JP3884820B2 - サブミクロンの特定の物体の位置を突き止めるための方法および装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の関連する技術分野】
本発明は一般に、製造プロセスおよびもっと特定すれば、周期的な配列における小さな（ミクロンないしサブミクロン）の物体の位置を精確に突き止めるための自動的な、非目視方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
今日のテクノロジーは、電気デバイスのような物体を極小のディメンジョンにおいて製造することを可能にした。ダイナミック・ランダム・アクセスメモリ（ＤＲＡＭ）セルのような物体は今日、サブミクロンのサイズまたはディメンジョンにおいて製造されている。このような非常に小さい物体は非常にしばしば、アレイとして周知の多数の群において使用されている。これらのアレイはしばしば、ウェファとして周知の扁平な面に配設されかつマウントされている。これらアレイは通例、周期的な秩序において配設されているので、それぞれの物体はウェファ上に独自のＸ−Ｙロケーションを有している。図１には、サブミクロンの物体の周期的に配設されたアレイの例が示されている。この例は、数千の物体を含むことができる非常に大きなスケールのアレイを表しており、その際各ドットはサブミクロンの物体を表しかつ破線はこれら物体の連続性を表している。物体のそれぞれはウェファ１２上に周期的に配設されているので、各物体は独自のＸ−Ｙロケーションを有していることが分かる。
【０００３】
これらアレイの製造プロセスまたは物理的な解析の期間中、個々の物体はしばしば、イメージング、マイクロ手術、修理またはマーキング等を実施するためにその位置が突き止められなければならない。作業されるべき特定の物体の位置を突き止めることは、アレイ内の正確なＸ−Ｙロケーションを検出することである。このことはしばしば、これら物体の大きな数および非常に小さなサイズのために実施するのが困難な作業になる可能性がある。実際には、以下に説明するように、走査電子マイクロスコープまたは集束されたイオンビーム源のような非常に精確な装置しか、この種のアレイ内の個々の物体のＸ−Ｙロケーションを精確に突き止めることができない。
【０００４】
走査電子マイクロスコープは、電子プローブを形成するために使用される電磁レンズと、サンプル上にビームを掃引する走査コイルと、増倍管と、陰極線管とを含んでいる。走査電子マイクロスコープは、サンプルの表面に、通例は１００Åより小さい電子の微細なプローブを爆射することによって動作する。サンプルは、１次ビームの作用によって生成される２次ビームを放出する。２次ビームは検出器によって収集されかつそれから増倍される。増倍された２次電子は更に、サンプルのイメージを生成するために陰極線管に供給される。
【０００５】
集束されたイオンビーム源は走査電子マイクロスコープと類似して、サンプルに物質流を爆射することによってイメージを生成するように動作するが、集束されたイオンビームの場合、物質流はイオンビームである。集束されたイオンビーム源および走査電子マイクロスコープとも、今日、多かれ少なかれ精確な手動またはモータ式基台を装備している。これら装置の基台がサンプルを支持しかつ移動し、これら装置のイオンまたは電気ビームがサンプルを走査できるようにする。集束されたイオンビーム源および走査電子マイクロスコープはともに、サンプルの見かけ上のイメージまたは線形のグラフィカル信号を生成することができる。見かけ上のイメージは複数の走査ラインによって定義され、一方線形のグラフィカル信号は単一の走査ラインによって定義される。
【０００６】
上述したように、走査電子マイクロスコープまたは集束されたイオンビーム源のような装置は今日、上述したように、アレイにおける特定のサブミクロンデバイスのＸ−Ｙロケーションを突き止めるために使用される。アレイにおける興味のある場所は、装置の基台をＸおよび／またはＹ方向に移動しかつ同時にデバイスのイメージング領域を通過するデバイスを目視により計数することによって突き止められる。興味ある場所までの目視による計数は非常に時間を消費しかつ信頼できない方法である。この計数は、再現可能に検出されることを保証するために、興味ある場所まで２回または３回と繰り返されなければならないことが非常に多い。従って、このプロシージャは、装置および人に対する依存性を鑑みれば高価であり、しかも不精確である。
【０００７】
アレイにおける１つのデバイスを精確にその位置について決定する問題は、その他の方法によって容易には解決されない。例えば、この問題は、高精度のモータ式基台を使用しかつ興味のあるデバイスまでの距離を測定することによって解決することはできない。その理由は、申し分なく精確な基台は、もし使用可能であったとしても、使用が不可能である程高価であるからだ。コンピュータ支援全パターン識別システムの使用も非常に高価でありかつ、生じるパターンは（殊に、デバイスの物理的な解析に対するより戻しプロシージャ（unlayring procedure）の期間は）完全に断定可能でないという理由から好適ではない。
【０００８】
【発明が解決すべき課題】
従って本発明の課題は、周期的に配設されたアレイ内のサブミクロンの物体を精確にその位置について定めるための比較的安価な方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
線形のグラフィカルモードにおいて作動する走査子を使用して周期的に配設されたサブミクロンの物体のアレイ内の特定のサブミクロンの物体の位置を突き止めるための方法であって、該走査子は物体を走査ラインに沿って走査しかつ該ラインに沿ってピックアップされた信号を出力する形式の方法において、アレイ内に含まれているサブミクロンの物体に相応する数のパルスを発生するためにアレイを走査するステップと、周期的に配置されたウィンドウを定めるステップと、複数のパルスから、当該パルスが前記ウィンドウの外側にあるとき該パルスを除去しかつ複数のパルスから、当該パルスが前記ウィンドウの内側にあるとき該パルスを受け取るという、複数のパルスを処理するステップと、アレイ内の特定の物体の位置を突き止めるために受け取られたパルスを計数するステップとから成る方法が提案される。
【００１０】
線形のグラフィカルモードにおいて作動する走査子を使用して周期的に配設されたサブミクロンの物体のアレイ内の特定のサブミクロンの物体の位置を突き止めるための装置であって、該走査子は物体を走査ラインに沿って走査しかつ該ラインに沿ってピックアップされた信号を出力する形式の装置において、アレイ内に含まれているサブミクロンの物体に相応する数のパルスを発生するためにアレイを走査するための手段と、周期的に配置されたウィンドウを定めるための手段と、複数のパルスから、当該パルスがウィンドウの外側にあるとき該パルスを除去しかつ複数のパルスから、当該パルスがウィンドウの内側にあるとき該パルスを受け取るという、複数のパルスを処理するための手段と、アレイ内の特定の物体の位置を突き止めるために受け取られたパルスを計数するための手段とから成る装置も提案される。
【００１１】
【実施例】
次に本発明を図示の実施例につき図面を用いて詳細に説明する。
【００１２】
本発明は、周期的に配設されているアレイにおける非常に小さな（サブミクロンに及ぶ）物体の位置を精確に突き止めるための方法に基づいている。このような周期的に配設されているアレイの一例が図１に示されている。図示されているアレイ１０は、周期的な配列においてウェファ１２にマウントされている複数のサブミクロンの物体から成っているので、それぞれの物体は独自のＸ−Ｙロケーションを有している。物体はいずれかの平坦な面上にマウントすることができる。上述した例は、電気デバイスの分野において一般に使用されているようなものである。本発明は電気デバイスの分野において非常に有用であるが、いずれか特定の分野への使用に限定されるものではない。本発明は、アレイにおいて周期的に配設されたいずれかのタイプの小さな（サブミクロンに及ぶ）物体の位置を突き止めるために使用することができる。
【００１３】
本発明の方法は、前以て決められた位置１６からＸおよびＹ両方向において物体の数を計数することによってアレイ１０における特定のサブミクロンの物体の位置を突き止める。この計数はまず、アレイのＸおよび／またはＹ方向において遭遇する物体に相応する数のパルスを発生することによって実施される。それから特定の物体１４のロケーションが、該特定の物体１４の所望のロケーションに相応する、両方向におけるパルスの数を計数することによって検出される。
【００１４】
図２には、本発明の方法に使用される装置１８のブロック線図が示されている。本発明の方法に使用される装置の第１の素子は、走査子２０である。走査子２０は、アレイ内に遭遇するサブミクロンの物体の数に相応するパルス３０を発生するために使用される。
【００１５】
走査子２０は、走査電子マイクロスコープかまたはフォーカスイオンビーム装置によって実現されている。これは、比較的大きな物体用の走査光ビーム（レーザ）であってもよい。本発明において、上述したように、アレイのＸおよびＹ両方向においてパルス３０を発生するために、いずれかの装置がリニヤなグラフィカルモードにおいて使用される。リニヤなグラフィカルモードにおいて、いずれかの装置が単一のラインに沿って興味のある物体を走査しかつこのラインに沿ってピックアップされた信号がスクリーン上に表示される。表示された信号は、興味のある物体によって発生される２次電子の強度に比例している振幅を有する電気信号である。
【００１６】
図３および図４には、本発明によるリニヤなグラフィカルモードにおいていずれかの装置によって発生される波形が例示されている。これらの波形は、図２に示されているように、サブミクロンの物体のアレイを走査することによって発生されたものである。図３および図４から分かるように、周期的な信号が発生される。この信号は、図５に示されているノイズレベル３６より十分に上方にある申し分なく定義されているピークまたはパルス３０を有している。パルス３０はアレイ内の物体に相応しており、一方低いレベル３２は物体間の空間に相応している。固定ライン３４は、それに沿って線形のグラフィカル信号を取り出すラインである。この種のいずれかの装置によって発生される論理レベルは、カウンタのようなデジタル回路とコンパチブルであるパルス３０を形成する標準５Ｖであることも述べておく。
【００１７】
今日、走査電子マイクロスコープおよびフォーカスイオンビーム装置は多かれ少なかれ、精密な手動またはモータ駆動式基台を装備している。この基台が興味ある物体を支持しかつ移動し、その間に基台はこれら装置のビームによって走査されるのである。手動の基台は通例、ユーザがこの基台をＸ方向かまたはＹ方向に移動することができるようにするバーニャノブを有している。一方モータ駆動式基台は、該基台をＸ方向かまたはＹ方向に移動するための相応のステッパモデルを有している。
【００１８】
本発明の方法は、手動またはモータ駆動式基台を有している装置を使用することを想定している。両方のタイプの基台とも、アレイを申し分なく正確に移動することができるので、アレイは精確に走査されかつ適正な時点で停止することができる。しかし、モータ駆動式基台を使用する走査電子マイクロスコープまたはフォーカスイオンビーム装置を用いれば最良の結果が得られる。
【００１９】
図２に戻って、それから走査子２０によって発生されたパルス３０は、パルスプロセッサ２２に供給される。パルスプロセッサ２２は、アレイ内の実際の物体に相応するパルス３０のみが識別または計数されることを保証する。アレイの物体間に位置している汚染粒子が誤ったパルスを発生する可能性がある。このような誤ったパルスは、走査ラインに沿ったパルスの周期性を利用しかつアレイ内の２つの実際の物体の間のいずれのパルスも受け取らないようにすることによって除去される。パルスの周期性は、計数されるべきパルスが受け取られる、基台の走査ラインに沿ったウィンドウを定めることによって利用される。パルスがこのようなウィンドウ内にあるならば、パルスは受け取られ、パルスがこのようなウィンドウの外にあるならば、パルスは拒絶される。この種のウィンドウの繰り返し数（ｆ_Ｗ）は次式によって計算される：
ｆ_Ｗ＝（Ｓ_ｓＮ）／ Ｌ_Ａ （１）
上式中
Ｓ_ｓ＝基台の速度
Ｎ＝アレイの所定の方向における物体の番号
Ｌ_Ａ＝所定の方向におけるアレイの長さ
高度に精密な基台は２つの手法において使用することができる：１）基台の長さ測定は、入力が受け取られる上述のウィンドウを定めるために使用することができる。２）物体の既知の間隔に関連して物体によって発生されるパルスを、基台の長さ測定の不正確さを補正するために使用することができる。この場合、基本的に、物体は高度な精密基台を使用する長さ測定によって検出される（基台の不正確さは複数のパルスによって補正される）。大きな汚染粒子の場合、パルスプロセッサ２２はパルスを受け取ることを拒否しかつオペレータは手動で、パルスを沿って発生するために別のＸ−Ｙ方向を選択する。しかし、この種の大きな粒子は良好な製造プロセスまたは良好な物理的な解析プロシージャにおいて生じる可能性はありそうもない。
【００２０】
パルスプロセッサ２２は更に、走査子２０によって発生されるパルス３０をフィルタリングすることを含んでいる。フィルタリング部はパルスを、パルスの勾配および高さを利用して矩形の信号に変換する。この種の変換により、走査子２の出力がカウンタのようなデジタル回路によって一層容易に識別できるようになる。この種のフィルタリングは十分周知であり、リミッタ、シュミットトリガ等のような回路を使用することによって実現されている。
【００２１】
それから処理されたパルス２２ａがカウンタ２４に供給される。カウンタ２４は受信したパルスの計数値２４ａを発生し、その際特別な計数値はＸおよび／またはＹ方向において走査子２０が遭遇した物体の数に相応している。これにより本発明では、アレイにおける走査子２０の位置のトラックを保持することができることになる。それからパルス計数値２４ａはコンパレータ２６に供給される。コンパレータ２６は、パルスが発生されたものとしてのパルス計数値２４ａを、アレイのＸまたはＹのいずれかの方向における位置特定すべき特定のサブミクロンの物体のロケーションに相応する前以て決められた数と比較する。計数値２４ａが前以て決められた数に等しいとき、コンパレータは走査終了信号２６ａを発生し、この信号によって基台の移動、または計数が終了する。当業者であれば、カウンタおよびコンパレータを使用することは本発明を実施するための数多くの方法の１つにすぎないことは自明のことである。例えば、コンパレータ２６は、プログラマブルカウンタが使用されているとき、省略することができる。この種のカウンタでは、コンパレータ２６の必要性がなくなる。というのは、それは、アレイ内の物体のロケーションに相応する前以て決められた計数値まで計数するようにプログラミングすることができるからである。
【００２２】
カウンタ２４およびコンパレータ２３は有利には、別個のデジタル回路またはマイクロプロセッサ内のソフトウェア機能として実現されている。これにより、本発明の方法は、自動的に、アレイ内の特定の小さな物体の位置を非視認方法で申し分なく突き止めることができることになる。
【００２３】
それから終了走査信号２６ａは走査を終了するための手段２８に供給される。手動基台を備えた走査子２０の場合、走査終了手段２８はオペレータに、基台を移動するのを停止するように警告するライトまたはブザーのような指示装置として実現されている。一方モータ駆動式基台を備えた走査子２０の場合、走査終了手段２８は、単純に、駆動段を駆動するモータへの電力を遮断するスイッチング回路として実現されている。上述したように、走査子は、アレイを非常に精確かつ緩慢な手法で移動することができる手動かまたはモータ式駆動段を含んでいる。それ故に、走査子２０が位置特定すべき、アレイ内の特定の物体を通過する前に、走査子を停止するのに十分な時間が設定されている。そうでなければ、光は実際の物体を読み取る前に２つまたは３つの物体に基づいて切り換えられる可能性があるか、または基台のモータは当該物体が読み取られる少し手前に減速されてしまう可能性がある。
【００２４】
図６には、本発明の周期的に配設されたサブミクロンの物体の位置を突き止めるための方法３８のフローチャートが示されている。この方法３８の第１のステップは、走査子の基台内にアレイを位置決めするためのステップ４０を含んでいる。アレイは基台内に位置決めされているので、走査子はアレイ内の前以て決められたロケーションから走査開始する。従って、アレイにおける何れか別の物体は、このロケーションからＸおよび／またはＹ方向に移動することによって位置が突き止められる。
【００２５】
位置決めステップ４０の後、アレイのＸおよびＹ方向は走査子のビームおよび基台の移動のＸおよびＹ方向とアライメントされる（４２）。基台および走査ビームの方向は独立に回転することができる。アレイが走査されている間、信号またはパルスの消失を防止するためにこのアライメントが必要である。手動の基台を用いている場合でさえ、この種のアライメントが容易に実現され、その結果数百ミクロンの距離にわたって、走査する方向に対して垂直である方向における偏差が信号を消失することがない程度に十分小さいことが示されている。
【００２６】
自動化されたアライメントが使用可能でなければ、アライメント（手動およびモータ駆動）は、基台をＸ（Ｙ）方向に移動しかつ長い距離にわたりＹ（Ｘ）方向における偏差を観測することによって行われる。基台は、基台移動の方向に対して垂直である偏差が観測されなくなるまで、回転される。一方、モータ駆動される基台においては、アライメントは走査子によって自動的に実施される。数多くのモータ駆動式走査電子マイクロスコープおよび集束されたイオンビーム装置は、物体を走査ビームに自動的にアライメントする能力を有している。これらの装置はこのことを、装置内のソフトウエア機能はアレイがアライメントされたことを検出するまで、付加的なモータによって基台を回転することによって実施する。
【００２７】
それから、アライメントステップ４２の後、アレイは第１の方向において走査される（４４）。このことは、走査子の走査ビームを付勢しかつそれから基台をＸ方向またはＹ方向に移動させることによって実施される。これにより走査子は、アレイの第１の方向における走査の間に走査子が遭遇した物体に相応するパルスを発生することになる。
【００２８】
アレイの構造が、最初アレイのどの方向が走査されるかを決定する。長方形または正方形の構造を有するアレイに対して、どの方向が最初に走査されるかは重要でない。
【００２９】
しかし図１に示されているような不規則な構造を有するアレイに対して、最初どの方向が走査されるかは重要である。前以て決められたロケーション１６からスタートすることによって物体１７の位置を突き止めるために、図１から、走査されるべき第１の方向はＸ方向でなければならないことは明らかである。もし走査されるべき第１の方向がＹ方向であるならば、走査子はそこからパルスを発生するためにいずれの物体にも遭遇しないことになる。これでは本発明の方法が作動しないことになる。というのは計数されるべきパルスが生じないからである。
【００３０】
図６に戻って、それから、第１の方向においてアレイを走査する間（４４）に発生されたパルスが処理される（４６）。既述したように、処理プロセス（４６）は、アレイにおける実際のサブミクロンの物体に相応しない誤ったパルスを除去するプロセスを含んでいる。処理プロセス４６は、パルスを矩形の信号に変換するフィルタリングも含んでいる。
【００３１】
処理プロセス４６は更に、基台の偏差を補償するために走査子のアライメントを電子的または手動で調整することを含んでいる。これにより、パルスが最大ピークを有していることが保証される。このことは、パルス振幅を前以て決められたしきい値と比較することによって実施されかつパルス振幅がこのしきい値を下回ったとき、アライメントシーケンスは走査子内で初期化される。アライメントシーケンスは、最大ピーク高さが再び実現される（基台は停止されるかまたは移動している）まで、計数のその時の方向に対して垂直方向に走査ラインの基台が移動するようにしてもよい。
【００３２】
それから処理されたパルスが計数され（４８）、このことは、アレイ内で走査子が遭遇した物体の数を指示するパルス計数値を発生する。計数ステップ４８の間、発生されたパルス計数値も、アレイの第１の方向における特定の物体のロケーションに相応する前以て決められた数と比較される。この比較ステップ５０は、パルス計数値が、アレイの第１の方向において位置を突き止めるべき特定の物体のロケーションに走査子が達したことを意味する、前以て決められた数に等しくなるまで続行される。
【００３３】
計数および比較ステップ５０，５２は有利には、既述したような電子手段によって実施される。しかし、本発明の方法は、ユーザが走査子のディスプレイから見られるものとしてのパルスを目視的に計数および比較するによって成功裡に実施された。本発明のこの試行は、走査子として Hitachi SEMを使用して実施された。
【００３４】
パルス計数値が前以て決められた数を計数するとき、第１の方向における走査は終了する（５２）。このステップ５２は、手動基台態様においては、ユーザが第１の方向に関連したバーニャノブの回転を終了することによって実施される。モータ駆動式基台においては、このステップ５２は、基台を第１の方向に駆動するモータに対する電力を遮断することによって実施される。
【００３５】
第１の方向における走査の終了後（５２）、走査子は第２の方向においてアレイを走査開始する（５４）。第２の方向は、走査子が第１の方向において走査したとき（４４）走査子がとらなかったＸまたはＹ方向である。このステップ５４は、アレイの第２の方向において走査子が遭遇する物体に相応するパルスを発生する。発生されたパルスは再び処理され（５６）、かつそれからステップ４６，４８および５０において既に説明したように比較される（６０）。
【００３６】
比較ステップ６０において、第２の方向において遭遇した物体に相応するパルス計数値が、アレイの第２の方向における特定の物体のロケーションに相応する前以てきめられた数と比較される。この比較ステップ６０は、パルス計数値が、第２の方向に相応する前以て決められた数に等しくなるまで実施される。このことは、走査子がアレイの第２の方向における特定の物体のロケーションにも達したことを意味している。この時点において第２の方向における走査は終了する（６２）。というのはアレイにおける特定の物体の位置が突き止められたからである。
【００３７】
本発明は、走査終了ステップ６２を省略するように構成されていることもできる。このことで本発明は、アレイ内の物体の数を突き止めるために連続的に走査することができることになる。
【００３８】
本発明をその有利な実施例を参照して図示しかつ説明してきたが、当業者であれば、本発明の精神および範囲を逸脱しない限りは形態および詳細を変化することが可能であることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図１】周期的に配設されたサブにクロンのアレイの一例を示す略図である。
【図２】本発明の方法に使用される装置のブロック線図である。
【図３】本発明の走査子によって発生される一連のパルスの波形図である。
【図４】本発明の走査子によって発生される一連のパルスの別の波形図である。
【図５】本発明の走査子によって発生されるノイズレベルの波形図である。
【図６】本発明の周期的に配設されたサブミクロンの物体の位置を突き止める方法のフローチャートを示す略図である。
【符号の説明】
１０ アレイ、 １２ ウェファ、 １８ 特定の物体の位置を突き止める装置、 ２０ 走査子、 ２２ パルスプロセッサ、 ２４ カウンタ、 ２６ コンパレータ、 ２８ 走査終了手段

Claims (14)

1. 線形のグラフィカルモードにおいて作動する走査子（２０）を使用して周期的に配設されたサブミクロンの物体のアレイ（１０）内の特定のサブミクロンの物体の位置を突き止めるための方法であって、該走査子は物体を走査ラインに沿って走査しかつ該ラインに沿ってピックアップされた信号を出力する形式の方法において、
   前記アレイ内に含まれているサブミクロンの物体に相応する数のパルスを発生するためにアレイを走査するステップ（４４，５４）と、
   周期的に配置されたウィンドウを定めるステップと、
   前記複数のパルスから、当該パルスが前記ウィンドウの外側にあるとき該パルスを除去しかつ前記複数のパルスから、当該パルスが前記ウィンドウの内側にあるとき該パルスを受け取るという、前記複数のパルスを処理するステップ（４６，５６）と、
   前記アレイ内の特定の物体の位置を突き止めるために前記受け取られたパルスを計数するステップ（４８，５８）と
   から成る方法。
2. 前記走査子（２０）は、走査電子マイクロスコープ、集束されたイオンビーム源および光ビーム源（レーザ）から成る群から選択される装置である
   請求項１記載の方法。
3. 更に、信号の消失を防止するために前記走査ステップの前に前記アレイを前記走査子にアライメントするステップ（４２）を含んでいる
   請求項１記載の方法。
4. 前記処理ステップは更に、前記複数のパルスを矩形の信号に変化するために前記複数のパルスをフィルタリングするステップを含んでいる
   請求項１記載の方法。
5. 前記処理ステップ（４６，５６）は、前記複数のパルスの振幅を前以て決められたしきい値と比較して、前記振幅が前記しきい値を下回るときに前記走査子内のアライメントシーケンスを開始するステップを含んでいる
   請求項１記載の方法。
6. 前記計数ステップ（４８，５８）を電子的に実施する
   請求項１記載の方法。
7. 前記計数ステップ（４８，５８）は一連の計数値を発生し、該一連の計数値を、前記アレイ内の特定の物体の位置を突き止めるために前以て決められた数と比較する（５０，６０）
   請求項６記載の方法。
8. 前記走査を前以て決められたロケーションからスタートする
   請求項１記載の方法。
9. 前記走査ステップは、前記アレイの第１の方向におけるサブミクロンの物体に相応する数のパルスを発生するために前記アレイを前記第１の方向において走査するステップ（４４）と、
   前記アレイ内の前記第１の方向における特定の物体の位置を突き止めるために前記複数のパルスを計数するステップ（４８）と
   から成る
   請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
10. 更に前記計数ステップの後に、
    前記アレイの第２の方向におけるサブミクロンの物体に相応する第２の数のパルスを発生するために前記アレイを前記第２の方向において走査するステップ（５４）と、
    前記アレイの前記第２の方向における特定の物体の位置を突き止めるために前記第２の複数のパルスを計数するステップ（５８）と
    を含んでいる
    請求項９記載の方法。
11. 前記第１の方向および前記第２の方向は垂直である
    請求項１０記載の方法。
12. 前記計数ステップの両方は一連の計数値を発生し、該一連の計数値の両方を、前記アレイ内の特定の物体の位置を突き止めるために前以て決められた数と比較する
    請求項１０記載の方法。
13. 線形のグラフィカルモードにおいて作動する走査子（２０）を使用して周期的に配設されたサブミクロンの物体のアレイ（１０）内の特定のサブミクロンの物体の位置を突き止めるための装置であって、該走査子は物体を走査ラインに沿って走査しかつ該ラインに沿ってピックアップされた信号を出力する形式の装置において、
    前記アレイ内に含まれているサブミクロンの物体に相応する数のパルスを発生するためにアレイを走査する（４４，５４）ための手段と、
    周期的に配置されたウィンドウを定めるための手段と、
    前記複数のパルスから、当該パルスが前記ウィンドウの外側にあるとき該パルスを除去しかつ前記複数のパルスから、当該パルスが前記ウィンドウの内側にあるとき該パルスを受け取るという、前記複数のパルスを処理する（４６，５６）ための手段と、
    前記アレイ内の特定の物体の位置を突き止めるために前記受け取られたパルスを計数する（４８，５８）ための手段と
    から成る装置。
14. 前記走査子（２０）は、走査電子マイクロスコープ、集束されたイオンビーム源および光ビーム源（レーザ）から成る群から選択される装置である
    請求項１３記載の装置。

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