JP3889047B2

JP3889047B2 - タキソールおよびその誘導体の製造方法

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Publication number: JP3889047B2
Application number: JP50354397A
Authority: JP
Inventors: ジエンナーリ，チエサレ; モンジエーリ，ニコラ; バノツテイ，エルメス; ブルペツテイ，アンナ
Original assignee: フアルマシア・エ・アツプジヨン・エツセ・ピー・アー
Priority date: 1995-06-20
Filing date: 1996-06-04
Publication date: 2007-03-07
Anticipated expiration: 2016-06-04
Also published as: NO970766L; ATE208381T1; DE69616719T2; KR970705552A; CA2197467A1; EP0776322B1; HUP9702399A3; ES2168489T3; JPH10505360A; US5767282A; MX9701274A; WO1997000870A1; IL120165A0; CA2197467C; CN1179955C; IL120165A; DE69616719D1; CN1158126A; AU712898B2; EP1116718A2

Description

本発明は、タキソール（Taxol）の製造方法、この方法に関与するオキサゾリジンもしくはオキサゾリン、およびこの種のオキサゾリジンもしくはオキサゾリンの製造方法に関する。
樹皮または数種のイチイ属植物から分離されるタキソールは最も有望な癌化学療法剤と考えられ、最近では卵巣の転移癌の治療で承認されている。タキソールは異常に強力な抗白血病および腫瘍抑制の各性質を有する［Angew. Chem. Int. Ed. Engl.（１９９４）、第３３巻、第１５〜４４頁］。その稀少性および高度の攻撃性構造はその合成における関心を高めている。タキソールに関する全ての合成手法の中心はバッカチン（baccatin）ＩＩＩ核へのＣ−１３側鎖の結合であり、その理由はこの側鎖の存在がタキソールの生物学的活性に必須であることが判明しているからである。

タキソールの化学的複雑性は全合成によるその商業的生産が経済的でないと思われることを示唆するが、一方、天然の１０−デアセチルバッカチンＩＩＩはＴ．ｂａｃｃａｔａから比較的高収率で容易に入手しうる。適切に保護されたＮ−ベンゾイル−（２Ｒ，３Ｓ）−３−フェニルイソセリンと適切に保護された１０−デアセチルバッカチンＩＩＩとの縮合を含む半合成法により経済的に多量のタキソールを製造することは、この重要な天然物の代案供給源および半合成類族体への道筋を提供する。

したがってフェニルイソセリン誘導体のための短い実用的な合成経路、並びに工業規模の生産に使用しうるようなバッカチンＩＩＩ核へのＣ−１３側鎖の結合方法の開発が極めて重要になっている。
エナンチオマーに富むＮ−ベンゾイル−（２Ｒ，３Ｓ）−３−フェニルイソセリンの合成に関する多くの論文は、キラルプールから出発する半合成に関する研究［ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９１）、第５６巻、第６９３９頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９４）、第３５巻、第２８４５頁；シンセシス（１９９５）、第１８１頁］、酵素的および／または微生物的方法［テトラヘドロン（１９９０）、第４６巻、第３８４１頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９３）、第５８巻、第１０６８頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９３）、第５８巻、第１２８７頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９４）、第３５巻、第９２８９頁；テトラヘドロン；アシンメトリー（１９９３）、第４巻、第２０６９頁；バイオテクノロジカル・アプライド・バイオケミストリー（１９９４）、第２０巻、第２３〜３３頁］、共有結合したキラル補助物質との或いはキラル基質とのジアステレオ選択的反応［ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９１）、第５６巻、第１６８１頁；ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（１９８８）、第１１０巻、第５９１７頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９１）、第３２巻、第３１５１頁；ジャーナル・ケミカル・ソサエティ、パーキン・トランス１（１９９３）、第１３７５頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９２）、第３３巻、第５１８５頁；テトラヘドロン：アシンメトリー（１９９２）、第３巻、第１００７頁；テトラヘドロン（１９９２）、第４８巻、第６９８５頁；シンレット（Synlett）（１９９２）、第７６１頁；ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（１９９３）、第１１５巻、第１１５１頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９４）、第５９巻、第１２３８頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９３）、第５８巻、第５８８９頁；ＰＣＴ出願公開第ＷＯ９３／１７，９９７号；テトラヘドロン（１９９４）、第５０巻、第２７８５頁；テトラヘドロン（１９９３）、第４９巻、第８３２３頁；ジャーナル・メジカル・ケミストリー（１９９２）、第３５巻、第４２３０頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９３）、第３４巻、第６０４９頁；バイオオーガニック・メジカル・ケミストリー・レターズ（１９９３）、第３巻、第２４６７頁；バイオオーガニック・メジカル・ケミストリー・レターズ（１９９３）、第３巻、第２４７５頁；バイオオーガニック・メジカル・ケミストリー・レターズ（１９９４）、第４巻、第１３８１頁；ＰＣＴ出願公開第ＷＯ９４／０７，８４７号；米国特許第５，２９４，７３７号；ジャーナル・ケミカル・ソサエティ、パーキン・トランス（１９９４）、第２３８５頁］、不斉触媒反応［ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９８６）、第５１巻、第４６頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９０）、第５５巻、第１９５７頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９２）、第５７巻、第４３２０頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９４）、第５９巻、第１５１０４頁；テトラヘドロン（１９９２）、第４８巻、第１０５１５頁；ジャーナル・ケミカル・ソサエティ、ケミカル・コミューニケーション（１９９４）、第２１巻；テトラヘドロン（１９９４）、第５０巻、第４３２３頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９５）、第３６巻、第２０６３頁］；並びにラセミ酸の化学的分割［ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９３）、第５８巻、第２５５頁；テトラヘドロン：アシンメトリー（１９９４）、第５巻、第１６８３頁］を含む。
他方、バッカチン誘導体の遊離Ｃ−１３ＯＨ基に「側鎖」を結合させる反応は極く僅かしか開発されていない。このエステル化反応は、Ｃ−１３ＯＨ基周囲の関連する立体障害により妨害されると考えられる。この問題を解決するために、主として僅かに２つの一般的方法が開発されているにすぎない。すなわち、その第１の方法はＤＣＣ Rhone-Poulenc／Ｇｉｆ法［ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（１９８８）、第１１０巻、第５９１７頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９２）、第３３巻、第５１８５頁；欧州特許第３３６８４０号（１９８９）］に基づくものであり、第２の方法はβ−ラクタムHolton-Ojima法［欧州特許出願第４００９７１号（１９９０）；米国特許第５，０１５，７４４号（１９９１）；ケミカル・アブストラクト（１９９０）、第１１４巻、１６４５６８ｑ；米国特許第５，１３６，０６０号（１９９２）；米国特許第５，１７５，３１５号（１９９２）；ＰＣＴ出願公開第ＷＯ９３／０６０７９号（１９９３）；米国特許第５，２２９，５２６号（１９９３）；米国特許第５，２８３，２５３号（１９９４）；メジカル・ケミストリー・レターズ（１９９２）、第２巻、第２９５頁；ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（１９９５）、第１１７巻、第６２４頁；ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（１９９４）、第１１６巻、第１５９７頁；ジャーナル・メジカル・ケミストリー（１９９４）、第３７巻、第１４０８頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９４）、第５９巻、第５１５頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９３）、第３４巻、第４１４９頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９４）、第３５巻、第１６６５頁；ネイチャー（１９９４）、第３６７巻、第６３０頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９４）、第３５巻、第５５４３頁；ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９４）、第５９巻、第６１５６頁；ジャーナル・メジカル・ケミストリー（１９９４）、第３７巻、第３３３７頁；ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（１９９５）、第１１７巻、第２４０９頁］に基づく。
強制的条件下（過剰のＤＣＣ、ＤＭＡＰ、トルエン中７５℃）、（２Ｒ，３Ｓ）−Ｎ−ベンゾイル−Ｏ−（１−エトキシエチル）−３−フェニルイソセリンと適切に保護されたバッカチンＩＩＩとのカップリング反応は対応のエステルをもたらした。残念ながら、上記条件下でのアシル化は２′−エピマー化化合物をも生ぜしめた。炭素２′におけるエピマー化を防止するための他のエステル化法も開発されている。特に、環式誘導体（オキサゾリジン）の使用は一層温和な条件を可能にすると共にエピマー化を生ぜしめない［テトラヘドロン・レターズ（１９９２）、第３３巻、第５１８５頁］。
Rhone-Poulenc Rorer法

Holton-Ojima法

［ＴＲＯＣ＝２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル；ＴＥＳ＝トリエチルシリル；ＥＥ＝１−エトキシエチル］
最近、２′位における正しくない立体化学［２′（Ｓ）］を有する基材でさえ、オキサゾリジン／ＤＣＣ法を用いて適正な立体化学［２′（Ｒ）］を有するエステル化化合物に変換しうることが示された［テトラヘドロン・レターズ（１９９４）、第３５巻、第１０５頁；ＰＣＴ出願公開第ＷＯ９４／１０，１６９号］。

同様の経路に従ってオキサゾリン酸中間体が合成され、エピマー化を伴わないＤＣＣカップリング反応に使用されている［テトラヘドロン・レターズ（１９９４）、第３５巻、第４４８３頁］。

本発明は、式（Ｉ）：

［式中、Ｒ₁はアリールもしくはヘテロアリール基であり；
Ｒ₂は水素、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルもしくはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルであり；Ｒ₃は水素もしくはアセチルである］
の化合物を製造する方法を提供し、この方法は、
式（ＩＩ）：

［式中、Ｒ₁は上記の意味を有し、記号

は単結合もしくは二重結合を示し、Ｒ₇はＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、アリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルであり、Ｒ₄およびＲ₅の各々は独立して水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールであり；Ｒ₆はＣ₁〜Ｃ₆アルキル、アリールもしくはヘテロアリールであり、ただし記号

が二重結合であればＲ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］
の化合物を、式（ＩＩＩ）：

［式中、Ｒ₈およびＲ₉の各々は独立してヒドロキシ保護基である］
の化合物と、縮合剤の存在下に反応させて、式（ＩＶ）：

［式中、Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₇、Ｒ₈およびＲ₉、並びに記号

は上記の意味を有し、ただし

が二重結合であればＲ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］
の化合物を得；
式（ＩＶ）の化合物を上記式（Ｉ）の化合物を生成させるような条件下で脱保護し、必要に応じ式（Ｉ）の化合物を式（Ｉ）の他の化合物に変換する、
ことを包含する。
本発明の利点は次の通りである。
（１）チオエステル求核置換により側鎖とバッカチン核との間で高カップリングが生ずる。
（２）タキソール側鎖の合成が、単純なチオエステル誘導体から出発して極めて簡潔である（２〜４工程）。立体化学制御性が極めて高い。ａｎｔｉ／ｓｙｎ比（ジアステレオ選択性）とエナンチオマー過剰（エナンチオ選択性）との両者が優秀である。可能な４種のうち所望の立体異性体が殆ど専らアルドール縮合反応の際に得られる。
（３）側鎖の合成が有能であり、種々異なるイミンおよび種々異なるＮ−アシル基を合成順序の変化なしに使用することができる。
本明細書の式において、点線

はα配置の置換基、すなわちシート平面の下方の置換基を示し、楔線

はβ配置の置換基、すなわちシート平面より上方の置換基を示す。
本明細書においてアルキル基およびアルコキシ基は直鎖もしくは分枝鎖とすることができる。
アリール基は、たとえばフェニル、またはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシ、ハロゲンもしくはニトロで置換されたフェニル、好ましくはフェニルである。
ヘテロアリール基はたとえばフリル、チエニルもしくはピリジル、好ましくはフリルである。
Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルはたとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、好ましくはｔ−ブトキシカルボニルである。
アリールカルボニルはたとえばベンゾイル、ｐ−メチルベンゾイル、ｐ−クロルベンゾイル、ｐ−トリフルオロメチルベンゾイル、好ましくはベンゾイルである。
ヘテロアリールカルボニルはたとえばフリルカルボニル、チエニルカルボニル、ピリジルカルボニル、好ましくはフリルカルボニルである。
Ｃ₁〜Ｃ₆アルキルは好ましくはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、好ましくはメチル、エチル、ｔ−ブチルである。
ヒドロキシ保護基は好ましくは２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル（ＴＲＯＣ）、アセチル（Ａｃ）、トリメチルシリル、ジメチルフェニルシリル、イソプロピルジメチルシリル、トリエチルシリル（ＴＥＳ）、特に好ましくはトリエチルシリル、２，２，２−トリクロルエトキシカルボニルもしくはアセチルである。
Ｒ₁は好ましくはフェニル、２−フリル、４−ピリジル、４−メトキシフェニル、特に好ましくフェニルであり；
Ｒ₂は好ましくは水素、ベンゾイル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｐ−クロルフェニルカルボニル、ｐ−メチルフェニルカルボニル、特に好ましくはベンゾイル、ｔ−ブトキシカルボニルであり；
Ｒ₃は好ましくは水素、アセチルであり；
Ｒ₄およびＲ₅は好ましくは水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、フェニル、または１個もしくはそれ以上のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基で置換されたフェニル基、特に好ましくはメチル、エチル、メトキシ、フェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニルもしくは４−メトキシフェニルである。
Ｒ₆は好ましくはＣ₁〜Ｃ₄アルキルまたはフェニルまたはピリジル、特に好ましくはｔ−ブチルもしくはフェニルである。
Ｒ₇は好ましくはエトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンゾイル、ｐ−クロルフェニルカルボニル、ｐ−メチルフェニルカルボニル、特に好ましくはベンゾイルもしくはｔ−ブトキシカルボニルである。
Ｒ₈は好ましくはアセチルもしくは２，２，２−トリクロルエトキシカルボニルである。
Ｒ₉は好ましくはフェニルジメチルシリル、トリエチルシリル、２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル、特に好ましくはトリエチルシリルおよび２，２，２−トリクロルエトキシカルボニルである。
縮合剤はたとえば式（Ｖ）：
ＭＮ［Ｓｉ（Ｒ）₃］₂ （Ｖ）
［式中、ＲはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり、ＭはＬｉ、ＮａもしくはＫである］の化合物、または例えばＮａＨ、ｎ−ＢｕＬｉ、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ＭＮＨ₂［ここでＭは上記の意味を有する］のような化合物とすることができる。
特に好ましい縮合剤はＬｉＮ［Ｓｉ（Ｍｅ）₃］₂、ＮａＮ［Ｓｉ（Ｍｅ）₃］₂もしくはＫＮ［Ｓｉ（Ｍｅ）₃］₂である。
式（Ｉ）の縮合剤の存在下における式（ＩＩ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物との反応は、非プロトン性有機溶剤中で−７８〜０℃の範囲の温度にて典型的には約５分間〜約１時間にわたり行うことができる。
好ましくは溶剤はたとえばテトラヒドロフラン、ジメトキシエタンまたはその混合液のような非プロトン性有機溶剤である。
反応は好適には、式（ＩＩ）の化合物および式（ＩＩＩ）の化合物の有機溶剤中の溶液に不活性雰囲気下で非プロトン性溶剤中の式（Ｖ）の縮合剤の溶液を添加して行われる。あるいは、縮合剤はチオフィリック金属塩、特にＣｕ、ＡｇもしくはＨｇ塩、たとえばトリフレート、トリフルオロアセテート、アセテート、メシレートなどとすることができる。チオフィリック金属塩は一般にたとえばジクロルメタン、ベンゼン、アセトニトリルのような有機溶剤中で必要に応じ緩衝剤（たとえばＮａＨＰＯ₄）の存在下に使用される。反応温度は約０℃〜溶剤の還流温度の範囲とすることができ、反応時間は１〜２４時間である。
式（ＩＶ）の化合物の脱保護は式（ＩＶ）の化合物における五員環の開裂、並びに保護基Ｒ₈およびＲ₉の除去を含む。五員環は典型的には保護基Ｒ₈およびＲ₉の除去前または除去中に開環される。Ｒ₈およびＲ₉がたとえばトリエチルシリル（ＴＥＳ）基のような酸不安定性保護基であれば、基Ｒ₈およびＲ₉を除去すべく使用するもの以外には、開環反応を行うための如何なる反応体も添加する必要がない。
記号

が単結合を示す場合は、開環反応の後に窒素原子に結合した基Ｃ（ＯＨ）Ｒ₄Ｒ₅の除去を行う。典型的には、この除去を行うのに何ら余分の反応体を添加する必要がない。式（ＩＶ）の化合物の脱保護は、式（ＩＶ）の化合物を、たとえば蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、塩酸などの有機酸もしくは無機酸で、たとえばエタノール／水のような適する溶剤中にて室温〜還流温度の範囲の温度で３０分間〜３時間にわたり処理して行うことができる。
２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル（ＴＲＯＣ）が保護基として存在する場合は、たとえばメタノール中の亜鉛および酢酸での室温〜１００℃の範囲の温度における３０分間〜３時間にわたる追加処理が必要とされる。
記号

が単結合である場合、好ましくは脱保護はたとえば塩酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸もしくはメタンスルホン酸のような酸の存在下に行うことができる。
Ｒ₇がたとえばｔ−ブトキシカルボニル（ＢＯＣ）のようなＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルであれば、たとえば塩酸もしくは蟻酸のような強酸の存在下にてＲ₂が水素である式（Ｉ）の化合物が得られるが、一方、メタンスルホン酸もしくはｐ−トルエンスルホン酸を用いるときには、Ｒ₂がＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル（たとえばｔ−ブトキシカルボニル）である式（Ｉ）の化合物が得られる。
記号

が二重結合である場合、好ましくは脱保護はたとえば塩酸のような強酸により好ましくは約１００℃の温度で行うことができる。式（Ｉ）の化合物から式（Ｉ）の他の化合物への変換は、たとえばＲ₂が水素であり、Ｒ₁、Ｒ₃が上記の意味を有する式（Ｉ）の化合物をアシル化して、Ｒ₂がアリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルもしくはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルである式（Ｉ）の化合物を得ることにより行われる。
アシル化は、アシル化剤として溶剤中のアロイルもしくはヘテロアロイルハライド、たとえば酢酸エチルおよび水をたとえばＮａＨＣＯ₃のような塩基またはたとえばジ−ｔ−ブチルジカーボネート［（ＢＯＣ）₂Ｏ］のようなＣ₁〜Ｃ₆ジアルキルジカーボネートの存在下に、たとえばＴＨＦのような溶剤中で、たとえばＮａＨＣＯ₃のような塩基の存在下にテトラヘドロン・レターズ、第３３巻、第５１８５〜８８頁（１９９２）に記載されたように行うことができる。
必要に応じアシル化前に、位置７におけるヒドロキシ基を適する保護基（たとえば２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル）で保護することができる。
この場合、アシル化の後に保護基をたとえば温メタノール中のＺｎ／ＡｃＯＨで適宜除去する。
さらに本発明は、式（ＩＩ）：

［式中、記号

は単結合もしくは二重結合を示し；
Ｒ₁はアリールもしくはヘテロアリールであり；
Ｒ₄およびＲ₅のそれぞれは独立して水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールであり；
Ｒ₆はＣ₁〜Ｃ₆アルキル、アリールもしくはヘテロアリールであり；
Ｒ₇はＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、アリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルであり；
ただし記号

が二重結合であればＲ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］
の化合物にも関する。
式（ＩＩ）の好適化合物は、記号

が単結合もしくは二重結合であり；
Ｒ₁がフェニルであり；
Ｒ₄およびＲ₅のそれぞれが独立して水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、フェニル、または１個もしくはそれ以上のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基で置換されたフェニル基であり；
Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニルもしくは２−ピリジルであり；
Ｒ₇がベンゾイルもしくはｔ−ブトキシカルボニルであり；
ただし記号

が二重結合であればＲ₄およびＲ₇が存在せず、Ｒ₅がフェニルまたは１個もしくはそれ以上のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基で置換されたフェニル基であるような化合物である。
式（ＩＩ）の特に好適な化合物は、
Ｒ₁がフェニルであり；
Ｒ₄およびＲ₅のそれぞれが独立して水素、メチル、エチル、メトキシ、フェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニルもしくは４−メトキシフェニルであり；
Ｒ₆がｔ−ブチルもしくはフェニルであり；
Ｒ₇がベンゾイルもしくはｔ−ブトキシカルボニルであり；
ただし記号

が二重結合であればＲ₄およびＲ₇が存在せず、Ｒ₅がフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニルもしくは４−メトキシフェニルであるような化合物である。
式（ＩＩ）の化合物は、
（ａ）式（ＶＩ）：

［式中、Ｒ₆は上記の意味を有し、Ｒ₁₀はアリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、トリアルキルシリルもしくは１−アルコキシアルキルである］
の化合物を式（ＶＩＩ）：
Ｌ₂ＢＸ（ＶＩＩ）
［式中、Ｌはキラル配位子であり、Ｘはハロゲン原子である］の硼素錯体と反応させ、次いで式（ＶＩＩＩ）：
Ｒ₁−ＣＨ＝Ｎ−Ｚ（ＶＩＩＩ）
［式中、Ｒ₁は上記の意味を有し、Ｚはトリアルキルシリル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルである］
の化合物と必要に応じ追加ルイス酸の存在下に反応させ、或いは、
（ｉ）Ｒ₁₀がアリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルであり、Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₆アルキルであれば、アリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルを酸素から窒素まで転移させ；または
（ｉｉ）Ｒ₇Ｙ［ここでＲ₇は上記の意味を有し、Ｙは−ＯＲ₁₀基を遊離ヒドロキシ基まで脱保護した後または脱保護する前の離脱基、たとえばハライド、アジドもしくはＯＲ₇である］と反応させて式（ＩＸ）：

［式中、Ｒ₁、Ｒ₆およびＲ₇は上記の意味を有する］
の化合物を得；
（ｂ）上記で得られた式（ＩＸ）の化合物を環化し；この環化を、
（ｂ′）式（ＩＸ）の化合物（主としてｓｙｎ配置）を式（Ｘ）、（ＸＩ）もしくは（ＸＩＩ）：

［式中、Ｒ₄およびＲ₅は（請求項７におけるような）上記の意味を有し、Ｒ₁₁はＣ₁〜Ｃ₃アルキル基である］
の化合物と反応させて式（ＩＩ）［式中、記号

は単結合であり、Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇は上記の意味を有する］の化合物を得るか、または、
（ｂ″）式（ＩＸ）の化合物（主としてａｎｔｉ配置）を脱水剤と反応させて式（ＩＩ）［式中、記号

は二重結合であり、Ｒ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］の化合物を得る、
ことによって行うことからなる方法によって製造することができる。
特に、工程（ａ）の変法（ｉｉ）はＲ₆およびＲ₁₀の意味に応じて種々異なる方法で行うことができる：
Ｒ₁₀がトリアルキルシリル（トリメチルシリルとは異なる）であり、Ｒ₆がアリールもしくはヘテロアリールであれば、Ｒ₇Ｙ（ここでＲ₇は上記の意味を有するが、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルとは異なり、Ｙはハライド、アジドもしくはＯＲ₇である）と反応させ、次いでヒドロキシ基を脱保護し、或いは、
Ｒ₁₀がトリアルキルシリル（トリメチルシリルとは異なる）であり、Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₆アルキルであれば、Ｒ₇Ｙ（ここでＲ₇は上記の意味を有し、Ｙはハライド、アジドもしくはＯＲ₇である）と反応させ、次いでヒドロキシ基を脱保護し、或いは、
Ｒ₁₀がトリメチルシリルもしくは１−アルコキシアルキルであり、Ｒ₆がアリールもしくはヘテロアリールであれば、Ｒ₁₀を加水分解条件下で除去し、次いでＲ₇Ｙ（ここでＲ₇およびＹは上記の意味を有するが、Ｒ₇はＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルとは異なる）と反応させ、或いは、
Ｒ₁₀がトリメチルシリルもしくは１−アルコキシアルキルであり、Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₆アルキルであれば、Ｒ₁₀を加水分解条件下で除去し、次いでＲ₇Ｙ（ここでＲ₇およびＹは上記の意味を有する）と反応させる。
トリアルキルシリルはたとえばトリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、トリイソプロピルシリル、好ましくはトリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリルとすることができる。
１−アルコキシアルキルはたとえば１−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエチル、テトラヒドロピラニル、１−（イソプロポキシ）−エチル、好ましくは１−エトキシエチルとすることができる。
Ｌは好ましくは

であって、それぞれ（＋）および（−）メントンから得られる。
ハロゲン原子は臭素もしくは塩素、好ましくは臭素である。
塩基性緩衝液はたとえば燐酸緩衝液のような８〜８．５の範囲のｐＨにおける緩衝液、、好ましくは燐酸緩衝液である。工程（ａ）による反応は、式（ＶＩ）のチオエステルをキラル硼素試薬（ＶＩＩ）とたとえばエチルエーテル、ジクロルメタンもしくはその混合液のような有機溶剤中でたとえばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど（好ましくはトリエチルアミン）の存在下に−７８〜０℃の範囲の温度にて典型的には５〜１０時間の範囲の時間にわたり反応させて硼素エノラート中間体を得ることにより行うことができる。次いで式（ＶＩＩＩ）のイミン誘導体を反応混合物に−７８℃〜室温の範囲の温度にて典型的には１０〜２４時間の範囲の時間にて添加する。
式（ＶＩＩＩ）の化合物においてＺがアリールカルボニルもしくはへテロアリールカルボニルである場合、最適収率を得るために、余分に添加されるルイス酸（たとえばＢＦ₃・Ｅｔ₂Ｏ、ＴｉＣｌ₄、Ｅｔ₂ＡｌＣｌなど、好ましくはＢＦ₃・Ｅｔ₂Ｏ、ＴｉＣｌ₄、Ｅｔ₂ＡｌＣｌ）の存在が必要である。
出発化合物（ＶＩ）においてＲ₁₀がアリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルであり、Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₆アルキルであれば、反応を燐酸緩衝液（ｐＨ６）で停止させ、次いで適する溶剤（たとえばジクロルメタン）で抽出する。有機相をたとえばメタノールのような有機溶剤中塩化水素水溶液で処理し、次いで濃縮乾固する。得られる生成物をたとえばエチルエーテルのような溶剤で充分洗浄し、次いで８〜８．５の範囲のｐＨにて緩衝メタノール−水で０〜２５℃の範囲の温度にて典型的には１０〜２０時間の範囲の時間にわたり反応させて、アリールカルボニル基もしくはヘテロアリールカルボニル基を酸素から窒素まで移動させる。
出発化合物（ＶＩ）におけるＲ₁₀がトリアルキルシリル（トリメチルシリルとは異なり）であり、Ｒ₆がアリールもしくはヘテロアリールであれば、反応生成物をＲ₇Ｙ（ここでＲ₇は上記の意味を有するが、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルとは異なる）と、たとえばピリジンのような有機溶剤中で、たとえば４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のような触媒の存在下に０℃〜室温の範囲の温度にて２０〜１００時間の範囲の時間にわたり反応させる。次いでヒドロキシ基の脱保護は、たとえばＨＦのような無機酸の存在下に、たとえばアセトニトリルのような水性有機溶剤中で−２０℃〜室温の範囲の温度にて行うことができる。
出発化合物（ＶＩ）におけるＲ₁₀がトリアルキルシリル（トリメチルシリルとは異なる）であり、Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₆アルキルであれば、反応生成物をＲ₇Ｙ（ここでＲ₇は上記の意味を有する）と、たとえばジクロルメタンのような有機溶剤中で、たとえば４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）のような触媒の存在下に０℃〜室温の範囲の温度にて２０〜１００時間にわたり反応させる。次いでヒドロキシ基の脱保護は、たとえばＨＦのような無機酸の存在下にたとえばアセトニトリルのような水性有機溶剤中で、或いはピリジニウム−ＨＦの存在下にたとえばＴＨＦのような有機溶剤中で−２０℃〜室温の範囲の温度にて行うことができる。
出発化合物（ＶＩ）におけるＲ₁₀が酸不安定性基（たとえばアルコキシアルキル、トリメチルシリルなど）である場合、たとえばＭｅＯＨのような溶剤中塩化水素水溶液での処理は上記Ｒ₁₀を除去する。その後のＲ₇Ｙ（ここでＲ₇は上記の意味を有するが、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルとは異なる）による処理、たとえばＲ₆がショッテン−バウマン反応条件にてアリールもしくはヘテロアリールである場合たとえばＮａＨＣＯ₃のような塩基による水とジクロルメタンのような有機溶剤との混液における０℃〜５０℃の範囲の温度での３０分間〜５時間の範囲の時間にわたる処理はＮ−アシル化生成物をもたらす。たとえば変法（ｉ）を含む反応工程（ａ）を、Ｒ₁₀がＰｈＣＯであり、Ｒ₆がｔ−ブチルである式（ＶＩ）の化合物とＬが（＋）メントンから誘導され、Ｘが臭素である式（ＶＩＩ）の硼素錯体およびＲ₁がフェニル（Ｐｈ）であり、Ｚがトリメチルシリル（−ＳｉＭｅ₃）である式（ＶＩＩＩ）の化合物との反応について反応式１に記す。
反応式１

グリコール酸チオエステルＰｈＣＯＯＣＨ₂ＣＯＳＢｕ^tはＣＨ₂Ｃｌ₂−Ｅｔ₂Ｏ中にてキラル硼素試薬Ｌ₂ＢＢｒによりトリエチルアミンの存在下中にエノール化し、ベンズアルデヒドから誘導されたイミン（ＰｈＣＨ＝ＮＳｉＭｅ₃）を−７８℃にて添加する。反応物を０℃まで加温し、次いでＨＣｌ−ＭｅＯＨ−Ｈ₂Ｏで反応停止させ、次いで蒸発乾固させる。得られた固体をエチルエーテルで数回洗浄し、次いでｐＨ８．０にて緩衝ＭｅＯＨ−Ｈ₂Ｏ中で反応させる（−ＣＯＰｈは酸素から窒素まで移動する）。所望の化合物（式ＩＸ：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ；Ｒ₆＝Ｂｕ^t）がクロマトグラフィーの必要なしに簡単な溶剤抽出によって実際に純粋で得られる。立体化学制御性は高い（ｓｙｎ：ａｎｔｉ≧９６：４；％ＥＥ≧９６）。たとえば変法（ｉｉ）を含む反応工程（ａ）を、Ｒ₁₀がｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）であり、Ｒ₆がフェニル（Ｐｈ）である式（ＶＩ）の化合物と、Ｌが（−）メントンから誘導され、Ｘが臭素である式（ＶＩＩ）の硼素錯体およびＲ₁がフェニル（Ｐｈ）であり、Ｚがトリメチルシリル（−ＳｉＭｅ₃）である式（ＶＩＩＩ）の化合物との反応について反応式２に記す。
反応式２

グリコール酸チオエステルＴＢＤＭＳＯＣＨ₂ＣＯＳＰｈはＣＨ₂Ｃｌ₂−Ｅｔ₂Ｏ中にてキラル硼素試薬Ｌ₂ＢＢｒによりトリエチルアミンの存在下にエノール化し、ベンズアルデヒドから誘導されたイミン（ＰｈＣＨ＝ＮＳｉＭｅ₃）を−７８℃にて添加する。反応物を０℃まで加温し、次いでｐＨ７の燐酸緩衝液で反応停止させ、溶剤で抽出する。有機残留物をＭｅＯＨ−Ｈ₂Ｏ（１：１ｖ：ｖ）中の０．２５ＮＨＣｌで処理し、次いで蒸発乾固させる。得られた固体をジクロルメタン中でＰｈＣＯＣｌとＥｔ₃Ｎと触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）とで処理して生成物を得、これをフラッシュクロマトグラフィーにより精製する。立体化学制御性は高い（ａｎｔｉ：ｓｙｎ≧９７：３；％ＥＥ≧９５）。得られた生成物をアセトニトリル中でＨＦ水溶液により処理して所望の生成物を得る（式ＩＸ：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ；Ｒ₆＝Ｐｈ）。
変法（ｉｉ）を含む反応工程（ａ）に関する例を、Ｒ₁₀がｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）であり、Ｒ₆がｔ−ブチルである式（ＶＩ）の化合物と、Ｌが（＋）メントンから誘導され、Ｘが臭素である式（ＶＩＩ）の硼素錯体およびＲ₁がフェニル（Ｐｈ）であり、Ｚがトリメチルシリル（−ＳｉＭｅ₃）である式（ＶＩＩＩ）の化合物との反応について反応式３に記す。
反応式３

グリコール酸チオエステルＴＢＤＭＳＯＣＨ₂ＣＯＳＢｕ^tはＣＨ₂Ｃｌ₂−Ｅｔ₂Ｏ中でキラル硼素試薬Ｌ₂ＢＢｒによりトリエチルアミンの存在下にエノール化し、ベンズアルデヒドから誘導されたイミン（ＰｈＣＨ＝ＮＳｉＭｅ₃）を−７８℃で添加する。反応物を０℃まで加温し、次いでｐＨ７の燐酸緩衝液で反応停止させ、溶剤で抽出する。有機残留物を過剰のジ−ｔ−ブチルジカーボネート［（ＢＯＣ）₂Ｏ］およびＤＭＡＰによりジクロルメタン中で処理して生成物（ｓｙｎ：ａｎｔｉ：≧７５：２５；％ＥＥ≧９６）を得、これをアセトニトリル中でＨＦ水溶液により或いはＴＨＦ中でＨＦ−ピリジンにより処理して所望の生成物を得る（式ＩＸ：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＢＯＣ；Ｒ₆＝^tＢｕ）。
たとえば変法（ｉｉ）を含む反応工程（ａ）を、Ｒ₁₀が１−エトキシエチル（ＥＥ）もしくはトリメチルシリル（ＴＭＳ）であり、Ｒ₆がフェニル（Ｐｈ）である式（ＶＩ）の化合物と、Ｌが（−）メントンから誘導され、Ｘが臭素である式（ＶＩＩ）の硼素錯体およびＲ₁がフェニル（Ｐｈ）であり、Ｚがトリメチルシリル（−ＳｉＭｅ₃）である式（ＶＩＩＩ）の化合物との反応について反応式４に記す。
反応式４

グリコール酸チオエステルＥＥＯＣＨ₂ＣＯＳＰｈはＣＨ₂Ｃｌ₂−Ｅｔ₂Ｏ中でキラル硼素試薬Ｌ₂ＢＢｒによりトリエチルアミンの存在下にエノール化し、ベンズアルデヒドから誘導されたイミン（ＰｈＣＨ＝ＮＳｉＭｅ₃）を−７８℃で添加する。反応物を０℃まで加温し、次いでｐＨ７の燐酸緩衝液で反応停止させ、次いで溶剤により抽出する。有機残留物を塩酸で処理し、次いでＮａＨＣＯ₃の存在下に水とジクロルメタンとの混液中で塩化ベンゾイルと反応させて所望の生成物を得る（式ＩＸ：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ；Ｒ₆＝Ｐｈ）（ａｎｔｉ：ｓｙｎ≧９９：１；％ＥＥ≧８５〜８８）。
式（ＩＸ）の化合物と式（Ｘ）もしくは（ＸＩ）もしくは（ＸＩＩ）の化合物との間の工程（ｂ′）による反応は、下記のようなｓｙｎ配置を主として有する式（ＩＸ）の化合物を用いて行われる：

この反応は式（Ｘ）、（ＸＩ）もしくは（ＸＩＩ）の化合物をたとえばトルエンのような有機溶剤中の式（ＩＸ）の化合物およびたとえばピリジニウムトシレートもしくはｐ−トルエンスルホン酸のような触媒の溶液に添加することにより０℃〜１００℃の範囲の温度にて典型的には３０分間〜２時間の範囲の時間にわたり行うことができる。この工程で少量の式（ＩＸ）の化合物のａｎｔｉ−立体異性体は環化せず、したがって簡単なクロマトグラフィー技術により容易に除去することができる。
たとえば２−メトキシプロペン（式ＸＩＩ：Ｒ₅＝ＣＨ₃；Ｒ₁₁＝ＣＨ₃）もしくは２，２−ジメトキシプロパン（式ＸＩ：Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₁＝ＣＨ₃）をトルエン中の式（ＩＸ）の化合物およびピリジニウムトシレートもしくはｐ−トルエンスルホン酸の溶液に室温〜８０℃の範囲の温度にて約１時間かけて添加する。
工程（ｂ″）による式（ＩＸ）の化合物の環化は、下記のようなａｎｔｉ−配置を主として有する式（ＩＸ）の化合物を用いて行われる：

この反応は、たとえば１，２−ジクロルメタンのような有機溶剤中の式（ＩＸ）の化合物の溶液にたとえば塩化チオニルのような脱水剤を添加して、室温〜溶剤の還流温度の範囲の温度にて１〜５時間の範囲の時間にわたり行うことができる。
この工程で少量の式（ＩＸ）の化合物のｓｙｎ立体異性体は環化せず、したがって簡単なクロマトグラフィーにより容易に除去することができる。式（ＶＩ）の化合物はＲ₆およびＲ₁₀の性質に応じ、一般に式（ＸＩＩＩ）：

［式中、Ｒ₁₀は水素、トリアルキルシリル、１−アルコキシアルキルである］
の化合物を式（ＸＩＶ）
Ｒ₆−ＳＨ（ＸＩＶ）
［式中、Ｒ₆は上記の意味を有する］
のチオールでエステル交換して得ることができる。
式（ＸＩＩＩ）の化合物においてＲ₁₀が水素原子である場合、または式（ＶＩ）の化合物においてエステル交換反応の際に水素原子となった場合は、ヒドロキシ基を便利な保護基、たとえばハロゲン化アリールカルボニル、ハロゲン化へテロアリールカルボニル、ハロゲン化トリアルキルシリルもしくはアルキルビニルエーテルと反応させる。
エステル交換反応は、たとえば塩化メチレンのような溶剤中でトリアルキルアルミニウム（たとえばトリメチルアルミニウム）の存在下に約０℃〜ほぼ室温の温度にて１０分間〜２４時間の範囲の時間にわたり行うことができる。
式（ＸＩＩＩ）の化合物は市販のグリコール酸メチルであるか、或いはグリコール酸メチルをたとえばハロゲン化トリアルキルシリル、ハロゲン化アロイル、ハロゲン化ヘテロアロイルのような化合物と塩基（たとえばトリエチルアミン）もしくはアルキルビニルエーテルの存在下およびたとえばＴＨＦのような溶剤におけるｐ−トルエンスルホン酸のような触媒の存在下に反応させて得ることができる。式（ＩＩＩ）の化合物は市販の１０−でアセチルバッカチンＩＩＩから文献［Ｃ．Ｒ．Ｓｃｉｅｎｃｅｓ、アカデミック・サイエンス・パリ、シリーズ２（１９８４）、第２４巻、第１０３９頁；テトラヘドロン（１９８６）、第４２巻、第４４５１頁；ジャーナル・メジカル・ケミストリー（１９９１）、第３４巻、第９９２頁；ＪＡＣＳ（１９８８）、第１１０巻、第５９１７頁］に報告された方法により得ることができる。
一般式（ＶＩＩ）の硼素錯体は文献［Ｊ．Ｏ．Ｃ．（１９９２）、第５７巻、第５１７３頁；Angew-Chem. Int. Ed. Engl．（１９９３）、第３２巻、第１６１８頁］に記載されたように作製することができる。
一般式（ＶＩＩＩ）のイミンは文献［Ｊ．Ｏ．Ｃ．（１９８３）、第４８巻、第２８９頁；シンセシス（１９８４）、第６２８頁；Ｊ．Ｏ．Ｃ．（１９９３）、第５３巻、第５８８９頁；Ｊ．Ｏ．Ｃ．（１９９４）、第５９巻、第１２３８頁］に記載されたように作製することができる。
式（Ｘ）、（ＸＩ）、（ＸＩＩ）、（ＸＩＩＩ）および（ＸＩＶ）の各化合物は市販されている。
実施例１
７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝二重結合；

ＴＨＦ（０．６ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩ

（２８．３ｍｇ、０．０３２ミリモル）およびフェニル（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−チオカルボキシレート（化合物ＩＩ：

＝二重結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₅＝Ｐｈ；Ｒ₆＝Ｐｈ）（３８．４ｍｇ、０．１０７ミリモル）の溶液を、ＴＨＦ−ヘキサン６２：３８中のリチウムヘキサメチルジシラジドの新たに調製された０．６Ｍ溶液（０．２３７ｍＬ、０．１４２ミリモル）で０℃にてアルゴン下に撹拌しながら処理した。０℃にて１５分間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（２ｍＬ）で反応停止させた。水相をエチルエーテル（３×３ｍＬ）で抽出し、有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル７：３）により精製して、純粋な標記化合物（３２．５ｍｇ、９０％）を得た。
［α］_D ²⁵＝−４０．５°（ｃ１．０、クロロホルム中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.21(3H,s,Me), 1.29(3H,s,Me), 1.87(3H,s,Me), 2.03(3H,s,Me), 2.07(3H,s,OCOMe), 1.95-2.2(1H,m,C6-H), 2.35(1H,ABX系A部,JAB=15.04,JAX=8.68Hz,C14-H), 2.36(1H,ABX系B部,JAB=15.04,JBX=9.14Hz,C14-H), 2.68(1H,ddd,J=7.24,9.48,14.5Hz,C6-H), 3.95(1H,d,J=7.00Hz,C3-H), 4.17(1H,d,J=8.61Hz,C20-H), 4.33(1H,d,J=8.61Hz,C20-H), 4.62(1H,d,J=11.85Hz,C-H[troc]), 4.74(1H,d,J=12.0Hz,C-H[troc′]), 4.82(1H,d,J=12.0Hz,C-H[troc′]), 4.92(1H,d,J=11.85Hz,C-H[troc]), 4.98(1H,d,J=6.95Hz,C3′-H), 4.99(1H,d,J=9.48Hz,C5-H), 5.59(1H,m,C7-H), 5.60(1H,d,J=6.95Hz,C2′-H), 5.71(1H,d,J=7.00Hz,C2-H), 6.25(1H,s,C10-H), 6.28(1H,m,C13-H), 7.30-7.70(11H,m,Ar-H), 8.08(2H,d,J=7.3Hz,Ar-H), 8.21(2H,d,J=6.81Hz,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝10.63, 14.67, 20.83, 21.50, 26.25, 33.11, 25.44, 42.98, 46.82, 56.07, 71.58, 74.10, 74.73, 76.13, 77.29, 78.87, 80.37, 83.35, 83.56, 94.07, 126.20, 126.71, 128.28, 128.64, 129.00, 130.00, 132.12, 132.22, 133.88, 140.61, 142.23, 153.04, 166.80, 169.92, 200.60。
ＭＳ（ＦＡＢ＋）：1142(M+H+,56%), 1143(M+2,36%), 1144(M+3,100%), 1145(M+4,59%), 1146(M+5,92%), 1147(M+6,46%), 1148(M+7,46%), 1149(M+8,21%), 1150(M+9,13%), 1164(M+Na+,36%), 1165(M+24,23%), 1166(M+25,69%), 1167(M+26,41%), 1168(M+27,61%), 1169(M+28,33%), 1170(M+29,31%), 1171(M+30,15%), 1172(M+31,10%)。
実施例２
７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝二重結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₅＝Ｐｈ；Ｒ₈，Ｒ₉＝ＣＣｌ₃−ＣＨ₂−Ｏ−ＣＯ−）
ＣＨ₂Ｃｌ₂（０．１２０ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩ（１０．４ｍｇ、０．０１２ミリモル）およびフェニル（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−チオカルボキシレート（１２．５３ｍｇ、０．０３５ミリモル）の磁気撹拌された溶液に、室温にてアルゴン下にＡｇ（ＣＦ₃ＣＯＯ）（１０．１６ｍｇ、０．０４６ミリモル）を添加した。室温にて１晩撹拌した後、混合物を塩化メチレンで希釈し、セライトで濾過し、次いで飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（１０ｍＬ）で洗浄した。有機相を脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル７：３）により精製して、純粋な標記化合物（５．１ｍｇ、３６％）を得た。
実施例３
７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝二重結合；

ベンゼン（０．１７０ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩ（１５．０ｍｇ、０．０１７ミリモル）およびフェニル（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−チオカルボキシレート（２４．０ｍｇ、０．０６７ミリモル）の磁気撹拌された溶液に、室温にてアルゴン下にＡｇ（ＣＦ₃ＣＯＯ）（１５ｍｇ、０．０６７ミリモル）とＮａ₂ＨＰＯ₄（１８．９ｍｇ、０．０５ミリモル）とを添加した。室温にて３６時間撹拌した後、混合物を塩化メチレンで希釈し、セライトで濾過し、次いで飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（１ｍＬ）で洗浄した。有機相を脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル７：３）により精製して、純粋な標記化合物（１０．５ｍｇ、５１％）を得た。
実施例４
７−トリエチルシリル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝二重結合；

ＴＨＦ（５．６８ｍＬ）中の７−ＴＥＳ−バッカチンＩＩＩ

（１９９ｍｇ、０．２８４ミリモル）およびフェニル（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−チオカルボキシレート（化合物ＩＩ：

＝二重結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₅＝Ｐｈ；Ｒ₆＝Ｐｈ）（３５７ｍｇ、０．９９４ミリモル）の溶液を、０℃にてアルゴン下に撹拌しながら、ＴＨＦ−ヘキサン６２：３８中のリチウムヘキサメチルジシラジドの新たに作製された０．６Ｍ溶液（２．１３ｍＬ、８．２１ミリモル）で処理した。０℃にて１５分間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（１４ｍＬ）で反応停止させた。水相をエチルエーテル（３×２０ｍＬ）で抽出し、有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ペンタン−エチルエーテル４４：５６）により精製して、純粋な標記化合物（２３０ｍｇ、８５％）を得た。
［α］_D ²⁵＝−５４．８°（ｃ１．０、クロロホルム中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝0.60(6H,q,J=7.29Hz,CH₂Si), 0.94(9H,t,J=7.29Hz,Me[TES]), 1.21(3H,s,Me), 1.25(3H,s,Me), 1.71(3H,s,Me), 2.01(3H,s,Me), 2.08(3H,s,OCOMe), 2.18(3H,s,OCOMe), 1.95-2.2(1H,m,C6-H), 2.22-2.45(2H,m,C14-H), 2.55(1H,m,C6-H), 3.85(1H,d,J=6.99Hz,C3-H), 4.15(1H,d,J=8.34Hz,C20-H), 4.31(1H,d,J=8.34Hz,C20-H), 4.51(1H,dd,J=6.59,10.29Hz,C7-H), 4.96(1H,d,J=6.51Hz,C3′-H), 4.96(1H,d,C5-H), 5.62(1H,d,J=9.51Hz,C2′-H), 5.70(1H,d,J=6.99Hz,C2-H), 6.21(1H,br.t,J=8.80Hz,C13-H), 6.44(1H,s,C10-H), 7.30-7.70(11H,m,Ar-H), 8.09(2H,d,J=7.24H,Ar-H), 8.25(2H,d,J=7.79Hz,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝5.17, 6.66, 9.93, 14.43, 20.74, 21.60, 26.45, 29.58, 35.48, 37.05, 43.07, 46.90, 58.34, 71.79, 72.19, 74.67, 74.87, 78.90, 80.77, 83.24, 84.10, 126.31, 126.60, 128.17, 128.51, 128.88, 129.97, 132.05, 133.64, 133.93, 139.75, 140.68, 166.91, 169.05, 169.77, 170.09, 201.60。
ＭＳ（ＦＡＢ＋）：950(M+H+,71%), 951(M+2,43%), 952(M+3,21%), 972(M+Na+,100%), 973(M+24,64%), 974(M+25,28%)。
実施例５
７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝二重結合；

ＴＨＦ（０．５４５ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル）−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩ

（２４．４ｍｇ、０．０２７ミリモル）およびｔ−ブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンジル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート（化合物ＩＩ：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄，Ｒ₅＝ＣＨ₃；Ｒ₆＝ｔ−ブチル；Ｒ₇＝Ｐｈ−ＣＯ）（４０．２ｍｇ、０．１０１ミリモル）の溶液を、０℃にてアルゴン下に撹拌しながら、ＴＨＦ−ヘキサン６２：３８中のリチウムヘキサメチルジシラジドの新たに作製された０．６Ｍ溶液（０．０９０ｍＬ、０．０５４ミリモル）で処理した。０℃にて２４時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（２ｍＬ）で反応停止させた。水相をエチルエーテル（３×３ｍＬ）で抽出し、有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル６：４）により精製して、純粋な標記化合物（２４．６ｇ、７５％）を得た。
［α］_D ²⁵＝−２８．９°（ｃ１．０、クロロホルム中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.20(3H,s,Me), 1.28(3H,s,Me), 1.74(3H,s,Me), 1.93(3H,s,Me), 1.98(3H,s,Me),,2.02(3H,s,Me), 2.20(3H,s,OCOMe), 1.95-2.2(1H,m,C6-H), 2.20-2.40(2H,m,C14-H), 2.50-2.70(1H,m,C6-H), 3.91(1H,d,J=6.95Hz,C3-H), 4.11(1H,d,J=8.60Hz,C20-H), 4.29(1H,d,J=8.60Hz,C20-H), 4.58(1H,d,J=4.10Hz,C2′-H), 4.62(1H,d,J=10.58Hz,C-H[troc]), 4.65-4.91(2H,m,C-H[troc′]), 4.94(1H,d,J=10.58Hz,C-H[troc]), 4.92(1H,m,c5-H), 5.30(1H,d,J=4.10Hz,C3′-H), 5.60(1H,dd,J=6.80,9.92Hz,C7-H), 5.67(1H,d,J=6.95Hz,C2-H), 6.27(1H,s,C10-H), 6.30(1H,m,C13-H), 6.90-7.00(2H,m,Ar-H), 7.10-7.30(8H,m,Ar-H), 7.40-7.70(3H,m,Ar-H), 8.09(2H,d,J=8.00Hz,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝10.63, 14.62, 20.94, 21.50, 26.15, 29.58, 29.93, 33.07, 35.20, 42.97, 46.82, 55.96, 65.75, 71.31, 74.11, 76.03, 77.29, 78.89, 80.32, 81.18, 83.57, 94.07, 98.21, 126.06, 126.82, 127.82, 127.98, 128.54, 128.63, 128.85, 129.39, 129.95, 133.78, 137.38, 138.69, 142.43, 153.09, 166.79, 168.98, 169.96, 200.54。
ＭＳ（ＦＡＢ＋）：1198(M-1,29%), 1199(M,20%), 1200(M+H+,50%), 1201(M+2,33%), 1202(M+3,45%), 1203(M+4,29%), 1204(M+5,23%), 1205(M+6,13%), 1206(M+7,12%), 1220(M+21,45%), 1221(M+22,30%), 1222(M+Na+;100%), 1223(M+24,55%), 1224(M+25,88%),1225(M+26,46%), 1226(M+27,40%), 1227(M+28,20%), 1228(M+29,15%)。
実施例６
７−トリエチルシリル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝単結合；

ＴＨＦ（０．７２ｍＬ）中の７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（化合物ＩＩＩ：Ｒ₈＝ＣＨ₃−ＣＯ−；Ｒ₉＝（ＣＨ₃−ＣＨ₂−）₃Ｓｉ−）（２５．２ｍｇ、０．０３６ミリモル）およびｔ−ブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート（化合物ＩＩ：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝Ｐｈ−ＣＯ−；Ｒ₄，Ｒ₅＝ＣＨ₃；Ｒ₆＝ｔ−ブチル；Ｒ₇＝Ｐｈ−ＣＯ）（５０．１ｍｇ、０．１２６ミリモル）の溶液を、０℃にてアルゴン下に撹拌しながら、ＴＨＦ−ヘキサン６２：３８中のリチウムヘキサメチルジシラジドの新たに作製された０．６Ｍ溶液（０．１２０ｍＬ、０．０７２ミリモル）で処理した。０℃にて２４時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（２ｍＬ）で反応停止させた。水相をエチルエーテル（３×３ｍＬ）で抽出し、有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル６５：３５）により精製して、純粋な標記化合物（２７．５ｍｇ、７５％）を得た。
［α］_D ²⁵＝−３１．９°（ｃ１．０、クロロホルム中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝0.59(6H,q,J=7.90Hz,CH₂Si), 0.94(9H,t,J=7.90Hz,Me[TES]), 1.21(3H,s,Me), 1.27(3H,s,Me), 1.67(3H,s,Me), 1.88(3H,s,Me), 1.94(3H,s,Me), 2.01(3H,s,Me), 2.09(3H,s,OCOMe), 2.21(3H,s,OCOMe), 1.95-2.2(1H,m,C6-H), 2.22-2.45(2H,m,C14-H), 2.40-2.60(1H,m,C6-H), 3.78(1H,d,J=6.87Hz,C3-H), 4.10(1H,d,J=8.34Hz,C20-H), 4.25(1H,d,J=8.34Hz,C20-H), 4.48(1H,dd,J=6.55,10.17Hz,C7-H), 4.57(1H,d,J=6.66Hz,C2′-H), 4.89(1H,br.d,J=9.17Hz,C5-H), 5.28(1H,d,J=6.66Hz,C3′-H), 5.65(1H,d,J=6.87Hz,C2-H), 6.25(1H,br.t,J=8.59Hz,C13-H), 6.47(1H,s,C10-H), 6.90-7.00(2H,m,Ar-H), 7.10-7.30(8H,m,Ar-H), 7.40-7.70(3H,m,Ar-H), 8.0-2(2H,d,J=8.21Hz,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝5.17, 6.64, 9.92, 14.22, 20.78, 21.01, 21.55, 25.33, 26.19, 26.36, 29.58, 35.19, 36.99, 43.12, 46.65, 58.23, 65.92, 71.63, 72.00, 74.80, 78.90, 80.69, 81.18, 84.03, 98.18, 126.06, 126.82, 127.77, 127.98, 128.46, 128.63, 129.09, 129.38, 129.95, 133.64, 133.73, 137.38, 138.74, 139.85, 166.94, 169.06, 169.16, 169.80, 201.55。
ＭＳ（ＦＡＢ＋）：1006(M-1,13%), 1007(M,13%), 1008(M+H+,29%), 1009(M+2,17%), 1010(M+3,4%), 1028(M+21,13%), 1029(M+22,12%), 1030(M+Na+,100%), 1031(M+24,71%), 1032(M+25,27%), 1033(M+26,8%)。
実施例７
１０−デアセチルタキソール
（式Ｉの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝ＣＯＰｈ；Ｒ₃＝Ｈ）
エタノール（１ｍＬ）および０．１ＮＨＣｌ（０．５ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−カルボニル］−バッカチン（化合物ＩＶ：

＝二重結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₅＝Ｐｈ；Ｒ₈，Ｒ₉＝ＣＣｌ₃−ＣＨ₂−ＯＣＯ−）（３０ｍｇ、０．０２６ミリモル）の溶液を約９５℃にて２時間にわたり加熱した。反応混合物を冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で慎重に反応停止させ、ジクロルメタン（×２）で抽出し、水洗し、Ｎａ₂ＳＯ₄で脱水し、次いで濃縮して粗製７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチルタキソール（２３ｍｇ、７５％収率）を得た。メタノール（１ｍＬ）と酢酸（１ｍＬ）と粉末亜鉛（３０ｍｇ）とによる６０℃での１時間にわたる処理は標記化合物（１３ｍｇ、８０％収率）を与えた。
実施例８
タキソール
（式Ｉの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝ＣＯＰｈ；Ｒ₃＝Ａｃ）
メタノール：水［１．５：１ｖ：ｖ）］／０．０４ＮＨＣｌ（４０ｍＬ）中の７−トリエチルシリル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−カルボニル］−バッカチン（式ＩＶの化合物：

＝二重結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₅＝Ｐｈ；Ｒ₈＝−ＣＯＣＨ₃；Ｒ₉＝（ＣＨ₃−ＣＨ₂−）₃Ｓｉ−））（３６０ｍｇ、０．３７８ミリモル）の溶液を６０℃にて１時間および８０℃にて２．５時間撹拌した。混合物を室温まで冷却し、飽和ＮａＨＣＯ₃水溶液（８ｍＬ）を添加した（最終ｐＨ＝７．５）。得られた混合物を室温にて１６時間撹拌した。メタノール（約２４ｍＬ）を減圧（０．１ｍｍＨｇ）下で室温にて蒸発させた。得られた水性混合物を次いでジクロルメタン（３×１０ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：ＥｔＯＡｃ１：１）にかけて、純粋な標記生成物（２５９ｍｇ、８０％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.14(3H,s,Me), 1.25(3H,s,Me), 1.68(3H,s,Me), 1.79(3H,s,Me), 2.23(3H,s,OCOMe), 2.38(3H,s,OCOMe), 2.35-2.40(2H,m,C6-H), 2.40-2.60(2H,m,C14-H),3.67(1H,br.s,OH), 3.79(1H,d,J=6.96Hz,C3-H), 4.26(1H,AB系のA部,J=8.42Hz,C20-H), 4.34(1H,B AB系のB部,J=8.42Hz,C20-H), 4.13-4.40(1H,m,C7-H), 4.79(1H,br.s,C2′-H), 4.94(1H,dd,J=7.98,1.5Hz,C5-H), 5.67(1H,d,J=6.96Hz,C2-H), 5.78(1H,dd,J=8.89,2.45Hz,C3′-H), 6.23(1H,br.t,J=9.0Hz,C13-H), 6.27(1,s,C10-H), 7.03(1H,d,J=8.89Hz,NH), 7.30-7.60(11H,m,Ar-H), 7.74(2H,d,J=7.0Hz,Ar-H), 8.13(2H,d,J=7.0Hz,Ar-H)。
実施例９
１０−デアセチルタキソール
（式Ｉの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝ＣＯＰｈ；Ｒ₃＝Ｈ）
７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエトキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン（化合物ＩＶ：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄，Ｒ₅＝ＣＨ₃；Ｒ₇＝Ｐｈ−ＣＯ−；Ｒ₈，Ｒ₉＝ＣＣｌ₃−ＣＨ₂−ＯＣＯ−）（５２ｍｇ、０．０４３ミリモル）の溶液を蟻酸（１ｍＬ）で室温にて４時間処理した。酸を減圧除去し、粗製物質をメタノール（１ｍＬ）と酢酸（１ｍＬ）と粉末亜鉛（４０ｍｇ）とにより６０℃で１時間にわたり処理して標記化合物（３０ｍｇ、８５％収率）を得た。
実施例１０
タキソール
（式Ｉの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝ＣＯＰｈ；Ｒ₃＝Ａｃ）
エタノール（１ｍＬ）中の７−トリエチルシリル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン（化合物ＩＶ：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ；Ｒ₈＝ＣＨ₃ＣＯ；Ｒ₉＝（ＣＨ₃−ＣＨ₂）₃Ｓｉ−））（３５ｍｇ、０．０３５ミリモル）の溶液を０．１ＮＨＣｌ（０．５ｍＬ）で室温で３時間にわたり処理して標記化合物（２３ｍｇ、８０％）を得た。
実施例１１
フェニル（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−チオカルボキシレート
（式ＩＩの化合物：

＝二重結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₅＝Ｐｈ；Ｒ₆＝Ｐｈ）
エチルエーテル（２５ｍＬ）中のフェニル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）チオアセテート（化合物ＶＩ：Ｒ₁₀＝ＴＢＤＭＳ；Ｒ₆＝Ｐｈ）（１．５７２ｇ、５．５６ミリモル）の撹拌溶液に、０℃にてアルゴン雰囲気下に、ジクロルメタン中の臭化ジ｛［（１Ｓ，２Ｓ，５Ｒ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素（化合物ＶＩＩ：Ｌ＝（−）メントンから；Ｘ＝Ｂｒ）の溶液（０．４Ｍ；２５ｍＬ、１０．０ミリモル）および次いでＥｔ₃ Ｎ（１．４７ｍＬ、１０．５６ミリモル）を滴下した。エノールボリネートが生ずると同時に、Ｅｔ₃Ｎ−ＨＢｒが生成し沈澱した。０℃にて０．５時間の後、混合物を室温まで加温し、５時間撹拌した。この時間の後、反応物を−７８℃まで冷却し、最小容積のＣＨ₂Ｃｌ₂（１ｍＬ）中のＮ−（トリメチルシリル）ベンズアルジミンＰｈＣＨ＝Ｎ−ＳｉＭｅ₃（１．３６ｇ、７．６７ミリモル）の溶液を−７８℃まで冷却してカニューレを介し滴下した。得られた混合物を−７８℃にて０．５時間撹拌し、次いで徐々に２時間かけて−５℃まで加温し、−５℃にて１晩撹拌した。次いで混合物をｐＨ７の燐酸緩衝液（２３ｍＬ）で反応停止させ、ジクロルメタン（３×２５ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をＭｅＯＨ−Ｈ₂Ｏ［１：１（ｖ：ｖ）、４０ｍＬ］／０．２５ＮのＨＣｌに溶解させた。この混合物をジクロルメタン（３．０ｍＬ）で希釈し、得られた溶液を室温にて３時間撹拌し、次いで減圧下に蒸発乾固させた。得られた粗生成物を五酸化燐を入れたデシケータ中で１晩にわたり真空ポンプ処理した（０．１ｍｍＨｇ）。次いで白色の固体残留物（２．３５ｇ、５．５６ミリモル）をジクロルメタン（９．２６ｍＬ）に溶解させ、０℃にて４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．０６８ｇ、０．５５６ミリモル）とトリエチルアミン（５．５７ｍＬ、４０．０ミリモル）とで処理し、さらに１０分間の後に塩化ベンゾイル（新たに蒸留）（２．２６ｍＬ、１９．４４ミリモル）で処理した。混合物を０℃にて３０分間撹拌し、次いでＥｔＯＡｃ（７２ｍＬ）で希釈し、０℃にて水および氷で反応停止させた。有機相を飽和ＮａＨＣＯ₃水溶液と飽和ブラインとで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗製反応生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−エチルエーテル６５：３５）にかけて、フェニル３−ベンゾイルアミノ−２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−フェニルチオプロピオネート（６７〜７１％収率）を得た。
この混合物のａｎｔｉ−ｓｙｎ比を¹Ｈ−ＮＭＲ分析によりａｎｔｉ異性体およびｓｙｎ異性体（９７：３）の該当ピークを積分して決定した。混合物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−イソプロピルエーテル５０：５０）にかけて、純粋なａｎｔｉおよびｓｙｎ異性体を得た。
ａｎｔフェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−フェニルチオプロピオネート：
［α］_D ²⁵＝−１６６．６°（ｃ１．２９、ＣＨＣｌ₃中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝-0.05(3H,s,MeSi), 0.20(3H,s,MeSi), 1.02(9H,s,^tBu), 4.78(1H,d,CHOSi,J=5.5Hz), 5.52(1H,dd,J=5.5,7.8Hz,CHN), 6.89(1H,d,J=7.8, NH), 7.10-7.60(13H,m,Ar-H), 7.70-7.90(2H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝25.74, 38.69, 57.53, 80.17, 126.92, 128.18, 128.28, 128.43, 128.53, 129.03, 129.29, 131.62, 134.65, 137.23, 166.53, 200.83。
ｓｙｎフェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−フェニルチオプロピオネート：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝-0.21(3H,s,MeSi), 0.14(3H,s,MeSi), 1.00(9H,s,tBu), 4.60(1H,d,CHOSi,J=2.4Hz), 5.62(1H,dd,J=2.4,8.8Hz,CHN), 7.20-7.60(13H,m,Ar-H), 7.80-8.00(2H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝56.52, 81.03, 166.23。
このａｎｔｉ：ｓｙｎ混合物（≧９７：３）（１．９２ｇ、３．９１ミリモル）をアセトニトリル−Ｈ₂Ｏ（６６：１）中のＨＦの０．５Ｍ溶液（６２．５１ｍＬ）により０℃にて撹拌下に処理した。この混合物を室温にて２４時間撹拌した。溶液を蒸発乾固させた。得られた粗生成物を五酸化燐を含むデシケータ中で１晩にわたり真空（０．１ｍｍＨｇ）ポンプ処理した。粗製フェニル３−ベンゾイルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート（化合物ＩＸ：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₆＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ）をジエチルエーテルで洗浄して白色の非晶質固体（１．５２ｇ、１０３．４％）を得た。混合物（９７：３）をフラッシュクロマトグラフィー（イソプロピルエーテル−酢酸エチル９５：５）にかけて、分析上純粋なａｎｔｉフェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートおよびｓｙｎフェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを得た。
ａｎｔｉフェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート：［α］_D ²⁵＝−１４０．２３°（ｃ０．８、アセトン中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＣＯＣＤ₃）δ＝4.90(1H,dd,CHOH,J=5.6,6.3Hz), 5.65(1H,dd,J=5.6,8.6Hz,CHN), 5.94(1H,d,J=6.3,OH), 7.10-7.70(13H,m,Ar-H), 7.80-7.90(2H,m,Ar-H), 8.05(1H,d,J=8.6,NH)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤ₃ＣＯＣＤ₃）選択ピークδ＝56.53, 79.10, 127.41, 127.61, 128.00, 128.28, 128.90, 129.32, 131.30, 134.69, 138.15, 139.89, 166.24, 200.39。ＭＳ（Ｅ．Ｉ．）：378(M+1,57%), 360, 268, 240, 222, 210, 193, 105(100%), 91, 77。
ｓｙｎフェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート：
［α］_D ²⁵＝−６７．０°（ｃ１．０４、アセトン中）（ｅ．ｅ．＝３４％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＣＯＣＤ₃）δ＝4.80(1H,d,CHOH,J=3.4Hz), 5.70(1H,dd,J=3.4,8.2Hz,CHN), 7.12-7.60(13H,m,Ar-H), 7.90-8.01(2H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤ₃ＣＯＣＤ₃）選択ピークδ＝56.28, 79.92。
フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの絶対配置の決定
クロマトグラフィー処理したフェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを鹸化し［（ａ）３０％Ｈ₂Ｏ₂（４当量）、ＬｉＯＨ水溶液（２当量）、ＴＨＦ、０℃、１５時間；（ｂ）Ｎａ₂ＳＯ₃、テトラへドロン・レターズ（１９９０）、第３１巻、第７５１３頁参照］、対応の酸を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ＝4.61(1H,d,J=5.5,CHO), 5.52(1H,d,J=5.5,CHN), 7.20-7.60(8H,m,Ar-H), 7.80-7.85(2H,m,Ar-H)。
メタノール中の酸の溶液をエチルエーテル中のＣＨ₂Ｎ₂溶液で処理して対応のメチルエステルを得た。
［α］_D ²⁵＝＋９．０°（ｃ１．０、ＭｅＯＨ中）。
文献値：
［α］_D ²⁰＝＋８．７°（ｃ１．０３、ＭｅＯＨ中）［ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９２）、第５７巻、第６３８７頁参照］；
［α］_D ²⁰＝＋９．５°（ｃ１．０１、ＭｅＯＨ中）［ジャーナル・ケミカル・ソサエティ、パーキン・トランス１（１９９４）、第２３８５頁参照］。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝3.13(1H,d,J=6.3,OH), 3.75(3H,s,OCH₃), 4.73(1H,br.m,CHO), 5.64(1H,dd,J=3.5,8.6Hz,CHN), 7.17(1H,br.d,J=8.6,NH), 7.30-7.53(8H,m,Ar-H), 7.81-7.84(2H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝52.6, 55.6, 73.1, 127.3, 127.7, 128.5, 128.8, 131.9, 134.3, 136.8, 167.1, 172.7。
フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートのエナンチオマー過剰の決定
フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートのエナンチオマー過剰％をモッシャー（Mosher)エステル誘導体の¹Ｈ−ＮＭＲ分析により決定した。クロマトグラフィー処理した化合物を過剰の（Ｓ）−（−）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸によりジクロルメタン中で１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）および触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下に処理した。モッシャー誘導体フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルプロピオネートが得られた：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝3.61(3H,m,OMe), 5.91(1H,dd,J=4.40,7.82Hz,CHN), 6.02(1H,d,J=4.40Hz,CHO), 6.53(1H,d,J=7.82Hz,NH), 7.20-7.60(18H,m,Ar-H), 7.60-7.80(2H,m,Ar-H)。
同じ反応順序によったが（＋）メントンから誘導された硼素試薬、すなわち臭化ジ｛［（１Ｒ，２Ｒ，５Ｓ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素を用いてフェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの純粋試料を得た。化合物フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを過剰の（Ｓ）−（−）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸によりジクロルメタン中で１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）および触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下に処理した。モッシャー誘導体フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルチオプロピオネートが得られた。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝3.45(3H,m,OMe), 5.92(1H,dd,J=5.30,7.63Hz,CHN), 6.03(1H,d,J=5.30Hz,CHO), 6.90(1H,d,J=7.63Hz,NH), 7.20-7.60(18H,m,Ar-H), 7.60-7.80(2H,m,Ar-H)。
フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート：フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの比を該当ピークの積分により決定し、一連の数回の実験を介し≧９７．５：２．５（ｅ．ｅ．≧９５％）であることが示された。
フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートのエナンチオマー過剰の決定
ｓｙｎフェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートのエナンチオマー過剰％をモッシャーエステル誘導体の¹Ｈ−ＮＭＲ分析により決定した。クロマトグラフィー処理した化合物フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを過剰の（Ｓ）−（−）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸によりジクロルメタン中で１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）および触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下に処理した。モッシャー誘導体フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルチオプロピオネートが得られた：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝3.52(3H,m,OMe), 5.85(1H,d,J=2.25Hz,CHO), 6.06(1H,dd,J=2.25,9.25Hz,CHN), 6.94(1H,d,J=9.25Hz,NH), 7.10-7.60(18H,m,Ar-H), 7.60-7.80(2H,m,Ar-H)。
同じ反応順序によるが（＋）メントンから誘導された硼素試薬、すなわち臭化ジ｛［（１Ｒ，２Ｒ，５Ｓ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素を用いてフェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの純粋試料を得た。化合物フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを過剰の（Ｓ）−（−）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸によりジクロルメタン中で１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）および触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下に処理した。モッシャー誘導体フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルチオプロピオネートが得られた：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝3.41(3H,m,OMe), 5.81(1H,d,J=2.21,CHO), 6.11(1H,dd,J=2.21,9.22Hz,CHN), 6.90(1H,d,J=9.22Hz,NH), 7.10-7.60(18H,m,Ar-H), 7.60-7.80(2H,m,Ar-H)。
フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート：フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの比を該当ピークの積分により決定し、一連の数回の実験により６７：３３（ｅ．ｅ．＝３４％）であることが示された。
クロロホルム（４０．２０ｍＬ）中のフェニル３−ベンゾイルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート（２Ｓ，３Ｓ：２Ｓ，３Ｒ比＝≧９７：３、粗製、クロマトグラフィーなし；１．５２０ｇ、３．８９ミリモル）の溶液を塩化チオニル（１．４７ｍＬ、２０．１３ミリモル）で処理し、４５℃にて３〜４時間にわたり撹拌した。溶剤を減圧除去し、粗生成物を１，２−ジクロルエタン（２０ｍＬ）中に３オングストロームのモレキュラシーブの存在下で溶解させた。得られた混合物を５時間にわたり還流させた（１００℃）。次いで溶液を濾過し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて粗生成物を得、これをフラッシュクロマトグラフィー（塩化メチレン：ヘキサン８８：１２）により精製して、純粋なフェニル（４Ｓ，５Ｒ）−２，４−ジフェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−５−チオカルボキシレートを６５％収率で得た。［α］_D ²⁵＝＋９１．２８°（ｃ０．８、クロロホルム中）。¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝5.06(1H,d,CHN,J=5.61Hz), 5.55(1H,d,J=5.61Hz,CHO), 7.20-7.60(13H,m,Ar-H), 8.10-8.30(2H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝75.48, 89.10, 126.41, 128.01, 128.60, 128.86, 129.31, 129.72, 132.15, 134.65。ＭＳ（Ｅ．Ｉ．）：360(M+1,57%), 250, 222, 193, 119, 109, 91(100%), 77, 65。
実施例１２
フェニル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）チオアセテート
（式ＶＩの化合物：Ｒ₁₀＝ＴＢＤＭＳ；Ｒ₆＝Ｐｈ）
グリコール酸メチル（１．９０ｍＬ、２．２０ｇ、２４．５ミリモル）を乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（４．９ｍＬ）中のｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（４．４３ｇ、２９．４ミリモル）およびイミダゾール（４．１７ｇ、６１．２５ミリモル）の懸濁物に撹拌下で添加した。室温にて９０分間撹拌した後、水（６０ｍＬ）を添加し、得られた混合物をエチルエーテル（３×３５ｍＬ）で抽出した。有機相を合し、水洗し（３×３５ｍＬ）、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させてメチル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）アセテート（５．０ｇ、１００％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝0.12(6H,s,Me), 0.93(9H,s,^tBu), 3.75(3H,s,OMe), 4.26(2H,s,CH₂)。
塩化メチレン（４９ｍＬ）中のＡｌＭｅ₃（ヘキサン中２．０Ｍ、１２．２５ｍＬ、２４．５ミリモル）の溶液を０℃にてＰｈＳＨ（２．５ｍＬ、２４．５ミリモル）により処理した。０℃にて２０分間の後、塩化メチレン（６．１２５ｍＬ）中のメチル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）アセテート（２．５ｇ、１２．２５ミリモル）の溶液を０℃にて添加した。この混合物を室温にて０．５時間撹拌し、次いでＮＨ₄Ｃｌ飽和水溶液（１２ｍＬ）で反応停止させ、セライトを通して濾過し、セライトケーキを塩化メチレンで洗浄した。有機相を５％ＮａＯＨ水溶液と飽和ブライントとで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて粗製混合物を得、これをフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−エチルエーテル（９５：５）により精製して、純粋な標記化合物（２．７４ｇ、７９％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝0.20(6H,s,Me), 1.01(9H,s,^tBu), 4.38(2H,s,CH₂), 7.43(5H,m,Ar-H)。
実施例１３
フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート
（式ＩＸの化合物：Ｒ₁，Ｒ₆＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ）
エチルエーテル（１．５ｍＬ）中のフェニル（１−エトキシエトキシ）チオアセテート（０．０９ｇ、０．３７ミリモル）の撹拌溶液に、０℃にてアルゴン下に、ジクロルメタン中の臭化ジ｛［（１Ｒ，２Ｓ，５Ｒ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素の溶液（０．４Ｍ；１．５ｍＬ、０．６ミリモル）および次いでＥｔ₃ Ｎ（０．０９ｍＬ、０．６３０ミリモル）を滴下した。エノールボリネートが生成すると同時にＥｔ₃Ｎ−ＨＢｒが生成し沈澱した。０℃にて５時間の後、混合物を−７８℃まで冷却し、Ｎ−（トリメチルシリル）ベンズアルジミン（０．１８５ｇ、１．０４ミリモル）を滴下した。得られた混合物を−７８℃にて０．５時間撹拌し、次いで徐々に−５℃まで２時間かけて加温し、−５℃にて１晩撹拌した。
次いで混合物をｐＨ７の燐酸緩衝液で反応停止させ、ジクロルメタンで数回抽出した。有機相を蒸発させて残留物を得、これを１：１（ｖ：ｖ）のＭｅＯＨ：１．０ＮＨＣｌ水溶液に溶解させ、室温にて１時間撹拌した。得られた溶液を蒸発乾固させると共に真空ポンプ処理した（０．１ｍｍＨｇ）。粗製残留物を１ＮＨＣｌ水溶液に溶解させ、水相をエチルエーテルで数回洗浄した。水相を蒸発乾固すると共に真空ポンプ処理した（０．１ｍｍＨｇ）。次いで、得られた粗製混合物を１：１（ｖ：ｖ）のジクロルメタン：水に溶解させ、室温にて塩化ベンゾイル（１．５モル当量）で処理し、次いで固体ＮａＨＣＯ₃（２．５モル当量、０．５モル当量ずつ添加）で処理した。反応に続きｔ．ｌ．ｃ．を行い、室温にて１時間撹拌した後に混合物をジクロルメタンで抽出した。有機抽出物を脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗製化合物をフラッシュクロマトグラフィー（エチルエーテル：ＣＨ₂Ｃｌ₂ ６０：４０）により精製して、純粋な標記化合物（ａｎｔｉ：ｓｙｎ＞９９：１）を５０％の全収率にて得た。モッシャーエステル誘導体の¹Ｈ−ＮＭＲ分析により測定した％ｅ．ｅ．（エナンチオマー過剰）は８５であった（手順については上記の該当部分参照）。
実施例１４
フェニル（１−エトキシエトキシ）チオアセテート

ＴＨＦ（２１ｍＬ）中のグリコール酸メチル（０．１９３ｇ、２．１５ミリモル）の溶液をエチルビニルエーテル（ＥＶＥ）（１．０３ｍＬ、１０．７ミリモル）および触媒量のｐ−ＴｓＯＨ（４１ｍｇ）で処理した。０℃にて１５分間撹拌した後、混合物をエチルエーテルで希釈し、飽和ＮａＨＣＯ₃水溶液とブラインとで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させてメチル（１−エトキシエトキシ）アセテート（０．３０６ｇ、８７％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.20(3H,t,J=7.14Hz,Me), 1.37(3H,d,J=5.95Hz,Me), 3.60(2H,m,CH₂), 3.78(3H,s,COOMe), 4.16(2H,s,CH₂ CO), 4.85(1H,q,J=5.95Hz,CH)。
塩化メチレン（１２．８ｍＬ）中のＡｌＭｒ₃の溶液（ヘキサン中２．０Ｍ、３．２ｍＬ、６．４ミリモル）を０℃にてＰｈＳＨ（０．６５８ｍＬ、６．４ミリモル）で処理した。０℃にて２０分間の後、塩化メチレン（１．６ｍＬ）中のメチル（１−エトキシエトキシ）アセテート（０．５２７ｇ、３．２ミリモル）の溶液を０℃にて添加した。混合物を室温にて２０分間撹拌し、次いでエチルエーテルで希釈し、１ＮＨＣｌ水溶液で洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−エチルエーテル５０：５０）により精製して、純粋なフェニル（ヒドロキシ）チオアセテート（０．３ｇ、４０％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝4.43(2H,s,CH₂ CO), 7.45(5H,m,Ar-H)。
ＴＨＦ（６．４ｍＬ）中のフェニル（ヒドロキシ）チオアセテート（０．１０７ｇ、０．６４ミリモル）の溶液をエチルビニルエーテル（ＥＶＥ）（０．３０７ｍＬ、３．２ミリモル）と触媒量のｐ−ＴｓＯＨ（１２ｍｇ）とで処理した。０℃にて１５分間撹拌した後、混合物をエチルエーテルで希釈し、飽和ＮａＨＣＯ₃水溶液とブラインとで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて標記化合物（０．２６６ｇ、８６％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.22(3H,t,J=6.57Hz,Me), 1.40(3H,d,J=4.82Hz,Me), 3.65(2H,m,CH₂), 4.30(2H,s,CH₂CO), 4.90(1H,q,J=4.82Hz,CH), 7.40(5H,s,Ar-H)。
実施例１５
フェニル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート
（式ＩＸの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₆＝Ｐｈ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ）
エチルエーテル（４ｍＬ）中のフェニル（トリメチルシリルオキシ）チオアセテート（０．２１２ｇ、０．８８１ミリモル）の撹拌溶液に、０℃にてアルゴン下に、ジクロルメタン中の臭化ジ｛［（１Ｓ，２Ｓ，５Ｒ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素の溶液（０．４Ｍ；３．９６ｍＬ、１．５８５ミリモル）および次いでＥｔ₃Ｎ（０．２３３ｍＬ、１．６７３ミリモル）を滴下した。エノールボリネートが生成すると同時にＥｔ₃Ｎ−ＨＢｒが生成および沈澱した。０℃にて５時間の後、混合物を−７８℃まで冷却し、Ｎ−（トリメチルシリル）ベンズアルジミン（０．３９０ｇ、２．２０２ミリモル）を滴下した。得られた混合物を−７８℃にて０．５時間撹拌し、次いで徐々に−５℃まで２時間かけて加温し、−５℃にて１晩撹拌した。次いで混合物をｐＨ７の燐酸緩衝液で反応停止させ、次いでジクロルメタンで数回抽出した。有機相を蒸発させて残留物を得、これを１：１（ｖ：ｖ）のＭｅＯＨ：１．０ＮＨＣｌ水溶液に溶解させ、室温にて１時間撹拌した。得られた溶液を蒸発乾固させ、真空ポンプ処理した（０．１ｍｍＨｇ）。粗製残留物を１ＮＨＣｌ水溶液に溶解させ、水相をエチルエーテルで数回洗浄した。水相を蒸発乾固させ、次いで真空ポンプ処理した（０．１ｍｍＨｇ）。得られた粗製混合物を次いで１：１（ｖ：ｖ）のジクロルメタン：水に溶解させ、室温にて塩化ベンゾイル（１．５モル当量）で処理し、次いで固体ＮａＨＣＯ₃（２．５モル当量、０．５モル当量ずつ添加）で処理した。反応に続きｔ．ｌ．ｃ．を行い、室温にて１時間撹拌した後に混合物をジクロルメタンで抽出した。有機抽出物を脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗製化合物をフラッシュクロマトグラフィー（エチルエーテル：ジクロルメタン６０：４０）により精製して、純粋な標記化合物を５０％の全収率にて得た。フェニル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの％ｅ．ｅ．（エナンチオマー過剰）をモッシャーエステル誘導体の¹Ｈ−ＮＭＲ分析（手順については上記の該当部分参照）によって決定し、８８であることが示された。
実施例１６
フェニル（トリメチルシリルオキシ）チオアセテート
ＴＨＦ（１４．０ｍＬ）中のフェニル（ヒドロキシ）チオアセテート（０．２３７ｇ、１．４１ミリモル）の溶液を塩化トリメチルシリル（０．６４３ｍＬ、５．０７ミリモル）およびトリエチルアミン（０．７２６ｍＬ、５．２１ミリモル）で室温にて処理した。室温にて２時間撹拌した後、混合物をエチルエーテルで希釈し、ｐＨ７の燐酸緩衝液で洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させてフェニル（トリメチルシリルオキシ）チオアセテート（０．２３１５ｇ、９３％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝0.22(9H,s,Me-Si), 4.31(2H,s,CH₂ CO)。
実施例１７
^tブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート
（式ＩＩの化合物：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄，Ｒ₅＝ＣＨ₃；Ｒ₆＝^tＢｕ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ）
エチルエーテル（３．２ｍＬ）中のｔ−ブチル（ベンゾキシ）チオアセテート（化合物ＶＩ：Ｒ₆＝^tＢｕ；Ｒ₁₀＝ＰｈＣＯ）（０．１８４ｇ、０．７３０ミリモル）の撹拌溶液に、−２５℃にてアルゴン下に、ジクロルメタン中の臭化ジ｛［（１Ｒ，２Ｒ，５Ｓ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素（化合物ＶＩＩ：Ｌ＝（＋）メントンから；Ｘ＝Ｂｒ）の溶液（０．４Ｍ；３．２ｍＬ、１．２８ミリモル）の溶液および次いでＥｔ₃Ｎ（０．１８８ｍＬ、１．３５ミリモル）を滴下した。エノールボリネートが生成すると同時にＥｔ₃Ｎ−ＨＢｒが生成および沈澱した。２５℃にて７．０時間の後、混合物を−７８℃まで冷却し、Ｎ−（トリメチルシリル）ベンズアルジミン（化合物ＶＩＩＩ：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｚ＝（ＣＨ₃）₃Ｓｉ））（１．４６ミリモル）を滴下した。得られた混合物を−７８℃にて０．５時間撹拌し、次いで徐々に−５℃まで２時間かけて加温し、−５℃にて１晩撹拌した。次いで混合物をｐＨ６の燐酸緩衝液で反応停止させ、ジクロルメタンで数回抽出した。有機相を蒸発させて残留物を得、これを１：１（ｖ：ｖ）のＭｅＯＨ：１ＮＨＣｌ水溶液（２４．０ｍＬ）に溶解させ、室温にて１時間撹拌した。得られた溶液を蒸発乾固させ、次いで真空ポンプ処理した（０．１ｍｍＨｇ）。白色の固体残留物を乾燥エチルエーテル（３×１０ｍＬ）で洗浄し、エチルエーテル相を遠心分離およびデカントにより除去した。白色固体残留物を次いでＭｅＯＨ（１０．０ｍＬ）およびｐＨ８の燐酸緩衝液（１０．０ｍＬ）に室温にて溶解させ、室温にて１時間にわたり撹拌した。ｐＨを希（０．１Ｍ）ＨＣｌ水溶液で７に調整し、混合物を濃縮して殆どのメタノールを除去し、水相をＣＨ₂Ｃｌ₂（３×１０ｍＬ）で抽出した。有機相を脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて実質的に純粋なｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート（０．１３９ｇ、５３％）を得た。さらに、１９．７ｍｇ（７．５％）の同じ化合物を、白色固体残留物の洗浄に使用した（上記参照）、エチルエーテル相に含有される粗製混合物のフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−アセトン７０：３０）により得た。全収率＝６０．５％。この生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ペンタン−エチルエーテル５０：５０）にかけて、分析上純粋なｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート（化合物ＩＸ：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₆＝^tＢｕ；Ｒ₇＝ＰｈＣＯ）を得た：
［α］_D ²⁵＝−１２．２°（ｃ１．６９、ＣＨ₂Ｃｌ₃中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.45(9H,s,^tBu), 3.85(1H,br.s,OH), 4.57(1H,br.d,CHO), 5.70(1H,dd,J=2.5,8.7Hz,CHN), 7.14(1H,d,J=8.7,NH), 7.20-7.60(8H,m,Ar-H), 7.70-7.90(2H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝29.60, 38.79, 56.42, 79.62, 126.87, 127.02, 127.77, 128.57, 131.61, 138.27, 166.94, 202.16。ＭＳ（Ｅ．Ｉ．）：358(M+1), 268, 250, 222, 210, 193, 122, 105, 91, 77。
t−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの絶対配置の決定
クロマトグラフィー処理したｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを鹸化し［（ａ）３０％Ｈ₂Ｏ₂（４当量）、ＬｉＯＨ水溶液（８当量）、ＴＨＦ、０℃、１５時間；（ｂ）Ｎａ₂ＳＯ₃、ＪＡＣＳ（１９８９）、第１１１巻、第５４９３頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９０）、第３１巻、第７５１３頁参照］、対応の酸を得た。¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ＝4.55(1H,d,J=3.0,CHO), 5.62(1H,d,J=3.0,CHN), 7.20-7.60(8H,m,Ar-H), 7.81-7.84(2H,m,Ar-H)。メタノール中の酸の溶液をエチルエーテル中のＣＨ₂Ｎ₂溶液で処理して対応のメチルエステルを得た。［α］_D ²⁵＝−４７．６°（ｃ１．１５、ＭｅＯＨ中）。
文献値：
［α］_D ²⁵＝−４９．６°（ＭｅＯＨ）［ＪＡＣＳ（１９７１）、第９３巻、第２３２５頁参照］；
［α］_D ²⁶＝−４８．０°（ｃ０．９２、ＭｅＯＨ中）［ＪＯＣ（１９８６）、第５１巻、第４６頁参照］；
［α］_D ²⁴＝−４８．０°（ｃ１．０、ＭｅＯＨ中）（ＪＯＳ（１９９０）、第５５巻、第１９５７頁参照］；
［α］_D ²⁰＝−８．４°（ｃ０．９８、ＭｅＯＨ中）［ジャーナル・ケミカル・ソサエティ、パーキン・トランス１（１９９４）、第２３８５頁参照］；
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝3.33(1H,d,J=3.9,OH), 3.85(3H,s,OCH₃), 4.65(1H,dd,J=3.9,2.1,CHO), 5.76(1H,dd,J=2.1,9.0Hz,CHN), 7.00(1H,br.d,J=9.0,NH), 7.30-7.54(8H,m,Ar-H), 7.77-7.79(2H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝53.2, 55.0, 73.3, 127.0, 127.1, 128.0, 128.7, 128.8, 131.7, 134.3, 138.9, 166.9, 173.4。
ｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートのｓｙｎ−ａｎｔｉ比の決定
粗製ｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート（クロマトグラフィー処理せず）のｓｙｎ−ａｎｔｉ比を、ｓｙｎおよびａｎｔｉ異性体（≧９６：４）の該当ピークの積分により¹Ｈ−ＮＭＲ分析にて決定した。ａｎｔｉ異性体の純粋試料を異なる反応方式を用いて得た。
anti異性体の¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.45(9H,s,^tBu), 3.53(1H,br.s,OH), 4.68(1H,br.d,CHO), 5.63(1H,dd,J=3.3,8.4Hz,CHN), 7.17(1H,d,J=8.4,NH), 7.20-7.60(8H,m,Ar-H), 7.80-7.90(2H,m,Ar-H)。
ｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートのエナンチオマー過剰の決定
ｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートのエナンチオマー過剰％をモッシャーエステル誘導体の¹Ｈ−ＮＭＲ分析により決定した。クロマトグラフィー処理したｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを過剰の（Ｓ）−（−）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸によりジクロルメタン中で１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）および触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下に処理した。モッシャー誘導体ｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルチオプロピオネートが得られた：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.42(9H,s,^tBu), 3.38(3H,m,OMe), 5.56(1H,d,J=2.21,CHO), 6.03(1H,dd,J=2.21,8.94Hz,CHN), 6.85(1H,d,J=8.94,NH), 7.20-7.60(m,Ar-H), 7.70(m,Ar-H)。
同じ反応順序によるが（−）メントンから誘導された硼素試薬、すなわち臭化ジ｛［（１Ｓ，２Ｓ，５Ｒ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素を用いてｔ−ブチル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの純粋試料を得た。化合物ｔ−ブチル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを過剰の（Ｓ）−（−）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル酢酸によりジクロルメタン中で１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）および触媒量の４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）の存在下に処理した。モッシャー誘導体ｔ−ブチル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルチオプロピオネートが得られた：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.43(9H,s,^tBu), 3.51(3H,m,OMe), 5.61(1H,d,J=2.31,CHO), 5.96(1H,dd,J=2.31,9.21Hz,CHN), 6.59(1H,d,J=9.21,NH), 7.20-7.60(m,Ar-H), 7.70(m,Ar-H)。
ｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート：ｔ−ブチル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの比を該当ピークの積分により決定し、≧９８：２（ｅ．ｅ．≧９６％）であることが一連の数回の実験により示された。
モッシャー法による絶対配置の決定［ＪＡＣＳ（１９９１）、第１１３巻、第４０９２頁；Bull. Chem. Soc. Jpn.（１９９４）、第６７巻、第２６００頁参照］は化学的相関による決定（上記参照）と一致する。ＣＨＯ立体中心はＣＨＮプロトンの異なる化学シフトに応じＲもしくはＳである：
δＣＨＮ（ｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルチオプロピオネート）＝６．０３；
δＣＨＮ（ｔ−ブチル３（Ｒ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｓ）−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−（トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルチオプロピオネート）＝５．９６、モッシャーエステルフェニル環の反磁性作用による上向きシフト。
トルエン（５．２ｍＬ）中のｔ−ブチル３（Ｓ）−ベンゾイルアミノ−２（Ｒ）−メチル−３−フェニルチオプロピオネート（クロマトグラフィー処理せず、≦４％のａｎｔｉ異性体を含有）（１８６ｍｇ、０．５２０３ミリモル）の溶液をピリジニウムトシレート（１３ｍｇ）および新たに蒸留した２−メトキシプロペン（０．９８ｍＬ）で処理した。混合物を室温にて５分間および８０℃にて７５分間撹拌した。酢酸エチル（１５ｍＬ）で希釈した後、有機相を飽和ＮａＨＣＯ₃水溶液（５ｍＬ）とブライン（２×５ｍＬ）とで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて粗製混合物を得た。フラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−アセトン９０：１０）により精製して、純粋なｔ−ブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ベンゾイル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート（１８６ｍｇ、９０％）を得た。
［α］_D ²⁵＝＋３９．４°（ｃ１．０、ＣＨＣｌ₃中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.52(9H,s,t-Bu), 1.91(3H,s,Me), 1.96(3H,s,Me), 4.50(1H,d,J=5.65,CHO), 5.20(1H,d,J=5.65Hz,CHN), 6.90-7.30(10H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝25.73, 26.27, 29.59, 48.13, 56.37, 87.35, 126.10, 126.66, 127.58, 127.98, 128.23, 128.38, 129.25, 131.57, 137.47, 138.89, 168.00, 198.72。
ＭＳ（Ｅ．Ｉ．）：398(M+1,44%), 382, 340, 292, 280(100%), 250, 210, 162, 146, 105, 91, 77。
実施例１８
ｔ−ブチル（ベンゾキシ）チオアセテート
（式ＶＩの化合物：Ｒ₆＝^tＢｕ；Ｒ₁₀＝ＰｈＣＯ）
塩化メチレン（６５ｍＬ）中のＡｌＭｅ₃（ヘキサン中２．０Ｍ、３０．４ｍＬ、６０．８ミリモル）の溶液を０℃にて^tＢｕＳＨ（６．８５ｍＬ、６０．８ミリモル）で処理した。０℃にて２０分間の後、塩化メチレン（１５．２ｍＬ）中のグリコール酸メチルの溶液（０．７８６ｍＬ、１０．１ミリモル）を−１０℃にて添加した。混合物を０℃にて４８時間撹拌し、次いでＮＨ₄Ｃｌ飽和水溶液（３０ｍＬ）で反応停止させ、セライトで通して濾過し、セライトケーキを塩化メチレンで洗浄した。有機相を脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて粗製混合物を得、これをフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−エチルエーテル７：３）による精製して純粋なｔ−ブチル（ヒドロキシ）チオアセテート（０．７２ｇ、４８％）を得た。塩化メチレン（３２．５ｍＬ）中の上記化合物（０．７２ｇ、４．８８ミリモル）の溶液をＤＭＡＰ（０．０６ｇ、０．４８８ミリモル）とトリエチルアミン（１．０ｍＬ、７．３１８ミリモル）と塩化ベンゾイル（０．７３６ｍＬ、６．３４２ミリモル）とで０℃にて撹拌下に処理した。０℃にて３０分間の後、飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（１０ｍＬ）を添加し、有機相を分離し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて粗製化合物を得、これをフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−エチルエーテル９４：６）により精製して純粋なｔ−ブチル（ベンゾキシ）チオアセテート（１．０４ｇ、８５％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.52(9H,s,^tBu), 4.89(2H,s,CH₂), 7.45-7.65(4H,m,Ar-H), 8.10-8.18(2H,m,Ar-H)。
実施例１９
臭化ジ｛［（１Ｓ，２Ｓ，５Ｒ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素
（式ＶＩＩの化合物：Ｌ＝（−）メントンから；Ｘ＝Ｂｒ）
新たに蒸留したジクロルメタン（１７．０ｍＬ）中、文献［ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９２）、第５７巻、第５１７３頁；Angew. Chem. Int., Ed. Engl.（１９９３）、第３２巻、第１６１８頁；テトラヘドロン・レターズ（１９９４）、第３５巻、第４６２３頁参照］に記載されたようにして（−）−メントンから得た（−）−（２Ｓ，５Ｒ）−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチレンシクロヘキサン（９８％、５．５ｇ、３５．４８ミリモル）の溶液をＢｒＢＨ₂−ＳＭｅ₂（９５％、アルドリッチ社）（１．９９ｍＬ、１７．６８ミリモル）で０℃にてルゴン下に撹拌しながら処理した。反応混合物を室温にて１晩撹拌した。ハイドロボレーションの際に遊離した溶剤ジクロルメタンおよびジメチルスルフィドを減圧（０．１ｍｍＨｇ）下で除去し、残留物（濃厚液もしくは低融点の固体）を乾燥ジエチルエーテル（８．２ｍＬ）中にアルゴン下で室温にて溶解させた。この溶液から少量の不溶性残留物（白色粉末）を他のフラスコへカニューレで除去した。溶液を−５０℃まで冷却し、１．０時間にわたり結晶化させた。溶剤を二重先端針（カニューレ）によりアルゴン下で−５０℃にて除去した。残留する白色結晶を次いで乾燥ジエチルエーテル（５．０ｍＬ）に室温にて溶解させ、得られた溶液を（ゆっくり）−４０℃まで冷却し、１．０時間の後に母液をカニューレにより生成結晶から除去した。結晶を乾燥エーテル（５．５ｍＬ）に室温にて再溶解させた。溶液を（ゆっくり）−３０℃まで冷却し、１．０時間の後に母液をカニューレにより生成結晶から除去した。結晶（硼素原子１当量当り１当量のジエチルエーテルを含有）をアルゴン下で秤量した（３．０２ｇ、３６％）。ジアステレオマー間の比を、アルコール（１Ｓ，２Ｓ，５Ｒ）−１−（ヒドロキシメチル）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキサンおよび（１Ｒ，２Ｓ，５Ｒ）−１−（ヒドロキシメチル）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキサン（≧１００：１）の過酸化水素での分解およびＶＰＣ分析（ＯＶ−１カラム、７０〜１５０℃）により決定した。
¹¹ＢＮＭＲ［２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，２５℃，ＢＦ₃−Ｅｔ₂Ｏに対するｐｐｍ（０．０）］：δ＝７８．８３。
メタノール分解はＸ＝ＯＭｅを与えた：¹¹ＢＮＭＲ［２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃，２５℃，ＢＦ₃−Ｅｔ₂Ｏに対するｐｐｍ（０．０）］：δ＝５５．０５。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝53.30(OCH₃), 48.39, 42.26, 35.85, 31.38, 29.57, 26.17, 24.54, 22.74, 21.41, 20.69, 16.3（ブロード，Ｃ−Ｂ）。
Ｅｔ₂Ｏ中でのＨＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₂によるＸ＝ＯＭｅ処理はＸ＝ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨ₂を与えた：¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝65.52(OCH₂), 48.86, 42.62(CH₂ NH₂), 41.93, 35.98, 31.82, 29.41, 26.24, 24.51, 22.76, 21.45, 20.71, 16（ブロード，Ｃ−Ｂ）。
Ｃ₂₄Ｈ₄₈ＢＮＯの分析：
計算値：Ｃ76.37；Ｈ12.82；Ｎ3.71
実測値：Ｃ76.32；Ｈ12.91；Ｎ3.67
標記化合物（３．０２ｇ）をジクロルメタン（１２．９ｍＬ）に溶解させて０．４Ｍ保存溶液を調製し、冷蔵庫内に０℃にて数週間にわたり保ったが、顕著な分解は生じなかった。
上記と同じ手順にしたがい（＋）−メントンから得られた（＋）−（２Ｒ，５Ｓ）−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチレンシクロヘキサンの溶液から出発し、臭化ジ｛［（１Ｒ，２Ｒ，５Ｓ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素（式ＶＩＩの化合物：Ｌ＝（＋）メントンから；Ｘ＝Ｂｒ）を得た。
実施例２０
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル−Ｎ−デベンゾイルタキソール［タキソテア（Taxotere）］
（式Ｉの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝ｔ−ＢｕＯＣＯ；Ｒ₃＝Ｈ）
メタノール（１ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン（化合物ＩＶ：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄＝Ｒ₅＝Ｍｅ；Ｒ₇＝ｔ−ＢｕＯＣＯ；Ｒ₈＝Ｒ₉＝ＣＣｌ₃ＣＨ₂−ＯＣＯ−）（４６ｍｇ、０．０４ミリモル）の溶液をメタンスルホン酸（０．０４８ミリモル）で室温にて処理した。反応をＴＬＣにより監視し、数時間の後に水で希釈し、ジクロルメタン（×２）で抽出し、水洗し、Ｎａ₂ＳＯ₄で脱水し、次いで濃縮して粗製７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチルＮ−ｔ−ブトキシカルボニル，Ｎ−デベンゾイルタキソールを得た。この化合物をメタノール（１ｍＬ）に溶解し、酢酸（１ｍＬ）および粉末亜鉛（４０ｍｇ）で６０℃にて１時間処理し、標記化合物（２５．９６ｍｇ、７６％）を得た。
実施例２１
タキソール
（式Ｉの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝ＰｈＣＯ；Ｒ₃＝Ａｃ）
蟻酸（１ｍＬ）中の７−（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン（化合物ＩＶ：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄＝Ｒ₅＝Ｍｅ；Ｒ₇＝ｔ−ＢｕＯＣＯ；Ｒ₈＝Ａｃ；Ｒ₉＝ＣＣｌ₃ＣＨ₂−ＯＣＯ−）（４６ｍｇ、０．０４３ミリモル）の溶液を室温にて撹拌した。反応をＴＬＣにより監視し、４時間の後に水で希釈し、ジクロルメタン（×２）で抽出し、水洗し、Ｎａ₂ＳＯ₄で脱水し、次いで濃縮して粗製７−（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−Ｎ−デベンゾイルタキソールを得た。この化合物を酢酸エチル（１ｍＬ）に溶解し、次いで塩化ベンゾイルおよび炭酸水素ナトリウム水溶液で処理して粗製７−（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）タキソールを得た。この化合物をメタノール（１ｍＬ）に溶解し、酢酸（１ｍＬ）と粉末亜鉛（４０ｍｇ）とで６０℃にて１時間処理して標記化合物（２３．９ｍｇ、７０％）を得た。
実施例２２
Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１０−デアセチル−Ｎ−デベンゾイルタキソール（タキソテア）
（式Ｉの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₂＝ｔ−ＢｕＯＣＯ；Ｒ₃＝Ｈ）
蟻酸（１ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン（化合物ＩＶ：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄＝Ｒ₅＝Ｍｅ；Ｒ₇＝ｔ−ＢｕＯＣＯ；Ｒ₈＝Ｒ₉＝ＣＣｌ₃ＣＨ₂−ＯＣＯ−）（４６ｍｇ、０．０３８ミリモル）の溶液を室温にて撹拌した。反応をＴＬＣにより監視し、４時間の後に水で希釈し、ジクロルメタン（×２）で抽出し、水洗し、Ｎａ₂ＳＯ₄で脱水し、次いで濃縮して粗製７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル、Ｎ−デベンゾイルタキソールを得た。この化合物をＴＨＦ（１ｍＬ）に溶解し、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（ＢＯＣ₂Ｏ）および炭酸水素ナトリウム水溶液で処理して、粗製７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル，Ｎ−デベンゾイルタキソールを得た。この化合物をメタノール（１ｍＬ）に溶解し、酢酸（１ｍＬ）および粉末亜鉛（４０ｍｇ）により６０℃にて１時間処理して標記化合物（１９．１３ｍｇ、５６％）を得た。
実施例２３
７−（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄，Ｒ₅＝Ｍｅ；Ｒ₇＝ｔ−ＢｕＯＣＯ−；Ｒ₈＝ＣＨ₃ＣＯ；Ｒ₉＝ＣＣｌ₃−ＣＨ₂−ＯＣＯ−）
ＴＨＦ（０．７２ｍＬ）中の７−Ｔｒｏｃ−バッカチンＩＩＩ（２７．４ｍｇ、０．０３６ミリモル）およびｔ−ブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート（４９．６ｍｇ、０．１２６ミリモル）の溶液を、０℃にてアルゴン下に撹拌しながら、ＴＨＦ−ヘキサン６２：３８中のリチウムもしくはナトリウムヘキサメチルジシラジドの新たに調製された０．６Ｍ溶液（０．２７０ｍＬ、０．１６２ミリモル）で処理した。０℃にて２４時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（２ｍＬ）で反応停止させた。水相をエチルエーテル（３×３ｍＬ）で抽出し、有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル６５：３５）により精製して、純粋な７−（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン（２２．８ｍｇ、６０％）を得た。
［α］_D ²⁵＝−５４．７°（ｃ０．７、メタノール中）。
文献値［テトラヘドロン・レターズ（１９９２）、第３３巻、第５１８５頁］：
［α］_D ²⁵＝−５５．２°（ｃ０．５３、メタノール中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.11(9H,br.s,t-Bu), 1.18(3H,s,Me), 1.27(3H,s,Me), 1.77(3H,s,Me), 1.82(3H,s,Me), 1.83(3H,s,Me), 1.93(3H,s,Me), 2.0(3H,s,OCOMe), 2.2(3H,s,OCOMe), 2.05(1H,m,C6-H), 2.19(2H,m,C14-H), 2.60(1H,m,C6-H), 3.91(1H,d,J=6.95Hz,C3-H), 4.11(1H,d,J=8.0Hz,C20-H), 4.29(1H,d,J=8.0Hz,C20-H), 4.49(1H,d,J=5.7Hz,C2′-H), 4.65-5.05(2H,m,C-H[troc]), 4.93(1H,m,C5-H), 5.1(1H,m,C3′-H), 5.60(1H,dd,J=6.8,10.8Hz,C7-H), 5.65(1H,d,J=6.95Hz,C2-H), 6.26(1H,m,C13-H), 6.36(1H,s,C10-H), 7.20-7.40(5H,m,Ar-H), 7.50-7.60(3H,m,Ar-H), 8.02(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H)。
実施例２４
７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン
（式ＩＶの化合物：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄，Ｒ₅＝Ｍｅ；Ｒ₇＝ｔ−ＢｕＯＣＯ−；Ｒ₈，Ｒ₉＝ＣＣｌ₃−ＣＨ₂−ＯＣＯ−）
ＴＨＦ（０．５４５ｍＬ）中の７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩ［７，１０−ジＴｒｏｃ−１０−ＤＡＢＩＩＩ］（２４．４ｍｇ、０．０２７ミリモル）およびｔ−ブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート（４０．０ｍｇ、０．１０１ミリモル）の溶液を、０℃にてアルゴン下に撹拌しながら、ＴＨＦ−ヘキサン６２：３８中のリチウムもしくはナトリウムヘキサメチルジシラジドの新たに調製された０．６Ｍ溶液（０．２０２ｍＬ、０．１２１ミリモル）で処理した。０℃にて２４時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ₄Ｃｌ水溶液（２ｍＬ）で反応停止させた。水相をエチルエーテル（３×３ｍＬ）で抽出し、有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル６：４）により精製して、純粋な７，１０−ジ（２，２，２−トリクロルエチルオキシカルボニル）−１０−デアセチル−１３−Ｏ−［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−カルボニル］−バッカチン（２０．０ｍｇ、６１％）を得た。
［α］_D ²⁵＝−３７．１°（ｃ１．０、メタノール中）。
文献値［テトラヘドロン・レターズ（１９９２）、第３３巻、第５１８５頁］：
［α］_D ²⁵＝−３７．２°（ｃ１．０、メタノール中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.10(9H,br.s,t-Bu), 1.17(3H,s,Me), 1.27(3H,s,Me), 1.60(3H,s,Me), 1.75(3H,s,Me), 1.80(3H,s,Me), 1.95(3H,s,Me), 2.10(3H,s,OCOMe), 2.05(1H,m,C6-H), 2.20(2H,m,C14-H), 2.60(1H,m,C6-H), 3.90(1H,d,J=6.95Hz,C3-H), 4.10(1H,d,J=8.30Hz,C20-H), 4.28(1H,d,J=8.30Hz,C20-H), 4.50(1H,d,J=5.5Hz,C2′-H), 4.60(1H,d,J=11.0Hz,C-H[troc]), 4.65-4.90(2H,m,C-H[troc′]), 4.90(1H,d,J=11.0Hz,C-H[troc]), 4.95(1H,m,C5-H), 5.1(1H,m,C3′-H), 5.60(1H,dd,J=6.8,10.0Hz,C7-H), 5.65(1H,d,J=6.95Hz,C2-H), 6.25(1H,s,C10-H), 6.25(1H,m,C13-H), 7.20-7.40(5H,m,Ar-H), 7.50-7.60(3H,m,Ar-H), 8.02(2H,d,J=8.0Hz,Ar-H)。
実施例２５
ｔ−ブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート
（式ＩＩの化合物：

＝単結合；Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₄，Ｒ₅＝Ｍｅ；Ｒ₆＝^tＢｕ；Ｒ₇＝ｔ−ＢｕＯＣＯ）
トルエン（８．０ｍＬ）中のｔ−ブチル（２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート（０．０６０ｇ、０．１７ミリモル）の溶液をピリジニウムｐ−トルエンスルホネート（２．１４ｍｇ）および新たに蒸留された２−メトキシプロペン（０．３８４ｍＬ）で処理した。この混合物を室温にて５分間および８０℃にて４時間撹拌した。酢酸エチル（８ｍＬ）で希釈した後、有機相をＮａＨＣＯ₃飽和水溶液（３ｍＬ）とブライン（２×３ｍＬ）とで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて粗製混合物を得た。フラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−エチルエーテル９５：５）による精製は純粋なｔ−ブチル［（４Ｓ，５Ｒ）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２，２−ジメチル−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−５−イル］チオカルボキシレート（４２．５ｍｇ、６５．６％）を与えた。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ５０℃）δ＝1.19(9H,s,t-Bu), 1.51(9H,s,t-Bu), 1.73(3H,s,Me), 1.79(3H,s,Me), 4.37(1H,d,J=5.0,CHO), 5.0(1H,d,J=5.0Hz,CHN), 7.2-7.4(5H,m,Ar-H)。
¹³Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝26.147, 26.601, 27.918, 29.600, 47.764, 63.934, 87.156, 126.137, 127.361, 128.393, 151.472, 199.685。
ＩＲ（ＣＨＣｌ₃）選択ピーク：1702.84cm^-1［νＣＯ，伸縮，ｔ−ＢｕＳＣＯ］，1672.00cm^-1［νＣＯ，伸縮，ｔ−ＢｕＯ（ＣＯ）Ｎ］。
実施例２６
ｔ−ブチル３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート
（式ＩＸの化合物：Ｒ₁＝Ｐｈ；Ｒ₆＝^tＢｕ；Ｒ₇＝ｔ−ＢｕＯＣＯ）
エチルエーテル（１２．０ｍＬ）中の（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）チオアセテート（０．７０１ｇ、２．６７ミリモル）の撹拌溶液に、０℃にてアルゴン雰囲気下に、ジクロルメタン中の臭化ジ｛［（１Ｒ，２Ｒ，５Ｓ）−２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシ−１−イル］−メチル｝硼素の溶液（０．４Ｍ；１２．０ｍＬ、４．８ミリモル）および次いでＥｔ₃Ｎ（０．７０６ｍＬ、５．０７ミリモル）を滴下した。エノールボリネートが生成すると共にＥｔ₃Ｎ−ＨＢｒが生成および沈澱した。室温にて５時間の後、混合物を−７８℃まで冷却し、Ｎ−（トリメチルシリル）ベンズアルジミン（ＰｈＣＨ＝Ｎ−ＳｉＭｅ₃）（０．７１０ｇ、４．０ミリモル）を滴下した。得られた混合物を−７８℃にて０．５時間撹拌し、次いで徐々に２時間かけて−５℃まで加温し、−５℃にて１晩撹拌した。次いで混合物をｐＨ７の燐酸緩衝液（１２ｍＬ）で反応停止させ、ジクロルメタン（３×１０ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を合して脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。粗生成物をＭｅＯＨ−Ｈ₂Ｏ（１：１ｖ：ｖ、２４ｍＬ）／０．２５ＮＨＣｌに溶解させ、室温にて３時間撹拌した。得られた溶液を蒸発乾固させ、五酸化燐を含むデシケータ中で１晩にわたり真空ポンプ処理した（０．１ｍｍＨｇ）。固体残留物（１．０７４ｇ、２．６６ミリモル）を次いでジクロルメタン（４．４４ｍＬ）に溶解し、０℃にてトリエチルアミン（１．４８ｍＬ、１０．６４ミリモル）で処理し、さらに１０分間の後にジ−ｔ−ブチルジカーボネート（１．３２ｇ、６．０３ミリモル）で処理した。混合物を室温にて４時間撹拌し、次いでＮＨ₄Ｃｌで反応停止させ、ジクロルメタン（３×２０ｍＬ）で抽出した。有機相を飽和ブラインで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、さらに蒸発させた。粗製反応生成物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−エチルエーテル８：２）にかけてｔ−ブチル３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−フェニルチオプロピオネート（０．８１８ｍｇ、６５．７％収率）を得た。
混合物のｓｙｎ−ａｎｔｉ比を¹Ｈ−ＮＭＲ分析により、ｓｙｎ異性体およびａｎｔｉ異性体の該当ピークの積分で決定した（７０：３０）。
ｔ−ブチル（２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−フェニルチオプロピオネート［ｓｙｎ、混合物の７０％］：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝-0.47(3H,s,MeSi), -0.1(3H,s,MeSi), 0.85(9H,s,_tBuSi), 1.43(9H,s,^tBu), 1.54(9H,s,^tBu), 4.22(1H,br.s,CHOSi), 5.14(1H,d,J=9.0Hz,CHN), 5.59(1H,d,NH,J=9.0Hz), 7.19-7.33(5H,m,Ar-H)。
ｔ−ブチル（２Ｒ，３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−フェニルチオプロピオネート［ａｎｔｉ、混合物の３０％］：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝-0.03(3H,s,MeSi), 0.06(3H,s,MeSi), 0.94(9H,s,^tBuSi), 4.35(1H,d,CHOSi,J=4.6Hz), 4.95(1H,m,CHN)。
ピリジン（４９．８ｍＬ）およびアセトニトリル（２４．９ｍＬ）中のｔ−ブチル３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−フェニルチオプロピオネート（ｓｙｎ：ａｎｔｉ７０：３０）（０．４６０ｇ、０．９８５ミリモル）の溶液をアルゴン雰囲気下にＰｙ（３０％）−ＨＦ（７０％）（アルドリッチ試薬）の溶液（１１．７ｍＬ）で室温にて処理した。この混合物を５０℃にて加温し、５時間撹拌した。溶液をＨ₂Ｏで希釈し、酢酸エチル（３×５０ｍＬ）で抽出した。有機抽出物を合してＮａＨＣＯ₃（３×２５ｍＬ）によりｐＨ７まで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させた。混合物（ｓｙｎ：ａｎｔｉ７０：３０）をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：エチルエーテル６５：３５）にかけて、分析上純粋なｓｙｎジアステレオマー（０．１７０ｍｇ）およびａｎｔｉジアステレオマー（０．０７３ｍｇ）を得た（収率７０％）。
ｔ−ブチル（２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート［ｓｙｎ］：
［α］_D ²⁵＝−８．７°（ｃ１．０、ＣＨＣｌ₃中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.44(9H,s,^tBu), 1.56(9H,s,^tBu), 3.56(1H,br.s,OH), 4.43(1H,br.s,CHO), 5.21(1H,d,CHN,J=8.33Hz), 5.43(1H,d,NH,J=8.33Hz), 7.25-7.46(5H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝28.20, 29.66, 57.18, 79.88, 126.704, 127.440, 128.390, 139.154, 155.23, 201.97。
ｔ−ブチル（２Ｒ，３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネート［ａｎｔｉ］：
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.42(9H,s,^tBu), 1.44(9H,s,^tBu), 3.26(1H,d,OH,J=7.55Hz), 4.57(1H,dd,CHO,J=3.2,7.55Hz), 5.15(1H,dd,CHN,J=3.2,8.0Hz), 5.55(1H,d,NH,J=8.0Hz), 7.20-7.40(5H,m,Ar-H)。
¹³ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）選択ピークδ＝28.23, 29.6, 48.7, 79.29, 79.89, 155.07, 200.48。
ｔ−ブチル（２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートの絶対配置およびエナンチオマー過剰の決定
クロマトグラフィー処理したｔ−ブチル（２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルチオプロピオネートを鹸化し［（ａ）３０％Ｈ₂Ｏ₂（４当量）、ＬｉＯＨ水溶液（８当量）、ＴＨＦ、０℃、１５時間；（ｂ）Ｎａ₂ＳＯ₃］、対応の酸を得た。メタノール中の酸の溶液をエチルエーテル中のＣＨ₂Ｎ₂溶液で処理して対応のメチル（２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオネートを得た。［α］_D ²⁵＝−７．６°（ｃ１．１５、ＣＨＣｌ₃中）。
文献値［ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９０）、第５５巻、第１９５７頁）］：［α］_D ²⁵＝−７．０°（ｃ１．２、ＣＨＣｌ₃中）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝1.42(9H,s,^tBu), 3.2(1H,br.s,OH), 3.84(3H,s,OMe), 4.47(1H,CHO,m), 5.21と5.36(2H,br.d,NHとCHN), 7.25-7.40(5H,m,Ar-H)。
エナンチオマー過剰％をモッシャーエステル誘導体の¹Ｈ−ＮＭＲ分析により決定した。メチル（２Ｒ，３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルプロピオネートおよびメチル（２Ｓ，３Ｒ）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−Ｏ−［（Ｓ）−α−メトキシ−α−トリフルオロメチル）フェニル］アセチル−３−フェニルプロピオネートを調製し、ジャーナル・オーガニック・ケミストリー（１９９４）、第５９巻、第１２３８頁に記載されたように分析した。２Ｒ，３Ｓ：２Ｓ，３Ｒの比は≧９８：２であると判明した。
実施例２７
ｔ−ブチル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）チオアセテート
（式ＶＩの化合物：Ｒ₆＝ｔ−Ｂｕ；Ｒ₁₀＝ＴＢＤＭＳ）
グリコール酸メチル（０．７７６ｍＬ、０．９０５ｇ、１０．０ミリモル）を乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２．０ｍＬ）中のＴＢＤＭＳ−Ｃｌ（１．８１ｇ、１２．０ミリモル）およびイミダゾール（１．７ｇ、２５．０ミリモル）の懸濁物に０℃にて撹拌下に添加した。室温にて９０分間撹拌した後、水（２５ｍＬ）を添加し、得られた混合物をエチルエーテル（３×１５ｍＬ）で抽出した。有機相を合し、水（３×１５ｍＬ）で洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させてメチル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）アセテート（２．０ｇ、１００％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝0.12(6H,s,Me), 0.93(9H,s,^tBu), 3.75(3H,s,OMe), 4.26(2H,s,CH₂)。
塩化メチレン（３５．２８ｍＬ）中のＡｌＭｅ₃（ヘキサン中２．０Ｍ、８．８２ｍＬ、１７．６４ミリモル）の溶液を０℃にてｔ−ブチルメルカプタン（^tＢｕＳＨ）（１．９９ｍＬ、１７．６４ミリモル）で処理した。０℃にて２０分間の後、塩化メチレン（４．４１ｍＬ）中のメチル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）アセテート（ＴＢＤＭＳＯＣＨ₂ＣＯＯＭｅ）（１．８ｇ、８．８２ミリモル）の溶液を−２０℃にて添加した。この混合物を−２０℃にて２時間撹拌し、次いでエチルエーテルで希釈し、１．０Ｎの塩酸水溶液（１０ｍＬ）で反応停止させた。有機相を５％ＮａＯＨ水溶液と飽和ブラインとで洗浄し、脱水し（Ｎａ₂ＳＯ₄）、次いで蒸発させて粗製混合物を得、これをフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン−塩化メチレン８０：２０）により精製して、純粋なｔ−ブチル（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）チオアセテート（１．８１ｇ、７８％）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ＝0.10(6H,s,Me), 0.94(9H,s,^tBuSi), 1.47(9H,s,^tBuS), 4.16(2H,s,CH₂)。

Claims

式（Ｉ）：

［式中、Ｒ₁はアリールもしくはヘテロアリール基であり；Ｒ₂は水素、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルもしくはＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニルであり；Ｒ₃は水素もしくはアセチルである］
の化合物の製造方法であって、
式（ＩＩ）：

［式中、Ｒ₁は上記の意味を有し、記号

は単結合もしくは二重結合を示し、Ｒ₇はＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、アリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルであり、Ｒ₄およびＲ₅の各々は独立して水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールであり、Ｒ₆はＣ₁〜Ｃ₆アルキル、アリールもしくはヘテロアリールであり、ただし記号

が二重結合である場合Ｒ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］
の化合物を式（ＩＩＩ）：

［式中、Ｒ₈およびＲ₉の各々は独立してヒドロキシ保護基である］
の化合物と縮合剤の存在下に反応させて、式（ＩＶ）：

［式中、Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₇、Ｒ₈およびＲ₉、並びに記号

は上記の意味を有し、ただし

が二重結合である場合Ｒ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］
の化合物を得、
式（ＩＶ）の化合物を上記式（Ｉ）の化合物を生成させるような条件下で脱保護し、必要に応じ式（Ｉ）の化合物を式（Ｉ）の他の化合物に変換する、
ことを包含する前記方法。
Ｒ₁がフェニル、２−フリル、４−ピリジル、４−メトキシフェニルであり；Ｒ₂が水素、ベンゾイル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｐ−クロルフェニルカルボニル、ｐ−メチルフェニルカルボニルであり；Ｒ₃が水素、アセチルである式（Ｉ）の化合物を製造するに際し、請求項１に記載の式（ＩＩ）［式中、記号

は単結合もしくは二重結合であり、Ｒ₁は前記の意味を有し；
Ｒ₄およびＲ₅の各々は独立して水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、フェニル基、または１個もしくはそれ以上のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基で置換されたフェニル基であり；
Ｒ₆はＣ₁〜Ｃ₄アルキルもしくはフェニルもしくはピリジルであり；
Ｒ₇はエトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ベンゾイル、ｐ−クロルフェニルカルボニル、ｐ−メチルフェニルカルボニルであり；
ただし記号

が二重結合である場合Ｒ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はフェニル、または１個もしくはそれ以上のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基で置換されたフェニル基である］の化合物を、請求項１に記載の式（ＩＩＩ）［式中、Ｒ₈はアセチルもしくは２，２，２−トリクロルエトキシカルボニルであり；Ｒ₉はフェニルジメチルシリル、トリエチルシリル、２，２，２−トリクロルエトキシカルボニルである］の化合物と、縮合剤の存在下で反応させて、請求項１に記載の式（ＩＶ）［式中、記号

並びにＲ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₇、Ｒ₈およびＲ₉は前記の意味を有する］の化合物を得、式（ＩＶ）の化合物を上記式（Ｉ）の化合物を生成するような条件下で脱保護し、必要に応じ式（Ｉ）の化合物を式（Ｉ）の他の化合物に変換することを特徴とする請求項１に記載の方法。
請求項１に記載の式（Ｉ）［式中、Ｒ₁はフェニルであり；Ｒ₂はベンゾイル、ｔ−ブトキシカルボニルであり；Ｒ₃は水素もしくはアセチルである］の化合物を製造するに際し、請求項１に記載の式（ＩＩ）［式中、記号

は単結合もしくは二重結合であり、Ｒ₁は前記の意味を有し；Ｒ₄およびＲ₅の各々は独立して水素、メチル、エチル、メトキシ、フェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニルもしくは４−メトキシフェニルであり；Ｒ₆はｔ−ブチルもしくはフェニルであり；Ｒ₇はベンゾイルもしくはｔ−ブトキシカルボニルであり；ただし記号

が二重結合である場合Ｒ₄およびＲ₇は存在せず、Ｒ₅はフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニルもしくは４−メトキシフェニルである］の化合物を、請求項１に記載の式（ＩＩＩ）［式中、Ｒ₈はアセチルもしくは２，２，２−トリクロルエトキシカルボニルであり、Ｒ₉はトリエチルシリルもしくは２，２，２−トリクロルエトキシカルボニルである］の化合物と、縮合剤の存在下に反応させて、式（ＩＶ）［式中、記号

並びにＲ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₇、Ｒ₈およびＲ₉は前記の意味を有する］の化合物を得、式（ＩＶ）の化合物を脱保護して上記式（Ｉ）の化合物を生成し、必要に応じ式（Ｉ）の化合物を式（Ｉ）の他の化合物に変換することを特徴とする請求項２に記載の方法。
縮合剤がＮａＨ、ｎ−ＢｕＬｉ、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ＭＮＨ₂または式（Ｖ）：
ＭＮ［Ｓｉ（Ｒ）₃］₂ （Ｖ）
［式中、ＲはＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり、ＭはＬｉ、ＮａもしくはＫである］
の化合物である請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
縮合剤がチオフィリック金属塩である請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
チオフィリック金属塩を、Ｃｕ、ＡｇもしくはＨｇのトリフレート、トリフルオロアセテート、アセテートおよびメシレートから選択する請求項５に記載の方法。
式（ＩＩ）：

［式中、記号

は単結合もしくは二重結合を示し；
Ｒ₁はアリールもしくはヘテロアリールであり；
Ｒ₄およびＲ₅の各々は独立して水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、アリールもしくはヘテロアリールであり；
Ｒ₆はＣ₁〜Ｃ₆アルキル、アリールもしくはヘテロアリールであり；
Ｒ₇はＣ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、アリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルであり；
ただし記号

が二重結合である場合Ｒ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］
の化合物。
記号

が単結合もしくは二重結合であり；
Ｒ₁がフェニルであり；
Ｒ₄およびＲ₅の各々が独立して水素、Ｃ₁〜Ｃ₆アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃アルコキシ、フェニル、または１個もしくはそれ以上のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基により置換されたフェニル基であり；
Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₄アルキル、フェニルもしくはピリジルであり；
Ｒ₇がベンゾイル、ｔ−ブトキシカルボニルであり；
ただし記号

が二重結合である場合Ｒ₄およびＲ₇が存在せず、Ｒ₅がフェニル、または１個もしくはそれ以上のＣ₁〜Ｃ₄アルコキシ基で置換されたフェニル基である、ことを特徴とする請求項７に記載の式（ＩＩ）の化合物。
Ｒ₁がフェニルであり；
Ｒ₄およびＲ₅の各々が独立して水素、メチル、エチル、メトキシ、フェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニルもしくは４−メトキシフェニルであり；
Ｒ₆がｔ−ブチルもしくはフェニルであり；
Ｒ₇がｔ−ブトキシカルボニルもしくはベンゾイルであり；
ただし記号

が二重結合である場合Ｒ₄およびＲ₇が存在せず、Ｒ₅がフェニル、２，４−ジトメキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニルもしくは４−メトキシフェニルである、ことを特徴とする請求項８に記載の式（ＩＩ）の化合物。
（ａ）式（ＶＩ）：

［式中、Ｒ₆は請求項７に記載の意味を有し、Ｒ₁₀はアリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、トリアルキルシリルもしくは１−アルコキシアルキルである］
の化合物を式（ＶＩＩ）：
Ｌ₂ＢＸ（ＶＩＩ）
［式中、Ｌはキラル配位子であり、Ｘはハロゲン原子である］
の硼素錯体と反応させ、次いで式（ＶＩＩＩ）：
Ｒ₁−ＣＨ＝Ｎ−Ｚ（ＶＩＩＩ）
［式中、Ｒ₁は請求項７に記載の意味を有し、Ｚはトリアルキルシリル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニルである］
の化合物と、必要に応じ追加のルイス酸の存在下に、反応させ、および或いは、
（ｉ）Ｒ₁₀がアリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルであり、Ｒ₆がＣ₁〜Ｃ₆アルキルである場合、アリールカルボニルもしくはヘテロアリールカルボニルは酸素から窒素まで転移するか、または、
（ｉｉ）Ｒ₇Ｙ［式中、Ｒ₇は請求項７に記載の意味を有し、Ｙは−ＯＲ₁₀基を遊離ヒドロキシ基まで脱保護した後または脱保護する前の離脱基である］と反応させ、式（ＩＸ）：

［式中、Ｒ₁、Ｒ₆およびＲ₇は前記の意味を有する］
の化合物を得；次いで、
（ｂ）上記で得られた式（ＩＸ）の化合物を環化させるが、この環化を、
（ｂ′）主としてｓｙｎ配置である式（ＩＸ）の化合物を式（Ｘ）、（ＸＩ）もしくは（ＸＩＩ）：

［式中、Ｒ₄およびＲ₅は請求項７に記載の意味を有し、Ｒ₁₁はＣ₁〜Ｃ₃アルキル基である］
の化合物と反応させて、式（ＩＩ）［式中、記号

は単結合であり、Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇は前記の意味を有する］の化合物を得るか、または、
（ｂ″）主としてａｎｔｉ配置である式（ＩＸ）の化合物を脱水剤と反応させて、式（ＩＩ）［式中、記号

は二重結合であり、Ｒ₇およびＲ₄は存在せず、Ｒ₅はアリールもしくはヘテロアリールである］の化合物を得る、
ことによって行うことからなる請求項７に記載の式（ＩＩ）の化合物の製造方法。
Ｙがハライド、アジドもしくはＯＲ₇［ここでＲ₇は請求項７に記載の意味を有する］であることを特徴とする請求項１０に記載の方法。