JP3923023B2 - パターン形成方法および該パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被処理基板上に所望のパターン寸法を有するレジストパターンを形成する方法に係わり、特に半導体デバイスの微細パターンを形成するのに好適なパターン形成方法および該パターンを用いた半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の高集積化に伴って、ますます微細なパターンが要求されている。このような微細化に対応するために、露光装置やマスク作成技術の進歩は著しいものがあり、例えば、光源の短波長化、レンズの高NA化等の露光装置の高性能化や位相シフト法や斜め入射露光のような超高解像技術等が挙げられる。
【0003】
そして、これらの技術をもってしても形成できないような微細なパターンを形成する方法の一つに、レジストパターンに対して加熱処理を行うことによりレジストパターンを変形させて、より微細なパターンを得る方法が知られている。
【0004】
即ち、図10(a)に示すような被処理基板101上に形成された開口幅Waを有するレジストパターン102に対して加熱処理を行い、レジストパターン102を流動(リフロー)させて横方向に広げることにより、図10(b)に示すような微細なレジスト開口幅Wbを得ている。
【0005】
しかしながら、このレジストパターン形成方法においては、装置の稼動中にプロセス条件などが変動した場合、所望のパターン寸法を得ることができず、例えば加熱処理が不十分な場合には、図10(c)に示すような大きな開口幅Wcを有するレジストパターン102が、また、加熱処理が過分な場合には、図10(d)に示すようなパターンのつぶれたレジストパターン102がそれぞれ形成されることになる。
【0006】
この問題を解決するために、レジストの変形量を計測して所望の値になったところで加熱処理を終了するようにフィードバックを行うパターン形成方法が知られている(例えば、特許文献1および特許文献2参照。)。
【0007】
この特許文献1に開示されたパターン形成方法について、図11を用いて説明する。図11に示すように、被処理基板101にレジストパターン102と共にモニタパターン103を形成しておき、このモニタパターン103の膜厚もしくは光学定数を分光エリプソメータ104により検出する。
【0008】
次に、加熱処理によりレジスト102が流動し始めるとその膜厚もしくは光学定数の変化量から間接的にレジスト変形量を測定し、この変形量が所望のレジスト変形量に達した時点で加熱処理を終了する方法である。
【0009】
同じく、特許文献2に開示されたパターン形成方法においては、モニタパターンにレーザ光を照射して得られる回折光に対応する検出信号の振幅の変化から間接的にレジストの変形量を測定し、この変形量が所望のレジスト変形量に達した時点で加熱処理を終了している。
【0010】
しかしながら、上記特許文献1または特許文献2に開示された方法では、モニタパターンの近傍においては、所望のレジストパターン寸法が得られるが、それ以外においては、所望のレジストパターン寸法が得られず、被処理基板の面内分布のばらつきには対応できない問題がある。
【0011】
何故ならば、通常のリソグラフィー工程である、レジスト塗布、露光、ベークおよび現像処理の各工程においてプロセスの変動要因があるため、既に、加熱処理する前にレジストパターンの寸法ばらつきが被処理基板面内および被処理基板間に存在するためである。
【0012】
この寸法ばらつきは、特許文献1または特許文献2に開示されたフィードバクする方法では、改善されないものである。
【0013】
さらに、加熱処理装置の温度分布ムラによりレジストの変形量が必ずしも被処理基板面内で安定していなことから、最終的に所望のパターン寸法が得られず、少なからず不良が発生する。結果として、パターン寸法不良となった被処理基板を救済するために、リソグラフィー工程におけるリワーク率が高くなるという問題がある。
【0014】
また、加熱処理中にリアルタイムでレジストパターンの変形量を間接に測定するために、レーザを用いた精密な測定器やフィードバックするためのコントローラなどを備えた大掛かりで複雑な装置が必要となる問題がある。
【0015】
【特許文献1】
特開2002−64047号公報(3頁、図1)
【0016】
【特許文献2】
特開2000−91203号公報(3頁、図1)
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
上述した、特許文献1および特許文献2に開示されたレジストパターンの形成方法では、加熱処理前のレジストパターン寸法の被処理基板面内や被処理基板間のばらつき、および加熱処理装置の温度分布ムラによるレジスト変形量のばらつき対しては、これらの変動要因を抑えて所望寸法のレジストパターンを得ることはできず、被処理基板の面内分布のばらつきには対応できない問題がある。
【0018】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、被処理基板面内または被処理基板間で最終的に所望のパターン寸法が得られるパターン形成方法および電気的特性の安定した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のパターン形成方法では、被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン内に配置されたモニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法の平均値を求めるモニタパターン測定工程と、前記平均値と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御して前記レジストパターンを変形させるレジストパターン変形工程とを有することを特徴としている。
【0020】
本発明によれば、被処理基板間でレジストパターン寸法のばらつきの少ない所望のパターンを得ることができる。
【0021】
また、本発明の別の目的を達成するために、本発明のパターン形成方法では、被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン内に配置されたモニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法分布を求めるモニタパターン測定工程と、前記被処理基板の面内分布と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御して前記レジストパターンを変形させるレジストパターン変形工程とを有することを特徴としている。
【0022】
本発明によれば、被処理基板面内でレジストパターン寸法のばらつきの少ない所望のパターンを得ることができる。
【0023】
また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置の製造方法では、被処理基板上に形成されたレジストパターンを加熱処理して所望のパターン寸法のレジストパターンを得た後、このレジストパターンを用いて前記被処理基板を加工して半導体デバイスを形成する半導体装置の製造方法であって、この所望のパターン寸法のレジストパターン寸法を形成工程は、前記被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成する第1工程と、前記レジストパターン内に配置された前記モニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法の平均値を求める第2工程と、前記平均値と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御して前記レジストパターンを変形させる第3工程とを有することを特徴としている。
【0024】
更にまた、上記目的を達成するために、本発明の別の半導体装置の製造方法では、被処理基板上に形成されたレジストパターンを加熱処理して所望のパターン寸法のレジストパターンを得た後、このレジストパターンを用いて前記被処理基板を加工して半導体デバイスを形成する半導体装置の製造方法であって、この所望のパターン寸法のレジストパターン寸法を形成工程は、前記被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成する第1工程と、前記レジストパターン内に配置された前記モニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法分布を求める第2工程と、前記被処理基板の面内分布と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御して前記レジストパターンを変形させる第3工程とを有することを特徴としている。
【0025】
本発明の半導体装置によれば、電気的特性の安定した半導体装置が得られる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のパターン形成方法の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【0027】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明による第1の実施の形態に係わるパターン形成方法のフローチャートを示す図である。
【0028】
図に示すように、まず、上面に被加工膜となる膜厚1μmのシリコン酸化膜が形成された被処理基板、例えばシリコン基板(以下、単に基板という)を20枚用意する(第1ステップS01)。
【0029】
次に、このシリコン酸化膜の上に有機高分子からなる反射防止膜を、例えば、膜厚が60nmとなるように回転塗布した後、190℃で60秒のベーク処理をおこなう(第2ステップS02)。
【0030】
続いて、この反射防止膜の上にKrFポジ型化学増幅レジスト膜を、例えば、膜厚が480nmになるように回転塗布した後、110℃で60秒のベーク処理をおこなう(第3ステップS03)。
【0031】
次に、このレジスト膜をKrFエキシマレーザー露光装置にて、例えば、NA=0.68、σ=0.75、2/3輪帯照明、透過率6%のハーフトーンマスクの条件で露光量を17mJ/cm2として露光し(第4ステップS04)、露光後ベークを130℃で60秒おこなう(第5ステップS05)。
【0032】
次に、現像処理を、例えば、2.38wt%のテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)水溶液により30秒おこない、直径160nmのデバイス用のコンタクトホールパターンと測定用の各種モニタパターンからなるレジストパターンを形成する(第6ステップS06)。
【0033】
次に、SEM(Scanning Electron Microscopy)によりモニタパターン、例えば、コンタクトホールの開口寸法を、20枚全ての基板について、1枚あたり10点測定してその平均値を求める(第7ステップS07)。
【0034】
次に、この平均値がリソグラフィー工程のプロセスマージンから定めた基準値内、例えば160±5nmか否かが判定され(第8ステップS08)、その判定結果に基づいて加熱処理によるパターン変形後のコンタクトホールの開口寸法が所望の寸法、例えばなるべく120nmに近づくように基板ごとにベーク温度を設定する。
【0035】
図2は、加熱処理条件と得られるコンタクトホールの開口寸法との関係を示したもので、図2(a)は加熱温度とコンタクトホールの開口寸法の関係を示す図、図2(b)はベーク時間とコンタクトホールの開口寸法の関係を示す図である。
【0036】
更に、図2(a)において、図中の実線aは現像後のコンタクトホールの開口寸法が基準値、例えば160nmのときにおける、ベーク温度とコンタクトホールの開口寸法の関係を示す図、一点鎖線bは現像後のコンタクトホールの開口寸法が基準値より大きい、例えば170nmのときにおける、ベーク温度とコンタクトホールの開口寸法の関係を示す図、ニ点鎖線cは現像後のコンタクトホールの開口寸法が基準値より小さい、例えば150nmのときにおける、ベーク温度とコンタクトホールの開口寸法の関係を示す図である。
【0037】
図2から明らかなように、実験によれば、コンタクトホールの開口寸法はベーク温度が高いほど小さくなり、現像後のコンタクトホールの開口寸法に応じて、ほぼ平行にシフトした関係を示している。また、ベーク時間が長くなるほどコンタクトホールの開口寸法はほぼ一定になる傾向を示す。
【0038】
これにより、例えば、ベーク時間を一定として、ベーク温度とコンタクトホールの開口寸法の関係よりサーマルフローレート(検量線:単位温度あたりの寸法変化率)を求め、適切なベーク温度を設定することが出来る。実験によれば、サーマルフローレートとして−2.7nm/℃が得られた。
【0039】
従って、コンタクトホールの寸法が現像後の基準値内、例えば160±5nmの場合には、実線aで初期設定された標準の温度、例えば、162℃で加熱処理をおこなう(第9ステップS09)。
【0040】
一方、基準値内から外れた場合は、その大小が判定され(第10ステップS10)、基準値内より大きい、例えば170nmの場合は、一点鎖線bに示す相関に基づいて標準の温度より高い温度、例えば165℃で加熱処理を行い(第11ステップS11)、これとは反対に基準値内より小さい、例えば150nmの場合は、ニ点鎖線cに示す相関に基づいて標準の温度より低い温度、例えば159℃で加熱処理を行う(第12ステップS12)。これにより、レジストの変形量を基板ごとに調節することが可能である。
【0041】
このベーク温度の変更は、予め異なる温度に設定された複数のホットプレートを用意しておき、その中から適合する温度に設定されたホットプレートを適時選択することにより容易行うことができる。
【0042】
その後、SEMを用いて出来上がりのパターン寸法を検査し(第13ステップS13)、良品を次の工程へ払い出す(第14ステップS14)。
【0043】
図3は、全ての基板について加熱処理後のコンタクトホールパターン寸法を測定した結果を、従来方法と比較して示したもので、図中の実線aが本実施の形態による場合、破線bが従来の方法による場合である。図3から明らかなように、実験によれば、平均寸法の基板間のばらつきは従来方法に比べて1/3に低減している。
【0044】
以上説明したように、第1の実施の形態によるパターン形成方法では、レジストパターン変形工程において、基板1枚毎に、現像後のレジストパターン寸法のばらつきを相殺するようにフィードフォワード方式でベーク温度を調節してレジストの変形量を制御している。
【0045】
従って、レジストパターンの寸法精度が向上し、基板間でレジストパターン寸法のばらつきの少ない所望のパターンを得ることができる。
【0046】
更に、加熱処理中にリアルタイムでレジストパターンの変形量を測定してフィードバックするような大掛かりで複雑な装置が不要である。
【0047】
なお、本実施の形態では、基板1枚毎にパターン変形工程のベーク温度を変える場合について説明したが、複数枚の基板を単位とするロット毎におこなっても構わない。
【0048】
またベーク処理条件として、温度以外のパラメータ、例えばベーク時間やベーク雰囲気(大気中、窒素パージ等)を変えるようにしても良く、さらに、モニタパターンの測定とパターン変形の加熱処理を複数回繰り返しておこなっても構わない。
【0049】
(第2の実施の形態)
図4は、本発明による第2の実施の形態に係わるパターン形成方法のフローチャートを示す図である。
【0050】
本実施の形態において、上記第1の実施の形態と同一のステップには、同一符号を付して、その説明を省略する。
【0051】
図4に示すように、第2の実施の形態が第1の実施の形態と異なる点は、現像後のモニタパターン寸法の基板面内分布を求め、その面内分布を相殺するような温度分布を有するホットプレートを用いて加熱処理することにある。
【0052】
即ち、複数のヒータを内蔵したホットプレートを用いてホットプレートの面内温度分布をモニタパターン寸法の基板面内分布を相殺するように制御することにより基板面内のレジストパターン寸法の均一性を改善することができる。
【0053】
まず、上述した第1の実施の形態と同様に、膜厚1μmのシリコン酸化膜が形成された基板を、例えば、20枚用意して、この上に反射防止膜およびKrFポジ型化学増幅レジスト膜をこの順に形成した後、パターン露光、露光後ベークおよび現像処理を行い、例えば、ピッチが130nmと一定で、最もライン幅が大きい中央のラインを挟んで線対象にライン幅が漸減していくラインアンドスペース(以下、L/Sという)パターンが配列されたモニタパターンを形成した。
【0054】
このモニタパターンはドーズメータと呼ばれるもので、モニタパターンに光を照射すると、モニタパターンが回折格子として作用し、0次の回折光および高次の回折光(主に、1次光)が発生する。
【0055】
次に、0次の回折光のみをスリットにより取り出してレジスト上に露光すると、モニタパターンのうち、中央のスペースを挟んで線対称に漸減していくある大きさのラインまでが解像された矩形状パターンが露光される。
【0056】
この矩形状パターンの幅は0次の回折光のみによる実効的露光量に比例することから、フォーカスに依存しない実効的露光量を求めることができる方法である。このパターン幅は数〜十μmになるため光学的に測定することが容易である。
【0057】
従って、予めこの実効的露光量と実際のレジストパターン寸法の関係を求めておけば、解像された矩形状パターンの幅を測定することにより、実際にレジスト上に解像されたレジストパターン寸法に換算することができる。
【0058】
そのため、SEMを用いてナノメータ(nm)サイズのレジストパターン寸法を直接測定しなくても、レジストパターン寸法の基板の面内分布を迅速に求めることができる。
【0059】
本実施の形態においては、20枚すべての基板について面内50点の実効露光量を測定して、パターン寸法の面内分布を求めた(第15ステップS15)。
【0060】
次に、基板の面内分布が基準値内か否かが判断され(第16ステップS16)、基準値内であれば標準の温度分布に設定されたホットプレートを用いて加熱処理をおこなう(第17ステップS17)。
【0061】
一方、ウェーハ面内分布が基準値外であれば、その基板の面内分布を打ち消すような温度分布に設定されたホットプレートを用いて加熱処理を行う(第18ステップS18)。
【0062】
図5は、この基板の面内分布を打ち消すような温度分布を有するホットプレートを示す図で、図5(a)はヒータの配列を示す平面図、図5(b)は、図5(a)のA−A線に沿って切断して矢印方向に眺めた断面図である。
【0063】
図に示すように、ホットプレート11には、複数のヒータ12、例えば、36個のヒータが内臓されている。各ヒータ12は、周囲を断熱材13でカバーされて電源14に接続されており、それぞれ個別にヒータ温度が設定できるようになっている。ヒータ12を覆う天板15に基板16が載置され、加熱処理が行われる。
【0064】
図6は、このホットプレート11を用いて、レジストを変形させる加熱処理工程を示す図で、図6(a)は現像後のモニタパターン寸法のウェーハ面内分布を示す図、図6(b)はホットプレート11の温度分布を示す図である。
【0065】
図に示すように、現像後のモニタパターン寸法に基準値内の領域17と基準値より大きい領域18および基準値より小さい領域19が存在して基板の面内分布がある場合、ホットプレート11の面内温度分布をモニタパターン寸法の基板面内分布を相殺するように設定している。
【0066】
即ち、モニタパターン寸法が基準値内の領域17に対応するヒータ20の温度を標準温度に、モニタパターン寸法が基準値内より大きい領域18に対応するヒータ21の温度を標準より高い温度に、モニタパターン寸法が基準値内より小さい領域19に対応するヒータ22の温度を標準より低い温度に、それぞれ設定する。
【0067】
この温度分布を有するホットプレート11に基板16を載置して加熱処理することにより、モニタパターン寸法の基板面内分布を打ち消して均一化することが可能である。
【0068】
また、この加熱温度分布の変更は、予め異なる温度分布に設定された複数のホットプレートの中から適合する温度分布に設定されたホットプレートを選択することによりおこなうこともできる。
【0069】
図7は、加熱処理後のモニタパターンの寸法を全ての基板について測定した結果を従来方法と比較して示したもので、図中の実線aが本実施の形態による場合、破線bが従来の方法による場合である。図7から明らかなように、実験によれば、基板面内のばらつきは従来方法に比べて2/3に低減している。
【0070】
また、加熱処理後のモニタパターンの寸法目標値はライン幅が160nm、スペース幅が100nm(L/S)に対して、実測されたパターン寸法の平均値はライン幅が158nm、スペース幅が102nm(L/S)と、ほぼ目標値通りであった。
【0071】
以上説明したように、第2の実施の形態に係わるパターン形成方法では、レジストパターン変形工程において、フィードフォワード方式で被処理基板1枚ごとに現像後のレジストパターン寸法の面内分布を相殺するようにホットプレート11の加熱温度の面内分布を調節してレジスト変形量の基板面内分布を制御しているので、レジストパターン寸法の基板面内のばらつきが改善される。
【0072】
従って、レジストパターンの寸法精度が向上し、基板面内でレジストパターン寸法のばらつきの少ない所望のパターンを得ることができる。
【0073】
更に、加熱処理中にリアルタイムでレジストパターンの変形量を測定してフィードバックするような大掛かりで複雑な装置が不要である。
【0074】
(第2の実施の形態の変形例1)
図8は、本発明の第2の実施の形態の変形例1を示すホットプレートの平面図である。本変形例が上記第2の実施の形態と異なる点は、ヒータをリング状または円弧状、あるいはそれらを組み合わせた形状としたことにある。
【0075】
即ち、本変形例のホットプレート11では、図8(a)に示すように、円形状のホットプレート11に同軸状に径方向に4分割されるとともに周方向に8分割された計32個の円弧状ヒータ31が配置されている。
【0076】
各円弧状ヒータ31は、周囲を断熱材(図示せず)でカバーされて電源(図示せず)に接続されており、それぞれ個別にヒータ温度が設定できるようになっている。ヒータ31を覆う天板(図示せず)に基板(図示せず)が載置され、加熱処理が行われる。
【0077】
また、図8(b)では、同軸状に3本のリング状ヒータ32と最外周に周方向に4分割された円弧状ヒータ31を配置し、図8(c)では、同軸状に4本のリング状ヒータ32を配置している。各円弧状ヒータ31およびリング状ヒータ32は、周囲を断熱材(図示せず)でカバーされて電源(図示せず)に接続されており、それぞれ個別にヒータ温度が設定できるようになっている。
【0078】
このように、ヒータをリング状または円弧状およびそれらを組み合わせた形状としたことで温度分布の調整が容易になり、特にレジストパターン寸法の基板の面内分布が同心的な場合に有効である。
【0079】
以上説明したように、上述の変形例2では、レジストパターン変形工程において、フィードフォワード方式で被処理基板1枚ごとに現像後のレジストパターン寸法の基板面内分布を相殺するように、ホットプレートの加熱温度の面内分布を調節してレジスト変形量を制御しているのでレジストパターン寸法の基板面内のばらつきが改善される。
【0080】
本変形例では、ヒータがリング状または円弧状である場合について説明したが、これに限定されるものではなく、棒状のヒータからなる多角形状または多角形状の一部であっても構わない。
【0081】
(第2の実施の形態の変形例2)
本発明の第2の実施の形態の変形例2では、露光後ベーク工程においては、ベーク温度が高いほど現像後のレジストパターンの開口寸法は大きく仕上がり、反対にレジスト変形工程においては、加熱処理温度が高いほどレジストパターンの開口寸法は小さく仕上がるという相反する温度依存性を利用して、ウェーハ面内分布を打ち消すような温度分布を有するホットプレートとして、露光後ベーク工程で使用した図5または図8に示すホットプレートをレジストパターン変形工程の加熱処理に用いる。
【0082】
即ち、同一ホットプレートを、温度の設定値のみを変更して露光後ベーク工程とレジストパターン変形工程のホットプレートとして使用することにより、ホットプレートの面内温度分布の影響を相殺することが可能である。
【0083】
以上説明したように、上述の変形例2では、露光後ベークとレジスト変形の加熱処理とがレジストパターン寸法に対して逆の温度特性を有することを利用して同一のホットプレートを用いて互いの変動を自動的に打ち消すようにしている。
【0084】
従って、レジストパターン寸法の基板面内均一性が向上するとともに、使用するホットプレートの数を減らすことができる。
【0085】
また、且つ温度分布の細かな調整作業が軽減されるため製造工程が簡便になる利点がある。
【0086】
上述の第2の実施の形態では、複数のヒータを有するホットプレートの面内温度分布を調節することにより、レジストパターン変形後の基板面内均一性を向上させるようにしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、ホットプレートの面内温度分布の異なる複数のホットプレートを組み合わせて加熱処理を行うようにして構わない。
【0087】
更に、上述の第1および第2の実施の形態では、基板上に形成されたシリコン酸化膜の層間絶縁膜上にレジストパターンを形成する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、種々変更して適用することができる。
【0088】
(第3の実施の形態)
次に、本発明の第3の実施の形態に係わるパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
【0089】
図9は第3の実施の形態に係わるパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法のフローチャートを示す図である。
【0090】
まず、図1に示した第1ステップから第6ステップに従って、基板上にレジスト膜を形成した後、このレジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりレジストパターンを形成する(第1工程)(第31ステップS31)。
【0091】
次に、図1に示した第7ステップに従って、このレジストパターン内に配置された所定のモニタパターンの寸法を測定して、基板面内の平均値を求める(第2工程)(第32ステップS32)。
【0092】
次に、図1に示した第8ステップから第14ステップに従って、基板面内の平均値と所定の基準値とを比較して、レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御してレジストパターンを変形させる(第3工程)(第33ステップS33)。
【0093】
次に、得られたレジストパターンを用いて被加工膜をエッチングして所望の寸法のパターンを形成する工程を含む次の各種のデバイスの製造工程を実施する(第34ステップS34)。
【0094】
このステップにおいては、更に、各種のデバイス製造の前工程がおこなわれ、例えば、絶縁ゲート型電界効果トランジスタの製造においては、ゲート、ソース、ドレイン領域及び電極形成に必要な成膜、露光、エッチング、イオン注入などがおこなわれる。
【0095】
また、上述の第31ステップから第33ステップのレジストパターン形成工程を繰り返えす工程を含んでも構わない。
【0096】
最後に、デバイス製造の後工程として半導体チップが形成された基板をダイシングして半導体チップに分割し、リードフレームにマウント・ボンディングして、樹脂でモールドすることにより半導体装置が完成する。
【0097】
以上説明したように、第1の実施の形態によるパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法によれば、基板間でレジストパターン寸法のばらつきに起因した電気的特性のばらつきの少なく、電気的特性の安定した半導体装置が得られる。
【0098】
また、上記第2の実施の形態に係わるパターン形成方法を用いて半導体装置を製造してもよい。この場合には、基板面内でレジストパターン寸法のばらつきに起因した電気的特性のばらつきの少なく、電気的特性の安定した半導体装置が得られる。
【0099】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のパターン形成方法によれば、基板の面内または基板間で最終的に所望のパターン寸法が得られる。
【0100】
従って、このパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法によれば、安定した電気的特性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態に係わるパターン形成方法を示すフローチャート。
【図2】 本発明の第1の実施の形態に係わる加熱処理条件とレジストパターン寸法の関係を示す図で、図2(a)は加熱温度とレジストパターン寸法の関係を示す図、図2(b)は加熱時間とレジストパターン寸法の関係を示す図。
【図3】 本発明の第1の実施の形態に係わるレジストパターン寸法の基板間の分布を示す図。
【図4】 本発明の第2の実施の形態に係わるパターン形成方法を示すフローチャート。
【図5】 本発明の第2の実施の形態に係わるホットプレートを示す図で、図5(a)はそのヒータ配列を示す平面図、図5(b)は図5(a)のA−A線に沿って切断し矢印方向から眺めた断面図。
【図6】 本発明の第2の実施の形態に係わるホットプレートによりレジストを変形させる加熱処理工程を示す図で、図6(a)は現像後のモニタパターン寸法の基板面内の分布を示す図、図6(b)はホットプレートの温度分布を示す図である。
【図7】 本発明の第2の実施の形態に係わるレジストパターン寸法の基板面内の分布を示す図。
【図8】 本発明の第2の実施の形態の変形例1に係わるホットプレートを示す図で、図8(a)は円弧状のヒータ配列を示す平面図、図8(b)は円弧状とリング状のヒータ配列を示す平面図、図8(c)はリング状のヒータ配列を示す平面図。
【図9】 本発明の第3の実施の形態に係わるパターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法のフローチャートを示す図。
【図10】 従来のレジストパターン形成方法を示す概略断面図。
【図11】 従来のレジストの変形量を測定して加熱処理時間にフィードバックを行うパターン形成方法を示す概略断面図。
【符号の説明】
11 ホットプレート
12 ヒータ
13 断熱材
14 電源
15 天板
16 基板
17 基準値内の領域
18 基準値より大きい領域
19 基準値より小さい領域
20 標準温度のヒータ
21 標準温度より高い温度のヒータ
22 標準温度より低い温度のヒータ
31 円弧状ヒータ
32 リング状ヒータ
Claims (14)
- 被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン内に配置された前記モニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法の平均値を求めるモニタパターン測定工程と、前記平均値と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御して前記レジストパターンを変形させるレジストパターン変形工程と、
を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン内に配置された前記モニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法分布を求めるモニタパターン測定工程と、
前記基板面内の分布と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御して前記レジストパターンを変形させるレジストパターン変形工程と、
を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 前記レジストパターン変形工程における加熱処理が、ベーク温度、ベーク時間、ベーク雰囲気の少なくともいずれか一つをパラメータとして行なわれることを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記レジストパターン変形工程における加熱処理条件を、各被処理基板毎、もしくは複数枚を一つの単位とするロット毎に制御することを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記レジストパターン変形工程において、レジストパターンを変形させる度合いを前記被処理基板の面内で変えることを特徴とする請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記レジストパターン変形工程における加熱処理が、複数個のヒータを有する単一のホットプレートを用いて行なわれることを特徴とする請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記レジストパターン変形工程における加熱処理が、ホットプレートの面内温度分布が異なる複数のホットプレートを用いて行なわれることを特徴とする請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記レジストパターン変形工程における加熱処理が、前記レジストパターン形成工程の露光後ベークで使用されたホットプレートを用いてなされることを特徴とする請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記モニタパターンの寸法測定が、SEMを用いたパターン測長により行なわれることを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記モニタパターンの寸法測定が、光学的なパターン測長もしくは膜厚測定により行なわれることを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記モニタパターンの寸法測定結果が、あらかじめ設定された範囲内であるものに対してのみ前記レジストパターン変形工程を行い、範囲外となったものについてはレジストを剥離して再びレジストパターン形成工程からやり直すことを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン形成方法。
- 前記モニタパターン測定工程および前記レジストパターン変形工程を複数回繰り返して行うことを特徴とする請求項1または請求項2記載のパターン形成方法。
- 被処理基板上に形成されたレジストパターンを加熱処理して所望のパターン寸法のレジストパターンを得た後、このレジストパターンを用いて前記被処理基板を加工して半導体デバイスを形成する半導体装置の製造方法であって、この所望のパターン寸法のレジストパターンを形成する工程は、
前記被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成する第1工程と、
前記レジストパターン内に配置されたモニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法の平均値を求める第2工程と、
前記平均値と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御してレジストパターンを変形させる第3工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 被処理基板上に形成されたレジストパターンを加熱処理して所望のパターン寸法のレジストパターンを得た後、このレジストパターンを用いて前記被処理基板を加工して半導体デバイスを形成する半導体装置の製造方法であって、このレジストパターンを用いて前記被処理基板を加工して半導体デバイスを形成する工程は、
前記被処理基板上にレジスト膜を形成し、前記レジスト膜にパターンを露光してベークおよび現像処理を行うことによりモニタパターンを含むレジストパターンを形成する第1工程と、
前記レジストパターン内に配置されたモニタパターンの寸法を測定して、前記被処理基板面内のパターン寸法分布を求める第2工程と、
前記面内分布と所定の基準値とを比較して、前記レジストパターンが所望の寸法になるように加熱処理条件を制御してレジストパターンを変形させる第3工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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