KR970066636A - 주기적으로 배열된 미크론이하의 대상물을 배치하기 위한 자동 비시각적 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 스캐닝 장치를 이용하여 주기적으로 배열된 대상물의 어래이내에 특히 작은 크기의 대상물(미크론 이하의 대상물)을 배치시키기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 어래이내에 포함된 대상물에 대응하는 다수의 펄스를 발생시키기 위해 어레이를 스캐닝하는 단계와, 어래이내에 특정 대상물을 배치시키기 위해 다수의 펄스를 카운팅하는 단계를 포함한다.

Description

주기적으로 배열된 미크론이하의 대상물을 배치하기 위한 자동 비시각적 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제2도는 본 발명에 따른 방법에 사용되는 장치의 블록도, 제6도는 본 발명에 따라 주기적으로 배열된 미크론 이하의 대상물을 배치하기 위한 방법의 흐름도.

Claims (20)

1. 선형 그래픽 모드에서 동작하는 스캐닝 장치를 이용하여 주기적으로 배열된 미크론 이하의 대상물의 어레이내에 특정 미크론 이하의 대상물을 배치하기 위한 방법에 있어서, 어레이내에 포함된 미크론 이하의 대상물에 대응하는 다수의 펄스를 발생시키기 위해 상기 어레이를 스캐닝하는 단계와; 어레이내에 특정 대상물을 배치시키기 위해 상기 다수의 펄스를 카운팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 스캐닝 장치는 전자 현미경, 포커싱 이온빔장치 및 광학빔(레이저)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 장치인 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 신호의 손실을 막기 위해 상기 스캐닝 단계전에 스캐닝장치를 사용하여 어레이를 정렬시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 카운팅 단계전에, 오류 펄스를 제거하기 위해서 상기 다수의 펄스를 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제4항에 있어서, 상기 오류 펄스는 카운팅될 펄스만이 허용되는 윈도우를 규정함으로서 제기되는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제4항에 있어서, 상기 처리 단계는 상기 다수의 펄스를 직각신호로 변환하기 위해 상기 다수의 펄스를 필터링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제4항에 있어서, 상기 처리 단계는 상기 다수의 펄스의 진폭이 소정 임계치 이하로 감소될 때 스캐닝 장치내의 정렬 시퀸스를 초기화하기 위해서 상기 다수의 펄스의 진폭을 상기 소정 임계치에 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제1항에 있어서, 상기 카운팅 단계는 전기적으로 달성되는 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제8항에 있어서, 상기 카운팅 단계는 일련의 카운트를 발생시키며, 어레이내에 특정 대상물을 배치시키기 위해서 상기 일련의 카운트를 소정 수에 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제1항에 있어서, 상기 스캐닝 단계는소정 위치에서부터 시작하는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 선형 그래픽 모드에서 동작하는 스캐닝 장치를 사용하여 주기적으로 배열된 미크론 이하의 대상물의 어레이내에 특정 미크론 이하의 대상물을 배치하기 위한 방법에 있어서, 어레이의 제1방향 미크론 미크론 이하의 대상물에 대응하는 다수의 펄스를 발생시키기 위해 제1방향으로 어레이를 스캐닝하는 단계와; 상기 어레이의 제1방향으로 특정 대상물을 배치시키기 위해 다수의 펄스를 카운팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 카운팅 단계 다음에, 어레이의 제2방향의 미크론 이하의 대상물에 대응하는 다수의 제2펄스를 발생시키기 위해 상기 제2방향으로 상기어레이를 스캐닝하는 단계와; 상기 어레이의 제2방향으로 특정 대상물을 배치시키기 위해 사이 다수의 제2펄스를 카운팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제12항에 있어서, 상기 제1방향 및 상기 제2방향은 수직인 것을 특징으로 하는 방법.
14. 제13항에 있어서, 상기 스캐닝 장치는 스캐닝 전자 현미경, 포커싱 이온빔장치 및 광비(레이저)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 장치인 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제14항에 있어서, 상기 각각의 카운팅 단계전에 오류 펄스를 제거하기 위해서 상기 다수의 펄스 및 상기 다수의 제2펄스 둘다를 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
16. 제15항에 있어서, 상기 오류 펄스는 카운팅될 펄스만이 허용되는 윈도우를 규정함으로서 제거되는 것을 특징으로 하는 방법.
17. 제16항에 있어서, 상기 카운팅 단계는 둘다 전기적으로 달성되는 것을 특징으로 하는 방법.
18. 제17항에 있어서, 상기 카운팅 단계는 둘다 일련의 카운트를 발생시키며, 어레이내에 특정 대상물을 배치시키기 위해 상기 일련의 카운트를 소정 수에 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
19. 주기적으로 배열된 미크론 이하의 대상물의 어레이내에 특정 미크론 이하의 대상물을 배치하기 위한 시스템에 있어서, 어레이내의 미크론 이하의 대상물에 대응하는 다수의 펄스를 발생시키기 위해 어레이를 스캐닝 하는 장치와; 어레이내에 특정 대상물을 배치시키기 위해 상기 다수의 펄스를 발생시키기 위해 어레이를 스캐닝하는 스캐닝 장치와; 어레이내에 특정 대상물을 배치시키기 위해 상기 다수의 펄스를 카운팅하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
20. 제19항에 있어서, 상기 스캐닝 장치는 스캐닝 전자 현미경, 포커싱 이온빔장치 및 광학빔(레이저)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 장치인 것을 특징으로 하는 시스템.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.