JP3855317B2 - α−ヒドロキシ−β−アミノカルボン酸の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はHIVプロテアーゼ、レニン等の酵素阻害剤あるいはある種の制癌剤の構成要素として重要なα−ヒドロキシ−β−アミノカルボン酸誘導体に関する。具体的には、HIVプロテアーゼ阻害剤KNI−272(Chem.Pharm.Bull.40,2251,(1992))、レニン阻害剤KRI−1314(J.Med.Chem.33,2707(1990))、抗癌剤ベスタチン(Biochem.Pharmacol.32,1051(1983))および抗癌剤タキソール(Bull.Cancer,80,326(1993)等があげられ、それらの構成要素として(2S,3S)−3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニル酪酸、(2R,3S)−3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−シクロヘキシル酪酸、(2S, 3R)−3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニル酪酸および(2R,3S)−フェニルイソセリン等をあげることができる。
【0002】
【従来の技術】
上記化合物の製造方法としては、相当するα−アミノ酸から出発し、N−保護されたα−アミノアルデヒドを合成し、これと青酸誘導体とを反応させることにより生成するシアノヒドリンを経由し、シアノ基を加水分解することにより目的の化合物を得る方法が知られている(特開昭62−33141、イイズカら,J.Med.Chem.33,2707(1990)あるいは、M.T.Reetsら,Tetrahedron Lett.29,3295(1988))。しかしながらこれらの方法は、酸化還元工程が必要なことや、毒性の強い青酸誘導体を使用すること、また大量合成に不安定なN−保護されたα−アミノアルデヒドを中間体を経由するすこと等の多くの欠点を有し、大量合成には適していない。
【0003】
一方、N−保護されたα−アミノアルデヒドをニトロメタンと不斉触媒存在下でアルドール反応させ、得られた化合物を酸加水分解することにより目的物に誘導する方法も知られているが(EP−657415)、中間体であるα−アミノアルデヒドが不安定であること、不斉触媒が高価であること等大量生産には適していない。その他、α−アミノアルデヒドを経由しない方法として、相当するα−アミノ酸から合成されるN−保護されたα−アミノカルボン酸クロライドとシアン化トリメチルシリルとを反応させてα−オキソニトリルに変換し、これをα−ケトカルボン酸エステルとした後、還元して、目的の化合物を得る方法も知られているが(特開平6−184069号)、この方法は、高価で毒性のある青酸化合物を使用することから大量製造には不適である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、工業的製造に適したα−ヒドロキシ−β−アミノカルボン酸およびそのエステルの製造方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記の課題を解決すべく検討を重ねた結果、N−保護されたα−アミノカルボン酸エステルより容易に得られるβ−ケトスルフォキシド体を酸によりα−ケト−ヘミメルカプタールとし、アシル化を行ってα−ケト−ヘミメルカプタール−カルボン酸エステルを合成し、それを塩基存在下転位させることにより立体選択的にα−ヒドロキシ−β−アミノカルボン酸およびそのエステルを製造する方法を見いだし、本発明を完成するに至った。
【0006】
すなわち、本発明は、一般式(I)
【0007】
【化11】
【0008】
(但し、R1は置換基を有してもよい炭素数2〜18個の直鎖、分岐もしくは環状 のアルカノイル基、置換基を有してもよい炭素数2〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルコキシカルボニル基、炭素数7〜18個のアラルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいベンジル基またはR2と一緒になって炭素数8〜18個の2塩基酸の残基を示し、R2は水素、置換基を有していてもよいベンジル基またはR1と一緒になって炭素数8〜18個の2塩基酸の残基を示し、R3は置換基を有してもよい炭素数1〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、炭素数7〜18個のアラルキル基、または炭素数6〜18個のアリール基を示し、R4は置 換基を有してもよい炭素数2〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノイル基、または炭素数7〜18個のアリールカルボニル基を示し、R5は炭素数1〜2個 のアルキル基、炭素数6〜18個のアリール基、または炭素数7〜18個のアラルキル基を示す。)
で示されるα−ケト−ヘミメルカプタール−カルボン酸エステルを塩基存在下転位反応させることを特徴とする、
下記一般式(II)で示されるα−アシロキシ−チオエステルの製造方法である。
【0009】
【化12】
【0010】
(但し、R1、R2、R3、R4及びR5は上記と同じである。)
【0011】
なお、一般式(I)で示される化合物は、下記一般式(III)で示されるN−保護されたα−アミノカルボン酸エステルを
【0012】
【化13】
【0013】
(但し、R1、R2、R3は上記と同じであり、R6は炭素数1〜5個の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数6〜18個のアリール基、または炭素数7〜18個のアラルキル基を示す。)
下記一般式(IV)で示される炭素アニオンと反応させて、
【0014】
【化14】
【0015】
(但し、R5は上記と同じである。)
【0016】
下記一般式(V)で示されるβ−ケトスルフォキシドに変換し、
【0017】
【化15】
【0018】
(但し、R1、R2、R3及びR5は上記と同じである。)
更にこれを酸と反応させて、下記一般式(VI)で示されるα−ケト−ヘミメルカプタールとし、
【0019】
【化16】
【0020】
(但し、R1、R2、R3及びR5は上記と同じである。)
これを、アシル化することにより得られる。
【0021】
【発明の実施の形態】
本発明に用いるN−保護されたα−アミノカルボン酸エステル(III)は、α−アミノカルボン酸を通常のペプチド合成に用いる手法で合成することができる。α−アミノカルボン酸としては、天然に存在するアミノ酸や、合成により製造されたアミノ酸をあげることができるが、下記の構造を有するものである。
【0022】
【化17】
【0023】
式中のR3は置換基を有してもよい炭素数1〜18個の直鎖、分岐もしくは環状 のアルキル基、炭素数7〜18個のアラルキル基、または炭素数6〜18個のアリール基を示しすが、具体的にはベンジル、シクロヘキシル−メチル、フェニル、イソプロピル、イソブチルおよびsec−ブチル基であり、アミノ酸としてはフェニルアラニン、シクロヘキシルアラニン、フェニルグリシン、バリン、ロイシン、イソロイシンをあげることができる。
【0024】
N−保護されたα−アミノカルボン酸エステル(III)におけるR1および R2は、アミノ基の保護基又は保護された状態を示すものである。保護基は通常 のペプチド合成に用いる物であれば特定しないが、例えばR1は置換基を有して もよい炭素数2〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノイル基、置換基を有してもよい炭素数2〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルコキシカルボニル基、炭素数7〜18個のアラルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいベンジル基、またはR2と一緒になって炭素数8〜18個の2塩基酸の残基を示し 、R2は水素、置換基を有していてもよいベンジル基またはR1と一緒になって炭素数8〜18個の2塩基酸の残基を示すものである。すなわち、互いに独立して水素またはアミノ保護基であるか、またはR1およびR2が一体となって二官能性のアミノ保護基を示す。アミノ基の保護基としては、例えば、ベンジルオキシカルボニル基、t−ブチルオキシカルボニル基のようないわゆるウレタン型の保護基、アセチル基、ベンゾイル基のようなアシル型の保護基、あるいは、ベンジル基、ジベンジル基のようなベンジル型保護基である。また、二官能性のアミノ保護基としてはフタロイル基等をあげることができる。
【0025】
また、N−保護されたα−アミノカルボン酸エステル(III)におけるR6 は、アミノ酸のエステル基を示すものである。すなわちR6を例示するならば、 炭素数1〜5個の直鎖もしくは分岐のアルキル基、炭素数6〜18個のアリール基、または炭素数7〜18個のアラルキル基等である。具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチルおよびベンジル基等である。
【0026】
N−保護されたα−アミノカルボン酸エステル(III)に炭素アニオン(IV)と反応させてβ−ケトスルフォキシド(V)に変換する反応は、N−保護されたα−アミノ酸エステルをテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびメチルt−ブチルエーテルのような不活性溶剤に溶解し、下記により調製したメチルスルホキシドの炭素アニオンの溶液中に滴下する。滴下温度は−70〜20℃で好ましくは−20〜10℃である。反応温度は−70〜20℃で好ましくは−20〜10℃である。
【0027】
炭素アニオンは下記一般式(III’)で示されるメチルスルホキシドに塩基を作用させることにより調製することができる。
【0028】
【化18】
【0029】
式(III’)で示されるメチルスルホキシドにおけるR5は、炭素数1〜2 個のアルキル基、炭素数6〜18個のアリール基、または炭素数7〜18個のアラルキル基を示す。また、メチルスルホキシドを具体的に例示すると、ジメチルスルホキシド、メチルエチルスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、メチルp−トリルスルホキシドをあげることができる。この中でジメチルスルホキシドが経済性、汎用性の点で好ましい。
アニオンの調製に用いる塩基は、アニオンを形成できうる塩基であれば何でも良いが、好ましくはナトリウムアミド、水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシドおよびリチウムジイソプロピルアミドである。また、アニオンの調製に用いる溶剤にはジメチルスルホキシドあるいはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびメチルt−ブチルエーテルのような不活性溶剤を用いることができる。場合によっては、これらの溶媒を組み合わせ用いる。
アニオンの調製温度は、−70〜80℃、好ましくは−20〜70℃である。調製時間は30分〜2時間程度であり、調製濃度としては0.5mol/L〜5mol/L程度である。
反応の後処理は、酸性水溶液中に反応液を注ぐか、あるいは反応液中に酸性水溶液を加えて行う。酸性水溶液としては、クエン酸、酢酸、塩酸等の水溶液があげられる。
【0030】
この反応で硫黄原子上に第二の不斉中心が形成され、ラセミ体のアミノ酸誘導体から出発したか光学活性のものから出発したかに応じて、一般に2個のジアステレオマーないしジアステレオマー対が生じるが、特に分離せずに次の反応に使用することができる。また、次のα−ケト−ヘミメルカプタール(VI)の製造に用いる場合、β−ケト−スルホキシドを精製する必要はなく、粗製物あるいは未処理反応混合物のままでも使用できる。なお、この反応で得られたβ−ケトスルフォキシド(V)は新規である。
【0031】
上記で得られたβ−ケトスルフォキシド(V)を酸と反応させて、α−ケト−ヘミメルカプタール(VI)を得るには、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノールおよびエタノール等のアルコール等水溶性の溶媒にβ−ケトスルフォキシドを溶解し、塩酸、硫酸、臭酸およびトシル酸等の酸の水溶液を加え、−20〜50℃で反応させればよい。また、反応溶媒はジメチルスルホキシド、酸は塩酸が副反応が少ないという点で好ましく、反応温度は0〜30℃が好ましい。
【0032】
なお、α−ケト−ヘミメルカプタールはβ−ケト−スルホキドを酸無水物と反応させた後、加水分解により製造することもできる。この反応に用いる溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、トルエンおよび酢酸エチルである。酸無水物としては、無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸および無水トリクロロ酢酸である。また、反応を円滑に進行させるために、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリジンおよびトリエチルアミン等の塩基を共存させることができる。
【0033】
次のα−ケト−ヘミメルカプタール(VI)の水酸基をアシル化してα−ケト−ヘミメルカプタール−カルボン酸エステル(I)に変換する反応は、α−ケト−ヘミメルカプタールを、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、トルエンおよび酢酸エチル等の通常のアシル化に使用する溶媒に溶解しアシル化剤を作用させる。アシル化剤としては、酸塩化物、酸臭化物および酸無水物があげられ、具体的には、塩化アセチル、無水酢酸、ベンゾイルクロリドおよびベンゾイルブロミドである。また、反応を円滑に進行させるために、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリジンおよびトリエチルアミン等の塩基を共存させることができる。反応温度は、−50〜50℃であるが、好ましくは、−20〜30℃である。
【0034】
また、α−ケト−ヘミメルカプタール−カルボン酸エステル(I)はβ−ケトスルフォキシド(V)を酸無水物と反応させることにより製造することもできる。この反応に用いる溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、トルエンおよび酢酸エチルである。酸無水物としては、無水酢酸、無水トリクロロ酢酸等である。また、反応を円滑に進行させるために、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリジンおよびトリエチルアミン等の塩基を共存させることができる。
【0035】
α−ケト−ヘミメルカプタール−カルボン酸エステル(I)を塩基存在下β−アミノ−α−アシロキシ−チオエステル(II)に変換する反応に用いる塩基としては、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1、5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン、4−ジメチルアミノピリジン、ピリジン、2−ピコリン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリジン、トリエチルアミンおよびジイソプロピルエチルアミン等があげられる。好ましくは、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1、5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネンである。反応に用いる溶媒は、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、トルエン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノールおよびt−ブタノールである。反応温度は、−80〜50℃であるが、一般的に低温であるほどジアステレオ選択性は向上する。
【0036】
この反応で第二の不斉中心が形成されるのでラセミ体のアミノ酸誘導体から出発したか、光学活性のものから出発したかに応じて、一般に2個のジアステレオマーないしジアステレオマー対が生じる。シアステレオマーの生成比率、すなわちジアステレオ選択性は使用する反応溶媒および温度により異なる。
反応の際に生じるジアステレオマーは、この工程で例えばカラムクロマトグラフィーまたは晶析により分離できる。
【0037】
本発明の方法により製造された化合物は、2個の不斉中心を有し(R1および R2に別の不斉中心がない限り)、4種の立体異性体が存在する。両不斉中心の 一つのみが本発明の反応順序で形成され、他方の不斉中心における立体配置は保持されるので、光学活性α−アミノ誘導体を原料として使用すると、決まって2種のジアステレオマー混合物が生成するが、これらは物理的性質が異なるため分離可能である。したがって、本発明は立体配置が一様なα−ヒドロキシ−β−アミノ酸の製造に特に有利である。
【0038】
なお、上記の反応で得られたα−カルボキシ−チオエステル(II)は、加水分解あるいは加アルコール分解により下記一般式で示されるN−保護されたβ−アミノ−α−ヒドロキシカルボン酸あるいはカルボン酸エステル(VII)に変換することができる。
【0039】
【化19】
【0040】
(但し、式中R1、R2、R3は上記と同じであり、R7は水素、炭素数1〜8個のアルキル基、炭素数6〜18個のアリール基、または炭素数7〜18個のアラルキル基を示す。)
【0041】
加水分解のための溶媒は、メタノール、エタノール、2−プロパノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフランおよびジオキサンと水との混合溶媒である。反応に使用する試薬は、金属水酸化物、好ましくは、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムである。温度は、−20〜80℃、好ましくは0〜40℃である。
【0042】
加アルコール分解の溶媒としては、所望するエステルに相当するアルコール、すなわち好ましくはメタノールおよびエタノールである。反応に使用する塩基としては、金属アルコキシド、好ましくはナトリウムメトキシドおよびナトリウムエトキシドであり、または金属水酸化物、好ましくは水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムであり、または金属炭酸塩、好ましくは炭酸ナトリウム、炭酸カリウムである。
【0043】
以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0044】
【実施例1】
N,N−ジベンジル−(L)−フェニルアラニンベンジルエステルの製造。
25.0g(151.3mmol)の(L)−フェニルアラニンおよび66.67g(482.4mmol)の炭酸カリウムを水100mlに溶解した後、塩化ベンジル57.51g(454.3mmol)を加え、95℃で19時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、n−ヘプタン67mlおよび水50mlを加え分層した。有機層を50mlのメタノール/水=1/2の溶液で2回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過、濃縮し、上記表題化合物を61.64g(90.5wt%,121.8mmol)を得た(収率84.7%)。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:3.00(dd,1H),3.14(dd,1H),3.53(d,2H),3.71(t,1H),3.92(d,2H),5.12(d,1H),5.23(d,1H),6.99-7.40(m,20H).
マススペクトル(FAB) 436(MH+)
【0045】
【実施例2】
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタンの製造。
ナトリウムアミド3.76g(96.39mmol)をジメチルスルホキシド40mlに懸濁し、30分、74〜75℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン40mlを加え、0℃に冷却した。これにN,N−ジベンジル−(L)−フェニルアラニンベンジルエステル15.47g(90.5wt%,32.14mmol)をテトラヒドロフラン20mlに溶解した溶液を0℃に保ちながら滴下した。0℃で30分反応させた後、10%クエン酸水溶液120mlおよび酢酸エチル100mlを加え、分層した。水層からさらに酢酸エチル50mlで1回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水60mlで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系はヘキサン/酢酸エチル=2/1→1/3)により精製した後、トルエン/ヘキサン系で晶析し、上記表題化合物11.16g(収率85.6%)を得た。得られた化合物は1H−NMRの積分比より、ジアステレオマー比率は約 1:1であった。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.27(s,3/2H),2.35(s,3/2H),2.97(dd,1H),3.14(dd,1/2H),3.19(dd,1/2H),3.55-3.65(m,7/2H),3.75(d,1/2H),3.85(d,2H),4.01(d,1/2H),4.07(d,1/2H),7.10-7.40(m,15H).
マススペクトル(FAB) 406(MH+)
【0046】
【実施例3】
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタンの製造
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタン309.6mg(0.763mmol)をジメチルスルホキシド6mlに溶解し、2N塩酸1.5mlを加え、室温で16時間攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mlを加え中和し、酢酸エチル20mlおよび水10mlを加え分層し、さらに水層から酢酸エチル10mlで2回抽出した。有機層を合わせ、水20mlさらに飽和食塩水20mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過、濃縮し上記表題化合物の粗製物371.5mgを得た。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:1.13(s,3H),3.05(dd,1H),3.18(dd,1H),3.52(d,2H),3.82(d,2H),4.24(dd,1H),5.44(d,1H),7.12-7.38(m,15H).
【0047】
【実施例4】
(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタンの製造
実施例3により得られた(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタンの粗製物173.0mgをジクロロメタン4mlおよびピリジン0.1mlに溶解し、氷浴下塩化アセチル0.05ml(0.703mmol)を加え、室温にて30分攪拌した。反応液に0.2N塩酸5mlおよびジクロロメタン10mlを加え抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mlおよび飽和食塩水8mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮して得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーにより精製し上記表題化合物144.8mg(0.324mmol)を得た。(収率91.1%、2段階)。得られた化合物は、1H−NMRの積分比より約20:1のジアステレオ混合物であった。主ジアステレオマーのデータを下記に示す。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:1.18(s,3H),2.14(s,3H),3.03(dd,1H),3.17(1H,dd),3.54(d,2H),3.87(d,2H),4.22(dd,1H),6.41(s,1H),7.10-7.40(m,15H).
マススペクトル(FAB) 448(MH+)
【0048】
【実施例5】
(3S)−(2R,S)−2−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステルの製造
(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン89.5mg(0.200mmol)をトルエン2mlに溶解し−30℃に冷却した後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.03ml(0.201mmol)を加えた。−30℃で23時間攪拌した後、トルエン7mlおよび0.2N塩酸6mlを加え抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mlおよび飽和食塩水5mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記表題化合物95.6mg(0.214mmol)を得た。(収率106.8%)。1H−NMRの積分比より 、ジアステレオマー比率は(2S,3S):(2R,3S)が約58:42であった。(2S,3S)体
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.23(s,3H),2.24(s,3H),2.80(dd,1H),3.08(dd,1H),3.39(d,2H),3.65(ddd,1H),3.88(d,2H),5.83(d,1H),6.96-7.30(m,15H).
マススペクトル(FAB) 448(MH+)
(2R,3S)体
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.23(s,3H),2.24(s,3H),2.81(dd,1H),3.10(dd,1H),3.56(d,2H),3.59(m,1H),4.04(d,2H),5.07(d,1H),6.96-7.30(m,15H).
マススペクトル(FAB) 448(MH+)
【0049】
【実施例6】
(3S)−(2R,S)−2−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステルの製造
(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン50.6mg(0.113mmol)をジメチルホルムアミド1.1mlに溶解し−30℃に冷却した後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.02ml(0.134mmol)を加えた。−30℃で1時間15分攪拌した後、酢酸エチル10mlおよび0.2N塩酸6mlを加え抽出した。有機層を水6mlおよび飽和食塩水8mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記表題化合物44.6mg(0.100mmol)を得た。(収率88.2%)。1H−NMRの積分比より、ジ アステレオマー比率は(2S,3S):(2R,3S)が約92:8であった。
【0050】
【実施例7】
(3S)−1−ベンゾキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタンの製造
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタン671.2mg(1.655mmol)をジメチルスルホキシド10mlおよびテトラヒドロフラン7mlに溶解し、2N塩酸5mlを加え、室温で15時間攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液15mlを加え中和し、酢酸エチル50mlおよび水50mlを加え分層し、さらに水層から酢酸エチル25mlで2回抽出した。有機層を合わせ、水50mlさらに飽和食塩水50mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過、濃縮し粗製物371.5mgを得た。
この粗製物をジクロロメタン17mlおよびピリジン0.67mlに溶解し、氷浴下、臭化ベンゾイル0.23ml(1.95mmol)を加え、室温にて35分攪拌した。反応液に0.5N塩酸20mlおよびジクロロメタン20mlを加え抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液15mlおよび飽和食塩水20mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=15/1〜10/1)により精製し上記表題化合物774.3mg(1.519mmol)を得た。(収率91.8%、2段階)。得られた化合物は、1H−NMRの積分比より約13:1のジアステレオ混合物であった。主ジアステレオマーのデータを下記に示す。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:1.31(s,3H),3.05(dd,1H),3.20(dd,1H),3.57(d,2H),3.91(d,2H),4.27(dd,1H),6.66(s,1H),7.12-7.60(m,18H),8.06-8.10(m,2H).
マススペクトル(FAB) 510(MH+)
【0051】
【実施例8】
(3S)−(2R,S)−2−ベンゾキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステルの製造
(3S)−1−ベンゾキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン54.2mg(0.106mmol)をトルエン1.1mlに溶解し0℃に冷却した後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.03ml(0.201mmol)を加えた。0℃で2時間20分攪拌した後、トルエン10mlおよび0.2N塩酸6mlを加え抽出した。有機層を水5ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5mlおよび飽和食塩水5mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記表題化合物45.0mg(0.088mmol)を得た(収率83.3%)。1H−NMRの積 分比より、ジアステレオマー比率は(2S,3S):(2R,3S)が約50:50であった。
(2S,3S)体
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.23(s,3H),2.97(dd,1H),3.22(dd,1H),3.43(d,2H),3.78(m,1H),3.93(d,2H),6.11(d,1H),7.01-7.26(m,15H),7.50-7.56(m,2H),7.63-7.68(m,1H),8.17-8.19(m,2H).
マススペクトル(FAB) 510(MH+)
(2R,3S)体
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.24(s,3H),2.90(dd,1H),3.15(dd,1H),3.65(d,2H),3.74(m,1H),4.15(d,2H),5.37(d,1H),7.02-7.05(m,2H),7.19-7.37(m,13H),7.43-7.48(m,2H),7.58-8.63(m,1H),8.09-8.12(m,2H).
マススペクトル(FAB) 510(MH+)
【0052】
実施例8により得られたジアステレオマー混合物は、酢酸エチル−ヘキサンで晶析することにより、(2R,3S)体のみを結晶として得ることができた。
【0053】
【実施例9】
(3S)−(2R,S)−2−ベンゾキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステルの製造
(3S)−1−ベンゾキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン54.2mg(0.106mmol)をジメチルホルムアミド1.1mlに溶解し−30℃に冷却した後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.02ml(0.134mmol)を加えた。−30℃で30分攪拌した後、酢酸エチル15mlおよび0.2N塩酸10mlを加え抽出した。有機層を水10mlおよび飽和食塩水8mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記表題化合物50.1mg(0.098mmol)を得た(収率83.3%)。1H−NMRの積分比より、ジアス テレオマー比率は(2S,3S):(2R,3S)が約87:13であった。
【0054】
【実施例10】
(3S)−(2R,S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニル酪酸の製造
(3S)−(2R,S)−2−ベンゾキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステル87.1mg(0.171mmol)をテトラヒドロフラン1.7mlに溶解し1N水酸化ナトリウム水溶液0.68mlを加え、室温にて2日間攪拌した。濃縮した後、水2ml、ジクロロメタン7mlおよび1N塩酸0.68mlを加え分層し、さらに水層よりジクロロメタン4mlで2度抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過、濃縮し、得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーにより精製し、上記表題化合物44.9mgを得た(収率69.9%)。
マススペクトル(FAB) 376(MH+)
【0055】
【実施例11】
(3S)−(2R,S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニル酪酸メチルエステルの製造
(3S)−(2R,S)−2−ベンゾキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステル53.6mg(0.105mmol)をメタノール2mlおよびテトラヒドロフラン0.5mlに溶解しナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液)0.04mlを加え、室温にて3時間20分攪拌した。濃縮した後、酢酸エチル10ml、水5mlおよび1N塩酸0.5mlを加え分層し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過、濃縮し、得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーにより精製し、上記表題化合物(2S,3S)体9.8mg(0.0252mmol,収率24.0%)および(2R,3S)体4.5mg(0.0116mmol、収率11.0%)を得た。
(2S,3S)体
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.81(dd,1H),3.03(dd,1H),3.10(br.d,1H,-OH),3.42(dt,1H),3.53(s,3H),3.66(d,2H),3.81(d,2H),4.48(m,1H),7.05-7.29(m,15H).
マススペクトル(FAB) 390(MH+)
(2R,3S)体
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:3.05-3.24(m,4H),3.41(s,3H),3.46(d,2H),4.00(br.t,1H),4.12(d,2H),7.19-7.35(m,15H).
マススペクトル(FAB) 390(MH+)
【0056】
【実施例12】
N−ベンジルオキシカルボニル−(L)−フェニルアラニンメチルエステルの製造
(L)−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩20.0g(92.73mmol)をトルエン93mlに懸濁し、クロルギ酸ベンジル15.82g(92.73mmol)を加えた。これに1M炭酸ナトリウム水溶液130mlを7℃以下に保ちながら滴下し、3時間攪拌した。分層した後、有機層を0.1N塩酸60mlおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液60mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し、上記目的化合物28.75g(96.8wt%,88.81mmol)を得た(収率95.8%)。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:3.11(m,2H),3.72(s,3H),4.66(m,1H),5.09(s,2H),5.21(br.d,1H、-NH),7.08-7.39(m,10H).
マススペクトル(FAB) 314(MH+)
【0057】
【実施例13】
(3S)−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタンの製造。
ナトリウムアミド4.98g(127.7mmol)をジメチルスルホキシド40mlに懸濁し、50分、72〜76℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン50mlを加え、0℃に冷却した。これにN−ベンジルオキシカルボニル−(L)−フェニルアラニンメチルエステル10.33g(96.8wt%,31.91mmol)をテトラヒドロフラン20mlに溶解した溶液を0℃に保ちながら滴下した。0℃で1時間反応させた後、10%クエン酸水溶液120mlおよびジクロロメタン100mlを加え抽出した。水層からさらにジクロロメタン60mlで1回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水80mlで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン/ヘキサン系で晶析し、上記表題化合物8.14g(22.65mmol)を得た(収率71.0%)。得られた化合物は1H−NMRの積分比より、約3:1のジ アステレオマー混合物であった。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.63(s,3/4H),2.66(s,9/4H),2.94-3.01(m,1H),3.12-3.21(m,1H),3.57(d,3/4H),3.69(d,1/4H),3.89(d,1/4H),4.04(d,3/4H),4.45-4.59(m,1H),5.07(m,2H),5.44(br.d,1/4H),5.64(br.s,3/4H),7.14-7.39(m,10H).
マススペクトル(FAB) 360(MH+)
【0058】
【実施例14】
(3S)−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタンの製造
(3S)−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタン708.6mg(1.971mmol)をジメチルスルホキシド15mlおよびテトラヒドロフラン6mlに溶解し、2N塩酸7.5mlを加え、室温で18時間攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液15mlを加え中和し、酢酸エチル50mlおよび水50mlを加え分層し、さらに水層から酢酸エチル25mlで2回抽出した。有機層を合わせ、水50mlさらに飽和食塩水30mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し得られた残渣をヘキサン/酢酸エチル系で晶析し上記表題化合物の粗製物659.7mg(1.835mmol)を得た(収率93.2%)。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:1.78(s,3H),2.97(dd,1H),3.24(dd,1H),3.87(dd,1H),4.86(m,1H),5.05(m,2H),5.55(d,1H),7.18-7.39(m,10H).
マススペクトル(FAB) 360(MH+)
【0059】
【実施例15】
(3S)−1−アセトキシ−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタンの製造
(3S)−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン404.5mg(1.125mmol)をジクロロメタン11mlおよびピリジン0.27mlに溶解し、氷浴下塩化アセチル0.12ml(1.69mmol)を加え、室温にて3時間30分攪拌した。反応液に0.5N塩酸20mlおよびジクロロメタン15mlを加え抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液12mlおよび飽和食塩水15mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/1〜4/1)により精製し上記表題化合物413.3mg(1.029mmol)を得た。(収率91.5%)。得られた化合物は1H−NMRの積分比より 、約1:1のジアステレオマー混合物であった。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:1.75(s,3/2H),1.98(s,3/2H),2.14(s,3/2H),2.17(s,3/2H),2.99(m,1H),3.17(m,1H),4.97-5.29(m,4H),6.01(s,1/2H),6.15(s,1/2H),7.17-7.37(m,10H).
マススペクトル(FAB) 402(MH+)
【0060】
【実施例16】
(3S)−(2R,S)−2−アセトキシ−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステルの製造
(3S)−1−アセトキシ−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン124.5mg(0.310mmol)をトルエン3mlに溶解し、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.05ml(0.334mmol)を加えた。室温で1時間55分攪拌した後、酢酸エチル15mlおよび1N塩酸7mlを加え抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液7mlおよび飽和食塩水7mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記表題化合物121.4mg(0.302mmol)を得た。(収率97.5%)。1H−NMRの積分比より、ジアス テレオマー比率は約6:4であった。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:2.18(s,3H),2.25(s,6/5H),2.31(s,9/5H),2.77-2.99(m,2H),4.53(m,1H),4.81(br.d,2/5H,-NH),5.04(d,2H),5.11(br.d,3/5H,-NH),5.21(d,3/5H),5.43(d,2/5H),7.16-7.38(m,10H).
マススペクトル(FAB) 402(MH+)
【0061】
【実施例17】
(3S)−1−アセトキシ−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン(I,R 1 =ベンジルオキシカルボニル,R 2 =水素,R 3 =ベンジル,R 4 =アセチル,R 5 =メチル)の製造
(3S)−3−N−ベンジルオキシカルボニルアミノアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタン166.2mg(0.462mmol)をジクロロメタン4.6ml、ピリジン0.5mlおよび無水酢酸0.5mlに溶解し、4−ジメチルアミノピリジン3mg加え、室温で17.5時間攪拌した。これに酢酸エチル15mlを加え、1N塩酸10ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液10mlおよび飽和食塩水10mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮して得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記表題化合物124.5mg(0.310mmol)を得た(収率67.1%)。
【0062】
【実施例18】
(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ −2−オキソ−4−フェニルブタン(I,R 1 =R 2 =R 3 =ベンジル,R 4 =アセチル,R 5 =メチル)の製造
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタン102.4mg(0.252mmol)をジクロロメタン2ml、ピリジン0.2mlおよび無水酢酸0.2mlに溶解し、4−ジメチルアミノピリジン3mg加え、室温で10日間攪拌した。これに酢酸エチル10mlを加え、1N塩酸10ml、水6ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液7mlおよび飽和食塩水7mlで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮して得られた残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記表題化合物86.6mg(0.193mmol)を得た(収率76.8%)。
【0063】
【実施例19】
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタン(V,R 1 =R 2 =R 3 =ベンジル,R 5 =メチル)の製造。
ナトリウムアミド3.55g(91.0mmol)をテトラヒドロフラン53mlに懸濁し、ジメチルスルホキシド10.8ml(152mmol)を加え、47〜51℃に加熱して3時間攪拌した。この懸濁液を−12℃に冷却した後、この懸濁液中にN,N−ジベンジル−L−フェニルアラニンベンジルエステル13.63g(96.9wt%,30.33mmol)のテトラヒドロフラン(18ml)溶液を−12〜−6℃に保ちながら35分かけて滴下した。−12〜−8℃で1時間反応させた後、10%クエン酸水溶液110mlおよび酢酸エチル44mlを加え、分層した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mlおよび飽和食塩水30mlで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、濃縮し、上記表題化合物の粗製物を得た。HPLC分析による結果、この粗製物は上記表題化合物12.38g(30.53mmol)を含有していた(収率100%)。この粗製物は精製することなく次の反応に使用した。
【0064】
【実施例20】
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン・塩酸塩(VI,R 1 =R 2 =R 3 =ベンジル,R 5 =メチル)の製造
実施例19により得られた(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−2−オキソ−4−フェニルブタンの粗製物(12.38g,30.53mmol)をアセトン68mlおよびジメチルスルホキシド22.8mlに溶解し、2N塩酸22.8mlを加え、30℃で16時間攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mlを加え中和した後、濃縮してアセトンを留去した。酢酸エチル60mlで抽出し、有機層を飽和食塩水40mlで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過、濃縮し得られた残渣を酢酸エチル45.5mlおよびヘキサン55mlに溶解し、4N塩酸/酢酸エチル溶液9.1mlを滴下し、生成した固体を濾取し、45mlの酢酸エチル/ヘキサン=1/2溶液で洗浄した。濾取された固体を減圧乾燥し、上記表題化合物の粗製物11.48gを得た。
【0065】
【実施例21】
(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン(I,R 1 =R 2 =R 3 =ベンジル,R 4 =アセチル,R 5 =メチル)の製造
実施例20により得られた(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン・塩酸塩11.48gをジクロロメタン52mlおよびピリジン4.62mlに溶解し、塩化アセチル2.22mlを10℃に保ちながら5分間かけて滴下した。10℃以下で1時間攪拌した後、10%クエン酸水溶液30mlを加え、分層した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mlおよび飽和食塩水30mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し、上記表題化合物の粗製物を得た。HPLC分析の結果、この粗製物は上記表題化合物9.395g(20.99mmol)を含有していた(収率69.2%、2段階)。この粗製物は精製することなく次の反応に使用した。
【0066】
【実施例22】
(2RS,3S)−2−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステル(II,R 1 =R 2 =R 3 =ベンジル,R 4 =アセチル,R 5 =メチル)の製造
実施例21により得られた(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−2−オキソ−4−フェニルブタン粗製物(9.395g,20.99mmol含有)をN,N−ジメチルホルムアミド45mlに溶解し、−31℃に冷却した後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン641mg(4.21mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)溶液を−29〜−31℃に保ちながら10分間かけて滴下した。−30℃で16時間攪拌した後、10%クエン酸水溶液50mlおよび酢酸エチル77mlを加え抽出した。有機層を水50ml+飽和食塩水10ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mlおよび飽和食塩水30mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃縮し、上記表題化合物の粗製物を得た。HPLC分析の結果、この粗製物は上記表題化合物のジアステレオマー比が(2S,3S):(2R,3S)=89.0:11.0であり、また、(2S,3S)体が8.101g(18.10mmol,収率86.2%)含有することがわかった。
【0067】
【実施例23】
(2S,3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニル酪酸・ジシクロヘキシルアミン塩(VII,R 1 =R 2 =R 3 =ベンジル,R 7 =水素)の製造。
実施例22により得られた(2RS,3S)−2−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−4−フェニル酪酸メチルチオエステル粗製物((2S,3S)体8.101g(18.10mmol)含有)をメタノール90mlに溶解し、2N水酸化ナトリウム水溶液36mlを加え室温で3時間30分攪拌した。濃縮してメタノールを留去した後、ジクロロメタン50mlおよび6N塩酸12mlを加え、pH1.9に調整した。これを分層し、有機層を飽和食塩水30mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過、濃縮した後、アセトン50mlに溶解し、不溶物を濾別、アセトン30mlで洗浄した。得られた濾液にジシクロヘキシルアミン4.43g(24.43mmol)を滴下し、5℃まで徐冷した。析出した結晶を濾過、アセトン30mlで洗浄し、これを減圧乾燥して上記表題化合物9.02g(95.0wt%,15.39mmol)を得た(収率85.0%)。
1H−NMR(300 MHz,CDCl3)δ:0.95-1.42(m,5H),1.50-1.97(m,5H), 2.48(dd,1H),2.77(m,2H),3.03(dd,1H), 3.50(ddd,1H),3.60(d,2H),4.02(d,2H), 4.44(d,1H),6.95-7.35(m,15H).
13C−NMR (75 MHz,CDCl3)δ:24.61, 25.07, 28.96, 32.69, 52.29, 54.09, 62.06, 69.93, 125.50, 126.21,127.68, 127.77, 128.55, 129.73,140.63, 140.83, 178.18.
マススペクトル(FAB) 557(MH+)
【0068】
【実施例24】
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−5−メチル−2−オキソ−ヘキサン(V,R 1 =R 2 =ベンジル,R 3 =イソブチル,R 5 =メチル)の製造。
ナトリウムアミド1.00g(25.63mmol)をジメチルスルホキシド10mlに懸濁し、30分、50〜60℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン10mlを加え、−5℃に冷却した。これにN,N−ジベンジル−L−ロイシンメチルエステル3.38g(10.39mmol)をテトラヒドロフラン6.5mlに溶解した溶液を−5℃に保ちながら40分かけて滴下した。−5℃で1時間20分反応させた後、10%クエン酸水溶液40mlおよび酢酸エチル50mlを加え、分層した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液30mlおよび飽和食塩水20mlで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開系はヘキサン/酢酸エチル=1/1→1/3)により精製した後、上記表題化合物3.86g(収率100%)を得た。得られた化合物は1H−NMRの積分比より、ジアステレオマー比率は約1:1であった。
1H−NMR(300MHz,CDCl3)δ:0.80(d,3/2H),0.86(d,3/2H),0.89(d, 3/2H),0.90(d,3/2H),1.36-1.50(m,2H), 1.83(m,1H),2.57(s,3/2H),2.61(d,3/2H),3.34(br.d,1H),3.46(d,1H),3.51(d,1H),3.72(br.d,2H),3.81-3.96(m,3/2H),4.09(d,1/2H),7.24-7.39(m,10H).
マススペクトル(ESI) 372(MH+)
【0069】
【実施例25】
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−5−メチル−2−オキソ−ヘキサン(VI,R 1 =R 2 =ベンジル,R 3 =イソブチル,R 5 =メチル)の製造
(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルスルフィニル−5−メチル−2−オキソ−4−ヘキサン2.35g(6.324mmol)をジメチルスルホキシド19mlに溶解し、2N塩酸4.74mlを加え、30℃で14時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液15mlを加え中和し、酢酸エチル30mlおよび水20mlを加え分層した。有機層を水20mlさらに飽和食塩水20mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過、濃縮し上記表題化合物の粗製物2.16gを得た(収率91.9%)。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:0.85(d,3/2H),0.94(d,3/2H),1.35-1.50(m,2H),1.74(s,3H),1.93(m,1H),3.41(d,2H),3.68(d,2H),3.82-3.90(m,2H),5.50(br.s,1H),7.23-7.36(m,10H).
【0070】
【実施例26】
(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−5−メチル−2−オキソ−4−ヘキサン(I,R 1 =R 2 =ベンジル,R 3 =イソブチル,R 4 =アセチル,R 5 =メチル)の製造
実施例25により得られた(3S)−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−ヒドロキシ−1−メチルチオ−5−メチル−2−オキソ−ヘキサンの粗製物1.66g(4.47mmol)をジクロロメタン16mlおよびピリジン0.54mlに溶解し、氷浴下塩化アセチル0.38mlを加え、室温にて1時間攪拌した。反応液に10%クエン酸水溶液15mlおよびジクロロメタン10mlを加え抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液15mlおよび飽和食塩水15mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し上記表題化合物1.48g(3.58mmol)を得た。(収率80.1%、2段階)。得られた化合物は、1H−NMRの積分比より約10:1のジアステレオ混合物であった。主ジアステレオマーのデータを下記に示す。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:0.83(d,3H),0.91(d,3H),1.38-1.47(m,2H),1.84(s,3H),1.86 (m,1H),2.18(s,3H),3.43(d,2H),3.72(d,2H),3.84(dd,1H),6.48(s,1H),7.22-7.37(m,10H).
マススペクトル(ESI) 414(MH+)
【0071】
【実施例27】
(2S,3S)−2−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−5−メチルヘキサン酸メチルチオエステル(II,R 1 =R 2 =ベンジル,R 3 =イソブチル,R 4 =アセチル,R 5 =メチル)の製造
(3S)−1−アセトキシ−3−N,N−ジベンジルアミノ−1−メチルチオ−5−メチル−2−オキソ−ヘキサン0.61g(1.48mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド7.5mlに溶解し−30℃に冷却した後、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン0.066mlを加えた。−30℃で15.5時間攪拌した後、10%クエン酸水溶液20mlおよび酢酸エチル30mlを加え抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20mlおよび飽和食塩水20mlで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、上記表題化合物0.60gを得た。(収率98%)。1H−NMRの積分比より、ジアステレオマー比率は(2S,3S):(2R,3S)が約95:5であった。
1H−NMR(300MHz、CDCl3)δ:0.37(d,3H),0.87(d,3H),1.01(m,1H),1.76-1.86(m,2H),2.23(s,3H),2.26(s,3H),3.25(m,1H),3.31(d,2H),3.92(d,2H),5.83(d,1H),7.21-7.33(m,10H).
マススペクトル(ESI) 414(MH+)
Claims (7)
- 下記一般式(I)
で示されるα−ケト−ヘミメルカプタール−カルボン酸エステルを塩基存在下転位反応させることを特徴とする、下記一般式(II)で示されるα−アシロキシ−チオエステルの製造方法。
- 一般式(I)で示される化合物が、下記一般式(III)で示されるN−保護されたα−アミノカルボン酸エステルを
下記一般式(IV)で示される炭素アニオンと反応させて、
下記一般式(V)で示されるβ−ケトスルフォキシドに変換し、
更にこれを酸と反応させて、下記一般式(VI)で示されるα−ケト−ヘミメルカプタールとし、
これを、アシル化することにより得られる化合物である請求項1記載の製造方法。 - 一般式(I)のR3が結合する炭素の配置がS体である請求項1記載の製造方法。
- 一般式(I)のR3が結合する炭素の配置がR体である請求項1記載の製造方法。
- 請求項1記載の製造方法に従って一般式(II)で示されるα−アシロキシ−チオエステルを得た後、該α−アシロキシ−チオエステルを加水分解又は加アルコール分解する、下記一般式(VII)
で示されるN−保護されたβ−アミノ−α−ヒドロキシカルボン酸又はカルボン酸エステルの製造方法。 - 下記一般式(I)で示される化合物。
- 下記一般式(II)で示される化合物。
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