JP3847282B2 - 光導波路素子の製造方法、および該方法により製造される光導波路素子 - Google Patents
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り製造される光導波路素子に関する。
射伝送が行われる。
方法によりシリカ系材料を用いて光通信導波路材料が製造されている。その屈折率を調整してコア層または被覆層として用いるためには、通常、シリカに二酸化チタンなどのその他の酸化物を少量混合する必要がある。ところが、CVD法、FHD法、VD法やスパッタリング法などにより、光導波路材料を製造するには、設備が複雑となり、コストが非常に高くつくという問題があった。また、SOG法により純無機成分のシリカを用いて製造した光導波
路材料においては厚さが足りないという問題があった。
特性を改善し、他方において屈折率と光窓口の調整をすることができるといった優れた性質を示す。通常、無機酸化物は高分子材料と比較して広範囲な屈折率を有し、それを加えることでC−H結合の密度を低くすることができる。しかし、現在製造されている高分子材料/無機酸化物の複合材料は、ほとんどが塊状材料であり、メンブレン状に製造されたとしても、その無機酸化物の粒子が大きすぎるため、光の散乱損失をひきおこし、光メンブレンとしては利用し難い。それ故、現在用いられている高分子材料/無機酸化物の複合薄膜を光導波路素子として利用するには、さらに下記の課題を解決する必要がある。即ち、(1)無機物のサイズが大きすぎる;(2)光学的薄膜としての製造方法の提供;およ
び(3)膜の厚さが不足する;といった課題である。
アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料を用いた光導波路素子の製造方法であって、下記の製造工程を有することを特徴とする製造方法:
(1)アクリル酸エステルとアクリル酸エステルと下記式(III)に示されるシランカッ
プリング剤との合計モル数に対し、0.1〜0.5倍モルとなる量のシランカップリング剤を水及び酸触媒を用いないで反応させた後、該反応溶液中に、チタニウムアルコキシドと水を加え、酸触媒の非存在下で、ゾル中でさらに反応させて、アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料の前駆体溶液を調製する工程;
(2)シリカ塗膜を有するシリコンチップに、工程(1)で得た前駆体溶液を塗布し、50〜90℃範囲で溶剤を留去し、さらに50〜200℃範囲でベーキングすることで、アクリル酸
エステル/チタニウムアルコキシド複合材料からなる薄膜を製造する工程;
(3)フォトリソグラフィにより、工程(2)で得た薄膜から導波路を形成する工程;
(4)上記工程(1)とはチタニウムアルコキシドの比率を変え、上記工程(1)と同様な方法により、上記工程(1)で得た前駆体溶液より屈折率の低い塗膜を形成可能な前駆体溶液を調製する工程;
(5)上記工程(3)で形成された導波路表面とシリカ塗膜表面とに、上記工程(4)で得た前駆体溶液を塗布した後、50〜90℃範囲内で溶剤を留去し、さらに50〜200℃範囲内
でベーキングしてアクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料からなる被覆層を形成する工程。
式(III):(CH2=CR−COOR4)xSi(OR)4-x
(式中、RはC1〜6アルキル基を示し、R4はC1〜6アルキレン基を示し、xは1〜4の
整数を示す。)
前記工程(1)および(4)において使用するチタニウムアルコキシドが、前駆体溶液の1〜90重量%の量であることが好ましい。
式(II):CH2C(R3)COORf
(式中、R1、R2とR3は、それぞれ独立してC1〜12のアルキル基またはC3〜12のシク
ロアルキル基を示し、RfはC1〜6フルオロアルキル基を示す。)
前記アクリル酸エステルが、メタアクリル酸メチルエステル、メタアクリル酸エチルエステル、メタアクリル酸プロピルエステル、メタアクリル酸ブチルエステル、メタアクリル酸シクロヘキシルエステル、メタアクリル酸ボルニルエステル、メタアクリル酸アダマンチルエステル、メタアクリル酸トリフルオロメチルエステルおよびアクリル酸ヘキサフルオロエチルエステルからなる群より選ばれる1種または2種以上であることも好ましい。
アセチルペルオキシド、およびラウロイルペルオキシドからなる群より選ばれる1種または2種以上であることも好ましい。
有用である。
(1)アクリル酸エステルとアクリル酸エステルと前記式(III)に示されるシランカッ
プリング剤との合計モル数に対し、0.1〜0.5倍モルとなる量のシランカップリング剤を水及び酸触媒を用いないで反応させた後、該反応溶液中に、チタニウムアルコキシドと水を加え、酸触媒の非存在下で、ゾル中でさらに反応させて、アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料の前駆体溶液を調製する;
(2)シリカ蒸着(図2の(a))によりシリコンチップ1表面にシリカ塗膜2を形成し、
そのシリカ塗膜2の表面に、上記で得た前駆体溶液を塗布し(図2の(b))、50〜90℃(
好ましくは、50〜70℃、さらに好ましくは55〜65℃)範囲の温度下で溶剤を留去し、次に50〜200℃(好ましくは、140〜160℃、さらに好ましくは145〜155℃)範囲の温度下で、
ベーキングすることによりアクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料よりなる薄膜3を得る;
(3)次にフォトリソグラフィにより工程(2)で得た薄膜3からコア層(導波路)3'
を形成する(図2の(c));
(4)上記工程(1)とはチタニウムアルコキシドの比率を変え、工程(1)に示す方法と同様な方法により工程(1)で得た前駆体溶液より屈折率の低い塗膜を形成可能な前駆体溶液を調製する;
(5)上記工程(3)で形成されたコア層3'表面とシリカ塗膜2表面とに、上記工程(
4)で得た前駆体溶液を塗布した後、50〜90℃(好ましくは、50〜70℃、さらに好ましくは55〜65℃)範囲の温度で溶剤を留去し、次に50〜200℃(好ましくは、140〜160℃、さ
らに好ましくは、145〜155℃)範囲の温度でベーキングして、アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料からなる被覆層4を形成する(図2の(e));ことにより本
発明の光導波路素子を製造する。
ると、アクリル酸エステルとチタニウムアルコキシドとが自己重合反応を起こし易くなり、相分離が発生する。逆に、カップリング剤の使用モル比が0.5より大きくなると、カッ
プリング剤自身の重合反応が生じる。また、カップリング剤の使用モル比が0.1未満であ
っても、0.5より大きくても、光の散乱損失が過大になり、光通信素子としては不適であ
る。
重量%の量であることが好ましい。
式(II):CH2C(R3)COORf
(式中、R1、R2とR3は、それぞれ独立してC1〜12アルキル基またはC3〜12シクロア
ルキル基を示し、RfはC1〜6フルオロアルキル基を示す。)
本発明において、「C1〜12アルキル基」とは、炭素原子数が1〜12の直鎖状または
側鎖状アルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基とドデシル基などが挙げられる。また、「C3〜12シクロアルキル基」とは、炭素原子数3〜12の単環式または多環式シクロアルキル基を示す。単環式シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、メチルシクロオクチル基などが挙げられる。一方、多環式シクロアルキル基としては、例えば、ボルニル基、アダマンチル基などが挙げられる。
、これに限定されるものではない。
式(III):(CH2=CR−COOR4)xSi(OR)4-x
(式中、RはC1-6アルキル基を示し、R4はC1-6アルキレン基を示し、xは1〜4の整数を示す。)
上記式において、「C1-6アルキル基」としては、炭素原子数1〜6の直鎖状または側鎖
状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ペンチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘ
キシル基などが挙げられる。上記において、「C1-6アルキレン基」としては、上記に示
すC1-6アルキル基より水素原子を一つ除去して得る二価のアルキレン基が挙げられる。
リメトキシシリルエチルエステル、アクリル酸2−トリメトキシシリルエチルエステル、
メタアクリル酸2−トリエトキシシリルエチルエステル、アクリル酸2−トリエトキシシリルエチルエステル、メタアクリル酸3−トリメトキシシリルプロピルエステル、アクリル
酸3−トリメトキシシリルプロピルエステル、メタアクリル酸3−トリエトキシシリルプロピルエステル、アクリル酸3−トリエトキシシリルプロピルエステル、メタアクリル酸4−トリメトキシシリルブチルエステル、アクリル酸4−トリメトキシシリルブチルエステル
、メタアクリル酸4−トリエトキシシリルブチルエステル、アクリル酸4−トリエトキシ
シリルブチルエステルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
中で行うことが好ましい。これにより、前駆体溶液の優れた均一性を保つことができる。
メトキシエタノール、エトキシエタノール、エトキシプロパノール、エトキシブタノール、メトキシプロパノール、プロポキシエタノールなどのアルコール類;
エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、メトキシジエチレングリコール、プロポキシジエチレングリコール、エトキシジエチレングリコール、メトキシジエチレングリコールなどのグリコール類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
キシド、ラウロイルペルオキシドなどが挙げられる。重合開始剤は、シランカップリング剤とアクリル酸エステル単体との合計重量に対し、0.001〜0.1重量%の範囲となる量で用いられる。
以下、実施例により本発明について詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
冷却装置を備えた三口フラスコに、メタアクリル酸メチルエステル(MMA、3.0036g)、メタアクリル酸3−トリメトキシシリルプロピルエステル(MSMA、2.4835g)、テトラヒドロフラン(THF、20g)をそれぞれ添加し、別に開始剤として、ベンゾイルペルオキシド(BOP、0.4845g)をテトラヒドロフラン(10g)に溶解する。このベンゾイルペルオキシド
のテトラヒドロフラン溶液を、上記三口フラスコに加え、60℃で反応させ、上記冷却装置により溶剤が揮発するのを防止する。反応中、窒素ガスの導入を継続し、反応系に水分と酸素が混入しないようにして、上記の温度下で2時間反応を続ける。また、チタニウムテ
トラn−ブトキシド(Ti(OBu)4、3.6581g)、脱イオン水(0.0729g)を、それぞれ15gのテトラヒドロフラン溶液、11gのテトラヒドロフラン溶液に加える。さらに、60℃下にお
いて、上記のチタニウムテトラn−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液と、脱イオン水
を含むテトラヒドロフラン溶液とを、2時間かけて上記反応溶液中に滴下する。2時間反応(滴下)した後、反応系は液状を保持したままの状態にあり、ゲル化していなかった。
コンチップ上に塗布し、80℃と150℃下でそれぞれ1時間ずつベーキングして、アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料の光学的薄膜を得る。この光学的薄膜の電界イオン放射走査形電子顕微鏡写真を第3図に示す。この図より本発明の製造方法により得
たアクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合膜中のチタニウムアルコキシドの粒子サイズが10nm以下と非常に小さいことが確認される。また、上記の複合光学薄膜の原子力顕微鏡(AFM)図を第4図に示す。この図より薄膜の厚さが1.5μmで、平均粗さと平方根粗さとも1nm以下であることが判る。このことより、本発明の製造方法により得た複合光
学薄膜が非常に優れた平坦度を有することが確認される。また、プリズム結合測定器を用いて薄膜の屈折率を測定した結果、1.5604(1319nm)であった。
チタニウムテトラn−ブトキシドの比率を替えて、実施例1に示す同様な方法で屈折率の異なるアクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合光学薄膜を製造した。これらの屈折率とチタニウムアルコキシド含量との関係を第5図に示す。第5図に示したように、両者の相関は正比例を示していることが良く判る。これらの薄膜は優れた平坦度と光学透過性を有し、光導波路素子として有用である。
実施例1〜5において製造した複合光学薄膜に、i−線(365nm)を光源に、フェノールアルデヒド樹脂ワニス系フォトレジスト剤を用い、第2図に示すフォトリソグラフィと乾式リソグラフィ工程とにより光導波路素子を得た。これら光導波路素子をカットバック法(cut-back method)により1310nmでの光伝送損失を測定した結果、0.3〜0.5dB/cm範囲
内の値を示した。第6図に示すとおり、チタニウムアルコキシド含量が増加するにつれて
、光伝送損失が減少する。これはC-H結合の密度が低下し、しかもチタニウムアルコキシ
ドのサイズが小さいため、光伝送損失に影響を与えないことに由来する。このようにして製造された光導波路素子は、すでに従来の光導波路素子の光伝送損失の要求(<1dB/cm
)を満足させることができるものである。
2 シリカ塗膜
3 アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料よりなる薄膜
3' コア層
4 アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料よりなる被覆層
(a) シリカ蒸着
(b) スピン塗り
(c) フォトリソグラフィ
(e) 被覆層の形成
Claims (10)
- アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料を用いた光導波路素子の製造方法であって、下記の製造工程を有することを特徴とする製造方法:
(1)アクリル酸エステルとアクリル酸エステルと下記式(III)に示されるシランカッ
プリング剤との合計モル数に対し、0.1〜0.5倍モルとなる量のシランカップリング剤を水及び酸触媒を用いないで反応させた後、該反応溶液中に、チタニウムアルコキシドと水を加え、酸触媒の非存在下で、ゾル中でさらに反応させて、アクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料の前駆体溶液を調製する工程;
(2)シリカ塗膜を有するシリコンチップに、工程(1)で得た前駆体溶液を塗布し、50〜90℃範囲で溶剤を留去し、さらに50〜200℃範囲でベーキングすることで、アクリル酸
エステル/チタニウムアルコキシド複合材料からなる薄膜を製造する工程;
(3)フォトリソグラフィにより、工程(2)で得た薄膜から導波路を形成する工程;
(4)上記工程(1)とはチタニウムアルコキシドの比率を変え、上記工程(1)と同様な方法により、上記工程(1)で得た前駆体溶液より屈折率の低い塗膜を形成可能な前駆体溶液を調製する工程;
(5)上記工程(3)で形成された導波路表面とシリカ塗膜表面とに、上記工程(4)で得た前駆体溶液を塗布した後、50〜90℃範囲内で溶剤を留去し、さらに50〜200℃範囲内
でベーキングしてアクリル酸エステル/チタニウムアルコキシド複合材料からなる被覆層を形成する工程。
式(III):(CH2=CR−COOR4)xSi(OR)4-x
(式中、RはC1〜6アルキル基を示し、R4はC1〜6アルキレン基を示し、xは1〜4の
整数を示す。)
- 前記工程(1)および(4)において使用される水とチタニウムアルコキシドとのモル比(水/チタニウムアルコキシド)が、0.5〜1.5であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記工程(1)および(4)において使用されるチタニウムアルコキシドが、前駆体溶液の1〜90重量%の量であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記工程(1)および(4)において使用されるアクリル酸エステルが、下記式(I)および式(II)で示される群からなるものより選ばれる1種または2種以上であることを
特徴とする請求項1に記載の製造方法。
式(I):CH2C(R1)COO(R2)
式(II):CH2C(R3)COORf
(式中、R1、R2とR3は、それぞれ独立してC1〜12アルキル基またはC3〜12シクロアルキル基を示し、RfはC1〜6フルオロアルキル基を示す。) - 前記アクリル酸エステルが、メタアクリル酸メチルエステル、メタアクリル酸エチルエステル、メタアクリル酸プロピルエステル、メタアクリル酸ブチルエステル、メタアクリル酸シクロヘキシルエステル、メタアクリル酸ボルニルエステル、メタアクリル酸アダマンチルエステル、メタアクリル酸トリフルオロメチルエステルおよびアクリル酸ヘキサフルオロエチルエステルからなる群より選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする請求項4に記載の製造方法。
- 前記シランカップリング剤が、メタアクリル酸2−トリメトキシシリルエチルエステル、アクリル酸2−トリメトキシシリルエチルエステル、メタアクリル酸2−トリエトキシシリルエチルエステル、アクリル酸2−トリエトキシシリルエステル、メタアクリル酸3−トリメトキシシリルプロピルエスエル、アクリル酸3−トリメトキシシリルプロピルエステル、メタアクリル酸3−トリエトキシシリルプロピルエステル、アクリル酸3−トリエトキシシリルプロピルエステル、メタアクリル酸4−トリメトキシシリルブチルエステル、アクリル酸4−トリメトキシシリルブチルエステル、メタアクリル酸4−トリエトキシシリルブチルエステル、およびアクリル酸4−トリエトキシシリルブチルエステルからなる群より選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記工程(1)および(4)において使用されるチタニウムアルコキシドが、チタニウムテトラn−ブトキシド(Ti(OBu)4)であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 工程(1)および(4)における反応が、重合開始剤の存在下で行われることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記重合開始剤が、2,2−アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、アセチルペルオキシド、およびラウロイルペルオキシドからなる群より選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする請求項8に記載の製造方法。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の製造方法により製造された光導波路素子。
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