JP3863988B2 - 蒸着装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、蒸着装置の技術分野にかかり、特に、真空槽内の真空雰囲気を維持したまま蒸着源を交換する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
有機化合物は、無機物と比較して、多様な反応系・特性が利用できることや、無機物よりも低エネルギーで表面処理ができることから、近年では、有機化合物を用いた機能性有機薄膜が着目されている。
【0003】
機能性有機薄膜を利用するものには、有機EL素子、圧電センサ、焦電センサ、電気絶縁膜等があるが、それらのうち、有機EL素子は、ディスプレイパネルとして利用できることから近年特に注目されており、有機ELディスプレイパネルを量産するために、多数の大面積基板に連続的に有機薄膜を形成できる技術が求められている。
【0004】
一般的な有機EL素子は、図6に示すように、予め透明導電膜cが形成されたガラス基体b上に、蒸着法によって有機化合物蒸気を付着させ、第1層目の有機薄膜dと第2層目の有機薄膜eとを形成した後、有機薄膜との仕事関数差が小さい電子注入層fを形成し、その表面にカソード電極膜gを形成して構成しており、透明導電膜cをアノード電極とし、カソード電極膜gとの間に電圧を印加すると、第1層目と第2層目の有機薄膜d、eの界面において注入された電子とホールが結合し、EL光hが生成される。そして、EL光hは、透明導電膜cとガラス基体bとを透過し、EL素子aの外部に放射される。
【0005】
ガラス基体b上に形成する透明導電膜cには、一般にはIn2O3にSnを添加したITO(Indium-Tin-Oxide)薄膜が用いられている。また、カソード電極膜gとしては、MgAg膜、MgIn膜、LiAl膜等が用いられており、電子注入層fとしては、近年LiFが注目されている。
【0006】
他方、第1層目の有機薄膜dの形成に用いられる有機蒸着材料は、例えば下記化学式、
【0007】
【化1】
【0008】
で表されるジアミンが用いられており、第2層目の有機薄膜eの形成に用いられる有機蒸着材料は、例えば下記化学式、
【0009】
【化2】
【0010】
で表されるAlq3[Tris(8-hydroxyquinoline) aluminium, sublimed]が用いられている。
【0011】
一般に、蒸着装置の加熱機構には、電子ビーム発生装置が用いられているが、有機蒸着材料に電子ビームが照射されると分解してしまう。また、電子ビームを用いて電子注入層fとカソード電極膜gを形成しようとすると、下地となる有機薄膜にダメージが与えられてしまい、EL素子aの発光特性が悪化する。
【0012】
従って、有機蒸着材料は、蒸着源に収容した状態で真空槽の内部に配置し、抵抗発熱体で構成した加熱機構を発熱させ、熱伝導によって蒸着源を介して加熱し、有機化合物蒸気を放出させている。
【0013】
ところが、電子注入層fは数Åと薄いのに対し、カソード電極膜gは数千Å以上と厚く形成する必要があるため、電子注入層fとカソード電極膜gを一つの真空槽で形成する場合、電子注入層fの蒸着材料は残っているのに対し、カソード電極膜gの蒸着材料は消費され、無くなってしまう。従って、カソード電極膜gの蒸着材料を補充するために、真空槽内を頻繁に大気雰囲気に曝す必要が生じるため、従来技術の蒸着装置では、長時間の連続運転ができなかった。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、長時間の連続運転が可能な蒸着装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1記載の発明は、内部を真空雰囲気にできる真空槽と、前記真空槽内に設けられ、前記真空雰囲気を維持したまま昇降と回転が可能に構成された回転昇降台と、前記回転昇降台に設けられ、有機材料が収容される4個以上の主蒸着源と、前記真空槽内であって前記回転昇降台とは異なる位置に配置された副蒸着源と、前記4個以上の主蒸着源のうちの蒸発位置に位置する前記主蒸着源を収容し、加熱する主加熱機構と、前記副蒸着源を収容し、加熱する副加熱機構と、前記主加熱機構と前記副加熱機構を収容する断熱容器と、
を有し、前記回転昇降台の昇降と回転により、前記主加熱機構内の前記主蒸着源を、他の主蒸着源と交換できるように構成されたことを特徴とする蒸着装置である。
【0016】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の蒸着装置であって、前記主加熱機構は抵抗発熱体で構成されたことを特徴とする蒸着装置である
【0017】
請求項3記載の発明は、請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の蒸着装であって、所定の場所に位置する前記主蒸着源内に、前記真空雰囲気を維持したまま、蒸着材料を供給できる蒸着材料供給機構が設けられたことを特徴とする蒸着装置である。
【0018】
請求項4記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の蒸着装置であって、前記4個以上の主蒸着源には、第一の有機材料が配置された第一の主蒸着源と、前記第一の有機材料とは異なる第二の有機材料が配置された第二の主蒸着源とが含まれる蒸着装置である。
【0019】
本発明の上述の構成によると、内部を真空雰囲気にできる真空槽を有しており、その真空槽内には、昇降回転台と、加熱機構とが設けられている。
【0020】
昇降回転台は、真空槽内の真空雰囲気を維持したまま、昇降と回転が可能に構成されており、複数の蒸着源が設けられている。また、加熱機構は、複数の蒸着源のうち、所定場所に位置する蒸着源を加熱できるように構成されている。
【0021】
従って、各蒸着源内に蒸着材料を配置し、加熱機構で加熱すると、所定場所に位置する蒸着源から蒸気が放出されるので、その蒸気を真空槽内に搬入した基板表面に付着させると、薄膜を形成することが可能となる。
【0022】
そして、蒸着源内の蒸着材料が消費されてしまった場合には、真空槽内の真空雰囲気を維持したまま、昇降回転台を昇降と回転させ、蒸着源を交換すると、蒸気の放出を再開することができるので、多数の基板に対し、連続的に薄膜を形成することが可能となる。
【0023】
有機薄膜を形成する場合や、その有機薄膜表面に無機薄膜を形成する場合には、電子ビームが使用できないので、加熱機構は抵抗発熱体(加熱ヒータ)で構成するとよい。
【0024】
また、蒸着材料が消費された蒸着源内に、真空槽の真空雰囲気を維持したまま、蒸着材料を供給できる蒸着材料供給機構を設けておくと、空になった蒸着源に新しい蒸着材料を供給することが可能となり、薄膜の連続形成時間が一層長くなる。
【0025】
また、蒸着材料の消費量が少ない蒸着源を、回転昇降台とは異なる位置に設けておくと、消費量が多い蒸着材料を回転昇降台に設けられた蒸着源内に配置することが可能となり、従って、消費量が異なる蒸着材料の薄膜を連続形成することが可能となる。
【0026】
【発明の実施の形態】
図1〜図4の符号1は本発明の一実施形態の蒸着装置であり、図1、図3は内部正面図、図2、図4は内部側面図である。
【0027】
この蒸着装置1は、上側の真空槽10と、下側の真空槽11とを有しており、下側の真空槽11は、上側の真空槽10の下部に気密に接続されている。上側の真空槽10には、図示しない真空ポンプが接続されており、その真空ポンプによって真空排気すると、両方の真空槽10、11内が真空雰囲気にされるように構成されている。
【0028】
下側の真空槽11の内部には、断熱容器12が配置されており、その断熱容器12内には、カソード電極膜形成用の加熱機構5が1台と、電子注入層形成用の加熱機構61、62が2台固定されている。各加熱機構5、61、62は、円筒形形状の抵抗加熱ヒータで構成されており、各加熱機構5、61、62は、その中心軸線が鉛直方向に向けて配置されている。それらのうち、電子注入層形成用の加熱機構61、62の内部には、電子注入層形成用の蒸着源41、42が固定されている。
【0029】
下側の真空槽11の外部下方位置には、ベローズ22と、昇降板23と、固定板24と、ガイドロッド311、312とが配置されており、ベローズ22の上端部は、真空槽11裏面の孔20が存する位置に気密に固定されている(ガイドロッド311、312は、図2、図4では省略する)。
【0030】
カソード電極膜形成用の加熱機構5の下方位置には、円盤状の回転昇降台7が配置されており、その回転昇降台7の裏面には、昇降ロッド21の上端部が固定されている。昇降ロッド21の下側は、真空槽11の底面に開けられた孔20から真空槽11の外部に鉛直下向きに突き出され、ベローズ22内に挿入されている。
【0031】
ベローズ22の下端部は、昇降板23に気密に固定されており、昇降板23は、下側の真空槽11内の真空状態を維持したまま、上下移動できるように構成されている。また、昇降板23の裏面には、回転板27が回転可能に取り付けられており、該回転板27には軸受け26が設けられている。昇降ロッド21の下端部は軸受け26内に気密に挿入され、回転板27に固定されている。
このような構成により、回転板27を回転させた場合、真空槽10、11内の真空状態を維持したまま、昇降ロッド21が昇降及び回転できるようになっている。
【0032】
昇降板23には、2本のパイプ331、332が設けられており、各パイプ331、332内には、ガイドロッド311、312が挿通されている。各ガイドロッド311、312の上端部は、下側の真空槽11の裏面に固定されており、下端部は、固定板24に固定されている。
【0033】
固定板24は、昇降板23よりも下方位置に配置されており、ねじ軸42の下端部が回転可能に挿入され(ねじ軸42と後述のナット43、ハンドル44は、図1と図3には記載しない)、ハンドル44が取り付けられている。
【0034】
昇降板23にはナット43が設けられており、ナット43内には、ねじ軸42の上端部がねじ込まれている。従って、ハンドル44によってねじ軸42を回転させると、昇降板23が、ガイドロッド311、312に沿って上下方向に昇降移動し、それに伴って、回転昇降台7が一緒に昇降移動する。他方、回転板27を回転させると、回転昇降台7は昇降ロッド21の回転軸線を中心として回転する。
【0035】
回転昇降台7上には、その回転軸線を中心として、4台の蒸着源31〜34が同心円上に固定されており(図1、図3では3台の蒸着源31、32、34が見え、図2、図4では2台の蒸着源31、33が見える)、従って、各蒸着源31〜34は、回転昇降台7が昇降又は回転すると、一緒に昇降又は回転する。
【0036】
図1、図2は、回転昇降台7が昇降する際、最上部に位置した場合を示しており、1台の蒸着源31が、カソード電極膜形成用の加熱機構5内に収容されている。図3、図4は、回転昇降台7が最下部に位置した場合を示しており、加熱機構5内からは蒸着源31は抜き取られている。
【0037】
電子注入層形成用の蒸着源41、42と、カソード電極膜形成用の蒸着源31〜34とはカップ状の容器となっており、電子注入層形成用の蒸着源41、42内には、フッ化リチウム(LiF)から成る蒸着材料が配置されており、また、カソード電極膜形成用の蒸着源31〜34内には、アルミニウム(Al)から成る蒸着材料が配置されている。
【0038】
このような構成の蒸着装置1を用い、有機EL素子を製造する場合、回転昇降台7を上方で静止させ、加熱機構5内に1台の蒸着源31を収容させておく。その状態で真空槽10、11内を真空排気し、高真空雰囲気にする。このとき、カソード電極膜形成用の加熱機構5の上方に配置されたシャッター13と、電子注入層形成用の蒸着源41、42の上方に配置されたシャッター14とを閉じておき、各加熱機構5、61、62に通電し、フッ化リチウムとアルミニウムを加熱し、溶融させる。
【0039】
各加熱機構5、61、62は、断熱容器12内に位置しているので、各加熱機構5、61、62が発熱しても、真空槽11が直接加熱されないようになっている。また、各蒸着源31〜34、41、42の底面には、平板リング状の断熱材91〜94、81、82がそれぞれ配置されており、カソード電極膜形成用の蒸着源31が加熱機構5内に収容された状態では、全ての加熱機構5、61、62の底部は、断熱材91、81、82によって塞がれており、加熱機構5、61、62から発生する熱で、回転板6や真空槽11の底板等が加熱されないように構成されている。
【0040】
各加熱機構5、61、62により各蒸着源31〜34、41、42を加熱し、蒸着材料の脱ガスを行った後、所定温度まで降温させる。そして、蒸気放出を停止させた状態で、真空槽10、11内の真空雰囲気を維持したまま、上側の真空槽10内に成膜対象の基板を搬入する。
【0041】
搬入した基板は、図1、図2の符号2で示すように、真空槽10内の天井側に配置した後、水平回転させる。この基板2の表面には、透明導電膜と有機薄膜とが予めその順序で形成されており、基板2表面に露出した有機薄膜が各蒸着源31〜34、41、42側に向けられている。
【0042】
図5(a)は、基板2と、電子注入層形成用の蒸着源41、42と、カソード電極膜形成用の蒸着源31〜34との相対的な位置関係を示す模式的な平面図であり、このような配置により、基板2を水平回転させたときに、薄膜が均一に形成できるようになっている。
【0043】
基板2を水平回転させた状態で電子注入層形成用の加熱機構61、62への通電量を増加させ、フッ化リチウム蒸気を発生させた後、シャッター14を開けると、電子注入層形成用の蒸着源41、42から真空槽10内にフッ化リチウム蒸気が放出され、基板2上の有機薄膜表面への電子注入層が形成され始める。
【0044】
電子注入層が5Åの膜厚に形成されたところでシャッター14を閉じ、電子注入層形成用の加熱機構61、62への通電量を減少させる。このとき、カソード電極膜形成用の加熱機構5への通電量を増加させ、アルミニウム蒸気を発生させた後、その加熱機構5上のシャッター13を開けると、加熱機構5内の蒸着源31から真空槽10内にアルミニウム蒸気が放出され、電子注入層表面へのカソード電極膜の形成が開始される。
【0045】
カソード電極膜が1000〜5000Åの膜厚に形成されたところで、シャッター13を閉じ、加熱機構5への通電量を減少させ、アルミニウム蒸気の放出を停止させる。
【0046】
このように、基板2の有機薄膜表面に、電子注入層とカソード電極膜とが所定膜厚に形成された後、基板2の回転を停止させ、真空槽10外に搬出し、未成膜の基板と交換する。未成膜の基板に対しては、上述したのと同様に電子注入層及びカソード電極膜を形成する。
【0047】
そして、多数の基板に対し、電子注入層及びカソード電極膜を形成すると、電子注入層の材料であるフッ化リチウムは蒸着源41、42内に残っているのに対し、加熱機構5内に位置する蒸着源31では、蒸着材料であるアルミニウムが消費され、無くなってしまう。
【0048】
この場合、アルミニウム蒸気の放出を行っていない蒸着源32〜34内にはアルミニウムが残っており、加熱機構5内の蒸着源31を他の蒸着源32〜34と交換するため、先ず、加熱機構5への通電を停止した状態で回転昇降台7を降下させ、図3、図4に示すように、加熱機構5内から空の蒸着源31を抜き出す。
【0049】
その状態で回転昇降台7を回転させ、未使用のアルミニウムが配置されている蒸着源32〜33のうちの、いずれか1台の蒸着源を加熱機構5の下方位置まで移動させ、次いで、回転昇降台7を上昇させ、加熱機構5内にその蒸着源を収容させる。
このように、蒸着源の交換を行った後、加熱機構5に通電し、アルミニウムの脱ガスを行うとカソード電極膜を形成できる状態になり、電子注入層とカソード電極膜の長時間連続形成が可能になる。
【0050】
以上説明した蒸着装置1では、電子注入層形成用の固定された蒸着源41、42と、回転昇降台7上に設けられた蒸着源31〜34を有していたが、本発明はそれに限定されるものではない。
【0051】
図5(b)は、本発明の他の蒸着装置の模式的な平面図であり、回転昇降台57を有している。その回転昇降台57上には、蒸着源531〜534が設けられており、2台の蒸着源531、533内には、1層目の有機薄膜を形成する蒸着材料が配置され、他の蒸着源532、534内には、2層目の有機薄膜を形成する蒸着材料が配置されている。
【0052】
先ず、加熱機構55a、55b内に、1層目の蒸着源531、533をそれぞれ収容させ、加熱機構55a、55bを発熱させ、基板52を回転させた状態で、1層目の有機化合物蒸気を放出させる。1層目の有機薄膜が、基板52上の透明導電膜表面に所定膜厚で形成された後、回転昇降台56を昇降及び回転させ、他の蒸着源532、534を加熱機構55a、55b内に収容させ、2層目の有機化合物蒸気を放出させる。そして、2層目の有機薄膜が、1層目の有機薄膜表面に所定膜厚に形成された後、基板の交換を行うと、有機薄膜の連続形成が可能になる。
【0053】
上記は、4個の蒸着源531〜534を用い、2層の有機薄膜を形成する場合について説明したが、1層の有機薄膜を形成してもよい。即ち、加熱機構55a、55b内の蒸着源531、533内の蒸着材料が消費された場合、回転昇降台56の昇降及び回転により、加熱機構55a、55b内の蒸着源531、533を他の蒸着源532、534と交換し、同じ有機化合物蒸気を放出させることができる。
【0054】
また、図5(b)の場合は、回転昇降台57上に蒸着源を4個しか配置しなかったが、多数個配置し、有機蒸着材料が消費されてしまった場合、同じ蒸着材料が配置されている他の蒸着源を加熱機構55a、55b内に収容させるようにしてもよい。
このように、本発明の蒸着装置は、電子注入層、カソード電極又は有機薄膜の他、種々の薄膜形成に使用することが可能である。
【0055】
なお、下側の真空槽11に、蒸着材料供給機構を設けておき、蒸着材料が消費された蒸発源が、所定の場所に移動されたときに、蒸着材料供給機構によって新しい蒸着材料を供給できるようにしておくと、更に多くの基板に対し薄膜を連続形成することが可能となる。
【0056】
【発明の効果】
真空雰囲気を維持したまま蒸着源を交換できるので、長時間の連続運転が可能になる。
複数の蒸着源内に、それぞれ異なる蒸着材料を配置しておくと、真空雰囲気を維持したまま、多数種類の薄膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一例の蒸着装置の内部構成を示す正面図(回転昇降台を上昇させた場合)
【図2】その蒸着装置の内部構成を示す側面図(回転昇降台を上昇させた場合)
【図3】その蒸着装置の内部構成を示す正面図(回転昇降台を降下させた場合)
【図4】その蒸着装置の内部構成を示す側面図(回転昇降台を降下させた場合)
【図5】(a):蒸着源の配置の一例を説明するための平面図 (b):蒸着源の配置の他の例を説明するための平面図
【図6】有機EL素子の断面図
【符号の説明】
1……蒸着装置 5……加熱機構 7……回転昇降台 10、11……真空槽 31〜34……回転昇降台に設けられた蒸着源 41、42……他の蒸着源
Claims (4)
- 内部を真空雰囲気にできる真空槽と、
前記真空槽内に設けられ、前記真空雰囲気を維持したまま昇降と回転が可能に構成された回転昇降台と、
前記回転昇降台に設けられ、有機材料が収容される4個以上の主蒸着源と、
前記真空槽内であって前記回転昇降台とは異なる位置に配置された副蒸着源と、
前記4個以上の主蒸着源のうちの蒸発位置に位置する前記主蒸着源を収容し、加熱する主加熱機構と、
前記副蒸着源を収容し、加熱する副加熱機構と、
前記主加熱機構と前記副加熱機構を収容する断熱容器と、
を有し、
前記回転昇降台の昇降と回転により、前記主加熱機構内の前記主蒸着源を、他の主蒸着源と交換できるように構成されたことを特徴とする蒸着装置。 - 前記主加熱機構は抵抗発熱体で構成されたことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。
- 所定の場所に位置する前記主蒸着源内に、前記真空雰囲気を維持したまま、蒸着材料を供給できる蒸着材料供給機構が設けられたことを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記4個以上の主蒸着源には、第一の有機材料が配置された第一の主蒸着源と、
前記第一の有機材料とは異なる第二の有機材料が配置された第二の主蒸着源とが含まれる請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の蒸着装置。
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