JP3928608B2 - 薄膜半導体素子 - Google Patents
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Description
本明細書に添付する図4はこれを説明するものであり、絶縁性の支持基板40上にドレイン電極45cが形成されている。ドレイン電極45cの上部に高不純物濃度のn+ ドレイン領域45が形成されている。ドレイン領域45の上部に低不純物濃度のnチャンネル領域46が形成されている。nチャンネル領域46の上面には凹凸が形成されており、凸部頂点に高不純物濃度のn+ ソース領域43が形成されている。n+ ソース領域43の上部にはソース電極43cが形成されている。凹部の側面と底面にはアンドープのゲート領域44が形成されている。ゲート領域44の外側にゲート電極44cが形成されている。 この構成の半導体素子によると、ゲート電極44cに印加する電位の切換えによって、ソース領域43とドレイン領域45間の抵抗値を切換えることができる。
そこで本発明では薄い膜厚であってもなお充分な耐圧を得ることのできる半導体素子を実現したものである。
又、前記第1導電型の半導体層の主表面内で、前記ゲート領域を挟んで、前記ゲート領域の配列と対向する部位において、第1導電型のソース領域とドレイン領域が形成されている。
また、前記第1導電型の半導体層は、前記ゲート領域と接触した上下の薄膜状の第2導電型の半導体層間に挟み込まれた状態で絶縁材中に形成されている。
前記上下の薄膜状の第2導電型の半導体層のうち、下側の薄膜状の第2導電型の半導体層は、前記ソース領域と前記ドレイン領域に非接触であり、前記ゲート領域と前記ドレイン領域の不純物濃度は、前記薄膜状の第1導電型の半導体層の濃度より濃い。
この構成によると、ゲート領域とドレイン領域の面内における距離の調整によって耐圧特性を調整できることから、薄い膜厚でも必要な耐圧を確保できる。
また、第1導電型の薄膜が第2導電型の薄膜に挟み込まれた状態で絶縁材中に形成されていて、第2導電型の下側の層が前記ソース領域と前記ドレイン領域に非接触であり、前記ゲート領域と前記ドレイン領域の不純物濃度は、前記薄膜状の第1導電型の半導体層の濃度より濃い状態であるので、第1導電型の半導体層と絶縁材の界面にリーク電流が流れることが抑制されると共に、高耐圧化を図ることができる。
第1実施例(図1参照)
図1において(A) は(C) 図のA−A断面、(B) は (A)図のB−B矢視図を示している。図中10は支持基板であり、Siあるいはガラスが好適であるが金属であってもよい。図中11は絶縁膜であり、この実施例ではSiO2 で形成されている。支持基板10とその表面に形成された絶縁膜11で絶縁性の支持基板が形成されている。
この実施例は図2に示されている。なお平面図は図1(B)(C)と同一のため省略してある。
この実施例では、薄膜状の第1導電型半導体層22bが第2導電型半導体層22a,22cに挟み込まれた状態で絶縁膜21中に形成されている。その他の点は第1実施例と同等であり、同等の部材には下一桁が同じ参照数字を付してある。
このように、第1導電型半導体層22bが第2導電型半導体層22a,22cに挟み込まれていると、半導体層と絶縁材の界面を流れるソース・ドレイン間のリーク電流が低減される。
この実施例は、薄膜半導体素子として、静電誘導トランジスタとMOSトランジスタを直列に接続した構造を実現したものであり、図3に示されている。なお第1、第2実施例と共通部分には下一桁が同じ参照数字を用いることで説明を省略する。
図3(B) によく示されているように、この実施例の場合、ゲート領域34L,34Rとソース領域33間の第1導電型半導体層32の主表面S内の中間部位において第2導電型のMOSトランジスタ用チャンネル領域38が形成されている。
MOSトランジスタ用ゲート電極37にMOSトランジスタをオンさせる電位が加わると、MOSトランジスタはオンする。このときは静電誘導型トランジスタのソース領域36B1とゲート領域34L,34R間に電圧が加わらない。静電誘導トランジスタはノーマリオンの特性を有するため、全体としてオンする。すなわちMOSトランジスタ用ゲート電極37にオン電圧が加えられることで電極33cと電極35c間に電流が流れる。
なお以上の実施例では、第1導電型をN型とする例について説明したが、P型としてもよいことは当然のことである。また図3のMOSトランジスタをLDMOS(横型2重拡散MOS)としてもよい。さらに静電誘導トランジスタを接合形の電界効果トランジスタとしてもよい。
11,21,31:絶縁膜
12,22,32:第1導電型半導体層
13,23,33:ソース領域
14L,24L,34L,14R,24R,34R:ゲート領域
15,25,35:ドレイ領域
38:MOSトランジスタ用チャンネル領域
Claims (1)
- 薄膜状の第1導電型の半導体層を備え、第1導電型の半導体層の主表面内における中間部位において、少なくとも2箇所に第2導電型のゲート領域が形成されており、
前記第1導電型の半導体層の主表面内で前記ゲート領域を挟んで、前記ゲート領域の配列と対向する部位において、第1導電型のソース領域とドレイン領域が形成されており、
前記第1導電型の半導体層が、前記ゲート領域と接触した上下の薄膜状の第2導電型の半導体層間に挟み込まれた状態で絶縁材中に形成され、
前記下側の薄膜状の第2導電型の半導体層は、前記ソース領域と前記ドレイン領域に非接触で形成され、
前記ゲート領域と前記ドレイン領域の不純物濃度は、前記薄膜状の第1導電型の半導体層の濃度より濃いことを特徴とする薄膜半導体素子。
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