に乏しい問題点があった。一方、後者の単層位相差板では付与できる位相差の範囲が狭く、厚さ方向の位相差値（Ｒｚ）が、法線方向の位相差値（Ｒｅ）よりも著しく大きくなる場合には単層では対処できず、所望の位相差値を得るために２枚以上を積層した積層位相差板とする必要があり、前者と同様に厚型化や嵩高化する問題点があった。
【０００５】
【発明の技術課題】
本発明は、液晶表示おける高コントラストの視野角拡大補償等に有効な位相差特性を示し、かつ偏光板と併用した場合に薄型性に優れるものとできる光学部材の開発を目的とする。
【０００６】
【課題の解決手段】
本発明は、偏光板の片側に位相差層を有してなり、面内の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚ、厚さをｄ、（ｎｘ−ｎｙ）ｄ＝Ｒｅ、及び（ｎｘ−ｎｚ）ｄ＝Ｒｚとしたとき、前記の位相差層がＲｅ＝２０〜３００ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝１．０〜８を満足するセルロース系樹脂からなるポリマー系延伸フィルムＡ、及びＲｅ＝３〜５０ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜９．１を満足する厚さが１〜２０μｍの塗工膜からなるポリマー層Ｂの両方からなると共に、そのポリマー層Ｂがポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの少なくとも一種よりなり、かつ、前記ポリマー系延伸フィルムＡが前記偏光板の透明保護層を兼ねることを特徴とするＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板、及びそのＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板をＶＡ型液晶セルの外側に配置してなることを特徴とする液晶表示装置を提供するものである。
【０００７】
【発明の効果】
本発明によれば、前記のＲｅとＲｚを満足することで、液晶表示における高コントラストの視野角拡大等の光学補償に有効な位相差特性を示し、かつポリマー系延伸フィルムＡは単層物として、またポリマー層Ｂは塗工膜として形成できて、偏光板との併用形態においても薄さに優れるものとすることができる。
【０００８】
【発明の実施形態】
本発明によるＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板は、偏光板の片側に位相差層を有してなり、面内の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚ、厚さをｄ、（ｎｘ−ｎｙ）ｄ＝Ｒｅ、及び（ｎｘ−ｎｚ）ｄ＝Ｒｚとしたとき、前記の位相差層がＲｅ＝２０〜３００ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝１．０〜８を満足するセルロース系樹脂からなるポリマー系延伸フィルムＡ、及びＲｅ＝３〜５０ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜９．１を満足する厚さが１〜２０μｍの塗工膜からなるポリマー層Ｂの両方からなると共に、そのポリマー層Ｂがポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの少なくとも一種よりなり、かつ、前記ポリマー系延伸フィルムＡが前記偏光板の透明保護層を兼ねるものである。
【０００９】
ポリマー系延伸フィルムＡを形成するポリマーについては１種又は２種以上を混合して用いうるが、光透過率が７５％以上、特に８５％以上の透光性に優れ、表面平滑性、複屈折の均一性、耐熱性に優れるフィルムを形成でき、前記した位相差特性Ｒｅ、Ｒｚを示す延伸フィルムの安定した量産性等の点より、延伸方向の屈折率が高くなる正の複屈折性を示すポリマーであるセルロース系樹脂が用いられる。
【００１０】
（削除）
【００１１】
延伸処理対象のフィルムは、例えば流延成膜法やロールコート法やフローコート法等のキャスティング法、押出法などの適宜なフィルム形成方式を適用して形成することができる。就中、厚さムラや配向歪ムラ等の少ない延伸フィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法によるフィルムが好ましく用いうる。フィルムの形成に際しては安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。
【００１２】
光学補償効果等の点より好ましく用いうるポリマー系延伸フィルムＡは、面内の屈折率をｎx、ｎy、厚さ方向の屈折率をｎz、厚さをｄ、（ｎx−ｎy）ｄ＝Ｒｅ、及び（ｎx−ｎz）ｄ＝Ｒｚとしたとき（以下同じ）、Ｒｅ＝２５０nm以下、就中２２〜２００nm、特に２５〜１５０nm、かつＲｚ／Ｒｅ＝７以下、就中６以下、特に５以下を満足するものである。
【００１３】
ポリマー系延伸フィルムＡの形成は、例えばポリマーフィルムにロール法縦延伸方式やテンター横延伸方式、二軸延伸方式などにより、従来に準じて目的とする位相差特性が発現する延伸処理を施すことにより行うことができる。その場合、ロール法縦延伸方式での加熱は、加熱ロールを用いる方式や雰囲気を加熱する方式、それらを併用する方式のいずれの方式にても行うことができる。
【００１４】
また前記の二軸延伸方式では、全テンター方式による同時二軸延伸処理方式や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸処理方式のいずれも採ることができる。延伸処理温度は、従来に準じることができ、フィルムを形成するポリマーのガラス転移温度の近傍、就中ガラス転移温度以上が好ましい。
【００１５】
ポリマー系延伸フィルムＡの厚さは、目的とする位相差特性等に応じて適宜に決定しうる。一般には薄型化を目的に２００μm以下、就中３０〜１５０μm、特に４０〜１２０μmとされる。
【００１６】
ポリマー層Ｂは、固体ポリマーを液状化してそれを展開し、その展開層を固体化させてなる塗工膜として形成される。これにより厚さを１〜２０μmとすることができる。上記した延伸フィルム方式では、フィルム強度の点より厚さを２０μm以下とすることが困難であり、特にその厚さで目的とする位相差特性を付与することが困難である。薄型化や目的とする位相差特性の付与性の点より好ましいポリマー層Ｂの厚さは、１５μm以下、就中１２μm以下、特に２〜１０μmである。
【００１７】
ポリマー層Ｂの形成には、塗工方式でＲｅ＝３〜５０nm、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜５０を満足し、光透過率が７５％以上、特に８５％以上の透光性に優れる層を形成しうる耐熱性の良好な固体ポリマーの内、塗工層形成性等の点よりポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの１種、又は２種以上を混合したものなどが用いられる。
【００１８】
ちなみに前記したポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトンの具体例としては、例えば下記の一般式（１）で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる（特開２００１−４９１１０号公報）。
【００１９】
前記の一般式（１）において、Ｘはハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのＸの結合数ｑ、すなわちｐ−テトラフルオロベンゾイレン基とオキシアルキレン基が結合しない、残る位置での水素原子の置換数ｑの値は、０〜４の整数である。またＲ１は下記の一般式（２）で表される化合物（基）であり、ｍは０又は１である。さらにｎは、重合度を表わし、２〜５０００、就中５〜５００が好ましい。
【００２０】
【００２１】
なお前記一般式（１）におけるＸとしてのハロゲンとしては、例えばフッ素原子や臭素原子、塩素原子やヨウ素原子などがあげられ、就中フッ素原子が好ましい。またアルキル基としては、例えばメチル基やエチル基、プロピル基やイソプロピル基、ブチル基の如き炭素数が１〜６、就中１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基などがあげられ、就中メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基が好ましい。
【００２２】
さらにアルコキシ基としては、例えばメトキシ基やエトキシ基、プロポキシ基やイソプロポキシ基、ブトキシ基の如き炭素数が１〜６、就中１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基などがあげられ、就中メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基が好ましい。前記において特に好ましいＸは、フッ素原子である。
【００２３】
一方、前記一般式（２）で表される基において、Ｘ'はハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのＸ'の結合数ｑ'の値は、０〜４の整数である。Ｘ'としてのハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基としては、前記したＸと同じものが例示できる。
【００２４】
好ましいＸ'は、フッ素原子、メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基、メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基であり、就中フッ素原子が好ましい。
【００２５】
なお前記の一般式（１）においてＸとＸ'は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。また一般式（１）、（２）においてｑ又はｑ'が２以上であることに基づいて分子中に２個以上存在するＸ又はＸ'は、それぞれ独立に同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００２６】
特に好ましいＲ１は、下記の一般式（３）で表される基である。
【００２７】
前記の一般式（２）、（３）においてＲ２は、２価の芳香族基であり、Ｐは０又は１である。その２価の芳香族基としては、例えば（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレン基、ナフタレン基、ビフェニル基、アントラセン基、（ｏ，ｍ又はｐ−）テルフェニル基、フェナントレン基、ジベンゾフラン基、ビフェニルエーテル基、ビフェニルスルホン基、下記の式で表される２価の芳香族基などがあげられる。なお当該２価の芳香族基は、その芳香環に直接結合する水素が前記したハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
【００２８】
【００２９】
前記において好ましい２価の芳香族基（Ｒ２）は、下記の式で表されるものである。
【００３０】
前記した一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００３１】
上記を踏まえて一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンの内の好ましいものは、下記の一般式（４）で表されるものである。
【００３２】
また分子末端の基を含めた場合の好ましいポリアリールエーテルケトンは、一般式（１）に対応して下記の一般式（５）で表されるものであり、一般式（４）に対応するものは下記の一般式（６）で表されるものである。これらは分子内のｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側にフッ素原子が結合し、オキシアルキレン基側に水素原子が結合したものである。
【００３３】
【００３４】
【００３５】
一方、上記したポリアミド又はポリエステルの具体例としては、例えば下記の一般式（７）で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる。
【００３６】
前記の一般式（７）において、Ｂは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。ｚは０〜３の整数である。
【００３７】
Ｅは、共有結合、炭素数２のアルケニル基若しくはそのハロゲン化物、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｒ）２基、又はＮＲ基である。前記のＣ（ＣＸ３）２基におけるＸは、水素原子又はハロゲンであり、Ｓｉ（Ｒ）２基及びＮＲ基におけるＲは、炭素数１〜３のアルキル基又はそのハロゲン化物である。なおＥは、カルボニル基又はＹ基に対してメタ位又はパラ位にある。またハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（７）において同じ）。
【００３８】
さらにＹは、Ｏ原子又はＮＨ基である。Ａは、水素原子、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のチオアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、炭素数１〜９のアルキルエステル基、炭素数１〜１２のアリールエステル基若しくはその置換誘導体、又は炭素数１〜１２のアリールアミド基若しくはその置換誘導体である。
【００３９】
またｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数、ｒは０〜３の整数である。好ましいポリアミド又はポリエステルは、前記のｒとｑが１であり、そのビフェニル環の少なくとも１個が２位及び２'位で置換されてなる下記の一般式（８）で表される繰返し単位を有するものである。
【００４０】
【００４１】
前記の一般式（８）においてｍは０〜３の整数、好ましくは１又は２であり、ｘ及びｙは０又は１で、かつ共に０であることはない。なお他の記号は前記の一般式（７）の場合と同義であるが、Ｅはカルボニル基又はＹ基に対してパラ配向の共有結合である。
【００４２】
前記の一般式（７）、（８）において、Ｂ、Ｅ、Ｙ又はＡが分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ、ｍ、ｘ、ｙも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｂ、Ｅ、Ｙ、Ａ、ｚ、ｎ、ｍ、ｘ、ｙは、それぞれ独立に判断される。
【００４３】
前記の一般式（７）で表されるポリアミド又はポリエステルは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００４４】
他方、上記したポリイミドの具体例としては、例えば９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記の一般式（９）で表される繰返し単位を１単位以上有するものなどがあげられる。
【００４５】
【００４６】
前記一般式（９）において、Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン若しくは１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されたフェニル基、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である。４個のＲは、各々独立に決定でき、０〜４個の範囲で置換することができる。その置換基は、前記のものであることが好ましいが、一部に異なるものを含んでいてもよい。なおハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（９）において同じ）。
【００４７】
Ｚは、６〜２０個の炭素原子を有する三置換芳香族基である。好ましいＺは、ピロメリット基、あるいはナフチレン基やフルオレニレン基、ベンゾフルオレニレン基やアントラセニレン基の如き多環式芳香族基若しくはその置換誘導体、又は下記の一般式（１０）で表される基である。なお前記多環式芳香族基の置換誘導体における置換基としては、ハロゲン、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基又はそのフッ素化物などがあげられる。
【００４８】
【００４９】
前記の一般式（１０）において、Ｄは、共有結合、Ｃ（Ｒ２）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、Ｎ（Ｒ３）２基又はそれらの組合せであり、ｍは１〜１０の整数である。なお前記のＲ２は各々独立に、水素原子又はＣ（Ｒ４）３基である。またＲ３は独立に、水素原子、１〜約２０個の炭素原子を有するアルキル基、又は約６〜約２０個の炭素原子を有するアリール基である。Ｒ４は各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。
【００５０】
また前記以外のポリイミドとして下記の一般式（１１）、（１２）で表される単位を有するものなどもあげることができる。就中、一般式（１３）で表される単位を有するポリイミドが好ましい。
【００５１】
【００５２】
【００５３】
【００５４】
前記の一般式（１１）、（１２）、（１３）において、Ｔ及びＬは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。前記のハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（１１）、（１２）、（１３）において同じ）。ｚは０〜３の整数である。
【００５５】
またＧ及びＪは、共有結合若しくは結合ボンド、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、又はＮ（ＣＨ３）基である。前記Ｃ（ＣＸ３）２基におけるＸは、水素原子又はハロゲンである（以下、一般式（１１）、（１２）、（１３）において同じ）。
【００５６】
Ａは、水素原子、ハロゲン、アルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、又はアルキルエステル基若しくはその置換誘導体である。
【００５７】
Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基若しくはそのハロゲン化物等の置換フェニル基、又はアルキル基若しくはそのハロゲン化物等の置換アルキル基である。ｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数である。
【００５８】
なお前記の一般式（１１）、（１２）、（１３）においてＴ、Ａ、Ｒ又はＬは、それぞれ独立に分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ、ｍも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｔ、Ａ、Ｒ、Ｌ、ｚ、ｎ、ｍは、それぞれ独立に判断される。
【００５９】
前記した一般式（９）、（１１）、（１２）、（１３）で表されるポリイミドは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。その異なる繰返し単位は、前記以外の酸二無水物又は／及びジアミンの１種又は２種以上を共重合させて形成したものであってもよい。ジアミンとしては特に芳香族ジアミンが好ましい。後者の異なる繰返し単位を有する場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００６０】
前記した異なる繰返し単位を形成するための酸二無水物としては、例えばピロメルト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメルト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメルト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメルト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメルト酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ビフェニルカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボフェニル）メタン二無水物があげられる。
【００６１】
またビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物（４，４'−オキシジフタル酸無水物）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物（３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物）、４，４'−〔４，４'−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）〕ビス（フタル酸無水物）も前記酸二無水物の例としてあげられる。
【００６２】
さらにＮ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物や１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物の如きナフタレンテトラカルボン酸二無水物、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物やピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物の如き複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物なども前記酸二無水物の例としてあげられる。
【００６３】
好ましく用いうる酸二無水物は、２，２'−ジブロモ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物や２，２'−ジクロロ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２'−トリハロ置換二無水物の如き２，２'−置換二無水物などであり、特に２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【００６４】
一方、前記した異なる繰返し単位を形成するためのジアミンとしては、例えば（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼン、１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンの如きベンゼンジアミン、４，４'−ジアミノビフェニル、４，４−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）一１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオルプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルエーテル、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンがあげられる。
【００６５】
また４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４'−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−〔４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルチオエ一テル、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、３，３'−ジアミノベンゾフェノン、１，８−ジアミノナフタレンや１，５−ジアミノナフタレンの如きナフタレンジアミン、２，６−ジアミノピリジンや２，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジンの如き複素環式芳香族ジアミンなども前記したジアミンの例としてあげられる。
【００６６】
好ましく用いうるポリイミドは、例えば２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物や４，４'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物やビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物などの芳香族系酸二無水物を用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドである。
【００６７】
またジアミンとして、例えば４，４−（９−フルオレニリデン）−ジアニリンや２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニル、３，３'−ジクロロ−４，４'−ジアミノジフェニルメタンや２，２'−ジクロロ−４，４'−ジアミノビフェニル、２，２',５，５'−テトラクロロベンジジンや２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンや１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンや１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンなどの芳香族系ジアミンを用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドも好ましく用いうる。
【００６８】
他方、上記したポリアミドイミド又はポリエステルイミドとしては、特に限定はなく適宜なものを１種又は２種以上用いうる。就中、特開昭６１−１６２５１２号公報に記載されたポリアミドイミドや、特開昭６４−３８４７２号公報に記載されたポリエステルイミドなどが好ましく用いうる。
【００６９】
ポリマー層Ｂ形成用の固体ポリマーの分子量は、特に限定はないが溶剤に可溶であることが好ましい。就中、塗工膜の厚さ制度や表面精度ないし表面平滑性、膜強度、フィルム化した場合の伸縮や歪等によるクラック発生の防止性、溶剤に対する溶解性（ゲル化防止）などの点より重量平均分子量に基づいて１万〜１００万、就中２万〜５０万、特に５万〜２０万が好ましい。なお重量平均分子量は、ポリエチレンオキサイドを標準試料とし、ジメチルホルムアミド溶媒を使用してゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した値である。
【００７０】
ポリマー層Ｂの形成には上記のポリアリールエーテルケトンやポリアミド、ポリエステルやポリイミド等の固体ポリマーを単独で用いてもよいし、同種物を２種以上混合して用いてもよい。また例えばポリアリールエーテルケトンとポリアミドの混合物の如く、異なる官能基を持つ２種以上のポリマーの混合物として用いてもよい。
【００７１】
またポリマー層Ｂを形成する上記固体ポリマーの配向性が著しく低下しない範囲で、上記以外の適宜なポリマーの１種又は２種以上を併用してもよい。ちなみにその併用ポリマーの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ＡＢＳ樹脂及びＡＳ樹脂、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリケトン、ポリイミド、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート、ポリアリレート、液晶ポリマー（光重合性液晶モノマーを含む）などの熱可塑性樹脂があげられる。
【００７２】
またエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂の如き熱硬化性樹脂なども前記併用ポリマーの例としてあげられる。併用ポリマーの使用量は、配向性が著しく低下しない範囲であれば特に制限されないが、通常５０重量％以下、就中４０重量％以下、特に３０重量％以下とされる。
【００７３】
ポリマー層Ｂを形成する固体ポリマーの液状化には、熱可塑性ポリマーを加熱して溶融させる方式や、固体ポリマーを溶媒に溶解させて溶液とする方法などの適宜な方式を採ることができる。従って当該展開層の固体化は、前者の溶融液ではその展開層を冷却させることにより、また後者の溶液ではその展開層より溶媒を除去して乾燥させることにより行うことができる。ポリマー層Ｂの形成に際しては、安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。
【００７４】
前記の乾燥には自然乾燥（風乾）方式や加熱乾燥方式、特に４０〜２００℃の加熱乾燥方式、減圧乾燥方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を採ることができる。製造効率や光学的異方性の発生を抑制する点からはポリマー溶液を塗工する方式が好ましい。
【００７５】
前記の溶媒としては、例えばクロロホルムやジクロロメタン、四塩化炭素やジクロロエタン、テトラクロロエタンやトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンやクロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンの如きハロゲン化炭化水素類、フェノールやパラクロロフェノールの如きフェノール類、ベンゼンやトルエン、キシレンやメトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンの如き芳香族炭化水素類、アセトンやメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンやシクロヘキサノン、シクロペンタノンや２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの如きケトン類、酢酸エチルや酢酸ブチルの如きエステル類があげられる。
【００７６】
また、t-ブチルアルコールやグリセリン、エチレングリコールやトリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルやジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールやジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールの如きアルコール類、ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミドの如きアミド類、アセトニトリルやブチロニトリルの如きニトリル類、ジエチルエーテルやジブチルエーテル、テトラヒドロフランの如きエーテル類、その他、塩化メチレンや二硫化炭素、エチルセロソルブやブチルセロソルブなども前記溶媒の例としてあげられる。
【００７７】
溶媒は、単独で、あるいは２種以上を適宜な組合せで混合して用いることができる。溶液は、塗工粘度等の点より、溶媒１００重量部に対して固体ポリマーを２〜１００重量部、就中５〜５０重量部、特に１０〜４０重量部溶解させたものが好ましい。
【００７８】
液状化したポリマーの展開には、例えばスピンコート法やロールコート法、フローコート法やプリント法、ディップコート法や流延成膜法、バーコート法やグラビア印刷法等のキャスティング法、押出法などの適宜なフィルム形成方式を採ることができる。就中、厚さムラや配向歪ムラ等の少ないフィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法が好ましく適用することができる。
【００７９】
Ｒｅ＝３〜５０nm、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜５０を満足するポリマー層Ｂは、光学補償効果等の点より好ましい。
【００８０】
ポリマー層Ｂは、展開層を固体化させた後、そのＲｅ等の制御を目的に必要に応じて、面内における分子を配向させる処理を施したものであってもよい。すなわち当該展開層を固体化させただけの状態では、ｎx≒ｎy＞ｎzでＲｅが小さいことが普通である。ちなみに層厚を１０μmとした場合、Ｒｅは通例、３０nm以下、就中１〜２０nmである。
【００８１】
一方、前記の配向処理を施すことにより、面内における配向軸の精度を高めることができて、ｎx＞ｎy＞ｎzの特性を付与することができ、特にＲｅを増大させることができる。従ってＲｚ／Ｒｅ等の位相差特性を制御することができる。
【００８２】
前記した面内で分子を配向させる処理は、伸張処理又は／及び収縮処理として施すことができ、その伸張処理は、例えば延伸処理などとして施すことができる。延伸処理には逐次方式や同時方式等による二軸延伸方式、自由端方式や固定端方式等の一軸延伸方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を適用することができる。ボーイング現象を抑制する点よりは一軸延伸方式が好ましい。
【００８３】
一方、収縮処理は、例えばポリマー層Ｂの塗工形成を基材上で行って、その基材の温度変化等に伴う寸法変化を利用して収縮力を作用させる方式などにより行うことができる。その場合、熱収縮性フィルムなどの収縮能を付与した基材を用いることもでき、そのときには延伸機等を利用して収縮率を制御することが望ましい。
【００８４】
ポリマー層Ｂの好ましい形成方式は、溶媒に溶解させて液状化したポリマー溶液を支持基材上に展開して乾燥させ、必要に応じて支持基材を介しその固体化物に伸張処理又は収縮処理の一方又は両方を施す方式である。この方式によれば、ポリマー層Ｂを基材で支持した状態で処理できて製造効率や処理精度などに優れており、連続製造も可能である。
【００８５】
前記の支持基材には適宜なものを用いることができ、特に限定はない。ポリマー層Ｂは、その支持基材との一体化物として用いうるし、支持基材より分離して用いることもできる。前者の支持基材一体型の場合、延伸処理等で支持基材に生じた位相差を利用することもできる。後者の分離方式は、延伸処理等で支持基材に生じた位相差が不都合な場合などに有利である。なお前者の支持基材一体型の場合、その支持基材としては透明なポリマー基材が好ましく用いられる。
【００８６】
ちなみに前記のポリマー基材を形成するものの例としては、上記のポリマー層Ｂで例示したものやアセテート系ポリマー、ポリエーテルスルホンやポリスルホン、ポリカーボネートやポリノルボルネン、ポリオレフィンやアクリル系ポリマー、セルロース系樹脂やポリアリレート、ポリスチレンやポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、液晶ポリマー、あるいはアクリル系やウレタン系、アクリルウレタン系やエポキシ系やシリコーン系等の熱硬化型ないし紫外線硬化型の樹脂などがあげられる。
【００８７】
また特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマー、例えば（Ａ）側鎖に置換又は／及び非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換又は／及び非置換のフェニル基並びにニトリル基を有する熱可塑性樹脂との前記Ａ、Ｂを含有する樹脂組成物などもポリマー基材の形成に用いうる。ちなみに斯かる樹脂組成物の具体例としてはイソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物があげられる。ポリマー基材は、樹脂組成物の混合押出品等からなるフイルムなどとして得ることができる。支持基材による位相差の影響を抑制する点よりは、アセテート系ポリマーの如く等方性に優れるものが好ましい。
【００８８】
光学補償偏光板は、偏光板の片側にポリマー系延伸フィルムＡ及びポリマー層Ｂの両方を、必要に応じ接着層ないし粘着層を介して積層することにより形成でき、液晶セルの視野角の拡大やコントラストの向上などを目的とした複屈折による位相差の補償などに好ましく用いうる。その実用に際しては、例えば液晶セル等の他部材と接着することを目的にその片面又は両面に接着層ないし粘着層を設けることができる。
【００８９】
前記した粘着層の形成には、例えばアクリル系重合体やシリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタン、ポリエーテルや合成ゴムなどの適宜なポリマーを用いてなる透明粘着剤を用いることができる。就中、光学的透明性や粘着特性、耐候性などの点よりアクリル系粘着剤が好ましい。
【００９０】
粘着層には必要に応じて例えば天然物や合成物の樹脂類、ガラス繊維やガラスビーズ、金属粉やその他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤や酸化防止剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。また透明微粒子を含有させて光拡散性を示す粘着層とすることもできる。粘着層が表面に露出する場合には、それを実用に供するまでの間、セパレータなどを仮着して粘着層表面の汚染等を防止することが好ましい。
【００９１】
なお前記の透明微粒子には、例えば平均粒径が０．５〜２０μmのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを１種又は２種以上用いうる。
【００９２】
光学補償偏光板の形成は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても行いうるが、予め積層することにより、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置等の製造効率を向上させうる利点などがある。積層に際し位相差層Ａ，Ｂと偏光板の進相軸や透過軸等の光軸の配置角度については特に限定はなく、適宜に決定することができる。一般には偏光板の透過軸と位相差層のｎx方向を平行関係又は直交関係に配置することが、正面方向の特性に影響を与えずに斜視方向の特性を制御して視野角の拡大等を図る点より好ましい。
【００９３】
光学補償偏光板の形成には、適宜な偏光板を用いることができ、その種類について特に限定はない。就中ポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムの如き親水性高分子フィルムにヨウ素及び／又は二色性染料等の二色性物質を吸着させて延伸したものや架橋処理したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如きポリエン配向フィルム等からなる偏光フィルムなどの如く、自然光を入射させると直線偏光を透過する特性を示す吸収型の偏光板が高い偏光度の達成などの点より好ましく用いうる。偏光フィルムの厚さは、１〜８０μmが一般的であるがこれに限定されない。
【００９４】
偏光板は、偏光フィルムの片側又は両側に透明保護層を設けたものや、ワイヤーグリッド型偏光子などであってもよい。透明保護層は、偏光フィルムの補強、耐熱性や耐湿性の向上などの種々の目的で設けられ、その形成には透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーなどが好ましく用いられる。ちなみにその例としては上記した支持基材で例示したものなどがあげられる。偏光特性や耐久性などの点より特に好ましい透明保護層は、表面をアルカリ等でケン化処理したトリアセチルセルロースフィルムである。
【００９５】
透明保護層の厚さは、任意であるが、一般には偏光板の薄型化などを目的に２００μm以下、就中５〜１５０μm、特に１０〜１００μmとされる。なお偏光フィルムの両側に透明保護層を設ける場合、その表裏で異なるポリマー等からなる透明保護層とすることもできる。
【００９６】
透明保護層は、樹脂の塗布層や樹脂フィルムのラミネート層などとして形成でき、透明微粒子の含有によりその表面が微細凹凸構造に形成されていてもよい。また透明保護層は、ポリマー系延伸フィルムＡや支持基材一体型のポリマー層Ｂに兼ねさせることもでき、その場合には光学補償偏光板、ひいては液晶表示装置等をより薄型化することができる。なお前記の透明微粒子には、上記に例示したものなどを用いうる。透明微粒子の使用量は、透明樹脂１００重量部あたり２〜７０重量部、就中５〜５０重量部が一般的である。
【００９７】
前記した樹脂フイルムのラミネート処理は、限定するものではないが、例えばアクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいはホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミンやシュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。これにより湿度や熱の影響で剥がれにくく光透過率や偏光度に優れるものとすることができる。斯かる接着層は、水溶液の塗工乾燥層等として形成されるものであるが、その水溶液の調製に際しては必要に応じて他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。特にポリビルアルコール系フィルムとの接着性に優れる点より、ポリビニルアルコール系接着剤を用いることが好ましい。
【００９８】
光学補償偏光板の形成には適宜な方式を採ることができ、従って種々の形態の光学補償偏光板を作製することができる。ちなみにその例を図１〜図７（ａ〜ｔ）に示した。３が偏光フィルム、７がポリマー系延伸フィルムＡ、９がポリマー層Ｂであり、１、５は透明保護層、２、４、６、８は接着層ないし粘着層、１０は支持基材である。なお図４（ｌ）、図５〜図７ではポリマー系延伸フィルムＡ７又はポリマー層Ｂ９の図示を省略している。
【００９９】
図１、２、図４（ｌ）、図５（ｎ），（ｏ）、図６では偏光フィルム３の両側に接着層等２、４、６を介して透明保護層１、５を設けてなる偏光板を用いた場合を示している。また図１、２、３、及び図４（ｊ），（ｋ）では偏光板にポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９の両方を設けたものを示している。図例より明らかな如く、ポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９は、そのいずれが偏光板側に位置してもよい。
【０１００】
光学補償偏光板は、図３、図４（ｊ），（ｋ）、図５（ｍ）の如く、偏光板の透明保護層をポリマー系延伸フィルムＡ７が兼ねる形態のものであってもよい。またそのポリマー系延伸フィルムＡは、それとポリマー層Ｂ９との積層体からなるものであってもよい。さらに図７の如く、ポリマー系延伸フィルムＡに代えて、ポリマー層Ｂ９と一体化した支持基材１０にて、偏光板の透明保護層を兼ねさせることもできる。前記の場合、ポリマー系延伸フィルムＡとポリマー層Ｂ又はポリマー層Ｂと支持基材は、いずれが偏光板側に位置してもよい。
【０１０１】
光学補償偏光板の形成に際して、偏光板とポリマー系延伸フィルムＡ及びポリマー層Ｂは、適宜な順序で積層して目的とする形態とすることができる。ちなみに（ａ）〜（ｄ），（ｆ），（ｈ）〜（ｋ）は、ポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９を予め積層したものを接着層等４、６を介して接着したものである。
【０１０２】
前記の場合、（ａ），（ｃ），（ｆ），（ｇ），（ｉ），（ｋ）の如くポリマー系延伸フィルムＡとポリマー層Ｂの積層体は、接着層等８を介して接着したものであってもよいし、（ｂ），（ｄ），（ｈ），（ｊ）の如くポリマー系延伸フィルムＡ７を支持基材としてそれにポリマー層Ｂ９を付設したものであってもよい。また（ｆ），（ｋ）の如くポリマー層Ｂ９を支持する支持基材１０を光学補償偏光板の構成部材として組み込むこともできる。一方、（ｅ）は透明保護層５にポリマー層Ｂ９を付設して、それに接着層等８を介してポリマー系延伸フィルムＡ７を接着したものである。
【０１０３】
前記において、（ａ）等の形態では、接着層等６を介してポリマー系延伸フィルムＡ７を偏光板に接着した後、その上に別個の支持基材に設けたポリマー層Ｂ９を接着層等８を介して転写する方式などにても形成することができる。また（ｂ）等の形態では、接着層等６を介してポリマー系延伸フィルムＡ７を偏光板に接着し、そのポリマー系延伸フィルムＡにポリマー層Ｂ９を付設する方式にても形成することができる。さらに（ａ）〜（ｋ）の形態は、上記に準じた方法でポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９を設けた後、それを偏光フィルム３又は透明保護層５に接着する方式にても形成することができる。
【０１０４】
ポリマー層Ｂについては薄さに優れることより例えば（ｐ），（ｇ），（ｓ）の如く、透明保護層５又はそれを兼ねる支持基材１０の内側に位置させることもできる。（ｊ）等の如くポリマー系延伸フィルムＡ７が透明保護層を兼ねる場合も同様である。
【０１０５】
なお上記の如くポリマー系延伸フィルムＡとポリマー層Ｂの積層体の形成に際しては、ポリマー系延伸フィルムＡを支持基材としてその上にポリマー層Ｂを塗工形成する方式や、別体の支持基材上に塗工形成したポリマー層Ｂを接着層等を介して転写する方式などの適宜な方式を採りうるが、その後者の場合には、ポリマー層Ｂを形成することとなる塗工層の乾燥工程で延伸処理を加えて、支持基材をポリマー系延伸フィルムＡに変化させることもできる。
【０１０６】
前記した接着処理には必要に応じて、例えばアクリル系やシリコーン系、ポリエステル系やポリウレタン系、ポリエーテル系やゴム系等の透明な粘着剤などの適宜な接着剤を用いうる。構成部材の光学特性の変化を防止する点より、硬化や乾燥の際に高温プロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。また加熱や加湿条件下に剥離等を生じない接着剤が好ましく用いられる。
【０１０７】
上記において光学補償偏光板を形成する偏光板は、特に位相差層を設けない側にハードコート処理や反射防止処理、スティッキング防止処理や拡散ないし防眩等を目的とした処理などを施したものであってもよい。ハードコート処理は、偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばシリコーン系やウレタン系、アクリル系やエポキシ系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り性等に優れる硬化皮膜ないしフィルムを透明保護層の表面に付加する方式などにて形成することができる。
【０１０８】
一方、反射防止処理は、偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜や従来に準じた反射防止フィルムからなるものなどとして適宜に形成することができる。
【０１０９】
他方、スティッキング防止は隣接層との密着防止を目的に、防眩処理層は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止などを目的に施されるものであり、例えば上記した透明微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与することなどにより、表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。
【０１１０】
また前記の防眩処理層は、偏光板の透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視角補償機能など）を兼ねるものであってもよい。なお上記のハードコート層や反射防止層、スティッキング防止層や拡散層ないし防眩処理層等は、それらの層を設けたシートなどからなる光学層として、透明保護層とは別体のものとして設けることもできる。
【０１１１】
本発明による光学補償偏光板は、ＶＡ型液晶表示装置の形成に好ましく用いうる。その適用に際しては必要に応じ接着層ないし粘着層を介して、例えば反射板や半透過反射板、輝度向上フィルムや他の位相差板、拡散制御フィルムや偏光散乱フィルムなどの他の光学層の１層又は２層以上を積層してなる光学部材として用いることもできる。積層には、上記した粘着層等の適宜な接着手段を用いることができる。
【０１１２】
前記の反射板は、それを偏光板に設けて反射型偏光板を形成するためのものである。反射型の偏光板は通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。
【０１１３】
反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式で行うことができる。その具体例としては必要に応じマット処理した透明保護層の片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設したものがあげられる。
【０１１４】
また前記の反射層は、光拡散型のものであってもよい。光拡散型の反射層は、例えば透明微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射層を形成する方式などにより得ることができる。表面微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点を有する。
【０１１５】
微細凹凸構造を反映させた反射層は、当該微細凹凸構造上に例えば真空蒸着方式やイオンプレーティング方式やスパッタリング方式等の蒸着方式、メッキ方式などの適宜な方式で金属反射層を付設することにより形成することができる。
【０１１６】
なお反射層は、上記した偏光板の透明保護層に直接付設する方式に代えて、適宜なフィルムに反射層を付設してなる反射シートなどとして設けることもできる。金属からなる反射層は、その反射面がフィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などから好ましい。
【０１１７】
さらに反射層は、ハーフミラー等からなる、光を反射しかつ透過する半透過型のものなどであってもよい。半透過型偏光板も通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側(表示側)からの入射外光を反射させて表示を達成し、比較的暗い雰囲気においては半透過型偏光板の裏側に配置したバックライト等の内蔵光源を使用して表示を達成するタイプの表示装置などを形成するためのものである。
【０１１８】
従って半透過型偏光板は、明るい雰囲気下ではバックライト等の光源使用によるエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの表示装置などの形成に有用である。
【０１１９】
一方、上記した輝度向上フィルムは、偏光板による吸収ロスなどを抑制して輝度の向上を図ることなどを目的に用いられるものである。輝度向上フィルムとしては適宜なものを用いうる。ちなみにその例としては、誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すものがあげられる（例えば３Ｍ社製、「Ｄ−ＢＥＦ」等）。
【０１２０】
また輝度向上フィルムの他の例としてはコレステリック液晶層、就中コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの（例えば日東電工社製、「ＰＣＦ３５０」や、Ｍｅｒｃｋ社製、「Transmax」等)の如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどがあげられる。後者のコレステリック液晶系のものでは、円偏光を直線偏光に変換することを目的に必要に応じて１／４波長板と組合せて用いることもできる。
【０１２１】
また位相差板としては、前記した１／４波長板のほか一軸や二軸等の適宜な方式による各種ポリマーの延伸フィルム、Ｚ軸配向処理したポリマーフィルム、液晶性高分子層などの適宜な位相差を有するものを用いうる。拡散制御フィルムは、視野角や解像度に関わるギラツキ、散乱光等の制御を目的に用いられるものであり、拡散、散乱又は／及び屈折を利用した光学機能フィルムが用いられる。さらに偏光散乱フィルムは、フィルム中に散乱性物質を含有させて偏光がその振動方向により散乱異方性を生じるようにしたものであり、偏光の制御などに用いられる。
【０１２２】
上記した２層又は３層以上の光学層を積層した光学部材は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学部材としたものは、品質の安定性や組立作業性等に優れて液晶表示装置等の製造効率を向上させう利点などがある。
【０１２３】
本発明による光学補償偏光板や光学部材には、他の光学層や液晶セル等の他部材と接着するための粘着層ないし接着層を必要な面に設けることもできる。その接着層は、上記に準じて形成することができる。就中、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる表示装置の形成性等の点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層が好ましく用いうる。また透明微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等とすることもできる。
【０１２４】
光学補償偏光板や光学部材に設けた粘着層ないし接着層が表面に露出する場合には、その粘着層等を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的にセパレータにて仮着カバーすることが好ましい。セパレータは、上記の支持基材等に準じた適宜な薄葉体に、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤によるコート層を設ける方式などにより得ることができる。
【０１２５】
上記した光学補償偏光板や光学部材等を形成する位相差層や偏光フィルム、透明保護層や粘着層などの各層は、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの適宜な方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。
【０１２６】
本発明による光学補償偏光板や光学部材は、液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができ、例えば偏光板を液晶セルの片側又は両側に配置してなる反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置の形成に用いることができる。
【０１２７】
すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと光学補償偏光板、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による光学補償偏光板ないし光学部材を用いて、それを液晶セルの外側の少なくとも片側に設ける点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。
【０１２８】
従って液晶セルの片側又は両側に光学補償偏光板を配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライト又はフロントライトを用いた液晶表示装置、あるいは反射板や半透過型反射板を用いてなる透過型や反射型、あるいは反射・透過両用型などの適宜な液晶表示装置を形成することができる。
【０１２９】
光学補償偏光板は、その位相差層が視認側又は／及び背面側の液晶セルと偏光板の間、特に視認側の偏光板との間に位置するように配置することが補償効果の点などより好ましい。その配置に際しては、上記の光学部材としたものを用いることもできる。
【０１３０】
前記において液晶表示装置を形成する液晶セルはＶＡ型である。液晶セルの両側に光学補償偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。
【０１３１】
また前記において液晶表示装置の形成部品は、積層一体化されていてもよいし、分離状態にあってもよい。また液晶表示装置の形成に際しては、例えばプリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板や保護板などの適宜な光学素子を適宜に配置することができる。かかる素子は、光学補償偏光板と積層してなる上記した光学部材の形態にて液晶表示装置の形成に供することもできる。
【０１３２】
【実施例】
比較例１
厚さ８０μmのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムをヨウ素水溶液中で５倍に一軸延伸して得た偏光フィルムの両側に、厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して厚さ８０μmのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して厚さ１９０μmの偏光板を得、その片側に厚さ２５μmのアクリル系粘着層を介し厚さ８０μmの延伸フィルムを接着して、総厚２９５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３３】
なお前記の延伸フィルムは、厚さ１００μmのノルボルネン系樹脂フィルム（ＪＳＲ社製、ＡＲＴＯＮ）をテンターを介し横延伸処理して得たものであり、Ｒｅ５０nm、Ｒｚ１０８nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝２．２）のものである。なおＲｅ、Ｒｚは、王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにて測定した屈折率より算出した（以下同じ）。
【０１３４】
比較例２
厚さ８０μmのＴＡＣフィルムをテンターを介し横延伸処理して得た厚さが５０μmで、Ｒｅが５０nmであり、Ｒｚが６８nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝１．４）の延伸フィルムを比較例１と同様の偏光フィルムの片側に厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して接着し、その偏光フィルムの他面に厚さ８０μmのＴＡＣフィルムを同様に接着して、総厚１６０μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３５】
比較例３
２,２'−ビス（３,４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２,２'−ビス（トリフルオロメチル）−４,４'一ジアミノビフェニルから合成された重量平均分子量５．９万のポリイミドの１５重量％シクロヘキサノン溶液を二軸延伸ポリエステルフィルムの上に塗布し乾燥させて、厚さ３μm、Ｒｅ４nm、Ｒｚ９１nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝２２．８）のポリマー層を形成して、それを比較例１と同様の偏光板の片側に厚さ１５μmのアクリル系粘着層を介し接着した後、二軸延伸ポリエステルフィルムを剥離して、総厚２１０μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３６】
（削除）
【０１３７】
比較例４
比較例３に準じて厚さ５μm、Ｒｅ５nm、Ｒｚ１８０nmのポリマー層を厚さ８０μmのＴＡＣフィルム上に形成して、それをポリマー層が外側となるように比較例１と同様の偏光フィルムの片側に厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して接着し、その偏光フィルムの他面に厚さ８０μmのＴＡＣフィルムを同様に接着して、総厚１９５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３８】
比較例５
ポリマー層付きＴＡＣフィルムをそのポリマー層が内側となるように厚さ１５μmのアクリル系粘着層を介して接着したほかは、比較例４に準じて総厚２０５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３９】
比較例６
比較例３に準じて得た二軸延伸ポリエステルフィルム上のポリマー層を、比較例１で得た光学補償偏光板における延伸フィルムの外側に転写して、総厚３１５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４０】
（削除）
【０１４１】
実施例１
比較例３に準じたポリイミド溶液を厚さ８０μmのＴＡＣフィルム上に塗布して乾燥後、テンターを介しＴＡＣフィルムと共に横延伸処理して厚さ７３μmの位相差板を得た。これはＲｅが３０nmで、Ｒｚが３８nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝１．３）のＴＡＣ延伸フィルムに、Ｒｅが２２nm、Ｒｚが２００nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝９．１）のポリマー層が密着したものであった。ついでそれをポリマー層が外側となるように比較例１と同様の偏光フィルムの片側に厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して接着し、その偏光フィルムの他面に厚さ８０μmのＴＡＣフィルムを同様に接着して、総厚１８３μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４２】
実施例２
位相差板の表裏を逆転させて、ポリマー層が内側となるように接着したほかは実施例１に準じて、総厚１８３μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４３】
比較例７
厚さ７０μmのポリエステルフィルムをテンターを介し１６０℃で１．２倍に横延伸処理して厚さ５９μm、Ｒｅ５０nm、Ｒｚ１４４nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝２．９）の延伸フィルムを形成し、その上に比較例３に準じ厚さ３μm、Ｒｅ４nm、Ｒｚ９１のポリマー層を形成して厚さ６２μmの位相差板を得、それをポリマー層が外側となるように比較例１と同様の偏光板の片側に厚さ１５μmのアクリル系粘着層を介し接着して、総厚１９２μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４４】
比較例８
位相差板の表裏を逆転させて、ポリマー層が内側となるように接着したほかは比較例７に準じて、総厚１９２μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４６】
（削除）
【０１４７】
参考例
比較例１と同様の偏光板のみを用いた。
【０１４８】
評価試験
比較例、実施例、参考例で得た光学補償偏光板と偏光板を種々の組合せでＶＡ型液晶セルの視認側と背面側に遅相軸が直交するように配置して液晶表示装置を形成し、その上下、左右、対角ａ（４５度と−２２５度）及び対角ｂ（１３５度と−３１５度）の各方向において、コントラスト比が１０以上の視野角を調べた。なお光学補償偏光板は、その位相差層がセル側となるように配置した。
【０１４９】
前記の結果を次表に示した。
配 置 物 視 野 角 （度）
視 認 側 背 面 側 上下方向 左右方向 対角ａ方向 対角ｂ方向
例１ 比較例１ 比較例１ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例２ 比較例２ 比較例２ ±７５ ±７５ ±６０ ±６０
例３ 比較例２ 比較例４ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例４ 比較例２ 比較例５ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例５ 比較例２ 比較例６ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例６ 比較例３ 比較例３ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例７ 参考例 比較例７ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例８ 参考例 比較例８ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例９ 参考例 実施例１ ±８０ ±８０ ±６５ ±６５
例１０ 参考例 実施例２ ±８０ ±８０ ±６５ ±６５
例１１ 参考例 参考例 ±４０ ±４０ ±３０ ±３０
【０１５０】
表より実施例に相当する例９〜１０において、比較例としての例１１と対比して、コントラスト比が１０以上の視野角がその角度に基づいて倍以上拡大されており、かつ比較例１〜８を使用した例１〜８よりもその視野角が広いことが判る。これより本発明による光学補償偏光板にて、ＶＡ型液晶セルを光学補償して視認性に優れる高表示品位の液晶表示装置の得られることが判る。
【図面の簡単な説明】
【図１】光学補償偏光板例の断面図
【図２】他の光学補償偏光板例の断面図
【図３】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図４】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図５】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図６】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図７】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【符号の説明】
１、５：透明保護層
２、４、６、８：接着層（粘着層）
３：偏光フィルム（偏光板）
７：ポリマー系延伸フィルムＡ
９：ポリマー層Ｂ
１０：支持基材
【発明の技術分野】
本発明は、液晶セルによる位相差の光学補償等に好適なＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板、及びそれを設けたＶＡ型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＶＡ型やＯＣＢ型の液晶セルにおける複屈折による位相差を補償して良視認の視野角の拡大には、面内の屈折率をｎx、ｎy、厚さ方向の屈折率をｎzとしたときにその面内の二方向と厚さ方向の三次元の屈折率を制御してｎx≧ｎy＞ｎzの特性を付与した位相差板が有用なことが知られている。
【０００３】
従来、前記したｎx≧ｎy＞ｎzの特性を付与した位相差板としては、ポリマーからなる一軸延伸フィルムの一対を面内の遅相軸方向が直交するように積層してなる積層位相差板や、高分子フィルムにテンターによる横延伸又は二軸延伸を施してなる単層の位相差板が知られていた（特開平３−３３７１９号公報、特開平３−２４５０２号公報）。
【０００４】
しかしながら従来の積層位相差板では、厚さが大きくて偏光板と併用した場合に更に嵩高化し、また１枚毎の接着処理を要して製造効率に乏しい問題点があった。一方、後者の単層位相差板では付与できる位相差の範囲が狭く、厚さ方向の位相差値（Ｒｚ）が、法線方向の位相差値（Ｒｅ）よりも著しく大きくなる場合には単層では対処できず、所望の位相差値を得るために２枚以上を積層した積層位相差板とする必要があり、前者と同様に厚型化や嵩高化する問題点があった。
【０００５】
【発明の技術課題】
本発明は、液晶表示おける高コントラストの視野角拡大補償等に有効な位相差特性を示し、かつ偏光板と併用した場合に薄型性に優れるものとできる光学部材の開発を目的とする。
【０００６】
【課題の解決手段】
本発明は、偏光板の片側に位相差層を有してなり、面内の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚ、厚さをｄ、（ｎｘ−ｎｙ）ｄ＝Ｒｅ、及び（ｎｘ−ｎｚ）ｄ＝Ｒｚとしたとき、前記の位相差層がＲｅ＝２０〜３００ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝１．０〜８を満足するセルロース系樹脂からなるポリマー系延伸フィルムＡ、及びＲｅ＝３〜５０ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜９．１を満足する厚さが１〜２０μｍの塗工膜からなるポリマー層Ｂの両方からなると共に、そのポリマー層Ｂがポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの少なくとも一種よりなり、かつ、前記ポリマー系延伸フィルムＡが前記偏光板の透明保護層を兼ねることを特徴とするＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板、及びそのＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板をＶＡ型液晶セルの外側に配置してなることを特徴とする液晶表示装置を提供するものである。
【０００７】
【発明の効果】
本発明によれば、前記のＲｅとＲｚを満足することで、液晶表示における高コントラストの視野角拡大等の光学補償に有効な位相差特性を示し、かつポリマー系延伸フィルムＡは単層物として、またポリマー層Ｂは塗工膜として形成できて、偏光板との併用形態においても薄さに優れるものとすることができる。
【０００８】
【発明の実施形態】
本発明によるＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板は、偏光板の片側に位相差層を有してなり、面内の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚ、厚さをｄ、（ｎｘ−ｎｙ）ｄ＝Ｒｅ、及び（ｎｘ−ｎｚ）ｄ＝Ｒｚとしたとき、前記の位相差層がＲｅ＝２０〜３００ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝１．０〜８を満足するセルロース系樹脂からなるポリマー系延伸フィルムＡ、及びＲｅ＝３〜５０ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜９．１を満足する厚さが１〜２０μｍの塗工膜からなるポリマー層Ｂの両方からなると共に、そのポリマー層Ｂがポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの少なくとも一種よりなり、かつ、前記ポリマー系延伸フィルムＡが前記偏光板の透明保護層を兼ねるものである。
【０００９】
ポリマー系延伸フィルムＡを形成するポリマーについては１種又は２種以上を混合して用いうるが、光透過率が７５％以上、特に８５％以上の透光性に優れ、表面平滑性、複屈折の均一性、耐熱性に優れるフィルムを形成でき、前記した位相差特性Ｒｅ、Ｒｚを示す延伸フィルムの安定した量産性等の点より、延伸方向の屈折率が高くなる正の複屈折性を示すポリマーであるセルロース系樹脂が用いられる。
【００１０】
（削除）
【００１１】
延伸処理対象のフィルムは、例えば流延成膜法やロールコート法やフローコート法等のキャスティング法、押出法などの適宜なフィルム形成方式を適用して形成することができる。就中、厚さムラや配向歪ムラ等の少ない延伸フィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法によるフィルムが好ましく用いうる。フィルムの形成に際しては安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。
【００１２】
光学補償効果等の点より好ましく用いうるポリマー系延伸フィルムＡは、面内の屈折率をｎx、ｎy、厚さ方向の屈折率をｎz、厚さをｄ、（ｎx−ｎy）ｄ＝Ｒｅ、及び（ｎx−ｎz）ｄ＝Ｒｚとしたとき（以下同じ）、Ｒｅ＝２５０nm以下、就中２２〜２００nm、特に２５〜１５０nm、かつＲｚ／Ｒｅ＝７以下、就中６以下、特に５以下を満足するものである。
【００１３】
ポリマー系延伸フィルムＡの形成は、例えばポリマーフィルムにロール法縦延伸方式やテンター横延伸方式、二軸延伸方式などにより、従来に準じて目的とする位相差特性が発現する延伸処理を施すことにより行うことができる。その場合、ロール法縦延伸方式での加熱は、加熱ロールを用いる方式や雰囲気を加熱する方式、それらを併用する方式のいずれの方式にても行うことができる。
【００１４】
また前記の二軸延伸方式では、全テンター方式による同時二軸延伸処理方式や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸処理方式のいずれも採ることができる。延伸処理温度は、従来に準じることができ、フィルムを形成するポリマーのガラス転移温度の近傍、就中ガラス転移温度以上が好ましい。
【００１５】
ポリマー系延伸フィルムＡの厚さは、目的とする位相差特性等に応じて適宜に決定しうる。一般には薄型化を目的に２００μm以下、就中３０〜１５０μm、特に４０〜１２０μmとされる。
【００１６】
ポリマー層Ｂは、固体ポリマーを液状化してそれを展開し、その展開層を固体化させてなる塗工膜として形成される。これにより厚さを１〜２０μmとすることができる。上記した延伸フィルム方式では、フィルム強度の点より厚さを２０μm以下とすることが困難であり、特にその厚さで目的とする位相差特性を付与することが困難である。薄型化や目的とする位相差特性の付与性の点より好ましいポリマー層Ｂの厚さは、１５μm以下、就中１２μm以下、特に２〜１０μmである。
【００１７】
ポリマー層Ｂの形成には、塗工方式でＲｅ＝３〜５０nm、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜５０を満足し、光透過率が７５％以上、特に８５％以上の透光性に優れる層を形成しうる耐熱性の良好な固体ポリマーの内、塗工層形成性等の点よりポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの１種、又は２種以上を混合したものなどが用いられる。
【００１８】
ちなみに前記したポリエーテルケトン、特にポリアリールエーテルケトンの具体例としては、例えば下記の一般式（１）で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる（特開２００１−４９１１０号公報）。
前記の一般式（１）において、Ｘはハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのＸの結合数ｑ、すなわちｐ−テトラフルオロベンゾイレン基とオキシアルキレン基が結合しない、残る位置での水素原子の置換数ｑの値は、０〜４の整数である。またＲ１は下記の一般式（２）で表される化合物（基）であり、ｍは０又は１である。さらにｎは、重合度を表わし、２〜５０００、就中５〜５００が好ましい。
【００２０】
なお前記一般式（１）におけるＸとしてのハロゲンとしては、例えばフッ素原子や臭素原子、塩素原子やヨウ素原子などがあげられ、就中フッ素原子が好ましい。またアルキル基としては、例えばメチル基やエチル基、プロピル基やイソプロピル基、ブチル基の如き炭素数が１〜６、就中１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基などがあげられ、就中メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基が好ましい。
【００２２】
さらにアルコキシ基としては、例えばメトキシ基やエトキシ基、プロポキシ基やイソプロポキシ基、ブトキシ基の如き炭素数が１〜６、就中１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基などがあげられ、就中メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基が好ましい。前記において特に好ましいＸは、フッ素原子である。
【００２３】
一方、前記一般式（２）で表される基において、Ｘ'はハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基であり、ベンゼン環へのＸ'の結合数ｑ'の値は、０〜４の整数である。Ｘ'としてのハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基としては、前記したＸと同じものが例示できる。
【００２４】
好ましいＸ'は、フッ素原子、メチル基やエチル基、それらのトリフルオロメチル基の如きハロゲン化アルキル基、メトキシ基やエトキシ基、それらのトリフルオロメトキシ基の如きハロゲン化アルコキシ基であり、就中フッ素原子が好ましい。
【００２５】
なお前記の一般式（１）においてＸとＸ'は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。また一般式（１）、（２）においてｑ又はｑ'が２以上であることに基づいて分子中に２個以上存在するＸ又はＸ'は、それぞれ独立に同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００２６】
特に好ましいＲ１は、下記の一般式（３）で表される基である。
前記の一般式（２）、（３）においてＲ２は、２価の芳香族基であり、Ｐは０又は１である。その２価の芳香族基としては、例えば（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレン基、ナフタレン基、ビフェニル基、アントラセン基、（ｏ，ｍ又はｐ−）テルフェニル基、フェナントレン基、ジベンゾフラン基、ビフェニルエーテル基、ビフェニルスルホン基、下記の式で表される２価の芳香族基などがあげられる。なお当該２価の芳香族基は、その芳香環に直接結合する水素が前記したハロゲン、アルキル基又はアルコキシ基で置換されていてもよい。
【００２８】
前記において好ましい２価の芳香族基（Ｒ２）は、下記の式で表されるものである。
前記した一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００３１】
上記を踏まえて一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンの内の好ましいものは、下記の一般式（４）で表されるものである。
また分子末端の基を含めた場合の好ましいポリアリールエーテルケトンは、一般式（１）に対応して下記の一般式（５）で表されるものであり、一般式（４）に対応するものは下記の一般式（６）で表されるものである。これらは分子内のｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側にフッ素原子が結合し、オキシアルキレン基側に水素原子が結合したものである。
【００３３】
一方、上記したポリアミド又はポリエステルの具体例としては、例えば下記の一般式（７）で表される繰返し単位を有するものなどがあげられる。
前記の一般式（７）において、Ｂは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。ｚは０〜３の整数である。
【００３７】
Ｅは、共有結合、炭素数２のアルケニル基若しくはそのハロゲン化物、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｒ）２基、又はＮＲ基である。前記のＣ（ＣＸ３）２基におけるＸは、水素原子又はハロゲンであり、Ｓｉ（Ｒ）２基及びＮＲ基におけるＲは、炭素数１〜３のアルキル基又はそのハロゲン化物である。なおＥは、カルボニル基又はＹ基に対してメタ位又はパラ位にある。またハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（７）において同じ）。
【００３８】
さらにＹは、Ｏ原子又はＮＨ基である。Ａは、水素原子、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のチオアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、炭素数１〜９のアルキルエステル基、炭素数１〜１２のアリールエステル基若しくはその置換誘導体、又は炭素数１〜１２のアリールアミド基若しくはその置換誘導体である。
【００３９】
またｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数、ｒは０〜３の整数である。好ましいポリアミド又はポリエステルは、前記のｒとｑが１であり、そのビフェニル環の少なくとも１個が２位及び２'位で置換されてなる下記の一般式（８）で表される繰返し単位を有するものである。
【００４０】
前記の一般式（８）においてｍは０〜３の整数、好ましくは１又は２であり、ｘ及びｙは０又は１で、かつ共に０であることはない。なお他の記号は前記の一般式（７）の場合と同義であるが、Ｅはカルボニル基又はＹ基に対してパラ配向の共有結合である。
【００４２】
前記の一般式（７）、（８）において、Ｂ、Ｅ、Ｙ又はＡが分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ、ｍ、ｘ、ｙも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｂ、Ｅ、Ｙ、Ａ、ｚ、ｎ、ｍ、ｘ、ｙは、それぞれ独立に判断される。
【００４３】
前記の一般式（７）で表されるポリアミド又はポリエステルは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。後者の場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００４４】
他方、上記したポリイミドの具体例としては、例えば９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記の一般式（９）で表される繰返し単位を１単位以上有するものなどがあげられる。
【００４５】
前記一般式（９）において、Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン若しくは１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されたフェニル基、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である。４個のＲは、各々独立に決定でき、０〜４個の範囲で置換することができる。その置換基は、前記のものであることが好ましいが、一部に異なるものを含んでいてもよい。なおハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（９）において同じ）。
【００４７】
Ｚは、６〜２０個の炭素原子を有する三置換芳香族基である。好ましいＺは、ピロメリット基、あるいはナフチレン基やフルオレニレン基、ベンゾフルオレニレン基やアントラセニレン基の如き多環式芳香族基若しくはその置換誘導体、又は下記の一般式（１０）で表される基である。なお前記多環式芳香族基の置換誘導体における置換基としては、ハロゲン、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基又はそのフッ素化物などがあげられる。
【００４８】
前記の一般式（１０）において、Ｄは、共有結合、Ｃ（Ｒ２）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、Ｎ（Ｒ３）２基又はそれらの組合せであり、ｍは１〜１０の整数である。なお前記のＲ２は各々独立に、水素原子又はＣ（Ｒ４）３基である。またＲ３は独立に、水素原子、１〜約２０個の炭素原子を有するアルキル基、又は約６〜約２０個の炭素原子を有するアリール基である。Ｒ４は各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。
【００５０】
また前記以外のポリイミドとして下記の一般式（１１）、（１２）で表される単位を有するものなどもあげることができる。就中、一般式（１３）で表される単位を有するポリイミドが好ましい。
【００５１】
前記の一般式（１１）、（１２）、（１３）において、Ｔ及びＬは、ハロゲン、炭素数１〜３のアルキル基若しくはそのハロゲン化物、それらの１種若しくは２種以上で置換されたフェニル基、又は非置換のフェニル基である。前記のハロゲンは、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子である（以下、一般式（１１）、（１２）、（１３）において同じ）。ｚは０〜３の整数である。
【００５５】
またＧ及びＪは、共有結合若しくは結合ボンド、ＣＨ２基、Ｃ（ＣＸ３）２基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ２基、Ｓｉ（Ｃ２Ｈ５）２基、又はＮ（ＣＨ３）基である。前記Ｃ（ＣＸ３）２基におけるＸは、水素原子又はハロゲンである（以下、一般式（１１）、（１２）、（１３）において同じ）。
【００５６】
Ａは、水素原子、ハロゲン、アルキル基若しくはそのハロゲン化物、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基若しくはそのハロゲン化物、アリール基若しくはそのハロゲン化物、又はアルキルエステル基若しくはその置換誘導体である。
【００５７】
Ｒは、水素原子、ハロゲン、フェニル基若しくはそのハロゲン化物等の置換フェニル基、又はアルキル基若しくはそのハロゲン化物等の置換アルキル基である。ｎは０〜４の整数、ｐは０〜３の整数、ｑは１〜３の整数である。
【００５８】
なお前記の一般式（１１）、（１２）、（１３）においてＴ、Ａ、Ｒ又はＬは、それぞれ独立に分子中に複数存在する場合、それらは同じであってもよいし、異なっていてもよい。ｚ、ｎ、ｍも同様に同じであってもよいし、異なっていてもよい。なおその場合、Ｔ、Ａ、Ｒ、Ｌ、ｚ、ｎ、ｍは、それぞれ独立に判断される。
【００５９】
前記した一般式（９）、（１１）、（１２）、（１３）で表されるポリイミドは、同じ繰返し単位からなっていてもよいし、異なる繰返し単位の２種又は３種以上を有するものであってもよい。その異なる繰返し単位は、前記以外の酸二無水物又は／及びジアミンの１種又は２種以上を共重合させて形成したものであってもよい。ジアミンとしては特に芳香族ジアミンが好ましい。後者の異なる繰返し単位を有する場合、各繰返し単位は、ブロック状に存在していてもよいし、ランダムに存在していてもよい。
【００６０】
前記した異なる繰返し単位を形成するための酸二無水物としては、例えばピロメルト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメルト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメルト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメルト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメルト酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ビフェニルカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボフェニル）メタン二無水物があげられる。
【００６１】
またビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物（４，４'−オキシジフタル酸無水物）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物（３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物）、４，４'−〔４，４'−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）〕ビス（フタル酸無水物）も前記酸二無水物の例としてあげられる。
【００６２】
さらにＮ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物や１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物の如きナフタレンテトラカルボン酸二無水物、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物やピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物の如き複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物なども前記酸二無水物の例としてあげられる。
【００６３】
好ましく用いうる酸二無水物は、２，２'−ジブロモ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物や２，２'−ジクロロ−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２'−トリハロ置換二無水物の如き２，２'−置換二無水物などであり、特に２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'，５，５'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【００６４】
一方、前記した異なる繰返し単位を形成するためのジアミンとしては、例えば（ｏ，ｍ又はｐ−）フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼン、１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンの如きベンゼンジアミン、４，４'−ジアミノビフェニル、４，４−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）一１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオルプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルエーテル、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンがあげられる。
【００６５】
また４，４'−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４'−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−〔４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４'−ジアミノジフェニルチオエ一テル、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、３，３'−ジアミノベンゾフェノン、１，８−ジアミノナフタレンや１，５−ジアミノナフタレンの如きナフタレンジアミン、２，６−ジアミノピリジンや２，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジンの如き複素環式芳香族ジアミンなども前記したジアミンの例としてあげられる。
【００６６】
好ましく用いうるポリイミドは、例えば２，２'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物や４，４'−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物やビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物などの芳香族系酸二無水物を用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドである。
【００６７】
またジアミンとして、例えば４，４−（９−フルオレニリデン）−ジアニリンや２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニル、３，３'−ジクロロ−４，４'−ジアミノジフェニルメタンや２，２'−ジクロロ−４，４'−ジアミノビフェニル、２，２',５，５'−テトラクロロベンジジンや２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンや１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンや１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンなどの芳香族系ジアミンを用いて調製された、耐熱性で溶媒可溶性のポリイミドも好ましく用いうる。
【００６８】
他方、上記したポリアミドイミド又はポリエステルイミドとしては、特に限定はなく適宜なものを１種又は２種以上用いうる。就中、特開昭６１−１６２５１２号公報に記載されたポリアミドイミドや、特開昭６４−３８４７２号公報に記載されたポリエステルイミドなどが好ましく用いうる。
【００６９】
ポリマー層Ｂ形成用の固体ポリマーの分子量は、特に限定はないが溶剤に可溶であることが好ましい。就中、塗工膜の厚さ制度や表面精度ないし表面平滑性、膜強度、フィルム化した場合の伸縮や歪等によるクラック発生の防止性、溶剤に対する溶解性（ゲル化防止）などの点より重量平均分子量に基づいて１万〜１００万、就中２万〜５０万、特に５万〜２０万が好ましい。なお重量平均分子量は、ポリエチレンオキサイドを標準試料とし、ジメチルホルムアミド溶媒を使用してゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した値である。
【００７０】
ポリマー層Ｂの形成には上記のポリアリールエーテルケトンやポリアミド、ポリエステルやポリイミド等の固体ポリマーを単独で用いてもよいし、同種物を２種以上混合して用いてもよい。また例えばポリアリールエーテルケトンとポリアミドの混合物の如く、異なる官能基を持つ２種以上のポリマーの混合物として用いてもよい。
【００７１】
またポリマー層Ｂを形成する上記固体ポリマーの配向性が著しく低下しない範囲で、上記以外の適宜なポリマーの１種又は２種以上を併用してもよい。ちなみにその併用ポリマーの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ＡＢＳ樹脂及びＡＳ樹脂、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリケトン、ポリイミド、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート、ポリアリレート、液晶ポリマー（光重合性液晶モノマーを含む）などの熱可塑性樹脂があげられる。
【００７２】
またエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノボラック樹脂の如き熱硬化性樹脂なども前記併用ポリマーの例としてあげられる。併用ポリマーの使用量は、配向性が著しく低下しない範囲であれば特に制限されないが、通常５０重量％以下、就中４０重量％以下、特に３０重量％以下とされる。
【００７３】
ポリマー層Ｂを形成する固体ポリマーの液状化には、熱可塑性ポリマーを加熱して溶融させる方式や、固体ポリマーを溶媒に溶解させて溶液とする方法などの適宜な方式を採ることができる。従って当該展開層の固体化は、前者の溶融液ではその展開層を冷却させることにより、また後者の溶液ではその展開層より溶媒を除去して乾燥させることにより行うことができる。ポリマー層Ｂの形成に際しては、安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合することができる。
【００７４】
前記の乾燥には自然乾燥（風乾）方式や加熱乾燥方式、特に４０〜２００℃の加熱乾燥方式、減圧乾燥方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を採ることができる。製造効率や光学的異方性の発生を抑制する点からはポリマー溶液を塗工する方式が好ましい。
【００７５】
前記の溶媒としては、例えばクロロホルムやジクロロメタン、四塩化炭素やジクロロエタン、テトラクロロエタンやトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンやクロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンの如きハロゲン化炭化水素類、フェノールやパラクロロフェノールの如きフェノール類、ベンゼンやトルエン、キシレンやメトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼンの如き芳香族炭化水素類、アセトンやメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンやシクロヘキサノン、シクロペンタノンや２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンの如きケトン類、酢酸エチルや酢酸ブチルの如きエステル類があげられる。
【００７６】
また、t-ブチルアルコールやグリセリン、エチレングリコールやトリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルやジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールやジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールの如きアルコール類、ジメチルホルムアミドやジメチルアセトアミドの如きアミド類、アセトニトリルやブチロニトリルの如きニトリル類、ジエチルエーテルやジブチルエーテル、テトラヒドロフランの如きエーテル類、その他、塩化メチレンや二硫化炭素、エチルセロソルブやブチルセロソルブなども前記溶媒の例としてあげられる。
【００７７】
溶媒は、単独で、あるいは２種以上を適宜な組合せで混合して用いることができる。溶液は、塗工粘度等の点より、溶媒１００重量部に対して固体ポリマーを２〜１００重量部、就中５〜５０重量部、特に１０〜４０重量部溶解させたものが好ましい。
【００７８】
液状化したポリマーの展開には、例えばスピンコート法やロールコート法、フローコート法やプリント法、ディップコート法や流延成膜法、バーコート法やグラビア印刷法等のキャスティング法、押出法などの適宜なフィルム形成方式を採ることができる。就中、厚さムラや配向歪ムラ等の少ないフィルムの量産性などの点より、キャスティング法等の溶液製膜法が好ましく適用することができる。
【００７９】
Ｒｅ＝３〜５０nm、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜５０を満足するポリマー層Ｂは、光学補償効果等の点より好ましい。
【００８０】
ポリマー層Ｂは、展開層を固体化させた後、そのＲｅ等の制御を目的に必要に応じて、面内における分子を配向させる処理を施したものであってもよい。すなわち当該展開層を固体化させただけの状態では、ｎx≒ｎy＞ｎzでＲｅが小さいことが普通である。ちなみに層厚を１０μmとした場合、Ｒｅは通例、３０nm以下、就中１〜２０nmである。
【００８１】
一方、前記の配向処理を施すことにより、面内における配向軸の精度を高めることができて、ｎx＞ｎy＞ｎzの特性を付与することができ、特にＲｅを増大させることができる。従ってＲｚ／Ｒｅ等の位相差特性を制御することができる。
【００８２】
前記した面内で分子を配向させる処理は、伸張処理又は／及び収縮処理として施すことができ、その伸張処理は、例えば延伸処理などとして施すことができる。延伸処理には逐次方式や同時方式等による二軸延伸方式、自由端方式や固定端方式等の一軸延伸方式などの適宜な方式の１種又は２種以上を適用することができる。ボーイング現象を抑制する点よりは一軸延伸方式が好ましい。
【００８３】
一方、収縮処理は、例えばポリマー層Ｂの塗工形成を基材上で行って、その基材の温度変化等に伴う寸法変化を利用して収縮力を作用させる方式などにより行うことができる。その場合、熱収縮性フィルムなどの収縮能を付与した基材を用いることもでき、そのときには延伸機等を利用して収縮率を制御することが望ましい。
【００８４】
ポリマー層Ｂの好ましい形成方式は、溶媒に溶解させて液状化したポリマー溶液を支持基材上に展開して乾燥させ、必要に応じて支持基材を介しその固体化物に伸張処理又は収縮処理の一方又は両方を施す方式である。この方式によれば、ポリマー層Ｂを基材で支持した状態で処理できて製造効率や処理精度などに優れており、連続製造も可能である。
【００８５】
前記の支持基材には適宜なものを用いることができ、特に限定はない。ポリマー層Ｂは、その支持基材との一体化物として用いうるし、支持基材より分離して用いることもできる。前者の支持基材一体型の場合、延伸処理等で支持基材に生じた位相差を利用することもできる。後者の分離方式は、延伸処理等で支持基材に生じた位相差が不都合な場合などに有利である。なお前者の支持基材一体型の場合、その支持基材としては透明なポリマー基材が好ましく用いられる。
【００８６】
ちなみに前記のポリマー基材を形成するものの例としては、上記のポリマー層Ｂで例示したものやアセテート系ポリマー、ポリエーテルスルホンやポリスルホン、ポリカーボネートやポリノルボルネン、ポリオレフィンやアクリル系ポリマー、セルロース系樹脂やポリアリレート、ポリスチレンやポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、液晶ポリマー、あるいはアクリル系やウレタン系、アクリルウレタン系やエポキシ系やシリコーン系等の熱硬化型ないし紫外線硬化型の樹脂などがあげられる。
【００８７】
また特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマー、例えば（Ａ）側鎖に置換又は／及び非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換又は／及び非置換のフェニル基並びにニトリル基を有する熱可塑性樹脂との前記Ａ、Ｂを含有する樹脂組成物などもポリマー基材の形成に用いうる。ちなみに斯かる樹脂組成物の具体例としてはイソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物があげられる。ポリマー基材は、樹脂組成物の混合押出品等からなるフイルムなどとして得ることができる。支持基材による位相差の影響を抑制する点よりは、アセテート系ポリマーの如く等方性に優れるものが好ましい。
【００８８】
光学補償偏光板は、偏光板の片側にポリマー系延伸フィルムＡ及びポリマー層Ｂの両方を、必要に応じ接着層ないし粘着層を介して積層することにより形成でき、液晶セルの視野角の拡大やコントラストの向上などを目的とした複屈折による位相差の補償などに好ましく用いうる。その実用に際しては、例えば液晶セル等の他部材と接着することを目的にその片面又は両面に接着層ないし粘着層を設けることができる。
【００８９】
前記した粘着層の形成には、例えばアクリル系重合体やシリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタン、ポリエーテルや合成ゴムなどの適宜なポリマーを用いてなる透明粘着剤を用いることができる。就中、光学的透明性や粘着特性、耐候性などの点よりアクリル系粘着剤が好ましい。
【００９０】
粘着層には必要に応じて例えば天然物や合成物の樹脂類、ガラス繊維やガラスビーズ、金属粉やその他の無機粉末等からなる充填剤や顔料、着色剤や酸化防止剤などの適宜な添加剤を配合することもできる。また透明微粒子を含有させて光拡散性を示す粘着層とすることもできる。粘着層が表面に露出する場合には、それを実用に供するまでの間、セパレータなどを仮着して粘着層表面の汚染等を防止することが好ましい。
【００９１】
なお前記の透明微粒子には、例えば平均粒径が０．５〜２０μmのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを１種又は２種以上用いうる。
【００９２】
光学補償偏光板の形成は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても行いうるが、予め積層することにより、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置等の製造効率を向上させうる利点などがある。積層に際し位相差層Ａ，Ｂと偏光板の進相軸や透過軸等の光軸の配置角度については特に限定はなく、適宜に決定することができる。一般には偏光板の透過軸と位相差層のｎx方向を平行関係又は直交関係に配置することが、正面方向の特性に影響を与えずに斜視方向の特性を制御して視野角の拡大等を図る点より好ましい。
【００９３】
光学補償偏光板の形成には、適宜な偏光板を用いることができ、その種類について特に限定はない。就中ポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムの如き親水性高分子フィルムにヨウ素及び／又は二色性染料等の二色性物質を吸着させて延伸したものや架橋処理したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如きポリエン配向フィルム等からなる偏光フィルムなどの如く、自然光を入射させると直線偏光を透過する特性を示す吸収型の偏光板が高い偏光度の達成などの点より好ましく用いうる。偏光フィルムの厚さは、１〜８０μmが一般的であるがこれに限定されない。
【００９４】
偏光板は、偏光フィルムの片側又は両側に透明保護層を設けたものや、ワイヤーグリッド型偏光子などであってもよい。透明保護層は、偏光フィルムの補強、耐熱性や耐湿性の向上などの種々の目的で設けられ、その形成には透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーなどが好ましく用いられる。ちなみにその例としては上記した支持基材で例示したものなどがあげられる。偏光特性や耐久性などの点より特に好ましい透明保護層は、表面をアルカリ等でケン化処理したトリアセチルセルロースフィルムである。
【００９５】
透明保護層の厚さは、任意であるが、一般には偏光板の薄型化などを目的に２００μm以下、就中５〜１５０μm、特に１０〜１００μmとされる。なお偏光フィルムの両側に透明保護層を設ける場合、その表裏で異なるポリマー等からなる透明保護層とすることもできる。
【００９６】
透明保護層は、樹脂の塗布層や樹脂フィルムのラミネート層などとして形成でき、透明微粒子の含有によりその表面が微細凹凸構造に形成されていてもよい。また透明保護層は、ポリマー系延伸フィルムＡや支持基材一体型のポリマー層Ｂに兼ねさせることもでき、その場合には光学補償偏光板、ひいては液晶表示装置等をより薄型化することができる。なお前記の透明微粒子には、上記に例示したものなどを用いうる。透明微粒子の使用量は、透明樹脂１００重量部あたり２〜７０重量部、就中５〜５０重量部が一般的である。
【００９７】
前記した樹脂フイルムのラミネート処理は、限定するものではないが、例えばアクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいはホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミンやシュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。これにより湿度や熱の影響で剥がれにくく光透過率や偏光度に優れるものとすることができる。斯かる接着層は、水溶液の塗工乾燥層等として形成されるものであるが、その水溶液の調製に際しては必要に応じて他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。特にポリビルアルコール系フィルムとの接着性に優れる点より、ポリビニルアルコール系接着剤を用いることが好ましい。
【００９８】
光学補償偏光板の形成には適宜な方式を採ることができ、従って種々の形態の光学補償偏光板を作製することができる。ちなみにその例を図１〜図７（ａ〜ｔ）に示した。３が偏光フィルム、７がポリマー系延伸フィルムＡ、９がポリマー層Ｂであり、１、５は透明保護層、２、４、６、８は接着層ないし粘着層、１０は支持基材である。なお図４（ｌ）、図５〜図７ではポリマー系延伸フィルムＡ７又はポリマー層Ｂ９の図示を省略している。
【００９９】
図１、２、図４（ｌ）、図５（ｎ），（ｏ）、図６では偏光フィルム３の両側に接着層等２、４、６を介して透明保護層１、５を設けてなる偏光板を用いた場合を示している。また図１、２、３、及び図４（ｊ），（ｋ）では偏光板にポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９の両方を設けたものを示している。図例より明らかな如く、ポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９は、そのいずれが偏光板側に位置してもよい。
【０１００】
光学補償偏光板は、図３、図４（ｊ），（ｋ）、図５（ｍ）の如く、偏光板の透明保護層をポリマー系延伸フィルムＡ７が兼ねる形態のものであってもよい。またそのポリマー系延伸フィルムＡは、それとポリマー層Ｂ９との積層体からなるものであってもよい。さらに図７の如く、ポリマー系延伸フィルムＡに代えて、ポリマー層Ｂ９と一体化した支持基材１０にて、偏光板の透明保護層を兼ねさせることもできる。前記の場合、ポリマー系延伸フィルムＡとポリマー層Ｂ又はポリマー層Ｂと支持基材は、いずれが偏光板側に位置してもよい。
【０１０１】
光学補償偏光板の形成に際して、偏光板とポリマー系延伸フィルムＡ及びポリマー層Ｂは、適宜な順序で積層して目的とする形態とすることができる。ちなみに（ａ）〜（ｄ），（ｆ），（ｈ）〜（ｋ）は、ポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９を予め積層したものを接着層等４、６を介して接着したものである。
【０１０２】
前記の場合、（ａ），（ｃ），（ｆ），（ｇ），（ｉ），（ｋ）の如くポリマー系延伸フィルムＡとポリマー層Ｂの積層体は、接着層等８を介して接着したものであってもよいし、（ｂ），（ｄ），（ｈ），（ｊ）の如くポリマー系延伸フィルムＡ７を支持基材としてそれにポリマー層Ｂ９を付設したものであってもよい。また（ｆ），（ｋ）の如くポリマー層Ｂ９を支持する支持基材１０を光学補償偏光板の構成部材として組み込むこともできる。一方、（ｅ）は透明保護層５にポリマー層Ｂ９を付設して、それに接着層等８を介してポリマー系延伸フィルムＡ７を接着したものである。
【０１０３】
前記において、（ａ）等の形態では、接着層等６を介してポリマー系延伸フィルムＡ７を偏光板に接着した後、その上に別個の支持基材に設けたポリマー層Ｂ９を接着層等８を介して転写する方式などにても形成することができる。また（ｂ）等の形態では、接着層等６を介してポリマー系延伸フィルムＡ７を偏光板に接着し、そのポリマー系延伸フィルムＡにポリマー層Ｂ９を付設する方式にても形成することができる。さらに（ａ）〜（ｋ）の形態は、上記に準じた方法でポリマー系延伸フィルムＡ７とポリマー層Ｂ９を設けた後、それを偏光フィルム３又は透明保護層５に接着する方式にても形成することができる。
【０１０４】
ポリマー層Ｂについては薄さに優れることより例えば（ｐ），（ｇ），（ｓ）の如く、透明保護層５又はそれを兼ねる支持基材１０の内側に位置させることもできる。（ｊ）等の如くポリマー系延伸フィルムＡ７が透明保護層を兼ねる場合も同様である。
【０１０５】
なお上記の如くポリマー系延伸フィルムＡとポリマー層Ｂの積層体の形成に際しては、ポリマー系延伸フィルムＡを支持基材としてその上にポリマー層Ｂを塗工形成する方式や、別体の支持基材上に塗工形成したポリマー層Ｂを接着層等を介して転写する方式などの適宜な方式を採りうるが、その後者の場合には、ポリマー層Ｂを形成することとなる塗工層の乾燥工程で延伸処理を加えて、支持基材をポリマー系延伸フィルムＡに変化させることもできる。
【０１０６】
前記した接着処理には必要に応じて、例えばアクリル系やシリコーン系、ポリエステル系やポリウレタン系、ポリエーテル系やゴム系等の透明な粘着剤などの適宜な接着剤を用いうる。構成部材の光学特性の変化を防止する点より、硬化や乾燥の際に高温プロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。また加熱や加湿条件下に剥離等を生じない接着剤が好ましく用いられる。
【０１０７】
上記において光学補償偏光板を形成する偏光板は、特に位相差層を設けない側にハードコート処理や反射防止処理、スティッキング防止処理や拡散ないし防眩等を目的とした処理などを施したものであってもよい。ハードコート処理は、偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばシリコーン系やウレタン系、アクリル系やエポキシ系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り性等に優れる硬化皮膜ないしフィルムを透明保護層の表面に付加する方式などにて形成することができる。
【０１０８】
一方、反射防止処理は、偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜や従来に準じた反射防止フィルムからなるものなどとして適宜に形成することができる。
【０１０９】
他方、スティッキング防止は隣接層との密着防止を目的に、防眩処理層は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止などを目的に施されるものであり、例えば上記した透明微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与することなどにより、表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。
【０１１０】
また前記の防眩処理層は、偏光板の透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視角補償機能など）を兼ねるものであってもよい。なお上記のハードコート層や反射防止層、スティッキング防止層や拡散層ないし防眩処理層等は、それらの層を設けたシートなどからなる光学層として、透明保護層とは別体のものとして設けることもできる。
【０１１１】
本発明による光学補償偏光板は、ＶＡ型液晶表示装置の形成に好ましく用いうる。その適用に際しては必要に応じ接着層ないし粘着層を介して、例えば反射板や半透過反射板、輝度向上フィルムや他の位相差板、拡散制御フィルムや偏光散乱フィルムなどの他の光学層の１層又は２層以上を積層してなる光学部材として用いることもできる。積層には、上記した粘着層等の適宜な接着手段を用いることができる。
【０１１２】
前記の反射板は、それを偏光板に設けて反射型偏光板を形成するためのものである。反射型の偏光板は通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。
【０１１３】
反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式で行うことができる。その具体例としては必要に応じマット処理した透明保護層の片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設したものがあげられる。
【０１１４】
また前記の反射層は、光拡散型のものであってもよい。光拡散型の反射層は、例えば透明微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射層を形成する方式などにより得ることができる。表面微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点を有する。
【０１１５】
微細凹凸構造を反映させた反射層は、当該微細凹凸構造上に例えば真空蒸着方式やイオンプレーティング方式やスパッタリング方式等の蒸着方式、メッキ方式などの適宜な方式で金属反射層を付設することにより形成することができる。
【０１１６】
なお反射層は、上記した偏光板の透明保護層に直接付設する方式に代えて、適宜なフィルムに反射層を付設してなる反射シートなどとして設けることもできる。金属からなる反射層は、その反射面がフィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などから好ましい。
【０１１７】
さらに反射層は、ハーフミラー等からなる、光を反射しかつ透過する半透過型のものなどであってもよい。半透過型偏光板も通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側(表示側)からの入射外光を反射させて表示を達成し、比較的暗い雰囲気においては半透過型偏光板の裏側に配置したバックライト等の内蔵光源を使用して表示を達成するタイプの表示装置などを形成するためのものである。
【０１１８】
従って半透過型偏光板は、明るい雰囲気下ではバックライト等の光源使用によるエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの表示装置などの形成に有用である。
【０１１９】
一方、上記した輝度向上フィルムは、偏光板による吸収ロスなどを抑制して輝度の向上を図ることなどを目的に用いられるものである。輝度向上フィルムとしては適宜なものを用いうる。ちなみにその例としては、誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すものがあげられる（例えば３Ｍ社製、「Ｄ−ＢＥＦ」等）。
【０１２０】
また輝度向上フィルムの他の例としてはコレステリック液晶層、就中コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの（例えば日東電工社製、「ＰＣＦ３５０」や、Ｍｅｒｃｋ社製、「Transmax」等)の如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどがあげられる。後者のコレステリック液晶系のものでは、円偏光を直線偏光に変換することを目的に必要に応じて１／４波長板と組合せて用いることもできる。
【０１２１】
また位相差板としては、前記した１／４波長板のほか一軸や二軸等の適宜な方式による各種ポリマーの延伸フィルム、Ｚ軸配向処理したポリマーフィルム、液晶性高分子層などの適宜な位相差を有するものを用いうる。拡散制御フィルムは、視野角や解像度に関わるギラツキ、散乱光等の制御を目的に用いられるものであり、拡散、散乱又は／及び屈折を利用した光学機能フィルムが用いられる。さらに偏光散乱フィルムは、フィルム中に散乱性物質を含有させて偏光がその振動方向により散乱異方性を生じるようにしたものであり、偏光の制御などに用いられる。
【０１２２】
上記した２層又は３層以上の光学層を積層した光学部材は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学部材としたものは、品質の安定性や組立作業性等に優れて液晶表示装置等の製造効率を向上させう利点などがある。
【０１２３】
本発明による光学補償偏光板や光学部材には、他の光学層や液晶セル等の他部材と接着するための粘着層ないし接着層を必要な面に設けることもできる。その接着層は、上記に準じて形成することができる。就中、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる表示装置の形成性等の点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層が好ましく用いうる。また透明微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等とすることもできる。
【０１２４】
光学補償偏光板や光学部材に設けた粘着層ないし接着層が表面に露出する場合には、その粘着層等を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的にセパレータにて仮着カバーすることが好ましい。セパレータは、上記の支持基材等に準じた適宜な薄葉体に、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤によるコート層を設ける方式などにより得ることができる。
【０１２５】
上記した光学補償偏光板や光学部材等を形成する位相差層や偏光フィルム、透明保護層や粘着層などの各層は、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの適宜な方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。
【０１２６】
本発明による光学補償偏光板や光学部材は、液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができ、例えば偏光板を液晶セルの片側又は両側に配置してなる反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置の形成に用いることができる。
【０１２７】
すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと光学補償偏光板、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による光学補償偏光板ないし光学部材を用いて、それを液晶セルの外側の少なくとも片側に設ける点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。
【０１２８】
従って液晶セルの片側又は両側に光学補償偏光板を配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライト又はフロントライトを用いた液晶表示装置、あるいは反射板や半透過型反射板を用いてなる透過型や反射型、あるいは反射・透過両用型などの適宜な液晶表示装置を形成することができる。
【０１２９】
光学補償偏光板は、その位相差層が視認側又は／及び背面側の液晶セルと偏光板の間、特に視認側の偏光板との間に位置するように配置することが補償効果の点などより好ましい。その配置に際しては、上記の光学部材としたものを用いることもできる。
【０１３０】
前記において液晶表示装置を形成する液晶セルはＶＡ型である。液晶セルの両側に光学補償偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。
【０１３１】
また前記において液晶表示装置の形成部品は、積層一体化されていてもよいし、分離状態にあってもよい。また液晶表示装置の形成に際しては、例えばプリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板や保護板などの適宜な光学素子を適宜に配置することができる。かかる素子は、光学補償偏光板と積層してなる上記した光学部材の形態にて液晶表示装置の形成に供することもできる。
【０１３２】
【実施例】
比較例１
厚さ８０μmのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムをヨウ素水溶液中で５倍に一軸延伸して得た偏光フィルムの両側に、厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して厚さ８０μmのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを接着して厚さ１９０μmの偏光板を得、その片側に厚さ２５μmのアクリル系粘着層を介し厚さ８０μmの延伸フィルムを接着して、総厚２９５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３３】
なお前記の延伸フィルムは、厚さ１００μmのノルボルネン系樹脂フィルム（ＪＳＲ社製、ＡＲＴＯＮ）をテンターを介し横延伸処理して得たものであり、Ｒｅ５０nm、Ｒｚ１０８nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝２．２）のものである。なおＲｅ、Ｒｚは、王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨにて測定した屈折率より算出した（以下同じ）。
【０１３４】
比較例２
厚さ８０μmのＴＡＣフィルムをテンターを介し横延伸処理して得た厚さが５０μmで、Ｒｅが５０nmであり、Ｒｚが６８nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝１．４）の延伸フィルムを比較例１と同様の偏光フィルムの片側に厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して接着し、その偏光フィルムの他面に厚さ８０μmのＴＡＣフィルムを同様に接着して、総厚１６０μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３５】
比較例３
２,２'−ビス（３,４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２,２'−ビス（トリフルオロメチル）−４,４'一ジアミノビフェニルから合成された重量平均分子量５．９万のポリイミドの１５重量％シクロヘキサノン溶液を二軸延伸ポリエステルフィルムの上に塗布し乾燥させて、厚さ３μm、Ｒｅ４nm、Ｒｚ９１nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝２２．８）のポリマー層を形成して、それを比較例１と同様の偏光板の片側に厚さ１５μmのアクリル系粘着層を介し接着した後、二軸延伸ポリエステルフィルムを剥離して、総厚２１０μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３６】
（削除）
【０１３７】
比較例４
比較例３に準じて厚さ５μm、Ｒｅ５nm、Ｒｚ１８０nmのポリマー層を厚さ８０μmのＴＡＣフィルム上に形成して、それをポリマー層が外側となるように比較例１と同様の偏光フィルムの片側に厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して接着し、その偏光フィルムの他面に厚さ８０μmのＴＡＣフィルムを同様に接着して、総厚１９５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３８】
比較例５
ポリマー層付きＴＡＣフィルムをそのポリマー層が内側となるように厚さ１５μmのアクリル系粘着層を介して接着したほかは、比較例４に準じて総厚２０５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１３９】
比較例６
比較例３に準じて得た二軸延伸ポリエステルフィルム上のポリマー層を、比較例１で得た光学補償偏光板における延伸フィルムの外側に転写して、総厚３１５μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４０】
（削除）
【０１４１】
実施例１
比較例３に準じたポリイミド溶液を厚さ８０μmのＴＡＣフィルム上に塗布して乾燥後、テンターを介しＴＡＣフィルムと共に横延伸処理して厚さ７３μmの位相差板を得た。これはＲｅが３０nmで、Ｒｚが３８nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝１．３）のＴＡＣ延伸フィルムに、Ｒｅが２２nm、Ｒｚが２００nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝９．１）のポリマー層が密着したものであった。ついでそれをポリマー層が外側となるように比較例１と同様の偏光フィルムの片側に厚さ５μmのＰＶＡ系接着剤を介して接着し、その偏光フィルムの他面に厚さ８０μmのＴＡＣフィルムを同様に接着して、総厚１８３μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４２】
実施例２
位相差板の表裏を逆転させて、ポリマー層が内側となるように接着したほかは実施例１に準じて、総厚１８３μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４３】
比較例７
厚さ７０μmのポリエステルフィルムをテンターを介し１６０℃で１．２倍に横延伸処理して厚さ５９μm、Ｒｅ５０nm、Ｒｚ１４４nm（Ｒｚ／Ｒｅ＝２．９）の延伸フィルムを形成し、その上に比較例３に準じ厚さ３μm、Ｒｅ４nm、Ｒｚ９１のポリマー層を形成して厚さ６２μmの位相差板を得、それをポリマー層が外側となるように比較例１と同様の偏光板の片側に厚さ１５μmのアクリル系粘着層を介し接着して、総厚１９２μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４４】
比較例８
位相差板の表裏を逆転させて、ポリマー層が内側となるように接着したほかは比較例７に準じて、総厚１９２μmの光学補償偏光板を得た。
【０１４６】
（削除）
【０１４７】
参考例
比較例１と同様の偏光板のみを用いた。
【０１４８】
評価試験
比較例、実施例、参考例で得た光学補償偏光板と偏光板を種々の組合せでＶＡ型液晶セルの視認側と背面側に遅相軸が直交するように配置して液晶表示装置を形成し、その上下、左右、対角ａ（４５度と−２２５度）及び対角ｂ（１３５度と−３１５度）の各方向において、コントラスト比が１０以上の視野角を調べた。なお光学補償偏光板は、その位相差層がセル側となるように配置した。
【０１４９】
前記の結果を次表に示した。
配 置 物 視 野 角 （度）
視 認 側 背 面 側 上下方向 左右方向 対角ａ方向 対角ｂ方向
例１ 比較例１ 比較例１ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例２ 比較例２ 比較例２ ±７５ ±７５ ±６０ ±６０
例３ 比較例２ 比較例４ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例４ 比較例２ 比較例５ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例５ 比較例２ 比較例６ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例６ 比較例３ 比較例３ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例７ 参考例 比較例７ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例８ 参考例 比較例８ ±８０ ±８０ ±６０ ±６０
例９ 参考例 実施例１ ±８０ ±８０ ±６５ ±６５
例１０ 参考例 実施例２ ±８０ ±８０ ±６５ ±６５
例１１ 参考例 参考例 ±４０ ±４０ ±３０ ±３０
【０１５０】
表より実施例に相当する例９〜１０において、比較例としての例１１と対比して、コントラスト比が１０以上の視野角がその角度に基づいて倍以上拡大されており、かつ比較例１〜８を使用した例１〜８よりもその視野角が広いことが判る。これより本発明による光学補償偏光板にて、ＶＡ型液晶セルを光学補償して視認性に優れる高表示品位の液晶表示装置の得られることが判る。
【図面の簡単な説明】
【図１】光学補償偏光板例の断面図
【図２】他の光学補償偏光板例の断面図
【図３】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図４】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図５】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図６】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【図７】さらに他の光学補償偏光板例の断面図
【符号の説明】
１、５：透明保護層
２、４、６、８：接着層（粘着層）
３：偏光フィルム（偏光板）
７：ポリマー系延伸フィルムＡ
９：ポリマー層Ｂ
１０：支持基材
Claims (3)
- 偏光板の片側に位相差層を有してなり、面内の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚ、厚さをｄ、（ｎｘ−ｎｙ）ｄ＝Ｒｅ、及び（ｎｘ−ｎｚ）ｄ＝Ｒｚとしたとき、前記の位相差層がＲｅ＝２０〜３００ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝１．０〜８を満足するセルロース系樹脂からなるポリマー系延伸フィルムＡ、及びＲｅ＝３〜５０ｎｍ、かつＲｚ／Ｒｅ＝８〜９．１を満足する厚さが１〜２０μｍの塗工膜からなるポリマー層Ｂの両方からなると共に、そのポリマー層Ｂがポリエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド又はポリエステルイミドの少なくとも一種よりなり、かつ、前記ポリマー系延伸フィルムＡが前記偏光板の透明保護層を兼ねることを特徴とするＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板。
- 請求項１において、片面又は両面に粘着層を有するＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板。
- 請求項１又は２に記載のＶＡ型液晶セル用光学補償偏光板をＶＡ型液晶セルの外側に配置してなることを特徴とする液晶表示装置。
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