JP3846125B2 - ベンゾエート系化合物及びそれを有効成分とする安定剤 - Google Patents

ベンゾエート系化合物及びそれを有効成分とする安定剤 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なベンゾエート系化合物及びその有機材料用安定剤としての用途に関する。
【0002】
【従来の技術、発明が解決しようとする課題】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、天然ゴム、合成ゴム、塗料などの有機材料は、光により劣化し、軟化、脆化、変色等の現象を伴ってその物性が著しく低下することが良く知られている。
このような有機材料の光による劣化を防止する目的で、2,4−ジ−t−ブチルフェニル 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類が提案されている(例えば、米国特許3112338、米国特許3206431等)。
【0003】
しかしながら、上記のベンゾエート類は、有機材料に含有せしめた場合、有機材料表面にブリードするという難点があり、この点において満足し得るものではなかった。
本発明者等は、耐ブリード性に優れたベンゾエート類を見出すべく、鋭意検討を重ねた結果、3−[4−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオン酸エステル類、3−[4−(4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオン酸アミド類という特定のベンゾエート系化合物が、耐ブリード性に優れることを見出し、本発明を完成した。
【0004】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、式(I)
Figure 0003846125
(式中、R1及びR3はそれぞれ独立に水素または炭素数1〜8のアルキル基を示し、R2及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を示し、XはOR5またはNHR5を示し、R5は炭素数1〜18のアルキル基またはアルケニル基を示す。)
で示される耐ブリード性に優れたベンゾエート系化合物を提供するものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の式(I)で示されるベンゾエート系化合物において、R1及びR3はそれぞれ独立に水素または炭素数1〜8のアルキル基を示し、R2及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を示し、XはOR5またはNHR5を示し、R5は炭素数1〜18のアルキル基またはアルケニル基を示す。
ここで、R1〜R4における炭素数1〜8のアルキル基の代表例としては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−アミル、i−アミル、t−アミル、2−エチルプロピル、n−ヘキシル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、n−ヘプチル、n−オクチル、i−オクチル、t−オクチル、2−エチルヘキシル等が挙げられる。
また、R5における炭素数1〜18のアルキル基の代表例としては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−アミル、i−アミル、t−アミル、2−エチルプロピル、n−ヘキシル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、n−ヘプチル、n−オクチル、i−オクチル、t−オクチル、n−ノニル、2−エチルヘキシル、n−デシル、1−メチルノニル、1−プロピルヘプチル、n−ウンデシル、1−メチルデシル、n−ドデシル、1−メチルウンデシル、n−トリデシル。n−テトラデシル、1−メチルトリデシル、n−ペンタデシル、n−ヘキサデシル、1−メチルペンタデシル、ステアリルなどであり、炭素鎖は直鎖状であっても分岐していてもよい。
【0006】
5における炭素数1〜18のアルケニル基の代表例としては、例えばビニル、アリル、3−ブテニル、2−メチル−2−プロペニル、4−ペンテニル、3−メチル−2−ブテニル、3−メチル−3−ブテニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メチル−5−メチル−4−ヘキセニル、3−ノセニル、5−デセニル、ウンデシレニル、7−ドデセニル、11−ヘキサデセニル、オレイルなどがあり、炭素鎖は直鎖状であっても分岐していてもよい。
【0007】
なかでも、 R1、R2及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基であることが好ましく、とりわけメチル、エチル、t−ブチル、t−アミルであることが好ましい。またR3は水素であることが好ましい。R5は炭素数3〜18のアルキル基またはアルケニル基であることが好ましい。
【0008】
本発明のベンゾエート系化合物(I)は、例えば式(II)
Figure 0003846125
(式中、R1及びR2は、前記と同じ意味を有する。)
で示される安息香酸類と、式(III)
【0009】
Figure 0003846125
(式中、R3、R4及びXは、いずれも前記と同じ意味を有する。)
で示されるフェノール類とをエステル化する方法、あるいは式(IV)
【0010】
Figure 0003846125
(式中、R1、R2、R3及びR4は、前記と同じ意味を有する。)
で示される置換フェニルプロピオン酸類と、式(V)
XH (V)
(式中、Xは、いずれも前記と同じ意味を有する。)
で示されるアルコールまたはアミンとをエステル化またはアミド化する方法などにより製造に得る。
【0011】
エステル化反応は、公知の方法、例えば「第4版 実験化学講座22 有機合成IV(酸・アミノ酸・ペプチド)」(平成4年11月30日 丸善株式会社発行) 43〜47頁に記載の方法等に準拠することにより実施することができる。
反応は、溶媒下または無溶媒下に実施され、溶媒を用いる場合、その溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン等のハロゲン系炭化水素などが用いられる。
溶媒を使用する場合には、安息香酸類(II)又は置換フェニルプロピオン酸類(IV)に対して、通常1〜20重量倍、好ましくは3〜10重量倍程度使用される。
【0012】
エステル化の方法としては、酸触媒などの触媒を用いる方法や、脱水剤を用いる方法が好ましく用いられる。酸触媒を用いる場合に、用いられる酸としては、塩酸、硫酸、リン酸などの鉱酸、p−トルエンスルホン酸などの芳香族スルホン酸、フッ化ホウ素エーテラートなどのルイス酸が好ましく用いられる。酸触媒を使用する場合には、安息香酸類(II)又は置換フェニルプロピオン酸類(IV)に対して、通常0.005〜0.5モル倍、好ましくは0.1〜0.3モル倍程度使用される。また酸触媒を用いる場合には、原料の一方、すなわち安息香酸類(II)、置換フェニルプロピオン酸類(IV)などのカルボン酸もしくはフェノール類(III)またはアルコール(V)のいずれかを大過剰に使用するか、あるいは水に不溶な有機溶媒を使用し生成水を共沸蒸留で分離するか、または無水硫酸マグネシウムやモレキュラシーブなどの脱水剤を使用して、生成する水を反応系内より除去する方法が好ましく用いられる。
【0013】
脱水剤を用いる場合には、使用されうる脱水剤の例としては、トリフルオロ酢酸無水物、ジシクロヘキシルカーボジイミド、オキシ塩化リンなどが好ましく用いられる。脱水剤を用いる場合には、安息香酸類(II)又は置換フェニルプロピオン酸(IV)に対して、通常0.5〜2モル倍、好ましくは0.7〜1.3モル倍程度使用される。
反応後、必要に応じて、中和、抽出、水洗、低沸分留去などを実施することにより、反応マスから本発明のベンゾエート系化合物を取り出すことができる。また取り出したベンゾエート系化合物は、各種のクロマトグラフィー、再晶析、蒸留などの精製手段により、更に精製することもできる。
【0014】
またアミド化反応は、公知な方法、例えば「新実験化学講座14 有機化合物の合成と反応II」(昭和52年12月20日 丸善株式会社発行)1136〜1142頁に記載の方法等により実施することができる。
反応は、溶媒下または無溶媒下に実施され、溶媒を用いる場合、その溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素、モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン等のハロゲン系炭化水素などが用いられる。 溶媒を使用する場合には、置換フェニルプロピオン酸(IV)に対して、通常1〜20重量倍、好ましくは3〜10重量倍程度使用される。
【0015】
アミド化の方法としては、原料の一方すなわち置換フェニルプロピオン酸類(IV)またはアミン(V)のいずれかを大過剰に使用する原料の一方を過剰に用い方法や、反応原料を高温で加熱する方法、水に不溶な有機溶媒を使用し生成水を共沸蒸留で分離する方法、あるいは無水硫酸マグネシウムやモレキュラシーブなどの脱水剤を使用して生成する水を反応系内より除去する方法が好ましく用いられる。
脱水剤を用いる場合には、使用されうる脱水剤の例としては、トリフルオロ酢酸無水物、ジシクロヘキシルカーボジイミド、オキシ塩化リンなどが好ましく用いられる。脱水剤を用いる場合には、置換フェニルプロピオン酸(IV)に対して、通常0.5〜2モル倍、好ましくは0.7〜1.3モル倍程度使用される。
反応後、必要に応じて、中和、抽出、水洗、低沸分留去などを実施することにより、反応マスから本発明のベンゾエート系化合物を取り出すことができる。また取り出したベンゾエート系化合物は、各種のクロマトグラフィー、再晶析、蒸留などの精製手段により、更に精製することもできる。
【0016】
かくして、本発明のベンゾエート系化合物(I)が得られるが、かかる化合物により安定化することができる有機材料としては、例えば次のようなものが挙げられ、それぞれ単独のもの、あるいは二種以上の混合物を安定化することができるが、これらの有機材料に限定されるものではない。
【0017】
本発明における有機材料としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、
(2)ポリプロピレン
(3)メチルペンテンポリマー
(4)EEA(エチレン・アクリル酸エチル共重合)樹脂
(5)エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂
(6)ポリスチレン類、例えばポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(α−メチルスチレン)、
(7)AS(アクリロニトリル・スチレン共重合)樹脂、
(8)ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合)樹脂、
(9)AAS(特殊アクリルゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合)樹脂、
(10)ACS(アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合)樹脂、
【0018】
(11) 塩素化ポリエチレン、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、
(12) ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
(13) メタクリル樹脂、
(15) フッ素樹脂、
(16) ポリアセタール、
(17)グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂およびポリフェニレンサルファイド樹脂、
(18) ポリウレタン、
(19) ポリアミド、
(20)ポリエステル樹脂、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
【0019】
(21) ポリカーボネート、
(22) ポリアクリレート、
(23) ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、
(24) 芳香族ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂、
(25) エポキシ樹脂、
(26) ジアリルフタレートプリポリマー、
(27) シリコーン樹脂、
(28) 不飽和ポリエステル樹脂、
(29) アクリル変性ベンゾグアナミン樹脂、
(30) ベンゾグアナミン/メラミン樹脂、
【0020】
(31) ユリア樹脂等の熱硬化性樹脂、
(32) ポリブタジエン、
(33) 1,2−ポリブタジエン、
(34) ポリイソプレン、
(36) ブタジエン/アクリロニトリル共重合体、
(37) エチレン/プロピレン共重合体、
(38) シリコーンゴム、
(39) エピクロルヒドリンゴム、
(40)アクリルゴム、
【0021】
(41) 天然ゴム、
(42) 塩素ゴム系塗料、
(43) ポリエステル樹脂塗料、
(44) ウレタン樹脂塗料、
(45) エポキシ樹脂塗料、
(46) アクリル樹脂塗料、
(47) ビニル樹脂塗料、
(48) アミノアルキド樹脂塗料、
(49)アルキド樹脂塗料、
(50) ニトロセルロース樹脂塗料、
(51) 油性塗料、
(52) ワックス、
潤滑油など。
【0022】
なかでも、熱可塑性樹脂、とりわけポリエチレン、例えば高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖低密度ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリブタジエン、イソプレン、等の共役ジエン系ポリマーなどに好ましく用いられる。
これらのポリオレフィンは、特に限定はなく、例えば、ラジカル重合によって得られたものでも良く、周期表IVb 、Vb、VIb もしくはVIII族の金属を含有する触媒を用いる重合により製造されたものでも良い。 かかる金属を含有する触媒としては、1 つ以上の配位子、例えばπあるいはσ結合によって配位する酸化物、ハロゲン化合物、アルコレート、エステル、アリール等を有する金属錯体であっても良く、これらの錯体はそのままであっても塩化マグネシウム、塩化チタン、アルミナ、酸化ケイ素等の基材に担持されていても良い。
ポリオレフィンとしては、例えばチーグラー・ナッタ触媒、TNZ 触媒、メタロセン触媒、フィリップス触媒等を用いて製造されたものが好ましく使用される。
【0023】
本発明のベンゾエート系化合物(I)を含有せしめて、有機材料を安定化する場合、ベンゾエート系化合物(I)は、有機材料100重量部に対して、通常、0.01〜5重量部程度の範囲で使用することが好ましい。0.01重量部未満では安定化効果が必ずしも十分でなく、また5重量部を越えて含有せしめても、それに見合うだけの効果の向上が得られず、経済的に不利となる。
【0024】
本発明のベンゾエート系化合物(I)を有機材料に含有せしめるにあたっては、必要に応じてさらに他の添加剤、例えばフェノール系酸化防止剤、加工安定剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、過酸化物スカベンジャー、ポリアミド安定剤、ヒドロキシルアミン、滑剤、可塑剤、難燃剤、造核剤、金属不活性化剤、帯電防止剤、顔料、充填剤、アンチブロッキング剤、界面活性剤、加工助剤、発泡剤、乳化剤、光沢剤、ステアリン酸カルシウム、ハイドロタルサイト等の中和剤、更には9,10- ジヒドロ-9- オキサ-10-ホスホフェナンスレン-10-オキシド等の着色改良剤や、米国特許4,325,853 号、4,338,244 号、5,175,312 号、5,216,053 号、5,252,643 号、4,316,611 号明細書、DE-A-4,316,622号、4,316,876 号明細書、EP-A-589,839、591,102 号明細書等に記載のベンゾフラン類、インドリン類等の補助安定剤などを含有させることもできる。これらの添加剤はもちろん、ベンゾエート系化合物(I)と同時に配合することもできるし、またベンゾエート系化合物(I)とは別の段階で配合することもできる。
【0025】
ごこで、フェノール系酸化防止剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
(1) アルキル化モノフェノールの例
2,6-ジ-t- ブチル-4- メチルフェノール、2,4,6-トリ-t- ブチルフェノール、2,6-ジ-t -ブチルフェノール、2-t-ブチル-4,6- ジメチルフェノール、2,6-ジ-t- ブチル-4- エチルフェノール、2,6-ジ-t- ブチル-4-n- ブチルフェノール、2,6-ジ-t- ブチル-4- イソブチルフェノール、2,6-ジシクロペンチル-4- メチルフェノール、2-( α−メチルシクロヘキシル)-4,6-ジメチルフェノール、2,6-ジオクダデシル-4- メチルフェノール、2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ-t- ブチル-4- メトキシメチルフェノール、2,6-ジ−ノニル-4- メチルフェノール、2,4-ジメチル-6-(1'- メチルウンデシル-1'-イル)フェノール、2,4-ジメチル-6-(1'- メチルヘプタデシル-1'-イル)フェノール、2,4-ジメチル-6-(1'-メチルトリデシル-1'-イル)フェノールおよびそれらの混合物など。
【0026】
(2) アルキルチオメチルフェノールの例
2,4-ジオクチルチオメチル-6-t- ブチルフェノール、2,4-ジオクチルチオメチル-6- メチルフェノール、2,4-ジオクチルチオメチル-6- エチルフェノール、2,6-ジドデシルチオメチル-4- ノニルフェノールおよびそれらの混合物など。
(3) ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノンの例
2,6-ジ-t- ブチル-4- メトキシフェノール、2,5-ジ-t- ブチルヒドロキノン、2,5-ジ-t- アミルヒドロキノン、2,6-ジフェニル-4- オクタデシルオキシフェノール、2,6-ジ-t- ブチルヒドロキノン、2,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシアニソール、3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル ステアレート、ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル) アジペートおよびそれらの混合物など。
【0027】
(4) トコフェロールの例
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物など。
(5) ヒドロキシル化チオジフェニルエーテルの例
2,2'- チオビス(6-t- ブチルフェノール)、2,2'- チオビス(4- メチル-6-t- ブチルフェノール)、2,2'- チオビス(4- オクチルフェノール)、4,4'- チオビス(3- メチル-6-t- ブチルフェノール)、4,4'- チオビス(2- メチル-6-t- ブチルフェノール)、4,4'- チオビス(3,6- ジ-t- アミルフェノール)、4,4'-(2,6-ジメチル-4- ヒドロキシフェニル)ジスルフィドなど。
【0028】
(6) アルキリデンビスフェノールおよびその誘導体の例
2,2'- メチレンビス(4- メチル-6-t- ブチルフェノール)、2,2'- メチレンビス(4- エチル-6-t- ブチルフェノール)、2,2'- メチレンビス[4- メチル-6-(α−メチルシクロヘキシル)フェノール)]、2,2'- メチレンビス(4- メチル-6- シクロヘキシルフェノール)、2,2'- メチレンビス(4- メチル-6- ノニルフェノール)、2,2'- メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェノール)、2,2'- エチリデンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェノール)、2,2'- エチリデンビス(4- イソブチル-6-t- ブチルフェノール)、2,2'- メチレンビス[6-(α−メチルベンジル)-4-ノニルフェノール]、2,2'- メチレンビス[6-(α,α−ジメチルベンジル)-4-ノニルフェノール]、4,4'- メチレンビス(6-t- ブチル-2- メチルフェノール)、4,4'-メチレンビス(2,6- ジ-t- ブチルフェノール)、4,4'- ブチリデンビス(3-メチル-6-t- ブチルフェノール)、1,1-ビス(4- ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス(5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、2,6-ビス(3-t- ブチル-5- メチル-2- ヒドロキシベンジル)-4-メチルフェノール、
【0029】
1,1,3-トリス(5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、1,1-ビス(5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)-3-n-ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール ビス[3,3- ビス-3'-t-ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3-t- ブチル-4- ヒドロキシ-5- メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2-(3'-t- ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルベンジル)-6-t-ブチル-4- メチルフェニル]テレフタレート、1,1-ビス(3,5- ジメチル-2- ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2-ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)-4-n-ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5-テトラ(5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ペンタンおよびそれらの混合物など。
【0030】
(7) O−、N−およびS−ベンジル誘導体の例
3,5,3',5'-テトラ-t- ブチル-4,4'-ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル-4- ヒドロキシ-3,5- ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)アミン、ビス(4-t- ブチル-3- ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル)ジチオテレフタレート、ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル-3,5- ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシベンジルメルカプトアセテートおよびそれらの混合物など。
(8) ヒドロキシベンジル化マロネート誘導体の例
ジオクタデシル-2,2- ビス(3,5- ジ-t- ブチル-2- ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシル-2-(3-t-ブチル-4- ヒドロキシ-5- メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル-2,2- ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス[4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェニル]-2,2-ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)マロネートおよびそれらの混合物など。
(9) 芳香族ヒドロキシベンジル誘導体の例
1,3,5-トリメチル-2,4,6- トリス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)-2,3,5,6-テトラメチルベンゼン、2,4,6-トリス(3,5-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)フェノールおよびそれらの混合物など。
【0031】
(10) トリアジン誘導体の例
2,4-ビス(n- オクチルチオ)-6-(4- ヒドロキシ-3,5- ジ-t- ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、2-n-オクチルチオ-4,6- ビス(4- ヒドロキシ-3,5- ジ-t- ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、2-n-オクチルチオ-4,6- ビス(4- ヒドロキシ-3,5- ジ-t- ブチルフェノキシ)-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス (3,5-ジ-t-ブチル-4- フェノキシ)-1,3,5-トリアジン、トリス(4-t- ブチル-3- ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル)イソシアヌレート、トリス(3,5- ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6-トリス(3,5- ジ-t- ブチル-4-ヒドロキシフェニルエチル)-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス(3,5- ジ-t-ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピル)-1,3,5-トリアジン、トリス(3,5- ジシクロヘキシル-4- ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、トリス[2-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシシンナモイルオキシ)エチル]イソシアヌレートおよびそれらの混合物など。
【0032】
(11) ベンジルホスホネート誘導体の例
ジメチル-3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル-3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル-3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル-5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-3- メチルベンジルホスホネート、3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩およびそれらの混合物など。
(12) アシルアミノフェノール誘導体の例
4-ヒドロキシラウリル酸アニリド、4-ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル-N-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)カルバネートおよびそれらの混合物など。
【0033】
(13) β-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステルの例
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3-チアウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒドロキシメチル-1- ホスファ−2,6,7-トリオキサビシクロ[2,2,2] オクタンおよびそれらの混合物など。
【0034】
(14) β-(5-t-ブチル-4- ヒドロキシ-3- メチルフェニル)プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステルの例
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3-チアウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒドロキシメチル-1- ホスファ−2,6,7-トリオキサビシクロ[2,2,2] オクタンおよびそれらの混合物など。
(15) β-(3,5-ジシクロヘキシル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステルの例
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3-チアウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒドロキシメチル-1- ホスファ−2,6,7-トリオキサビシクロ[2,2,2] オクタンおよびそれらの混合物など。
【0035】
(16) 3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステルの例
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,9-ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N'- ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3-チアウンデカノール、3-チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒドロキシメチル-1- ホスファ−2,6,7-トリオキサビシクロ[2,2,2] オクタンおよびそれらの混合物など。
(17) β-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミドの例
N,N'- ビス[3-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N'- ビス[3-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヘキサメチレンジアミン、N,N'- ビス[3-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオニル]トリメチレンジアミンおよびそれらの混合物など。
【0036】
また加工安定剤としては、2-t-ブチル-6-(3'-t- ブチル-5'-メチル-2'-ヒドロキシベンジル)-4-メチルフェニル アクリレート、2,4-ジ-t- ペンチル-6-[1-(2- ヒドロキシ-3,5- ジ-t- ペンチルフェニル)エチル]フェニル アクリレートなどが挙げられる。
イオウ系酸化防止剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
ジラウリル 3,3'- チオジプロピオナート、トリデシル 3,3'- チオジプロピオナート、ジミリスチル 3,3'- チオジプロピオナート、ジステアリル 3,3'- チオジプロピオナート、ラウリル ステアリル 3,3'- チオジプロピオナート、ネオペンタンテトライルテトラキス (3- ラウリルチオプロピオナート)など。
またリン系酸化防止剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4- ジ-t- ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリル ペンタエリスリトール ジホスファイト、ジイソデシル ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4- ジ-t- ブチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4- ジ-t- ブチル-6- メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,6- ジ-t- ブチル-4- メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4,6- トリ-t- ブチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス(2,4- ジ-t- ブチルフェニル)-4,4'- ジフェニレンジホスホナイト、2,2'- メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル) 2-エチルヘキシル ホスファイト、2,2'- エチリデンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル) フルオロ ホスファイト、ビス(2,4- ジ-t- ブチル-6- メチルフェニル) エチル ホスファイト、ビス(2,4- ジ-t- ブチル-6- メチルフェニル) メチル ホスファイト、2-(2,4,6- トリ-t- ブチルフェニル)-5-エチル-5- ブチル-1,3,2- オキサホスホリナン、2,2',2''- ニトリロ[トリエチル−トリス(3,3',5,5'- テトラ-t- ブチル-1,1'-ビフェニル-2,2'-ジイル)ホスファイトおよびそれらの混合物など。
【0037】
また紫外線吸収剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
(1) サリシレート誘導体の例
フェニル サリシレート、4-t-ブチルフェニル サリシレート、4-t-オクチルフェニル サリシレート、ビス(4-t- ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、ヘキサデシル 3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル 3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシベンゾエートおよびそれらの混合物など。
(2) 2-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体の例
2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オクトキシベンゾフェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェノン、ビス(5- ベンゾイル-4- ヒドロキシ-2- メトキシフェニル)メタン、2,2',4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノンおよびそれらの混合物など。
【0038】
(3) 2-(2'- ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールの例
2-(2- ヒドロキシ-5- メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3',5'- ジ-t- ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(5'-t-ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3-t- ブチル-2- ヒドロキシ-5- メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(3'-s-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-4'-オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3',5'- ジ-t- アミル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-[2'-ヒドロキシ-3',5'- ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]-2H- ベンゾトリアゾール、2-[(3'-t- ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)-5'-(2-オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル]-5-クロロベンゾトリアゾール、2-[3'-t-ブチル-5'-[2-(2-エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]-2'- ヒドロキシフェニル]-5-クロロベンゾトリアゾール、2-[3'-t-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2- メトキシカルボニルエチル)フェニル]-5-クロロベンゾトリアゾール、2-[3'-t-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2- メトキシカルボニルエチル)フェニル] ベンゾトリアゾール、2-[3'-t-ブチル-2'-ヒドロキシ-5-(2-オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル] ベンゾトリアゾール、
【0039】
2-[3'-t-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-[2-(2-エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]フェニル] ベンゾトリアゾール、2-[2- ヒドロキシ-3-(3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミドメチル)-5-メチルフェニル] ベンゾトリアゾール、2-(3,5- ジ-t- ブチル-2- ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(3'-ドデシル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2-[3'-t-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2- イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル] ベンゾトリアゾールの混合物、2,2'- メチレンビス[6-(2H- ベンゾトリアゾール-2- イル)-4-(1,1,3,3- テトラメチルブチル)フェノール、2,2'- メチレンビス[4-t- ブチル-6-(2H- ベンゾトリアゾール-2- イル)フェノール]、ポリ(3〜11)(エチレングリコール)と2-[3'-t-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2- メトキシカルボニルエチル)フェニル] ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ(3〜11)(エチレングリコール)とメチル 3-[3-(2H- ベンゾトリアゾール-2- イル)-5-t-ブチル-4- ヒドロキシフェニル]プロピオナートとの縮合物、2-エチルヘキシル 3-[3-t- ブチル-5-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2- イル)-4-ヒドロキシフェニル]プロピオナート、オクチル 3-[3-t- ブチル-5-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2- イル)-4-ヒドロキシフェニル]プロピオナート、メチル 3-[3-t-ブチル-5-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2- イル)-4-ヒドロキシフェニル]プロピオナート、3-[3-t- ブチル-5-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾール-2- イル)-4-ヒドロキシフェニル]プロピオン酸およびそれらの混合物など。
【0040】
光安定剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
(1) ヒンダードアミン系光安定剤の例
ビス(2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス((2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) スクシネート、ビス(1,2,2,6,6- ペンタメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(N- オクトキシ-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(N- ベンジルオキシ-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(N- シクロヘキシルオキシ-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(1,2,2,6,6- ペンタメチル-4- ピペリジル) 2-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)-2-ブチルマロネート、ビス(1- アクロイル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) 2,2-ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)-2-ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6- ペンタメチル-4- ピペリジル デカンジオエート、 2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル メタクリレート、4-[3-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]-1-[2-(3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、2-メチル-2-(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)アミノ-N-(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) 1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6- ペンタメチル-4- ピペリジル) 1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジノールおよび1-トリデカノールとの混合エステル化物、
【0041】
1,2,3,4-ブタンテトラボン酸と2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジノールおよび1-トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジノールおよび3 、9-ビス(2- ヒドロキシ-1,1- ジメチルエチル)-2,4,8,10- テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジノールおよび3,9-ビス(2- ヒドロキシ-1,1- ジメチルエチル)-2,4,8,10- テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチル サクシネートと1-(2- ヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ[(6-モルホリノ-1,3,5- トリアジン-2,4- ジイル)((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)] 、ポリ[(6-(1,1,3,3- テトラメチルブチル)イミノ-1,3,5- トリアジン-2,4- ジイル((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)] 、
【0042】
N,N'- ビス(2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと1,2-ジブロモエタンとの重縮合物、N,N',4,7- テトラキス[4,6- ビス(N- ブチル-N-(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)アミノ)-1,3,5-トリアジン-2- イル]-4,7-ジアザデカン-1,10 ジアミン、N,N',4- トリス[4,6- ビス(N- ブチル-N-(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)アミノ)-1,3,5-トリアジン-2- イル]-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミン、N,N',4,7- テトラキス[4,6- ビス(N- ブチル-N-(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジル)アミノ)-1,3,5-トリアジン-2- イル]-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミン、 N,N',4- トリス[4,6- ビス(N- ブチル-N-(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジル)アミノ)-1,3,5-トリアジン-2- イル]-4,7-ジアザデカン-1,10-ジアミンおよびそれらの混合物など。
【0043】
(2) アクリレート系光安定剤の例
エチル α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチル α−カルボメトキシシンナメート、メチル α−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチル α−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメートおよびN-(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)-2-メチルインドリンおよびそれらの混合物など。
(3) ニッケル系光安定剤の例
2,2'- チオビス-[4-(1,1,3,3- テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体およびそれらの混合物など。
【0044】
(4) オキサミド系光安定剤の例
4,4'- ジオクチルオキシオキサニリド、2,2'- ジエトキシオキサニリド、2,2'- ジオクチルオキシ-5,5'-ジ-t- ブチルアニリド、2,2'- ジドデシルオキシ-5,5'-ジ-t- ブチルアニリド、2-エトキシ-2'-エチルオキサニリド、N,N'- ビス(3-ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2-エトキシ-5-t- ブチル-2'-エトキシアニリド、2-エトキシ-5,4'-ジ-t- ブチル-2'-エチルオキサニリドおよびそれらの混合物など。
(5) 2-(2- ヒドロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン系光安定剤の例
2,4,6-トリス(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[2,4- ジヒドロキシフェニル-4,6- ビス(2,4- ジメチルフェニル]-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(2- ヒドロキシ-4- プロピルオキシフェニル)-6-(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシフェニル)-4,6-ビス(4- メチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- ドデシルオキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[2- ヒドロキシ-4-(2-ヒドロキシ-3- ブチルオキシプロポキシ)フェニル]-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[2- ヒドロキシ-4-(2-ヒドロキシ-3- オクチルオキシプロポキシ)フェニル]-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジンおよびそれらの混合物など。
【0045】
また金属不活性化剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
N,N'- ジフェニルオキサミド、N-サリチラル-N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N'- ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3-サリチロイルアミノ-1,2,4- トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N'- ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N'- ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジドおよびそれらの混合物など。
【0046】
また過酸化物スカベンジャーとしては、例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸の亜鉛塩、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトール テトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオナートおよびそれらの混合物等が挙げられる。
ポリアミド安定剤としては、例えばヨウ化物またはリン化合物の銅または2価のマンガン塩およびそれらの混合物等が挙げられる。
またヒドロキシアミンとしては、例えばN,N-ジベンジルヒドロキシアミン、N,N-ジエチルヒドロキシアミン、N,N-ジオクチルヒドロキシアミン、N,N-ジラウリルヒドロキシアミン、N,N-ジテトラデシルヒドロキシアミン、N,N-ジヘキサデシルヒドロキシアミン、N,N-ジオクタデシルヒドロキシアミン、N-ヘキサデシル-N- オクタデシルヒドロキシアミン、N-ヘプタデシル-N- オクタデシルヒドロキシアミンおよびそれらの混合物等が挙げられる。
また中和剤としては、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ハイドロタルサイト(塩基性マグネシウム・アルミニウム・ヒドロキシ・カーボネート・ハイドレード)、メラミン、アミン、ポリアミド、ポリウレタンおよびそれらの混合物等が挙げられる。
滑剤としては、例えばパラフィン、ワックス等の脂肪族炭化水素、炭素数8〜22の高級脂肪族酸、炭素数8〜22の高級脂肪族酸金属(Al、Ca、Mg、Zn)塩、炭素数8〜22の脂肪族アルコール、ポリグリコール、炭素数4〜22の高級脂肪酸と炭素数4〜18の脂肪族1価アルコールとのエステル、炭素数8〜22の高級脂肪族アマイド、シリコーン油、ロジン誘導体などが挙げられる。
【0047】
また造核剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。 ナトリウム 2,2'- メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル)ホスフェート、[リン酸-2,2'-メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル)] ジヒドロオキシアルミニウム、ビス[リン酸-2,2'-メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル)] ヒドロオキシアルミニウム、トリス[リン酸-2,2'-メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル)] アルミニウム、ナトリウム ビス(4-t- ブチルフェニル)ホスフェート、安息香酸ナトリウムなどの安息香酸金属塩、p-t- ブチル安息香酸アルミニウム、1,3:2,4-ビス(O- ベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4-ビス(O- メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4-ビス(O-エチルベンジリデン)ソルビトール、1,3-O-3,4-ジメチルベンジリデン-2,4-O- ベンジリデンソルビトール、1,3-O-ベンジリデン-2,4-O-3,4- ジメチルベンジリデンソルビトール、1,3:2,4-ビス(O-3,4- ジメチルベンジリデン)ソルビトール、1,3-O-p-クロロベンジリデン-2,4-O-3,4- ジメチルベンジリデンソルビトール、1,3-O-3,4-ジメチルベンジリデン-2,4-O-p- クロロベンジリデンソルビトール、1,3:2,4-ビス(O-p- クロロベンジリデン)ソルビトールおよびそれらの混合物など。
また充填剤としては、例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、カーボンブラック、カーボンファイバー、ゼオライトおよびそれらの混合物等が挙げられる。
【0048】
これらの添加剤のうち好ましく用いられるものは、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、過酸化物スカベンジャーおよび中和剤である。
特に好ましいフェノール系酸化防止剤としては、以下の化合物が挙げられ、これらは2種以使用し得る。
2,6-ジ-t- ブチル-4- メチルフェノール、2,4,6-トリ-t- ブチルフェノール、2,4-ジオクチルチオメチル-6- メチルフェノール、2,2'- チオビス(6-t- ブチルフェノール)、4,4'- チオビス(3- メチル-6-t- ブチルフェノール)、2,2'- メチレンビス(4- メチル-6-t- ブチルフェノール)、2,2'- メチレンビス(4- エチル-6-t- ブチルフェノール)、2,2'- メチレンビス[4- メチル-6-(α−メチルシクロヘキシル)フェノール)]、2,2'- メチレンビス(4- メチル-6- シクロヘキシルフェノール)、2,2'- メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェノール)、2,2'- エチリデンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェノール)、4,4'- メチレンビス(6-t- ブチル-2- メチルフェノール)、4,4'- メチレンビス(2,6- ジ-t- ブチルフェノール)、4,4'- ブチリデンビス(3- メチル-6-t- ブチルフェノール)、1,1-ビス(4- ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス(5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、1,1,3-トリス(5-t- ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル)ブタン、エチレングリコール ビス[3,3- ビス-3'-t-ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)ブチレート]、2-t-ブチル-6-(3'-t- ブチル-5'-メチル-2'-ヒドロキシベンジル)-4-メチルフェニル アクリレート、2,4-ジ-t- ペンチル-6-[1-(2- ヒドロキシ-3,5- ジ-t- ペンチルフェニル)エチル]フェニル アクリレート、
【0049】
2,4,6-トリス(3,5- ジ-t- ブチル-4- フェノキシ)-1,3,5-トリアジン、トリ(4-t- ブチル-3- ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル)イソシアヌレート、ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル) イソシアヌレート、トリス[2-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシシンナモイルオキシ)エチル]イソシアヌレート、ジエチル-3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ-n- オクタデシル-3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネート、3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩、n-オクタデシル 3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオナート、ネオペンタンテトライルテトラキス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシシンナメート)、チオジエチレンビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシシンナメート)、1,3,5-トリメチル-2,4,6- トリス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,6-ジオキサオクタメチレンビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシシンナメート)、ヘキサメチレンビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシシンナメート)、トリエチレングリコール ビス(5-t- チル-4- ヒドロキシ-3- メチルシンナメート)、3,9-ビス[2-(3-(3-t- ブチル-4- ヒドロキシ-5- メチルフェニル)プロピオニルオキシ)-1,1-ジメチルエチル]-2,4,8,10- テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカン、N,N'- ビス[3-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N'- ビス[3-(3',5'-ジ-t- ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヘキサメチレンジアミンなど。
【0050】
また特に好ましいリン系酸化防止剤としては、以下のものが挙げられ、これらは2種以上使用し得る。
トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4- ジ-t- ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリル ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4- ジ-t- ブチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,4- ジ-t- ブチル-6- メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、ビス(2,6- ジ-t- ブチル-4- メチルフェニル)ペンタエリスリトール ジホスファイト、テトラキス(2,4- ジ-t- ブチルフェニル)-4,4'- ジフェニレンジホスホナイト、2,2'- メチレンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル) 2-エチルヘキシル ホスファイト、2,2'- エチリデンビス(4,6- ジ-t- ブチルフェニル) フルオロ ホスファイト、ビス(2,4- ジ-t- ブチル-6- メチルフェニル) エチルホスファイト、2-(2,4,6- トリ-t- ブチルフェニル)-5-エチル-5- ブチル-1,3,2- オキサホスホリナン、2,2',2''- ニトリロ[トリエチル−トリス(3,3',5,5'-テトラ-t- ブチル-1,1'-ビフェニル-2,2'-ジイル) ホスファイトなど。
【0051】
また特に好ましい紫外線吸収剤としては、以下のものが挙げられ、これらは2種以上使用し得る。
フェニル サリシレート、4-t-ブチルフェニル サリシレート、4-t-オクチルフェニル サリシレート、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オクトキシベンゾフェノン、2,2'- ジヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェノン、ビス(5- ベンゾイル-4- ヒドロキシ-2- メトキシフェニル)メタン、2,2',4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-(2- ヒドロキシ-5- メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3',5'- ジ-t- ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(5'-t-ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3-t- ブチル-2- ヒドロキシ-5- メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(3'-s−ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-4'-オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3',5'- ジ-t- アミル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-[2'-ヒドロキシ-3',5'- ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]-2H- ベンゾトリアゾールなど。
【0052】
また特に好ましい光安定剤としては、以下のものが挙げられ、これらは2種以上使用し得る。
ビス(2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(1,2,2,6,6- ペンタメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(N- オクトキシ-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(N- ベンジルオキシ-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(N- シクロヘキシルオキシ-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) セバケート、ビス(1,2,2,6,6- ペンタメチル-4- ピペリジル) 2-(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)-2-ブチルマロネート、ビス(1- アクロイル-2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) 2,2-ビス(3,5- ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシベンジル)-2-ブチルマロネート、ビス(2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) スクシネート、2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル メタクリレート、4-[3-(3,5-ジ-t- ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]-1-[2-(3-(3,5- ジ-t- ブチル-4- −ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、2-メチル-2-(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)アミノ-N-(2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)プロピオンアミド、テトラキス(2,2,6,6- テトラメチル-4- ピペリジル) 1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、
【0053】
テトラキス(1,2,6,6- ペンタメチル-4- ピペリジル) 1,2,3,4-ブタンテトラカルボキシレート、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジノールおよび1-トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジノールおよび1-トリデカノールとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6-ペンタメチル-4- ピペリジノールおよび3,9-ビス(2- ヒドロキシ-1,1- ジメチルエチル)-2,4,8,10- テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジノールおよび3,9-ビス(2- ヒドロキシ-1,1- ジメチルエチル)-2,4,8,10- テトラオキサスピロ[5・5]ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチル サクシネートと1-(2- ヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-2,2,6,6- テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ[(6-モルホリノ-1,3,5- トリアジン-2,4- ジイル)((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)] 、ポリ[(6-(1,1,3,3- テトラメチルブチル)-1,3,5-トリアジン-2,4- ジイル)((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン((2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル)イミノ)] など。
【0054】
ベンゾエート系化合物(I)、あるいは必要に応じて使用されるその他の添加剤を有機材料に配合するにあたっては、均質な混合物を得るための公知のあらゆる方法および装置を用いることができる。例えば有機材料が固体ポリマーである場合は、ベンゾエート系化合物(I)あるいはさらにその他の添加剤を、その固体ポリマーに直接ドライブレンドすることもできるし、またベンゾエート系化合物(I)あるいはさらにその他の添加剤をマスターバッチの形で、固体ポリマーに配合することもできる。有機材料が液状ポリマーである場合はその他、重合途中あるいは重合直後のポリマー溶液に、ベンゾエート系化合物(I)あるいはさらにその他の添加剤の溶液または分散液の形で配合することもできる。一方、有機材料が油などの液体である場合は、ベンゾエート系化合物(I)あるいはさらにその他の添加剤を直接添加して溶解させることもできるし、またベンゾエート系化合物(I)あるいはさらにその他の添加剤を液状媒体に溶解または懸濁させた状態で添加することもできる。
【0055】
【発明の効果】
本発明のベンゾエート系化合物(I)は、耐ブリード性に優れ、ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂をはじめとする各種有機材料の安定剤として優れた性能を有し、この化合物を含有せしめた有機材料は光劣化等に対して安定であり、高品質の製品となる。
【0056】
【実施例】
以下に実施例を示して、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【0057】
実施例1
メチル 3−[3−t−ブチル−4−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオナートの製造例(化合物1)
温度計、撹拌装置および冷却管を備えたフラスコに、窒素気流下に室温にて3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸50.1gにメチル 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート47.3g及びジ−n−ブチルエーテル75.1gを入れた後、80℃まで昇温し、オキシ塩化リン22.1gを30分間かけて滴下、滴下後同温度にて8時間保温した。
室温まで冷却後、水30mlを滴下し、さらにトルエン200 mlを加え水洗分液、有機層を水50mlで2回洗浄した後、溶媒を留去し、残さをヘキサン、酢酸エチル混合溶媒で再結晶することにより、白色結晶74.3gを得た。
質量分析値(FD−MS): m/z=468、融点:144〜146℃
【0058】
1H−NMR(CDCl3) :1.4(s,9H), 1.5(s,18H), 2.7(t,2H), 3.0(t,3H), 3.7(s,3H), 5.8(s,1H), 7.0〜7.2(m,3H), 8.1(s,2H)
【0059】
実施例2
n−ブチル 3−[3−t−ブチル−4−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオナートの製造例(化合物2)
温度計、撹拌装置および冷却管を備えたフラスコに、窒素気流下に室温にて3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸12.5gにn−ブチル 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート13.9g及びジ−n−ブチルエーテル18.8gを入れた後、80℃まで昇温し、オキシ塩化リン5.5gを30分間かけて滴下、滴下後同温度にて8時間保温した。
室温まで冷却後、水50mlを滴下し、さらにトルエン100 mlを加え水洗分液、有機層を水50mlで3回洗浄した後、溶媒を留去し、残さをヘキサン、酢酸エチル混合溶媒を用いて液体カラムクロマトグラフィーにて分離精製することにより、淡黄色オイル状液体23.4gを得た。質量分析値(FD−MS): m/z=510
【0060】
1H−NMR(CDCl3) :0.95(t,3H), 1.4(s,9H), 1.5(s,18H), 1.6(m,4H), 2.6(t,2H), 2.9(t,2H), 4.1(t,2H), 5.8(s,1H), 7.0〜7.2(m,3H), 8.1(s,2H)
【0061】
実施例3
n−ヘキシル 3−[3−t−ブチル−4−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオナートの製造例(化合物3)
実施例2において、 n−ブチル 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート13.9gの代わりにn−ヘキシル 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート15.3gを用いた以外は、実施例2に準拠して実施した結果、淡黄色オイル状液体24.4gを得た。質量分析値(FD−MS): m/z=538
【0062】
1H−NMR(CDCl3) :0.9(t,3H), 1.3(m,4H), 1.4(s,9H), 1.5(s,18H), 1.6(m,4H), 2.6(t,2H), 2.9(t,2H), 4.1(t,2H), 5.8(s,1H), 7.0〜7.2(m,3H), 8.1(s,2H)
【0063】
実施例4
n−ステアリル 3−[3−t−ブチル−4−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾイルオキシ)フェニル]プロピオナートの製造例(化合物4)
実施例2において、 n−ブチル 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート13.9gの代わりにn−ステアリル 3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート23.7gを用いた以外は、実施例2に準拠して実施した結果、淡黄色オイル状液体31.5gを得た。質量分析値(FD−MS): m/z=706
【0064】
1H−NMR(CDCl3) :0.9(t,3H), 1.3(m,28H), 1.4(s,9H), 1.5(s,18H), 1.6(m,4H), 2.6(t,2H), 2.9(t,2H), 4.1(t,2H), 5.8(s,1H), 7.0〜7.2(m,3H), 8.1(s,2H)
【0065】
実施例5
下記組成の各配合物を30mmφの押し出し機で190〜210℃で溶融混練して造粒し、得られた混練物ペレットを、5.5tプレスを用いて200℃でフィルム化して、厚さ100μmのフィルムを作成した。作成直後のフィルムはすべて透明であった。このフィルムを温度60℃に保持したギヤーオーブン中で1週間保存した。
保存前後の耐ブリード性を評価すべく、保存後のフィルムの透明性を目視で判定した。
【0066】
Figure 0003846125
化−1:化合物2(実施例2で製造)
化−2:化合物3(実施例3で製造)
化−3:化合物4(実施例4で製造)
化−4:2,4−ジ−t−ブチルフェニル 3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート(比較例)
【0067】
【表1】
Figure 0003846125

Claims (5)

  1. 式(I)
    Figure 0003846125
    (式中、R1及びR3はそれぞれ独立に水素または炭素数1〜8のアルキル基を示し、R2及びR4はそれぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を示し、XはOR5またはNHR5を示し、R5は炭素数1〜18のアルキル基またはアルケニル基を示す。)
    で示されるベンゾエート系化合物。
  2. 3が、水素である請求項1記載のベンゾエート系化合物。
  3. 請求項1または2記載のベンゾエート系化合物を有効成分とする有機材料用安定剤。
  4. 請求項1または2記載のベンゾエート系化合物を含有することを特徴とする安定化有機材料組成物。
  5. 請求項1または2記載のベンゾエート系化合物を含有せしめることを特徴とする有機材料の安定化方法。
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