JPH09323960A - ３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ３−アミノ−１，２−オキシランの工業的な
製造方法を提供する。 【構成】 Ｎ−保護された３−アミノ−１，２−ジオー
ルを酸触媒下、オルト酢酸エステル又はオルト蟻酸エス
テルと反応させてアルコキシエチリデン体に誘導後、ハ
ロゲン化剤を作用させて２−アルコキシ−３−アミノ−
１−ハロゲン化物に変換し、これを塩基処理して目的と
する３−アミノ−１，２−オキシランを合成する方法。 【効果】 本発明により、各種ＨＩＶプロテアーゼ阻害
剤の中間体である３−アミノ−１，２−オキシランを簡
便かつ安価に製造できる３−アミノ−１，２−ジオール
より高収率で得ることが可能となった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】ＨＩＶプロテアーゼ等の酵素
阻害剤の構成要素の中間体として重要な３−アミノ−
１，２−オキシランの製造方法に関する。さらに具体的
に３−アミノ−１，２−オキシランを例示するならばＲ
ｏ−３１−８９５９（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９
４，５９，３６５６．）、ＳＣ−５２１５１（Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，３６，２８８．）及びＶＸ
−４７８（ＷＯ９４０５６３９）の中間体として（２
Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ−４−フェニル−１−ブテンオ
キシド、ＣＧＰ−５３８２０（Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．
Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９９３，３，２８３７．）の
中間体として（２Ｒ，３Ｓ）−３−アミノ−４−フェニ
ル−１−ブテンオキシド、ＡＧ−１３４３（ＷＯ９５２
１１６４）の中間体として（２Ｓ，３Ｓ）−３−アミノ
−４−フェニルチオメチル−１−ブテンオキシド等をあ
げることができる。

【０００２】

【従来の技術】３−アミノ−１，２−オキシランの一般
的な製造方法として、Ｎ−保護された３−アミノ−２−
オキソ−１−ハロゲン化物の２位を立体選択的に還元し
た後、塩基で処理して目的化合物に変換する方法が知ら
れている（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，３６，
２８８．，Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，１９８
８，３６，４７９４．，ＥＰ３４６８６７．，Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９１，３４，３２６７．）。しか
しながら、この方法では、３−アミノ−２−オキソ−１
−ハロゲン化物の合成に爆発性があり毒性も強いジアゾ
メタンを用いなければならず工業化には不適な方法であ
る。また、Ｎ−保護された３−アミノ−１−プロペンを
不斉エポキシ化する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１
９８７，５２，１４８７．等）やＮ−保護された２−ア
ミノ−１−プロパナールにメチレンを挿入する方法（Ｗ
Ｏ９３／２３３８８．等）があるが、前者は不安定なア
ルデヒドのＷｉｔｔｉｇ反応により基質の合成を行わな
ければならないこと、後者は同じく不安定なアルデヒド
に対して、低温で発生させたカルベンを作用させなけれ
ばならずいずれも工業的に適した製造法とは言えない。
一方、３−Ｎ置換−１，２−ジオールを３−Ｎ置換−
１，２−オキシランに変換する方法として、３−アジド
−１，２−ジオールの１級水酸基をスルホニル化した
後、塩基で処理することにより３−アジド−１，２−オ
キシランに誘導する方法が知られている（Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．，１９９４，５９，３６５６．）が、２，
４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニリクロリド
を用いた１級水酸基のスルホニル化の収率が極めて低い
という問題があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】簡便に製造できる３−
アミノ−１，２−ジオールを原料として、３−アミノ−
１，２−オキシランに変換する工業的な製造方法を提供
することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく検討を重ねた結果、３−アミノ−１，２−
ジオールを酸触媒存在下、オルト酢酸エステル又はオル
ト蟻酸エステルと反応させて対応するアルコキシアルキ
リデン体に誘導後、ハロゲン化剤を作用させ２−アセト
キシ−３−アミノ−１−ハロゲン化物に変換し、これを
塩基処理することにより３−アミノ−１，２−オキシラ
ンを合成する方法を見出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００５】すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で
示されるＮ−保護された３−アミノ−１，２−ジオール
を、

【０００６】

【化６】

【０００７】（式中のＲ¹は、置換基を有していてもよ
い炭素数２〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノ
イル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜18個の直
鎖、分岐もしくは環状のアルコキシカルボニル基、置換
基を有していてもよいベンジル基またはＲ²と一緒にな
って炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ²は水
素、置換基を有していてもよいベンジル基またはＲ¹と
一緒になって炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、
Ｒ³は、置換基を有していてもよい炭素数１〜18個の直
鎖、分岐もしくは環状のアルキル基、炭素数７〜18個ア
ラルキル基、または炭素数６〜18個のアリール基を示
す。）

【０００８】酸触媒存在下でオルト酢酸エステルまたは
オルト蟻酸エステルと反応させることにより下記一般式
（ＩＩ）で示されるアルコキシアルキリデン体とし、

【０００９】

【化７】

【００１０】（但し、Ｒ¹，Ｒ²及びＲ³は上記と同じで
あり、Ｒ⁴は炭素数１〜４個のアルキル基を示し、Ｒ⁵は
水素またはメチル基を示す。）

【００１１】更にこれをハロゲン化剤と反応させること
により下記一般式（ＩＩＩ）で示されるアルコキシハロ
ゲン化物に導き、

【００１２】

【化８】

【００１３】（但し、Ｒ¹，Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁵は上記と同
じであり、Ｘは塩素または臭素を示す。）

【００１４】これを塩基で処理することにより下記一般
式（ＩＶ）で示されるエポキシド体に変換することを特
徴とする３−アミノ−１，２−オキシランの製造方法、

【００１５】

【化９】

【００１６】（但し、Ｒ¹，Ｒ²及びＲ³は上記と同じで
ある。）

【００１７】並びにその重要中間体である上記一般式
（ＩＩＩ）で示されるアルコキシハロゲン化物である。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明に用いるＮ−保護された３
−アミノ−１，２−ジオール（Ｉ）は、相当するα−ア
ミノ酸より種々の方法により合成することができる。例
えば、１：相当するＮ−保護されたα−アミノ酸から出
発し、これをジアゾメタンと反応させてジアゾメチルケ
トンにした後、トリフルオロ酢酸で処理し、水素化ホウ
素ナトリウムで還元する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，１９７９，８５．）、
２：Ｎ−フタロイル保護されたα−アミノ酸塩化物をト
リストリメチルシリルオキシエテンと反応させてヒドロ
キシメチルケトンとし、これを水素化ホウ素ナトリウム
で還元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５９，３６
５６，（１９９４）．）、３：α−アミノ酸より誘導さ
れるα−アミノアルデヒドに対し、ビニルマグネシウム
クロリドを反応させて２炭素増炭した後、酸化的に１炭
素減炭し、還元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，５
０，５３９９（１９８５））、４：Ｎ−保護されたα−
アミノ酸エステルを出発原料として、これをメチルスル
ホキシド由来の炭素アニオンと反応させて、β−ケト−
スルホキシドに誘導した後、酸等によりα−ケト−ヘミ
メルカプタールに変換し、これを複合金属水素化物によ
り還元する方法（特願平７−３３０２１２）、α−アミ
ノ酸を出発原料として用いない方法として、５：アリル
アルコールを不斉エポキシ化した後、アジドで開裂する
方法（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．３６，２３００（１９９
３）．）、あるいは６：酒石酸またはアスコルビン酸等
を不斉源として誘導する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９２，２７
３．、Ｂｕｌｌ．Ｓｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｆｒ．１２９、５
８５（１９９３）．）等により合成することができる。

【００１９】本発明のＮ−保護された３−アミノ−１，
２−ジオール（Ｉ）におけるＲ¹及びＲ²は、アミノ基の
保護された状態を示すものである。例えばＲ¹は、置換
基を有していてもよい炭素数２〜18個の直鎖、分岐もし
くは環状のアルカノイル基、置換基を有していてもよい
炭素数２〜１８個の直鎖、分岐もしくは環状のアルコキ
シカルボニル基、置換基を有していてもよいベンジル基
またはＲ²と一緒になって炭素数８〜18個の２塩基酸の
残基を示し、Ｒ²は水素、置換基を有していてもよいベ
ンジル基またはＲ¹と一緒になって炭素数８〜18個の２
塩基酸の残基を示すものである。すなわち、互いに独立
して水素またはアミノ保護基であるか、またはＲ¹及び
Ｒ²が一体となって二官能性のアミノ保護基を示す。ア
ミノ基の保護基としては、具体的には、ベンジルオキシ
カルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基のような
いわゆるウレタン型の保護基、アセチル基、ベンゾイル
基のようなアシル型保護基、あるいは、ベンジル基、ジ
ベンジル基のようなベンジル型保護基である。また、二
官能性のアミノ保護基としてはフタロイル基等をあげる
ことができる。

【００２０】式中のＲ³は、置換基を有していてもよい
炭素数１〜18個の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル
基、炭素数７〜18個のアラルキル基、または炭素数６〜
18個のアリール基を示すが具体的にはベンジル、フェニ
ルチオメチル、シクロヘキシルメチル、イソプロピル、
イソブチルおよびｓｅｃ−ブチル基であり、出発原料の
アミノ酸としては、フェニルアラニン、Ｓ−フェニルシ
ステイン、シクロヘキシルアラニン、バリン、ロイシ
ン、イソロイシンをあげることができる。

【００２１】３−アミノ−１，２−ジオール（Ｉ）は酸
触媒存在下、オルト酢酸エステル又はオルトギ酸エステ
ルと反応させてそれぞれ対応するアルコキシエチリデン
体又はアルコキシメチリデン体に（ＩＩ）に変換され
る。反応溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム等
のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢
酸イソプロピル等のエステル系溶媒あるいはトルエン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセト
ニトリル等の有機溶媒を用いることができる。また、酸
触媒としては、トシル酸、メタンスルホン酸、トリフル
オロ酢酸、硫酸等の酸、あるいはトシル酸ピリジン塩の
ような酸性塩等を用いることができる。酸触媒は基質に
対して０．０５当量〜１．５当量で、通常０．０５当量
で十分であるが、反応基質に塩基性官能基が存在する場
合には１当量以上用いることもある。オルト酢酸エステ
ルとしては、例えばオルト酢酸メチル、オルト酢酸エチ
ル、またオルト蟻酸エステルとしては、例えばオルト蟻
酸メチルあるいはオルト蟻酸エチルをあげることができ
る。これらオルトエステルの当量は基質（３−アミノ−
１，２−ジオール）に対して１〜５当量であり、好まし
くは２〜４当量である。 反応濃度は、基質に対して
０．５〜３０Ｌ／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏ
ｌである。反応温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３
０℃である。反応時間は１〜１２時間程度である。特別
な後処理操作は必要でなく、濃縮するのみで次の反応に
供せられる。

【００２２】３−アミノ−１，２−ジオール−アルコキ
シアルキリデン体（ＩＩ）を２−アルコキシ−３−アミ
ノ−１−ハロゲン化物（ＩＩＩ）に変換するには、３−
アミノ−１，２−ジオール−アルコキシアルキリデン体
（ＩＩ）をジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン
系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエ
ーテル等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロ
ピル等のエステル系溶媒あるいはトルエン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル等
の有機溶媒に溶解させ、これにハロゲン化剤を作用させ
ればよい。ハロゲン化剤としては、クロロトリメチルシ
ラン、臭化アセチル、塩化アセチル等を用いることがで
きる。ハロゲン化剤の当量は１〜５当量で好ましくは
１．５〜３当量である。また、反応基質中に酸に弱い官
能基等がある場合には塩基を共存させることができる。
塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等があげら
れる。反応濃度としては、基質に対して０．５〜３０Ｌ
／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏｌである。反応
温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３０℃である。反
応時間は基質により異なるが、１〜２４時間である。後
処理は、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ水溶液を加え
て中和した後、通常の抽出操作を行う。

【００２３】２−アルコキシ−３−アミノ−１−ハロゲ
ン化物（ＩＩＩ）は塩基で処理することにより３−アミ
ノ−１，２−オキシラン（ＩＶ）に変換される。反応溶
媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール系
溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエー
テル等の塩基により影響を受けないものなら用いること
ができるが、好ましくはメタノール、エタノールであ
り、場合により、水との混合溶媒を用いる。使用する塩
基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属ア
ルコキシド、水素化ナトリウム等の金属水素化物等を用
いることができるが、好ましくは安価で汎用性に富む炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムであ
る。塩基の当量は１〜５当量で好ましくは２〜３当量で
ある。反応濃度としては、基質に対して０．５〜３０Ｌ
／ｍｏｌで好ましくは１〜１０Ｌ／ｍｏｌである。反応
温度は０〜６０℃で好ましくは１０〜３０℃である。反
応時間は基質により異なるが、１〜２４時間である。後
処理は、通常の抽出操作を行うのみで高純度の目的物を
得ることができるが、必要であれば、晶析あるいはカラ
ムクロマトグラフィー等でさらに精製することもでき
る。

【００２４】

【実施例】以下に実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００２５】（参考例１） Ｎ，Ｎ−ジベンジル−
（Ｌ）−フェニルアラニンベンジルエステルの製造 ２５．０ｇ（１５１．３ｍｍｏｌ）の（Ｌ）−フェニル
アラニンおよび６６．６７ｇ（４８２．４ｍｍｏｌ）の
炭酸カリウムを水１００ｍｌに溶解した後、塩化ベンジ
ル５７．５１ｇ（４５４．３ｍｍｏｌ）を加え、９５℃
で１９時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、ｎ−ヘ
プタン６７ｍｌおよび水５０ｍｌを加え分層した。有機
層を５０ｍｌのメタノール／水＝１／２の溶液で２回洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾
過、濃縮し、上記表題化合物を６１．６４ｇ（９０．５
ｗｔ％，１２１．８ｍｍｏｌ）を得た（収率８４．７
％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：３．０
０（ｄｄ，１Ｈ），３．１４（ｄｄ，１Ｈ），３．５３
（ｄ，２Ｈ），３．７１（ｔ，１Ｈ），３．９２（ｄ，
２Ｈ），５．１２（ｄ，１Ｈ），５．２３（ｄ，１
Ｈ），６．９９−７．４０（ｍ，２０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ４３６（ＭＨ⁺）

【００２６】（参考例２） （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−１−メチルスルフィニル−２−オキソ
−４−フェニルブタンの製造 ナトリウムアミド３．７６ｇ（９６．３９ｍｍｏｌ）を
ジメチルスルホキシド４０ｍｌに懸濁し、３０分、７４
〜７５℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン４
０ｍｌを加え、０℃に冷却した。これにＮ，Ｎ−ジベン
ジル−（Ｌ）−フェニルアラニンベンジルエステル１
５．４７ｇ（９０．５ｗｔ％，３２．１４ｍｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した溶液を０℃に保
ちながら滴下した。０℃で３０分反応させた後、１０％
クエン酸水溶液１２０ｍｌおよび酢酸エチル１００ｍｌ
を加え、分層した。水層からさらに酢酸エチル５０ｍｌ
で１回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水６０ｍｌで
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開系はヘキサン／酢酸エチル＝２／１→１／３）
により精製した後、トルエン／ヘキサン系で晶析し、上
記表題化合物１１．１６ｇ（収率８５．６％）を得た。
得られた化合物は1Ｈ−ＮＭＲの積分比より、ジアステ
レオマー比率は約１：１であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．２
７（ｓ，３／２Ｈ），２．３５（ｓ，３／２Ｈ），２．
９７（ｄｄ，１Ｈ），３．１４（ｄｄ，１／２Ｈ），
３．１９（ｄｄ，１／２Ｈ），３．５５−３．６５
（ｍ，７／２Ｈ），３．７５（ｄ，１／２Ｈ），３．８
５（ｄ，２Ｈ），４．０１（ｄ，１／２Ｈ），４．０７
（ｄ，１／２Ｈ），７．１０−７．４０（ｍ，１５
Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ４０６（ＭＨ⁺）

【００２７】（参考例３） （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２
−オキソ−４−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−１−メチル
スルフィニル−２−オキソ−４−フェニルブタン９４．
３ｍｇ（０．２３３ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド
１．６ｍｌに溶解し、２Ｎ塩酸０．４ｍｌを加え、室温
で１５時間攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液１．５ｍｌを加え中和し、酢酸エチル８ｍ
ｌおよび水４ｍｌを加え分層し、さらに水層から酢酸エ
チル３ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせ、水５ｍｌ
さらに飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。濾過、濃縮し上記表題化合物の粗製物
を得た。特に精製することなく次の反応に使用した。

【００２８】（参考例４） （３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニル
−ブタンの製造 実施例３により得られた（３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベン
ジルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２−オ
キソ−４−フェニルブタンをエタノール２ｍｌおよび水
０．２ｍｌに溶解し０℃に冷却した後、水素化ホウ素ナ
トリウム１８．４ｍｇを加えた。０〜５℃で５０分攪拌
した後、１Ｎ塩酸を加えてｐＨを４．８に調製した。減
圧濃縮してエタノールを留去した後、水５ｍｌを加え酢
酸エチル２０ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水５ｍ
ｌで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過、濃
縮した後、分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記
表題化合物の（２Ｓ，３Ｓ）体７．０ｍｇおよび（２
Ｒ，３Ｓ）体５６．２ｍｇを得た（収率７５．１％）。 （２Ｓ，３Ｓ）体 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．９
３−３．０６（ｍ，２Ｈ），３．１６（ｄｄ，１Ｈ），
３．５４（ｄ，２Ｈ），３．６０−３．６７（ｍ，２
Ｈ），３．７８（ｄ，２Ｈ），３．８４（ｍ，１Ｈ），
７．２１−７．３４（ｍ，１５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６２（ＭＨ⁺） （２Ｓ，３Ｒ）体 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．７
９（ｍ，１Ｈ），３．０６−３．２３（ｍ，３Ｈ），
３．４２（ｄ，２Ｈ），３．５２−３．６０（ｍ，２
Ｈ），３．９９（ｄ，２Ｈ），７．２１−７．３６
（ｍ，１５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６２（ＭＨ⁺）

【００２９】（参考例５） Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニル−（Ｌ）−フェニルアラニンメチルエステルの製造 （Ｌ）−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩２０．
０ｇ（９２．７３ｍｍｏｌ）をトルエン９３ｍｌに懸濁
し、クロルギ酸ベンジル１５．８２ｇ（９２．７３ｍｍ
ｏｌ）を加えた。これに１Ｍ炭酸ナトリウム水溶液１３
０ｍｌを７℃以下に保ちながら滴下し、３時間攪拌し
た。分層した後、有機層を０．１Ｎ塩酸６０ｍｌおよび
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液６０ｍｌで洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し、
上記目的化合物２８．７５ｇ（９６．８ｗｔ％，８８．
８１ｍｍｏｌ）を得た（収率９５．８％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：３．１
１（ｍ，２Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），４．６６
（ｍ，１Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），５．２１（ｂ
ｒ．ｄ，１Ｈ、−ＮＨ），７．０８−７．３９（ｍ，１
０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３１４（ＭＨ⁺）

【００３０】（参考例６） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−１−メチルスルフィニル−
２−オキソ−４−フェニルブタンの製造 ナトリウムアミド４．９８ｇ（１２７．７ｍｍｏｌ）を
ジメチルスルホキシド４０ｍｌに懸濁し、５０分、７２
〜７６℃に加熱した。この溶液にテトラヒドロフラン５
０ｍｌを加え、０℃に冷却した。これにＮ−ベンジルオ
キシカルボニル−（Ｌ）−フェニルアラニンメチルエス
テル１０．３３ｇ（９６．８ｗｔ％，３１．９１ｍｍｏ
ｌ）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した溶液を０
℃に保ちながら滴下した。０℃で１時間反応させた後、
１０％クエン酸水溶液１２０ｍｌおよびジクロロメタン
１００ｍｌを加え抽出した。水層からさらにジクロロメ
タン６０ｍｌで１回抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩
水８０ｍｌで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
濾過、濃縮し、得られた残渣をジクロロメタン／ヘキサ
ン系で晶析し、上記表題化合物８．１４ｇ（２２．６５
ｍｍｏｌ）を得た（収率７１．０％）。得られた化合物
は1Ｈ−ＮＭＲの積分比より、約３：１のジアステレオ
マー混合物であった。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．６
３（ｓ，３／４Ｈ），２．６６（ｓ，９／４Ｈ），２．
９４−３．０１（ｍ，１Ｈ），３．１２−３．２１
（ｍ，１Ｈ），３．５７（ｄ，３／４Ｈ），３．６９
（ｄ，１／４Ｈ），３．８９（ｄ，１／４Ｈ），４．０
４（ｄ，３／４Ｈ），４．４５−４．５９（ｍ，１
Ｈ），５．０７（ｍ，２Ｈ），５．４４（ｂｒ．ｄ，１
／４Ｈ），５．６４（ｂｒ．ｓ，３／４Ｈ），７．１４
−７．３９（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３６０（ＭＨ⁺）

【００３１】（参考例７） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−１−ヒドロキシ−１−メチ
ルチオ−２−オキソ−４−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
１−メチルスルフィニル−２−オキソ−４−フェニルブ
タン７０８．６ｍｇ（１．９７１ｍｍｏｌ）をジメチル
スルホキシド１５ｍｌおよびテトラヒドロフラン６ｍｌ
に溶解し、２Ｎ塩酸７．５ｍｌを加え、室温で１８時間
攪拌した。氷浴で冷却下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液１５ｍｌを加え中和し、酢酸エチル５０ｍｌおよび水
５０ｍｌを加え分層し、さらに水層から酢酸エチル２５
ｍｌで２回抽出した。有機層を合わせ、水５０ｍｌさら
に飽和食塩水３０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。この溶液を濾過、濃縮し得られた残渣を
ヘキサン／酢酸エチル系で晶析し上記表題化合物６５
９．７ｍｇ（１．８３５ｍｍｏｌ）を得た（収率９３．
２％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：１．７
８（ｓ，３Ｈ），２．９７（ｄｄ，１Ｈ），３．２４
（ｄｄ，１Ｈ），３．８７（ｄｄ，１Ｈ），４．８６
（ｍ，１Ｈ），５．０５（ｍ，２Ｈ），５．５５（ｄ，
１Ｈ），７．１８−７．３９（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＦＡＢ） ３６０（ＭＨ⁺）

【００３２】（参考例８） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４
−フェニルブタンの製造 （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
１−ヒドロキシ−１−メチルチオ−２−オキソ−４−フ
ェニルブタン９９．４ｍｇ（０．２７７ｍｍｏｌ）を得
たエタノール３ｍｌ，テトラヒドロフラン０．５ｍｌお
よび水０．３ｍｌに溶解し、０℃に冷却し水素化ホウ素
ナトリウム２１．７ｍｇを加えた。０〜５℃で４０分攪
拌した後、１Ｎ塩酸を加え、ｐＨを４．６に調製し、さ
らに水６ｍｌを加えジクロロメタン（１０ｍｌｘ１，５
ｍｌｘ２）で抽出した。飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。濾過、濃縮し、得られた残渣を
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し、上記
目的化合物７４．９ｍｇを得た（収率８５．７％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．４
５，２．６２（ｂｒ．，−ＯＨ），２．８１−２．９４
（ｍ，２Ｈ），３．０８−３．１５（ｍ，１Ｈ）、３．
３８−３．７０（ｍ，３Ｈ），３．８６−４．０２
（ｍ，１Ｈ），４．８１−５．１０（ｍ，３Ｈ），７．
１６−７．３８（ｍ，１０Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３１６（ＭＨ⁺）

【００３３】（実施例１） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−１−ブロモ−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−
４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−
フェニル−１，２−ブタンジオール５６９．４ｍｇ
（１．５７５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１６ｍｌに溶
解し、オルト酢酸メチル０．５ｍｌおよびトリフルオロ
酢酸０．１３ｍｌを加え、室温で４時間反応を行った。
減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロロメタン１４ｍ
ｌに溶解し、臭化アセチル０．２９ｍｌのジクロロメタ
ン（２ｍｌ）溶液を４分間かけて滴下した。室温にて５
時間反応を行った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１
６ｍｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加えて分層し
た。有機層を飽和食塩水１５ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製することにより（２Ｒ，
３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ−４−フェニルブタン５８８．４ｍｇ
（収率８０．１％）を得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．１
６（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｄｄ，１Ｈ），３．１０
（ｄｄ，１Ｈ），３．１７−３．２５（ｍ，２Ｈ），
３．４９（ｄ，２Ｈ），３．５９（ｄｄ，１Ｈ），４．
０４（ｄ，２Ｈ），５．０５（ｍ，１Ｈ）、７．１１−
７．１４（ｍ，２Ｈ），７．１９−７．３５（ｍ，１３
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４６６（ＭＨ⁺）

【００３４】（実施例２） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，
Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−１−ブテンオキ
シドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニルブタン７５．
１ｍｇ（０．１６１ｍｍｏｌ）をメタノール１．６ｍｌ
に溶解し、炭酸カリウム４５ｍｇを加え、室温で２時間
反応を行った。不溶物をろ別後、減圧濃縮して溶媒を留
去した後、水５ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出
した。有機層を飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、（２Ｒ，３
Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−
１−ブテンオキシド５４．１ｍｇ（収率９７．８％）を
得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．２
０（ｄｄ，１Ｈ），２．５９（ｄｄ，１Ｈ），２．６９
−２．８０（ｍ，１Ｈ），２．９８（ｍ，１Ｈ），３．
１５（ｍ，１Ｈ），３．８２（ｄ，２Ｈ），３．８８
（ｄ，２Ｈ），７．００−７．０４（ｍ，２Ｈ），７．
１７−７．３３（ｍ，１３Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３４４（ＭＨ⁺）

【００３５】（実施例３） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−１−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−
４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−
フェニル−１，２−ブタンジオール３０２．０ｍｇ
（０．８３５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍｌに溶
解し、オルト酢酸メチル０．２７ｍｌおよびトリフルオ
ロ酢酸０．０７１ｍｌを加え、室温で２時間反応を行っ
た。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロロメタン
８．５ｍｌに溶解し、クロロトリメチルシラン０．２７
ｍｌを加え室温で２１時間攪拌した。その後さらにクロ
ロトリメチルシラン０．１１ｍｌを加え室温にて６時間
反応を行った後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍ
ｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加えて分層した。有
機層を飽和食塩水１０ｍｌで洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層
クロマトグラフィーで精製することにより（２Ｒ，３
Ｓ）−２−アセトキシ−１−クロロ−３−Ｎ，Ｎ−ジベ
ンジルアミノ−４−フェニルブタン２４８．３ｍｇ（収
率７０．５％）を得た。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3） δ：２．１
６（ｓ，３Ｈ），３．０８−３．１８（ｍ，２Ｈ），
３．３２（ｄｄ，１Ｈ），３．４９（ｄ，２Ｈ），３．
７５（ｄｄ，１Ｈ），４．０５（ｄ，２Ｈ），５．０２
（ｍ，１Ｈ），７．１１−７．１４（ｍ，２Ｈ），７．
１８−７．３５（ｍ，１３Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４２２（ＭＨ⁺）

【００３６】（実施例４） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，
Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニル−１−ブテンオキ
シドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−クロロ−３−
Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェニルブタン５１．
０ｍｇ（０．１２１ｍｍｏｌ）をメタノール１．２ｍｌ
に溶解し、炭酸カリウム３３ｍｇを加え、室温で２４時
間反応を行った。水４ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌ
で抽出した。有機層を飽和食塩水５ｍｌで洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過、濃縮し、（２
Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ−４−フェ
ニル−１−ブテンオキシド３３．３ｍｇ（収率８０．１
％）を得た。

【００３７】（実施例５） （３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１−ブテン
オキシドの製造 参考例８で得られた（３Ｓ）−３−Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニ
ルブタン２１６．１ｍｇ（０．６８５ｍｍｏｌ）をジク
ロロメタン７ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．２２３
ｍｌおよびトリフルオロ酢酸０．０２５ｍｌを加え室温
で１時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジ
クロロメタン６ｍｌに溶解し臭化アセチル０．１０１ｍ
ｌのジクロロメタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温で１．
５時間攪拌した後、炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌ
およびジクロロメタン１５ｍｌを加え分層した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィーで精製し２７７．４ｍｇ
を得た。得られた化合物のうち２６４．４ｍｇをメタノ
ール３ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１７４ｍｇを加え室
温で１時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液７ｍ
ｌおよびジクロロメタン１０ｍｌを加え分層した後、さ
らに水層よりジクロロメタン（５ｍｌｘ２）で抽出し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過、濃縮し、
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記目
的化合物１７１．２ｍｇを得た（収率８８．２％）。得
られたエポキシド体は1Ｈ−ＮＭＲの積分値よりジアス
テレオマー比を調べた結果、（２Ｓ，３Ｓ）：（２Ｒ，
３Ｓ）＝２：１のジアステレオマー混合物であった。 （ジアステレオマー混合物） 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：２．５
２−２．５８（ｍ，１／３Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），２．
７１−２．８０（ｍ，４／３Ｈ，（２Ｓ，３Ｓ）），
２．８３−２．９５（ｍ，１Ｈ），２．９９（ｄｄ，１
Ｈ），３．６９−３．７２（ｍ，１Ｈ，２／３Ｈ，（２
Ｓ，３Ｓ）），４．１２−４．２５（ｍ，１Ｈ，１／３
Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），４．６７−４．８０（ｍ，１
Ｈ），５．０３（ｓ，４／３Ｈ，（２Ｓ，３Ｓ），５．
０５（ｓ，２／３Ｈ，（２Ｒ，３Ｓ）），７．１８−
７．３５（ｍ，１０Ｈ）．

【００３８】（実施例６） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−１−ブロモ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン１１
４．７ｍｇ（０．４０８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン４
ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．１３ｍｌおよびｐ−
トルエンスルホン酸ピリジン塩１．８ｍｇを加え室温で
１．５時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、
ジクロロメタン４ｍｌに溶解しトリエチルアミン０．０
１１ｍｌを加え、臭化アセチル０．１０１ｍｌのジクロ
ロメタン１ｍｌ溶液を滴下した。室温で１時間攪拌した
後、炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍｌおよびジクロロ
メタン１０ｍｌを加え分層した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィーで精製し上記表題化合物９０．３ｍｇを
得た（収率５７．３％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
８（ｓ，９Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．６８−
２．７６（ｍ，２Ｈ），３．４１−３．４３（ｍ，２
Ｈ），４．２７（ｍ，１Ｈ），４．６４（ｂｒ．ｄ，１
Ｈ），５．１２（ｍ，１Ｈ），７．１７−７．３３
（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ４１０（Ｍ＋Ｎａ⁺）

【００３９】（実施例７） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−
ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１
−ブテンオキシドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−１−ブロモ−３−Ｎ
−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニルブ
タン６０．１ｍｇをメタノール１．６ｍｌに溶解し、炭
酸カリウム４３ｍｇを加え室温で４．５時間攪拌した。
不溶物をろ別し、減圧濃縮して溶媒を留去した後、水５
ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した。有機層を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィーで精製し上記目的化合物４０．５ｍｇを得た（収率
９８．６％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
９（ｓ，９Ｈ），２．５８（ｍ，１Ｈ），２．６４
（ｔ，１Ｈ），２．８４−３．０３（ｍ，３Ｈ），４．
１２（ｍ，１Ｈ），４．４８（ｂｒ．，１Ｈ），７．２
０−７．３４（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ２８６（Ｍ＋Ｎａ⁺）

【００４０】（実施例８） （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセ
トキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−
１−クロロ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン９４．
９ｍｇ（０．３３７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン３．４
ｍｌに溶解しオルト酢酸メチル０．１１ｍｌおよびｐ−
トルエンスルホン酸ピリジン塩２．２ｍｇを加え室温で
１時間１０分攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した
後、ジクロロメタン３．４ｍｌに溶解しトリエチルアミ
ン０．０１０ｍｌおよびクロロトリメチルシラン０．０
６４ｍｌを加えた。室温で６時間４０分攪拌した後クロ
ロトリメチルシラン０．０２１ｍｌを追加し、さらに室
温で３０分攪拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液５ｍｌ
およびジクロロメタン１０ｍｌを加え分層した後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過濃縮した後、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィーで精製し上記表題化合物
８７．５ｍｇを得た（収率７５．９％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
９（ｓ，９Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），２．７４−
２．７７（ｍ，２Ｈ），３．５６−３．５８（ｍ，２
Ｈ），４．２３（ｍ，１Ｈ），４．６５（ｍ，１Ｈ），
５．１０（ｍ，１Ｈ），７．１７−７．３３（ｍ，５
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（ｍ＋Ｎａ⁺）

【００４１】（実施例９） （２Ｒ，３Ｓ）−３−Ｎ−
ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−４−フェニル−１
−ブテンオキシドの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−２−アセトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチル
オキシカルボニルアミノ−１−クロロ−４−フェニルブ
タン５０．２ｍｇをメタノール１．５ｍｌに溶解し、炭
酸カリウム４１ｍｇを加え室温で５時間攪拌した。水５
ｍｌを加え、酢酸エチル１０ｍｌで抽出した後、有機層
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。ろ過、濃縮し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフ
ィーで精製し上記目的化合物３４．６ｍｇを得た（収率
８９．４％）。

【００４２】（実施例１０） （２Ｓ，３Ｓ）−２−ア
セトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ
−１−クロロ−４−フェニルブタンの製造 （２Ｓ，３Ｓ）−３−Ｎ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，２−ジヒドロキシ−４−フェニルブタン５４．
５ｍｇ（０．３３７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２ｍｌ
に溶解しオルト酢酸メチル０．０６２ｍｌおよびｐ−ト
ルエンスルホン酸ピリジン塩１．０ｍｇを加え室温で１
時間攪拌した。減圧濃縮して溶媒を留去した後、ジクロ
ロメタン２ｍｌに溶解しトリエチルアミン０．００６ｍ
ｌおよびクロロトリメチルシラン０．０４９ｍｌを加え
た。。室温で１６時間攪拌した後クロロトリメチルシラ
ン０．０２５ｍｌを追加し、さらに室温で７時間３０分
攪拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液６ｍｌおよびジク
ロロメタン７ｍｌを加え分層した後、有機層を飽和食塩
水６ｍｌで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ
過濃縮した後、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
で精製し上記表題化合物３７．３ｍｇを得た（収率５
６．２％）。また、（２Ｒ，３Ｓ）−１−アセトキシ−
３−Ｎ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−２−クロ
ロ−４−フェニルブタン１５．５ｍｇを得た（収率２
３．４％）。 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．３
３（ｓ，９Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．７３
（ｍ，１Ｈ），２．９５（ｄｄ，１Ｈ），３．６１−
３．７３（ｍ，２Ｈ），４．１７（ｍ，１Ｈ），４．４
６（ｍ，１Ｈ），５．１３（ｍ，１Ｈ），７．１７−
７．３３（ｍ，５Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（Ｍ＋Ｎａ⁺） （２Ｒ，３Ｓ）−１−アセトキシ−３−Ｎ−ｔ−ブチル
オキシカルボニルアミノ−２−クロロ−４−フェニルブ
タン 1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3） δ：１．４
１（ｓ，９Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｄ
ｄ，１Ｈ），２．９７（ｄｄ，１Ｈ），４．０３（ｄ
ｔ，１Ｈ），４．２１−４．３２（ｍ，３Ｈ），４．７
８（ｂｒ．ｄ，１Ｈ），７．２１−７．３４（ｍ，５
Ｈ）． マススペクトル（ＥＳＩ） ３６４（Ｍ＋Ｎａ⁺）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で示されるＮ−保護さ
   れた３−アミノ−１，２−ジオールを、 【化１】 （式中のＲ¹は、置換基を有していてもよい炭素数２〜1
   8個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノイル基、置換
   基を有していてもよい炭素数２〜18個の直鎖、分岐もし
   くは環状のアルコキシカルボニル基、置換基を有してい
   てもよいベンジル基、またはＲ²と一緒になって炭素数
   ８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ²は水素、置換基
   を有していてもよいベンジル基またはＲ¹と一緒になっ
   て炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ³は、置
   換基を有していてもよい炭素数１〜18個の直鎖、分岐も
   しくは環状のアルキル基、炭素数７〜18個アラルキル
   基、または炭素数６〜18個のアリール基を示す。）酸触
   媒存在下、オルト酢酸エステルまたはオルト蟻酸エステ
   ルと反応させることにより下記一般式（ＩＩ）で示され
   るアルコキシアルキリデン体とし、 【化２】 （但し、Ｒ¹，Ｒ²及びＲ³は上記と同じであり、Ｒ⁴は炭
   素数１〜４個のアルキル基を示し、Ｒ⁵は水素またはメ
   チル基を示す。）更にこれをハロゲン化剤と反応させる
   ことにより下記一般式（ＩＩＩ）で示されるアルコキシ
   ハロゲン化物に導き、 【化３】 （但し、Ｒ¹，Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁵は上記と同じであり、Ｘ
   は塩素または臭素を示す。）これを塩基で処理すること
   により下記一般式（ＩＶ）で示されるエポキシド体に変
   換することを特徴とする３−アミノ−１，２−オキシラ
   ンの製造方法。 【化４】 （但し、Ｒ¹，Ｒ²及びＲ³は上記と同じである。）
2. 【請求項２】 一般式（ＩＩＩ）で表される２−アセト
   キシ−３−アミノ−１−ハロゲン化物。 【化５】 （式中のＲ¹は、置換基を有していてもよい炭素数２〜1
   8個の直鎖、分岐もしくは環状のアルカノイル基、置換
   基を有していてもよい炭素数２〜18個の直鎖、分岐もし
   くは環状のアルコキシカルボニル基、置換基を有してい
   てもよいベンジル基またはＲ²と一緒になって炭素数８
   〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ²は水素、置換基を
   有していてもよいベンジル基またはＲ¹と一緒になって
   炭素数８〜18個の２塩基酸の残基を示し、Ｒ³は、置換
   基を有していてもよい炭素数１〜18個の直鎖、分岐もし
   くは環状のアルキル基、炭素数７〜18個アラルキル基、
   または炭素数６〜18個のアリール基を示し、Ｘは塩素ま
   たは臭素を示す。）