JP3963255B2 - 光導波路 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、主に光通信あるいは光情報処理などに用いられる光導波路に関する。
【0002】
【従来の技術】
平面基板上に形成される光導波路を用いたデバイスは、光通信や光情報処理の分野で幅広く用いられている。図4に従来の光導波路の一例の断面構造を示す。図に示すように光導波路1は基板2から順に下部クラッド層3、導波路コア4、上部クラッド層5の積層構造からなり、前記上部クラッド層5は前記導波路コア4を覆うように下部クラッド層3の上に積層されている。前記各層及び導波路コア4に使用される材料としては、量産性、光ファイバとの接続性、信頼性の観点から基板2にはシリコンが用いられ、下部クラッド層3、導波路コア4及び上部クラッド層5には石英系ガラスが用いられることが多い。
【0003】
この光導波路を用いて製作される光デバイスの一例として、波長分割多重光通信システムに広く用いられているアレイ導波路回折格子型光合分波器(以下、「AWG」という)がある。AWGは、回折格子ほどの精密な機械加工や、干渉膜ほどの精密な多層膜形成が不要で、フォトリソグラフィやエッチングなどの通常の光集積プロセスで実現でき、他の光導波路素子との集積の可能性とも併せて、今後の高密度波長多重(WDM)ネットワークの中心エレメントとして大きく発展していくことが期待されている光デバイスの一つである。
【0004】
このAWGの概略外観図を図5に示す。図に示すようにAWG11は基板2の上に、入力導波路12、入力側スラブ導波路13、アレイ導波路回折格子14、出力側スラブ導波路15、出力導波路16からなるパターンが形成されている。また、前記各導波路は図4に示す断面構造をもって形成されている。
【0005】
以下、AWG11の機能の概略を入力光の流れに沿って説明する。AWG11には入力ファイバ17が接続され、波長多重光18が入力導波路12中のある1本に入射される。入力導波路12に入射された波長多重光18は入力側スラブ導波路13において回折により広がり、アレイ導波路回折格子14を構成する多数の導波路を同位相で励振する。アレイ導波路回折格子14の個々の導波路は相互に結合しないように離されて配置され、その長さが一定値ずつ異なるようになっているため、アレイ導波路回折格子14を伝搬後の各導波路の出力端における光の位相が一定量ずつずれることになる。この後、位相差が生じた光は、出力側スラブ導波路15において、この位相のずれを加味して同位相条件が成立する特定の方向に回折する。ここで、この回折角は波長に依存するため、波長ごとに異なる出力導波路16に結合する。結果的に、入力導波路12に入射された波長多重光18は波長ごとに分波されて出力導波路16に接続する出力ファイバ19から取り出される(分波された光20を参照)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、図4に示す従来の構造の光導波路1によりAWG11を作製した場合、入力光の偏光状態によってデバイス特性が変化する問題がある。図6はその典型的な例を示したものであり、複数ある出力導波路16の内の一つの導波路について、入力光の電界の振動方向が基板2に対して水平の場合(以下、「TEモード」という)と垂直の場合(以下、「TMモード」という)とにおける透過率の波長依存性を測定した結果である。なお、ここで透過率とは入力光の量と出力光の量との比をいう。
【0007】
図6によれば、TEモードとTMモードとでピーク波長がずれていることが分かる。これは、導波路コア4が複屈折を有し、前記各モードに対する導波路コア4の屈折率がそれぞれ異なるためである。すなわち、ピーク波長λは、導波路コア4の屈折率nとアレイ導波路回折格子14における隣接導波路同士の長さの差△L及び回折次数mを用いλ=n△L/mで表される。ここで、TEモードとTMモードに対する導波路コア4の屈折率nが異なる結果、ピーク波長が各モードにより異なる。
【0008】
複屈折の原因は、基板2及び導波路コア4等の熱膨張係数の違いにより生じる応力であることが知られている。例えば基板2にシリコン、導波路コア4に石英ガラスを用いた場合、シリコンの方が石英ガラスよりも熱膨張係数が大きいため、熱変化に伴い基板2の体積の方が大きく変化する。光導波路を構成する各層の境界面と平行な方向を水平方向fとすると、導波路形成工程における加熱処理後の冷却の際、基板2が導波路コア4よりも収縮度が大きいため、導波路コア4に水平方向fの圧縮応力がかかる。この応力により生じる導波路コア4の圧縮ひずみが、複屈折の原因となっている。
【0009】
導波路コア4に複屈折を生じさせない方法として、上記材料を例にすると、添加剤を加えた石英ガラスを用いて導波路コア4を形成する方法がある。これは、添加剤により導波路コア4の熱膨張係数を変化させることで、導波路コア4の熱膨張係数をシリコンの基板2に一致させるという方法である。しかし、添加剤により熱膨張係数のみならず屈折率も変化するため、それを補正するための別の添加剤を入れる必要がある。その結果、過剰な添加剤の使用により石英ガラスの耐湿性が劣化したり、添加剤濃度のばらつきにより複屈折が発生してしまう場合もあり、実用的でない。
【0010】
また、特許第2614365号に記載されているように、複屈折を解消する代わりに、アレイ導波路回折格子の中央に半波長板を挿入し偏光角を90度回転することでピーク波長の偏光依存性を解消する方法も提案されている。しかし、この方法では、導波路を横切る溝を形成し、そこに薄片状の半波長板を挿入するという複雑な形成工程が必要となる。また導波路が溝で分断されるため光の損失を受けるなどの問題点がある。
【0011】
本発明は上記状況に鑑みてなされたものであり、複雑な形成工程等を必要とせず、光の損失等の問題が改善された、偏光依存性のない光導波路デバイスを提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する第1の発明に係る光導波路は、基板上に形成される下部クラッド層と、前記下部クラッド層の上に形成される導波路コアと、前記導波路コアを覆うようにして形成される上部クラッド層とを有する光導波路であって、前記基板、前記上部クラッド層及び前記導波路コアよりも低い熱膨張係数を有し、前記導波路コアに働く応力を抑制する応力調整膜を、前記導波路コアの上面と前記上部クラッド層の間に設けたことを特徴とする光導波路である。
【0014】
なお、導波路コアの上面とは、導波路コアとそれを覆うように形成された上部クラッド層との間の、下部クラッド層と平行な面をいう。
【0015】
また、第2の発明に係る光導波路は、第1の発明において、前記応力調整膜を、前記導波路コアの下面と前記下部クラッド層の間に設けたことを特徴とする光導波路である。すなわち、前記応力調整膜は、導波路コアの上面のみに設けられている場合と、上面と下面の両方に設けられる場合とがある。なお、導波路コアの下面とは、導波路コアと下部クラッド層の間の面をいう。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に基づき詳細に説明する。
図1は本発明の第1の実施例に係る光導波路の断面図である。図に示すように、光導波路1は、基板2の上に順に、下部クラッド層3、導波路コア4及び前記導波路コア4の上面にのみ応力調整膜6が設けられ、さらに上部クラッド層5が前記導波路コア4及び応力調整膜6を覆うように下部クラッド層3の上に設けられている。
【0017】
また、前述した各部材の材質及び大きさについては、基板2は厚さ1mmのシリコン、下部クラッド層3は厚さ15μmの石英ガラス、導波路コア4はゲルマニウムが添加された厚さ及び幅が6μmの石英ガラス、応力調整膜6は厚さ4μmの石英ガラス、上部クラッド層5はホウ素及びリンが添加された石英ガラスからなる。
ここで、応力調整膜6を形成する石英ガラスは、基板2、上部クラッド層5及び導波路コア4よりも熱膨張係数が小さく、熱変化に伴う膨張及び収縮が少なくなっている。なお上部クラッド層5の屈折率は、下部クラッド層3の屈折率と同じになるように、添加剤のホウ素及びリンの量によって調整されている。また、導波路コア4と各クラッド層(3及び5)との比屈折率差は0.75%である。
【0018】
本発明の効果を確認するため、第1の実施例に係る光導波路でAWG(図5参照)を作製した。その作製工程は以下の通りであった。まず、1mmのシリコン基板2の上に薄膜堆積装置により石英ガラスからなる厚さ15μmの下部クラッド層3を堆積させた。次に導波路コア4となるゲルマニウム添加の石英ガラスを同様の薄膜堆積装置により6μm堆積させ、その直後に応力調整膜6となる石英ガラスを4μm堆積させた。その後、フォトリソグラフィとドライエッチングにより、図5の光導波路パターンを形成した。ここで、導波路コア4及び応力調整膜6の厚みが6μm及び4μmであるため、エッチング量は10μmとした。その後、薄膜堆積装置によりホウ素及びリンが添加された石英ガラスからなる上部クラッド層5を20μm堆積させることにより、第1の実施例に係る光導波路を有するAWGを作製した。なお、上記各堆積工程の中には加熱処理工程(膜質を安定化させるためのアニーリング及び透明度を上げるための高温処理等)が含まれる。
【0019】
図3は上記方法で作製したAWGにおいて、出力導波路16のうちある一つの導波路の透過率の波長依存性を測定した結果である。前述した従来の光導波路の場合である図6の結果と異なり、入力光の偏光がTEモード及びTMモードのどちらの場合でもピーク波長は一致し、偏光依存性の無いことが確認された。また、他の出力導波路についても同様に各モードによるピーク波長の違いはなく、本実施例に係る光導波路を用いれば偏光依存性の解消が可能であることが分かる。
さらに、本実施例においては、光の損失が増加することもなく優れた特性を有するAWGを作製することができた。
【0020】
本発明に係る応力調整膜の作用については、前記加熱処理工程の後、室温に戻る際に導波路コア4に働く応力と共に、以下のように説明することができる。
光導波路を構成する各層の境界面と平行な方向を水平方向fとすると、冷却工程においては石英ガラスからなる導波路コア4よりも熱膨張係数の大きなシリコン基板2の収縮が大きいため、導波路コア4には水平方向fの圧縮応力が働く。この圧縮応力が複屈折の原因となるが、本発明においては、基板2、導波路コア4及び上部クラッド層5よりも熱膨張係数の小さい応力調整膜6を導波路コア4の上面に設けているため、応力調整膜6と導波路コア4の境界付近において導波路コア4に水平方向fの引っ張り応力を付与することができる。また、光導波路を構成する各層の境界面と垂直な方向について考えてみても、応力調整膜6は上部クラッド層5よりも収縮が小さいため、導波路コア4が垂直方向に圧迫される結果、導波路コア4には水平方向fの引っ張り応力が発生する。以上のように、応力調整膜6により付与された水平方向fの引っ張り応力と、シリコン基板2から受けていた水平方向fの圧縮応力とが相殺するため、複屈折が解消される。
【0021】
図2は本発明の第2の実施例に係る光導波路の断面図である。第1の実施例と比較すると、導波路コア4の下面に第2の応力調整膜7を設けたことが特徴である。図に示すように、第2の実施例に係る光導波路1は、基板2の上に順に、下部クラッド層3、応力調整膜6及び第2の応力調整膜7により上面と下面を挟まれた導波路コア4が設けられ、さらに上部クラッド層5が前記導波路コア4及び応力調整膜6、7を覆うように下部クラッド層3の上に設けられている。
【0022】
また、前述した各部材の材質及び大きさについては、基板2は厚さ1mmのシリコン、下部クラッド層3は厚さ15μmの石英ガラス、導波路コア4はゲルマニウムが添加された厚さ及び幅が6μmの石英ガラス、応力調整膜6、7は共に厚さ2μmの石英ガラス、上部クラッド層5はホウ素及びリンが添加された石英ガラスからなる。
ここで、応力調整膜6、7を形成する石英ガラスは、基板2、上部クラッド層5及び導波路コア4よりも熱膨張係数が小さく、熱変化に伴う膨張及び収縮が少なくなっている。なお上部クラッド層5の屈折率は、下部クラッド層3の屈折率と同じになるように、添加剤のホウ素及びリンの量によって調整されている。また、導波路コア4と各クラッド層(3及び5)との比屈折率差は0.75%である。
【0023】
本発明の効果を確認するため、第2の実施例に係る光導波路でAWGを作製した。その作製工程は以下の通りであった。まず、1mmのシリコン基板2の上に薄膜堆積装置により石英ガラスからなる厚さ15μmの下部クラッド層3を堆積させた。次に、第2の応力調整膜7となる厚さ2μmの石英ガラス、導波路コア4となる厚さ6μmのゲルマニウム添加の石英ガラス、応力調整膜6となる厚さ2μmの石英ガラスを同様の薄膜堆積装置により堆積させた。その後、フォトリソグラフィとドライエッチングにより、図5の光導波路パターンを形成した。ここで、第2の応力調整膜7、導波路コア4及び応力調整膜6の厚みがそれぞれ2μm、6μm及び2μmであるため、エッチング量は10μmとした。その後、薄膜堆積装置によりホウ素及びリンが添加された石英ガラスからなる上部クラッド層5を20μm堆積させることにより、第2の実施例に係る光導波路を有するAWGを作製した。なお、上記各堆積工程の中には加熱処理工程(膜質を安定化させるためのアニーリング及び透明度を上げるための高温処理等)が含まれる。
【0024】
上記作製したAWGについても、透過率の波長依存性を測定した結果、入力光の偏光がTEモード及びTMモードのどちらの場合でもピーク波長は一致し、偏光依存性の無いことが確認された。また、他の出力導波路についても同様に各モードによるピーク波長の違いはなく、本発明に係る光導波路を用いれば偏光依存性の解消が可能であることが分かった。さらに、第1の実施例と同様に、光の損失が増加することもなく優れた特性を有するAWGを作製することができた。
【0025】
なお、下部クラッド層3が第2の応力調整膜7と同じ材質を使用する場合、応力調整膜7の厚さ分だけ通常より余分に下部クラッド層3を厚く堆積させておけば、改めて応力調整膜7を堆積させる必要はない。すなわち、下部クラッド層3を堆積させる際には、応力調整膜7の厚さ分だけ通常より厚く堆積させ、導波路パターン形成の際のエッチングを応力調整膜7の厚さ分だけ下部クラッド層3にまで及ぼせばよい。このように作製しても応力調整膜を導波路コア4の上下面に設けたときと同様の効果が得られる。
【0026】
また、下部クラッド層3の形成には火炎加水分解堆積法、スパッタ法、真空蒸着法、化学気相堆積法等を利用した各種薄膜堆積装置を使用することが可能であるが、それ以外にもシリコン基板2の表面を酸化して石英ガラス層を形成できる高圧熱酸化装置を使用することもできる。
【0027】
前述した二つの実施例では、基板2にはシリコン、クラッド層3及び5には石英系ガラス、導波路コア4にはゲルマニウムが添加された石英ガラス、応力調整膜6、7には石英ガラスを使用したが、本発明は前記材料に限定されるものではない。すなわち、熱膨張係数の比較的小さい応力調整膜を導波路コアに設けるという本発明の要点に鑑みれば、各部材同士の熱膨張係数の大小関係が同様であれば、異なる材料でも偏光依存性のない光デバイスを作製することができる。
【0029】
また、本実施形態では、アレイ導波路回折格子型光合分光器(AWG)11に適用した例を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、マッハツェンダー干渉計、リング共振器等の光の干渉を利用する導波路型光デバイスや、それらを複数集積した光回路にも適用することができる。
【0030】
【発明の効果】
本発明によれば、基板上に形成される下部クラッド層と、前記下部クラッド層の上に形成される導波路コアと、前記導波路コアを覆うようにして形成される上部クラッド層とを有する光導波路において、少なくとも導波路コアの上面に応力調整膜を設けることにより、前記各部材の熱膨張係数の差に起因する導波路コアの歪みを抑制し複屈折の発現を防止する結果、入力光の偏光状態に依存しない導波路型光デバイスを容易に実現することができる。これにより、再現性良く、低コストで、波長分割多重通信用の光合分光器を始め様々な光デバイスを製造することが可能となり、光通信や光情報処理の分野に多大な貢献をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る光導波路の断面図である。
【図2】本発明の第2の実施例に係る光導波路の断面図である。
【図3】本発明に係る光導波路により作製したAWGの出力特性図である。
【図4】従来の光導波路の一例の断面図である。
【図5】アレイ導波路回折格子型光合分波器(AWG)の概略外観図である。
【図6】従来の光導波路により作製したAWGの出力特性図である。
【符号の説明】
1 光導波路
2 基板
3 下部クラッド層
4 導波路コア
5 上部クラッド層
6 応力調整膜
7 第2の応力調整膜
11 アレイ導波路回折格子型光合分波器(AWG)
12 入力導波路
13 入力側スラブ導波路
14 アレイ導波路回折格子
15 出力側スラブ導波路
16 出力導波路
17 入力ファイバ
18 波長多重光
19 出力ファイバ
20 分波された光
f 水平方向
Claims (2)
- 基板上に形成される下部クラッド層と、前記下部クラッド層の上に形成される導波路コアと、前記導波路コアを覆うようにして形成される上部クラッド層とを有する光導波路であって、前記基板、前記上部クラッド層及び前記導波路コアよりも低い熱膨張係数を有し、前記導波路コアに働く応力を抑制する応力調整膜を、前記導波路コアの上面と前記上部クラッド層の間に設けたことを特徴とする光導波路。
- 前記応力調整膜を、さらに前記導波路コアの下面と前記下部クラッド層の間に設けたことを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
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