JP3898175B2 - しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 - Google Patents
しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3898175B2 JP3898175B2 JP2003343549A JP2003343549A JP3898175B2 JP 3898175 B2 JP3898175 B2 JP 3898175B2 JP 2003343549 A JP2003343549 A JP 2003343549A JP 2003343549 A JP2003343549 A JP 2003343549A JP 3898175 B2 JP3898175 B2 JP 3898175B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- skin
- propionate
- epidermis
- ethyl
- gene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
M. Naganuma et al., Journal of Dermatological Science 25(2001) 29-35
好適な態様において、上記皮膚しみ形成はUVB照射を原因とするものである。
さらに好適な態様において、上記表皮中のMCP2の発現の亢進は、表皮中のMCP2の量を測定することにより決定される。
さらに好適な態様において、上記測定はMCP2に特異的な抗体を利用するELISA法又はRIA法による。
さらに好適な態様において、上記表皮中のMCP2の発現の亢進は、表皮から抽出されたMCP2をコードするmRNAの量を測定することにより決定される。
さらに好適な態様において、上記mRNAの測定はポリメラーゼ連鎖反応法により行う。
好適な態様において、この方法はさらに、上記阻害能力を有するMCP2インヒビターをしみ形成モデル動物に適用し、皮膚しみ形成抑制及び/又は皮膚しみ除去効果を有するインヒビターを選定することを含んで成る。
好適な態様において、上記皮膚しみ形成はUVB照射を原因とする。
さらに好適な態様において、上記表皮中の前記ポリヌクレオチドの発現の亢進は、表皮から抽出された前記当該ポリヌクレオチドに相補性のmRNAの量を測定することにより決定される。
さらに好適な態様において、上記mRNAの測定はポリメラーゼ連鎖反応法により行う。
好適な態様において、この方法は更に、上記阻害能力を有する前記インヒビターをしみ形成モデル動物に適用し、皮膚しみ形成抑制及び/又は皮膚しみ除去効果を有するインヒビターを選定することを含んで成る。
しみモデルマウスはM. Naganuma et al.,前掲に記載の通りにして作製することができる。簡単には、例えば7週齢前後のマウスに紫外光源(Toshiba FL-SE; UVB)の下で約8週にわたり週約3回、99mJ/cm2程度の強度で紫外線照射する(UV照射期)。かかるUV照射期の間、皮膚の均一な色素沈着(皮膚の褐色化)が認められるようになる。この色素沈着はUV照射を止めてから2週間程度でほぼ完全に消失する(脱色期)。その後、直径約2mm以下の小さい、薄茶色の色素斑(いわゆる老人性色素斑様の「しみ」)が出現しはじめる(色素斑出現及び形成期)。
本発明は、皮膚、好ましくはヒト皮膚しみ形成を予知するための皮膚検査方法を提供する。この方法は、表皮中のMCP−2遺伝子もしくはヒトFLJ21763遺伝子、又はヒトFLJ21763遺伝子、マウスAK012157遺伝子もしくはラットS74257遺伝子に対し高ストリンジェント条件下でハイブリダイゼーション可能なポリヌクレオチドの発現が正常な表皮中の発現に比べて亢進している場合、しみ形成のし易い皮膚であると判断することを特徴とする。その評価基準として、例えば表皮中のMCP−2遺伝子もしくはヒトFLJ21763遺伝子、又はヒトFLJ21763遺伝子、マウスAK012157遺伝子もしくはラットS74257遺伝子に対し高ストリンジェント条件下でハイブリダイゼーション可能なポリヌクレオチドの発現がコントロール表皮中のそれらと比べ10%以上、又は20%以上、又は30%以上、又は50%以上、又は70%以上、又は100%以上亢進していたなら「しみ形成のし易い皮膚である」と判断する、としてよい。検査すべき皮膚は、例えば顔、首、腕、肢など、しみができやすく、またしみ形成の気になるあらゆる部分の表皮であってよい。しみ形成のしない正常表皮、即ちコントロール表皮としては、例えば同一個体の例えば紫外線に曝されにくく、比較的しみのできにくい部位の表皮、例えば腹部、臀部の表皮であってよい。
N−{1−(S)−〔4−(3,4−ジクロロベンジル)ピペラジン−1−イルメチル〕−2−メチルプロピル}−4−メチルベンズアミド二塩酸塩;
N−{1−(S)−〔4−(3,4−ジクロロベンジル)ピペラジン−1−イルメチル〕−2,2−ジメチルプロピル}−4−メチルベンズアミド二塩酸塩;
N−{1−(S)−〔4−(3,4−ジクロロベンジル)ピペリジン−1−イルメチル〕−2−メチルプロピル}−4−メチルベンズアミド二塩酸塩;
N−{1−(R)−〔4−(3,4−ジクロロベンジル)ピペリジン−1−イルメチル〕−2−メチルプロピル}−4−(2−アミノエチル)ベンズアミド二塩酸塩;
N−{1−(R)−〔4−(3,4−ジクロロベンジル)ピペリジン−1−イルメチル〕−2−メチルプロピル}−5−メチルチオフェン−2−カルボキサミド塩酸塩;
1−{1−(R)−〔4−(3,4−ジクロロベンジル)ピペラジン−1−イルメチル〕−2−メチルプロピル}−3−(3−メトキシフェニル)尿素;
1−{1−(R)−〔4−(3,4−ジクロロベンジル)ピペリジン−1−イルメチル〕−2−メチルプロピル}−3−(3−メトキシフェニル)尿素;
(S)-エチル-2-(4-メチルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(5-ジメチルアミノナフタレン-1-スルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシ-フェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(キノリン-8-スルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-ブロモベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-クロロベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-メトキシベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-メタンスルホニルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-[2-(E)-スチリルスルホニルアミノ]-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(3-トリフルオロメチルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,5-ジクロロチオフェン-3-スルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2-ブロモベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-[5-(2-ピリジル)チオフェン-2-スルホニルアミノ]-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-ビフェニルスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2-ニトロ-4-メトキシベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ)-3-[4-(2,5-ジクロロベンゼンスルホニルオキシ)フェニル]プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,4-ジフルオロベンゼンスルホニルアミノ)-3-[4-(2,4-ジフルオロベンゼンスルホニルオキシフェニル)]プロピオネート;
(S)-エチル-2-(5-ジメチルアミノナフタレン-1-スルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(チオフェン-2-スルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,4,6-トリメチルベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-ブロモベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-クロロベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-メトキシベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-[2-(E)-スチリルスルホニルアミノ]-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,5-ジクロロチオフェン-3-スルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2-ブロモベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-[5-(2-ピリジル)チオフェン-2-スルホニルアミノ]-3-(4-ヒドロキシフェニル) プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2-ニトロ-4-メトキシベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ)-3-[4-(2,5-ジクロロベンゼンスルホニルオキシ)フェニル]プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,5-ジクロロチオフェン-3-スルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2-ブロモベンゼンスルホニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2,5-ジクロロベンゼンスルホニルアミノ)-3-[4-(2,5-ジクロロベンゼンスルホニルオキシ)フェニル]プロピオネート
(S)-エチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-イソプロピル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-メチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-ベンジル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-クロロフェニル)プロピオネート;
(S,S)-エチル-2-(2-ベンジルオキシカルボニルアミノ-3-フェニルプロピオニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S,S)-エチル-2-(N-アセチルピロリジン-2-ベンゾイルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-シクロヘキサニルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(3,3-ジフェニルプロピオニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(3-フェニルプロピオニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-[2-(2-ナフチル)アセチルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-フェニルブチリルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ペンタニルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ペンタニルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(4-ベンゾイルベンゾイルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2-フラニル)アミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(5-ヒドロキシインドニル)アミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ピコリニルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(3-ニトロ-4-クロロベンゾイルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(3-ヒドロキシ-4-ニトロベンゾイルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(8-キノリニルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオ ネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-フェニルプロピオネート;
(S)-メチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-ベンジル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-メトキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-tert-ブチルオキシカルボニルアミノ-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-tert-ブチルオキシカルボニルアミノ-3-(4-アミノフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(3,5-ジヨード-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-カルボキシベンゾイルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル) プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(1-ナフチル)プロピオネート;
(±)-エチル-2-ベンゾリルアミノ-3-[3-(ベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオネート;
(±)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(3-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-アミノフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(2-フェニルアセチルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(3-インドイル)プロピオネート;
(±)-エチル-2-(ベンゾイルアミノ)-2-フェニルアセタート;
(±)-エチル-2-(ベンゾイルアミノ)-4-フェニルブチラート;
(S)-エチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-シクロヘキサニルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-ベンジル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-メトキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(1-ナフチル) プロピオネート;
(±)-エチル-2-ベンゾリルアミノ-3-[3-(ベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオネート;
(±)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(3-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(R,S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(2-ヒドロキシルフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(±)-エチル-2-(ベンゾイルアミノ)-4-フェニルブチラート;
(S)-エチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-(1-ナフトイルアミノ)-3-(4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート;
(S)-エチル-2-ベンゾイルアミノ-3-(4-ニトロフェニル)プロピオネートが挙げられる。
また、CCR−5レセプターのアンタゴニストには、例えば特表2002−543186公報に記載のものが挙げられる。
本発明はさらに、皮膚しみ形成抑制因子及び/又は皮膚しみ除去因子をスクリーニングする方法も提供する。この方法は、候補化合物を表皮中のMCP−2の発現及び/もしくは活性を抑える、又はヒトFLJ21763遺伝子、マウスAK012157遺伝子もしくはラットS74257遺伝子に対し高ストリンジェント条件下でハイブリダイゼーション可能なポリヌクレオチドの発現を抑える能力について評価し、当該阻害能力を有するインヒビターを皮膚しみ形成抑制因子及び/又は皮膚しみ除去因子として選定することを特徴とする。
好適な態様において、上記スクリーニング方法は更に、上記阻害能力を有するインヒビターをしみモデル動物に適用し、皮膚しみ形成抑制及び/又は皮膚しみ除去効果を有するインヒビターを選定することを含んで成る。
しみモデルマウスはM. Naganuma et al.,前掲に記載の通りにして作製した。簡単には、7週齢のマウスに紫外光源(Toshiba FL-SE; UVB)の下で8週にわたり週3回、99mJ/cm2の強度で紫外線照射した(UV照射期)。週齢15〜23週(UV照射期が終了して約8週まで)の間に脱色期を迎え、週齢23〜35週(UV照射期が終了して約18〜30週後)の間に色素斑出現期を迎え、週齢35〜52週(UV照射期が終了して約30〜47週後)の間に色素斑形成期を迎えた。
マウス背部の皮膚全層を採取、脂肪層を取り除き、加熱により表皮を剥離し、表皮をISOGEN(日本ジーン社、メーカー推奨プロトコル)によりRNAを抽出、RNeasy(Qiagen社)により精製した。真皮の方は、1センチ角に切断して液体窒素で凍結し破砕後、ISOGEN(日本ジーン社、メーカー推奨プロトコル)によりRNAを抽出、RNeasy(Qiagen社)により精製した。RNAはTBEアガロースゲルで泳動し、SYBR green(Moleculer probes社)で染色して品質、精製度を確認した。
マイクロアレイ解析はアフィメトリックス社ジーンチップを用いた。
アフィメトリックス社用サンプル調製
アフィメトリックス社推奨プロトコルに準じて反応を行った。RNA 10μgをoligo-dT プライマー(24mer) 、100pmol(Sigma社)と共に70℃で10分間反応させた。その後、5x第一鎖反応バッファー4μl, 0.1M DTT 2μl, 10mM dNTP ミックス 1μl, Superscript II 2μl(すべてInvitrogen社)を加えて、42℃で1時間反応させた。この反応物に、Rnase非含有水91μl, 5x第二鎖反応バッファー30μl,10mM dNTP ミックス3μl,10U/μl E.coli DNA リガーゼ1μl,10U/μl E.coli DNAポリメラーゼI4μl, 2U/μl Rnase H 1μl (すべてInvitrogen社)を加え、16℃で2時間反応させた。さらに、2μl(10U/μl)のT4 DNA ポリメラーゼ(Invitrogen社)を加え、16℃で5分間反応後、10μlの0.5M EDTAを加えて反応を止めた。Phase Lock Gels (Qiagen社)を用いクリーンアップを行い、Rnase 非含有水12μlに溶出した。得られたcDNAからin vitro 転写反応によりビオチン付加cRNAを作製し(Enzo, Farmingdale)、RNeasy(Qiagen社)により精製した。cRNAをフラグメンテーションバッファー中で94℃にて35分間分断した後、ジーンチップハイブリダイゼーションに用いた。チップ洗浄後、アフィメトリックス社スキャナーによりデータ読み取りを行った。
約9,000種の遺伝子の発現を網羅的に解析した結果、しみモデルマウスの表皮において、コントロールマウスの表皮と比べ、AK012157遺伝子及びMCP−2遺伝子の発現が顕著に亢進されていることが見出された。興味深いことに、これら遺伝子の発現の亢進はUV照射期にとどまらず、UV照射を終えることでUV照射による表皮の褐色が脱色し始める脱色期、更にはその後しみが出現し始め、しみが形成される色素斑形成期においても常に認められた。しみモデルマウスの表皮においてこれらの遺伝子の発現がしみができる前の脱色期においても亢進していることから、これら遺伝子を指標とすれば、しみが形成される前の脱色期においても将来しみが形成されることを予知できることなる。以下の表にその結果を示す。
皮膚から採取したRNA各(シミ部位、非シミ部位の表皮又は真皮)1μgをオリゴ-dTプライマー(24mer) 100pmol(Sigma)と共に70℃で10 分(総容量20μl)反応させた。その後、5x第一鎖反応バッファー 4μl, 0.1M DTT 2μl, 2.5mM dNTP ミックス4μl, SuperscriptII 1μl(すべてinvitrogen)を加えて、42℃で1時間反応させた。最後に70℃で10分反応させて伸長させ、cDNAテンプレートを調製した。rTaq用10×バッファー 5μl, 25mM MgCl2 3μl, 2.0mM dNTP ミックス5μl, rTaq 0.5μl(すべてTOYOBO社), ddH2O 33.5μl, cDNAテンプレート各1μl、プライマー(下記配列参照)、センス及びアンチセンス各20mM 1μl(総容量50μl)をすべて加え、PCR反応〔94℃ 2分、(94℃ 30秒、55℃ 30秒、72℃ 1分)を30サイクル、72℃ 10分〕を行った。
センス TTCTTTGCCTGCTGCTCATA (配列番号4)
アンチセンス GACAAGGATGAGAAAACACG (配列番号5)
AK012157 プライマー配列
センス ACTCCGGCTCCTTCACTATG (配列番号6)
アンチセンス CTTTGGAATGAGGACTTGGA (配列番号7)
マウス皮膚組織を10%中性ホルマリンで固定、パラフィン包埋後、常法にしたがって組織切片スライドを作成した。これをベンタナ社HXシステム自動スライド処理機を使用してin situ ハイブリダイゼーション反応を行った(プロトコール:Japan open blue 8.0)。前処理として組織切片をブロッキング、プロテアーゼ処理後、AK012157配列からT7ポリメラーゼを用いて作成したDigラベルリボプローブ500ngと、68℃にて6時間ハイブリダイゼーションさせた。その後洗浄してAnti-Dig-アルカリフォスファターゼを反応させ洗浄後、基質NBT/BCIPを用いて呈色させて封入、光学顕微鏡で観察した。
その結果を図4に示す。図4から明らかなとおり、AK012157遺伝子は表皮のしみ部位において顕著に発現し、表皮の非しみ部位ではほとんど発現していないことが認められた。
マウス皮膚組織を中性ホルマリン固定、パラフィン包埋後、常法に従って組織切片を作成した。これを1%H2O2で15分処理後、30分ブロッキングし、1/50希釈の抗マウスMCP2抗体(R&D Systems)を1昼夜反応させた。これをチラミド増感法(TSAシステム、パーキンエルマー社)キットによって検出を行った。洗浄後、HRPつき二次抗体を反応させ洗浄、FITCラベルチラミドを反応させて洗浄、包埋し、蛍光顕微鏡で観察を行った。
Claims (8)
- 皮膚しみ形成を予知するための皮膚検査方法であって、表皮中のMCP2(Monocyte Chemoattracting Protein 2:単球化学誘引タンパク質-2)の発現が正常な表皮中の発現に比べて亢進している場合、しみ形成し易い皮膚であると判断することを特徴とする方法。
- 前記皮膚しみ形成がUVB照射を原因とする、請求項1記載の方法。
- 前記表皮中のMCP2の発現の亢進が、表皮中のMCP2の量を測定することにより決定される、請求項1又は2記載の方法。
- 前記測定がMCP2に特異的な抗体を利用するELISA法又はRIA法による、請求項3記載の方法。
- 前記表皮中のMCP2の発現の亢進が、表皮から抽出されたMCP2をコードするmRNAの量を測定することにより決定される、請求項1〜4のいずれか1項記載の方法。
- 前記mRNAの測定をポリメラーゼ連鎖反応法により行う、請求項5記載の方法。
- 皮膚しみ形成抑制因子及び/又は皮膚しみ除去因子をスクリーニングする方法であって、候補化合物をMCP2の発現及び/又は活性を阻害する能力について評価し、当該阻害能力を有するMCP2インヒビターを皮膚しみ形成抑制因子及び/又は皮膚しみ除去因子として選定することを特徴とする方法。
- 更に、前記阻害能力を有するMCP2インヒビターをしみ形成モデル動物に適用し、皮膚しみ形成抑制及び/又は皮膚しみ除去効果を有するインヒビターを選定することを含んで成る、請求項7記載の方法。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003343549A JP3898175B2 (ja) | 2003-10-01 | 2003-10-01 | しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 |
PCT/JP2004/014799 WO2005033710A1 (ja) | 2003-10-01 | 2004-09-30 | しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 |
US10/574,469 US20070249915A1 (en) | 2003-10-01 | 2004-09-30 | Inhibitors |
CNB2004800278844A CN100562748C (zh) | 2003-10-01 | 2004-09-30 | 以斑点部位亢进基因群为指标而预知皮肤斑点形成的方法、筛选皮肤斑点形成抑制物的方法 |
KR1020067008348A KR101122415B1 (ko) | 2003-10-01 | 2004-09-30 | 반점 부위 항진 유전자군을 지표로 한 피부 반점 형성 예지방법, 피부 반점 형성 억제제의 스크리닝 방법 |
DE602004020378T DE602004020378D1 (de) | 2003-10-01 | 2004-09-30 | Verfahren zur vorhersage der pickelbildung auf der haut unter verwendung von pickelstellen beschleunigenden genen zur anzeige sowie screening-verfahren für einen inhibitor gegen pickelbildung auf der haut |
EP04773660A EP1691199B1 (en) | 2003-10-01 | 2004-09-30 | Method of predicting spot formation on the skin with the use of spot site-accelerating genes as indication and method of screening inhibitor for spot formation on the skin |
TW093129918A TWI332511B (en) | 2003-10-01 | 2004-10-01 | Methods for predicting skin stain formation and for screening agent capable of inhibiting skin stain formation by means of promoted genes in stained regions as an indicator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003343549A JP3898175B2 (ja) | 2003-10-01 | 2003-10-01 | しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005106745A JP2005106745A (ja) | 2005-04-21 |
JP3898175B2 true JP3898175B2 (ja) | 2007-03-28 |
Family
ID=34537482
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003343549A Expired - Fee Related JP3898175B2 (ja) | 2003-10-01 | 2003-10-01 | しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3898175B2 (ja) |
CN (1) | CN100562748C (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101362951B1 (ko) * | 2007-04-26 | 2014-02-28 | 동국대학교 산학협력단 | 기미 형성 예지방법 및 기미 형성 예지용 진단 키트 |
WO2009113446A1 (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-17 | 株式会社資生堂 | 皮膚美白方法、並びに、皮膚シミ形成抑制及び/又は除去因子のスクリーニング方法 |
JP5398054B2 (ja) * | 2008-08-20 | 2014-01-29 | 株式会社 資生堂 | 「シミ」の蓋然性の評価方法 |
JP5398056B2 (ja) * | 2008-08-20 | 2014-01-29 | 株式会社 資生堂 | 「くすみ」及び「シミ」の識別方法 |
JP5398055B2 (ja) * | 2008-08-20 | 2014-01-29 | 株式会社 資生堂 | 「くすみ」および「シミ」の識別方法 |
JP5858601B2 (ja) * | 2010-08-24 | 2016-02-10 | 花王株式会社 | シミ関連遺伝子 |
JP5559406B2 (ja) * | 2013-09-11 | 2014-07-23 | 株式会社 資生堂 | シミを有する蓋然性を評価する方法 |
KR101362184B1 (ko) | 2013-11-25 | 2014-02-24 | 동국대학교 산학협력단 | 기미 형성 예지방법 및 기미 형성 예지용 진단 키트 |
KR101384486B1 (ko) | 2013-11-25 | 2014-04-10 | 동국대학교 산학협력단 | 기미 형성 예지방법 및 기미 형성 예지용 진단 키트 |
JP6447971B2 (ja) * | 2015-03-06 | 2019-01-09 | ポーラ化成工業株式会社 | シミ発生リスクの鑑別法 |
JP6824689B2 (ja) * | 2016-10-27 | 2021-02-03 | 株式会社ナリス化粧品 | 真皮シミ予防・改善剤及び/又はマクロファージ誘引剤のスクリーニング方法 |
-
2003
- 2003-10-01 JP JP2003343549A patent/JP3898175B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-09-30 CN CNB2004800278844A patent/CN100562748C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005106745A (ja) | 2005-04-21 |
CN100562748C (zh) | 2009-11-25 |
CN1856709A (zh) | 2006-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3898175B2 (ja) | しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 | |
JP5801406B2 (ja) | メラニン形成に関与しているアドレナリン受容体遺伝子発現を調節するスクリーニング方法 | |
US8142761B2 (en) | Method of predicting spot formation on the skin using spot site-accelerating genes as an indicator thereof and method of screening inhibitors of spot formation on the skin | |
Guinea-Viniegra et al. | Differentiation-induced skin cancer suppression by FOS, p53, and TACE/ADAM17 | |
JP6584494B2 (ja) | メラニン産生細胞のhmgb1活性化を阻害する方法、そのような阻害に好適な薬剤を特定する方法 | |
JP2005110505A (ja) | しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法 | |
JP2007126472A (ja) | イチョウ抽出物の使用 | |
EP1691199B1 (en) | Method of predicting spot formation on the skin with the use of spot site-accelerating genes as indication and method of screening inhibitor for spot formation on the skin | |
Shimizu et al. | Microarray and quantitative RT-PCR analyses in calcium-channel blockers induced gingival overgrowth tissues of periodontitis patients | |
JP2018530995A (ja) | Pgd2による毛髪成長阻害に対する感受性の検出のためのヒトdp−2遺伝子の一塩基多型アレル | |
JP2012531185A (ja) | Aff‐4を指標とした抗白髪剤のスクリーニング方法 | |
US7078434B1 (en) | Use of Ginkgo extract | |
JP2018027920A (ja) | 色素幹細胞の分化抑制剤、白髪予防剤、及び白髪評価方法 | |
JP5275613B2 (ja) | 皮膚のシミ形成を予測する皮膚検査方法 | |
Kausar et al. | COMPARISON OF ORAL ITRACONAZOLE VERSUS TOPICAL CLOTRIMAZOLE IN TREATMENT OF PITYRIASIS VERSICOLOR: Treatment of Pityriasis Versicolor | |
JP2006262841A (ja) | ケミカルピーリング剤の評価方法 | |
JP2005304491A (ja) | 成長期毛包中で発現亢進する遺伝子群を指標とした皮膚の発毛・脱毛状態の予知方法、並びに育毛剤及び/又は除毛剤のスクリーニング方法 | |
FR2937337A1 (fr) | Signature genique representative de l'effet de la dhea sur la peau. | |
JP2005053789A (ja) | マトリックスメタロプロテアーゼ−12インヒビターを皮膚老化抑制因子として含有する医薬又は皮膚外用組成物 | |
KR20180033719A (ko) | 기미 또는 검버섯 구별용 마커로서의 호메오박스a9의 용도 | |
Furukawa et al. | Analysis of cellular senescence in gingival tissues and gingival fibroblast cultures | |
JP2006223144A (ja) | プロスタグランジンfシンターゼ及び/又はカルボニルリダクターゼ−1を指標とした育毛剤のスクリーニング方法 | |
JP6514980B2 (ja) | 痒み予防又は改善剤 | |
Chua | Regulation of gene expression by the androgen receptor and hedgehog pathways in breast cancer cells | |
US20160068910A1 (en) | Genetic Assay for Skin Pigmentation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060926 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061220 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100105 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110105 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120105 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130105 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |