JP3830278B2 - Liquid crystal display device manufacturing equipment - Google Patents

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JP3830278B2 JP16595098A JP16595098A JP3830278B2 JP 3830278 B2 JP3830278 B2 JP 3830278B2 JP 16595098 A JP16595098 A JP 16595098A JP 16595098 A JP16595098 A JP 16595098A JP 3830278 B2 JP3830278 B2 JP 3830278B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示素子の製造装置に関し、さらに詳しく言えば、一対の透明電極基板を周辺シール材を介して貼り合わせた後に、加熱加圧してその周辺シール材を熱硬化させる際に適用される液晶表示素子の製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図3には、多面取りのマザー基板から製品単位として切り出された状態の液晶表示素子のセル基板が模式的に示されている。これによると、セル基板1は、それぞれがITO(Indium Tin Oxide)パターンからなる透明電極を有する一対の透明電極基板2,3を備えている。
【0003】
これらの透明電極基板2,3は、そのいずれか一方の基板に周辺シール材4が印刷されるとともに、その表示面内にギャップ幅規正手段としての面内スペーサ(図示しない)が散布された後、その周辺シール材4介して貼り合わせられる。
【0004】
この場合、一方の透明電極基板3側には、電極端子部3aが連設されており、詳しくは図示されていないが、この電極端子部3aに両透明電極基板2,3の各透明電極と接続される引出電極が同じくITOにて形成されている。
【0005】
なお、周辺シール材4内には、トランスファ材としての導電性材料(粒子)が混入されており、透明電極基板2側の透明電極はそのトランスファ材を介して電極端子部3a上の所定の引出電極に接続される。
【0006】
実際の製造工程では、上記の電極パターン形成、周辺シール材の印刷、面内スペーサの散布および基板の貼り合わせなどはマザー基板単位で行なわれるが、周辺シール材4には、例えばエポキシ系の熱硬化性樹脂が用いられているため、セル基板1を製品単位として切り出す前のマザー基板の段階で、その周辺シール材4を熱硬化させる必要がある。
【0007】
図4には、そのときに用いられる加熱圧着装置の従来例が示されている。同図において、Mはマザー基板である。この加熱圧着装置は、それぞれが所定温度に加熱制御される下側ヒータテーブル10と、上側ヒータテーブル20とを備えている。下側ヒータテーブル10には例えば電気ヒータが内蔵されており、また、同テーブル10上には適当な緩衝材10aが置かれている。
【0008】
上側ヒータテーブル20は図示しないモータなどの昇降手段により上下方向に駆動される。また、上側ヒータテーブル20のダイヤフラムからなる加圧部21が設けられており、この上側ヒータテーブル20は図示しない加熱空気供給源に接続されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
あらかじめ、両ヒータテーブル10,20を所定の温度に加熱しておき、マザー基板Mを下側ヒータテーブル10の緩衝材10a上にセットする。そして、上側ヒータテーブル20を下降させて、その加圧部21にてマザー基板Mを加圧することにより、周辺シール材4を熱硬化させるのであるが、これには次のような課題がある。
【0010】
すなわち、図4には1枚のマザー基板Mしか示されていないが、実際にはその複数枚が下側ヒータテーブル10上に順次積層され、一括して熱圧着処理が行なわれる。しかしながら、このように複数枚のマザー基板Mを順次積層する場合、その一枚ごとに塵埃除去のためのクリーニングを行なうとともに、各マザー基板Mの間にスペーサプレートを介装するため、その全部をセットするまでにはかなりの時間が必要とされる。
【0011】
したがって、初期にセットされた下側のマザー基板Mについては、すべてのマザー基板Mがセットされるまでの間、下側ヒータテーブル10より加熱され続けるため、上側ヒータテーブル20にて加圧する以前に、その周辺シール材7の硬化が進行してしまう。
【0012】
その結果、その後上側ヒータテーブル20にて押圧しても、周辺シール材7が所定のギャップ幅まで押し潰されず、トランスファ材の導通不良が発生する。また、周辺シール材7にトランスファ材を混入しない非トランスファ機種においても、ギャップ幅のバラツキによるシール近傍の表示ムラという問題が発生する。
【0013】
もっとも、下側ヒータテーブル10の温度を最初から下げておけば、上記のような問題は生じないが、これによると、他方において周辺シール材4を硬化させるに至る加熱に長時間を要し、生産性の点で好ましいとは言えない。
【0014】
本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的は、下側ヒータテーブル上に多数枚のセル基板(マザー基板状態のものを含む)を順次積層した後、上側ヒータテーブルにより加圧して、それらの周辺シール材を一括的に熱圧着するに際して、すべてのセル基板を均等な条件の下で処理できるようにした液晶表示素子の製造装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明は、下側ヒータテーブルと、同下側ヒータテーブルに対して昇降可能な上側ヒータテーブルとを含み、一対の透明電極基板を熱硬化性樹脂からなる周辺シール材を介して貼り合わせた液晶表示素子のセル基板を上記下側ヒータテーブルと上側ヒータテーブルとの間で所定の圧力で挟持して加熱することにより、上記周辺シール材を硬化させる液晶表示素子の製造装置において、上記下側ヒータテーブルには、上記セル基板が載置されるトレーと、上記両ヒータテーブルによる上記セル基板の加熱処理開始時点までの間、上記トレーを上記下側ヒータテーブル上の所定高さ位置に支持し、上記セル基板の加熱処理時には上記トレーを上記下側ヒータテーブルに接触させるトレー支持手段とが設けられていることを特徴としている。
【0016】
この構成によれば、上記両ヒータテーブルによる上記セル基板の加熱処理開始時点までの間、トレーが下側ヒータテーブル上の所定高さ位置、すなわち下側ヒータテーブルから浮いた状態に支持されるため、初期にセットされたセル基板がその上に積層される他のセル基板よりも多くの熱を受けることがなく、すべてのものがほぼ同じ条件で加圧・加熱されることになる。
【0017】
なお、本発明でいう液晶表示素子のセル基板には、マザー基板状態のものの他に、スティック基板状態のものや単一的に組み立てられるセル基板なども含まれる。また、本発明の製造装置は、多数枚のセル基板を積み重ねて一括処理する場合のみならず、一枚ずつ熱圧着処理する場合にも適用可能であることは言うまでもない。
【0018】
本発明において、上記トレー支持手段は、上記下側ヒータテーブルに対して出没自在に設けられたトレー受けピンと、上記トレーおよびそれに載置された上記セル基板の重量に抗して同トレー受けピンを上記下側ヒータテーブルから突出するように付勢し、上記セル基板の加圧時にはその加圧力にて降伏するバネ部材とからなることが、構造的にもコスト的にも好ましい。
【0019】
また、本発明においては、上記トレー支持手段が上記トレーを上記下側ヒータテーブルに対して上下動させるエアシリンダ駆動手段もしくはモータ駆動手段であってもよい。これらの駆動手段によれば、上側ヒータテーブルの加圧力に抗して、セル基板に対する加圧が完了するまでの間、トレーを下側ヒータテーブルから浮いた状態に保持させておくことも可能である。
【0020】
また、上記トレーは比較的熱容量の小さな板材、例えば厚さ2〜3mm程度のアルミニウム、真鍮もしくはセラミックのプレートからなり、その液晶表示素子載置面には、所定厚さの緩衝材、例えばテフロン(商品名)シートやシリコンゴムシートが設けられていることが好ましい。
【0021】
【発明の実施の形態】
次に、本発明を図面に示されている実施例に基づいてより詳しく説明する。なお、この実施例において、先に説明した従来例と同一もしくは同一と見なされる部分には、それと同じ参照符号が付されている。
【0022】
図1に示されているように、この実施例においても、それぞれが所定温度に制御可能な下側ヒータテーブル10と、上側ヒータテーブル20とを有し、また、熱圧着する対象も先に説明したのと同様、複数のセル基板1を含むマザー基板Mであるが、本発明によると、下側ヒータテーブル10には、マザー基板Mが載置されるトレー11と、そのトレー支持手段12とが設けられている。
【0023】
本発明において、トレー11には、好ましくは比較的熱容量の小さなプレートが用いられる。例えば、アルミニウム、真鍮もしくはセラミック製で、厚さは2〜3mm程度のものが好適である。
【0024】
トレー11上には緩衝材が設けられるが、この実施例においてはその緩衝材が2層とされている。すなわち、トレー11上には、第1緩衝材としての1〜2mm厚のシリコンゴムシート111と、その上部に配置される第2緩衝材としての0.3mm厚のテフロン(商品名)シート112とが積層されている。
【0025】
この実施例において、トレー支持手段12は図2の断面図に示されているように、下側ヒータテーブル10に対して出没自在に設けられたトレー受けピン121と、同トレー受けピン121を上方に向けて付勢するコイルバネ122とを備えている。
【0026】
トレー受けピン121は、例えば下側ヒータテーブル10の四隅および中央部の5箇所に配置され、最大突出時において、トレー11を下側ヒータテーブル10の表面から25〜35mmの高さ位置に支持し得る長さを有している。
【0027】
また、コイルバネ122には、上側ヒータテーブル20が非加圧状態のとき、トレー11およびその上に載置されたマザー基板M(これは単数、複数のいずれであっても良い。)の重量に抗してトレー受けピン121を下側ヒータテーブル10から突出するように付勢するバネ力を有しているが、上側ヒータテーブル20の加圧力によっては降伏する圧縮コイルバネが用いられている。
【0028】
なお、図2に示されているように、下側ヒータテーブル10のトレー受けピン121が設けられる箇所には、同トレー受けピン121およびそのコイルバネ122を収納する凹部101が形成されている。
【0029】
この装置によれば、マザー基板Mは次のようにして熱圧着される。まず、下側ヒータテーブル10と上側ヒータテーブル20とを所定の温度(例えば、140〜190℃)にまで加熱する。この加熱は、下側ヒータテーブル10についてはそれに内蔵されている電気ヒータにより、また、上側ヒータテーブル20については図示しない加熱空気供給源からの加熱空気により行なわれる。
【0030】
次に、トレー11に設けられている緩衝材の上にマザー基板Mを載置する。図1には作図の都合上、そのマザー基板Mが1枚しか示されていないが、この実施例では3〜4枚のマザー基板Mをその各基板の間に図示しないスペーサプレートを挟んで積み重ねる。
【0031】
なお、マザー基板Mは、先にも説明したように、一対の透明電極基板を熱硬化性樹脂からなる周辺シール材4(図3参照)を介して貼り合わせたものからなるが、トレー11上に載置される前の工程で、その周辺シール材4の予備硬化およびそれに含まれている溶剤除去の目的で硬化反応温度以下の温度でプレキュアされている。
【0032】
この装置によれば、トレー11がトレー支持手段12により、下側ヒータテーブル10から浮いた状態に支持されているため、各マザー基板Mをその一枚ごとに塵埃除去のためのクリーニングを行ない、その基板間にスペーサプレートを配置しながら、トレー11上において順次積み重ねたとしても、最初の方にセットされた下側のマザー基板Mがその後に積層されるマザー基板Mよりも過大な熱を受けない。
【0033】
しかる後、上側ヒータテーブル20を下降させて全マザー基板Mを所定の圧力で加圧する。この加圧により、トレー11が下側ヒータテーブル10に当接することになるが、この実施例において、その基板セット後から加圧完了までの各基板温度を測定したところ、基板セット順に80〜65℃であった。
【0034】
これに対して、図4に示した従来装置において、その下側ヒータテーブル10をこの実施例と同じく140〜190℃に加熱しておき、この実施例と同数枚のマザー基板Mを下側ヒータテーブル10の緩衝材10a上に直接的に積み重ねて、上側ヒータテーブル20にて加圧した場合、その基板セット後から加圧完了までの各基板温度は、基板セット順に120〜80℃であった。
【0035】
このように、本発明によれば、下側ヒータテーブル10の加熱温度を低くすることなく従来と同じとした状態で、基板セット後から加圧完了までの各基板の温度を低く抑えることができ、しかもそのバラツキも小さい。
【0036】
したがって、周辺シール材4の反応開始温度(例えば、120〜130℃)に達することなく加圧を完了させることができ、加圧前の加温過多による導通不良の発生やギャップ幅のバラツキによるシール近傍の表示ムラの発生などが防止される。また、周辺シール材の材料についても、従来では使用できる材料が限定されていたが、本発明によれば、シール材料の選択自由度が拡げられる。
【0037】
なお、上記実施例とは異なり、トレー11をモータやエアシリンダなどの駆動手段で上下動させるようにしてもよい。モータによる場合には、ピニオン−ラック機構や送りネジ軸などを用いればよい。このような駆動手段を採用する場合には、加圧が完了するまでの間、トレーを下側ヒータテーブルから浮いた状態に保持させておくことも可能である。
【0038】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、下側ヒータテーブルと上側ヒータテーブルとの間で液晶表示素子のセル基板を所定の圧力で挟持して加熱することにより、同セル基板の周辺シール材を所定のギャップ幅に規定した状態で熱硬化させるにあたって、下側ヒータテーブルに対して上下動可能なトレーを設け、セル基板がセットされるまでの間は、トレーを下側ヒータテーブル上の所定高さ位置に保持するようにしたことにより、加圧前の加温過多による導通不良の発生やギャップ幅のバラツキによるシール近傍の表示ムラの発生などを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による液晶表示素子の製造装置の一実施例を概略的に示した正面図。
【図2】上記実施例中のトレー支持手段を示した要部拡大断面図。
【図3】液晶表示素子のセル基板の基本的な構成を示した模式的断面図。
【図4】従来の液晶表示素子の製造装置を概略的に示した正面図。
【符号の説明】
1 液晶表示素子のセル基板
2,3 透明電極基板
4 周辺シール材
10 下側ヒータテーブル
11 トレー
111,112 緩衝材
12 トレー支持手段
121 トレー受けピン
122 コイルバネ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal display device manufacturing apparatus, and more specifically, is applied when a pair of transparent electrode substrates are bonded together via a peripheral sealing material and then heated and pressurized to thermally cure the peripheral sealing material. The present invention relates to an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element.
[0002]
[Prior art]
FIG. 3 schematically shows a cell substrate of a liquid crystal display element cut out as a product unit from a multi-sided mother substrate. According to this, the cell substrate 1 includes a pair of transparent electrode substrates 2 and 3 each having a transparent electrode made of an ITO (Indium Tin Oxide) pattern.
[0003]
These transparent electrode substrates 2 and 3 have a peripheral sealing material 4 printed on one of the substrates, and an in-plane spacer (not shown) as a gap width regulating means is sprayed on the display surface. , And pasted together through the peripheral sealing material 4.
[0004]
In this case, an electrode terminal portion 3a is continuously provided on one transparent electrode substrate 3 side, and although not shown in detail, each transparent electrode of both the transparent electrode substrates 2 and 3 is connected to the electrode terminal portion 3a. The extraction electrode to be connected is also made of ITO.
[0005]
In addition, a conductive material (particle) as a transfer material is mixed in the peripheral sealing material 4, and the transparent electrode on the transparent electrode substrate 2 side passes through the transfer material to a predetermined lead on the electrode terminal portion 3 a. Connected to the electrode.
[0006]
In the actual manufacturing process, the electrode pattern formation, the printing of the peripheral sealing material, the spraying of the in-plane spacers, and the bonding of the substrates are performed in units of mother substrates. Since the curable resin is used, it is necessary to thermally cure the peripheral sealing material 4 at the stage of the mother substrate before the cell substrate 1 is cut out as a product unit.
[0007]
FIG. 4 shows a conventional example of a thermocompression bonding apparatus used at that time. In the figure, M is a mother substrate. The thermocompression bonding apparatus includes a lower heater table 10 and an upper heater table 20 each of which is controlled to be heated to a predetermined temperature. For example, an electric heater is built in the lower heater table 10, and an appropriate cushioning material 10 a is placed on the table 10.
[0008]
The upper heater table 20 is driven in the vertical direction by elevating means such as a motor (not shown). Moreover, the pressurization part 21 which consists of a diaphragm of the upper heater table 20 is provided, and this upper heater table 20 is connected to the heating air supply source which is not shown in figure.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
In advance, both the heater tables 10 and 20 are heated to a predetermined temperature, and the mother substrate M is set on the cushioning material 10 a of the lower heater table 10. Then, the upper heater table 20 is lowered and the mother substrate M is pressurized by the pressurizing portion 21 to thermally cure the peripheral sealing material 4, but this has the following problems.
[0010]
That is, only one mother substrate M is shown in FIG. 4, but actually, a plurality of the substrates are sequentially stacked on the lower heater table 10 and the thermocompression treatment is performed collectively. However, in the case where a plurality of mother substrates M are sequentially stacked in this way, cleaning is performed for removing each of the substrates and a spacer plate is interposed between each mother substrate M, so that all of them are disposed. A considerable amount of time is required before setting.
[0011]
Therefore, since the lower mother board M set initially is kept heated by the lower heater table 10 until all the mother boards M are set, before being pressurized by the upper heater table 20. Then, curing of the peripheral sealing material 7 proceeds.
[0012]
As a result, even if it is pressed by the upper heater table 20 thereafter, the peripheral sealing material 7 is not crushed to a predetermined gap width, and a conduction failure of the transfer material occurs. Even in a non-transfer model in which no transfer material is mixed into the peripheral seal material 7, there is a problem of display unevenness in the vicinity of the seal due to a gap width variation.
[0013]
However, if the temperature of the lower heater table 10 is lowered from the beginning, the above problem does not occur, but according to this, it takes a long time to heat the peripheral sealing material 4 on the other side, It cannot be said that it is preferable in terms of productivity.
[0014]
The present invention has been made to solve such a problem, and its object is to sequentially stack a large number of cell substrates (including a mother substrate state) on a lower heater table, and then to perform an upper heater. An object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element, in which all cell substrates can be processed under equal conditions when pressure is applied by a table and the peripheral sealing materials are collectively thermocompression bonded.
[0015]
[Means for Solving the Problems]
To achieve the above object, the present invention includes a lower heater table and an upper heater table that can be raised and lowered with respect to the lower heater table, and a pair of transparent electrode substrates made of a thermosetting resin. Manufacturing of a liquid crystal display element that cures the peripheral sealing material by sandwiching and heating a cell substrate of a liquid crystal display element that is bonded via an intermediate heater between the lower heater table and the upper heater table at a predetermined pressure In the apparatus, the lower heater table includes a tray on which the cell substrate is placed and a predetermined time on the lower heater table between the time when heat treatment of the cell substrate is started by the two heater tables. Tray support means for supporting the tray at a height position and bringing the tray into contact with the lower heater table during the heat treatment of the cell substrate is provided. It is characterized.
[0016]
According to this configuration, the tray is supported at a predetermined height position on the lower heater table, that is, in a state of floating from the lower heater table, until the time of starting the heat treatment of the cell substrate by the both heater tables. The cell substrate set in the initial stage does not receive more heat than the other cell substrates laminated thereon, and everything is pressurized and heated under substantially the same conditions.
[0017]
In addition, the cell substrate of the liquid crystal display element in the present invention includes a substrate in a stick substrate and a cell substrate assembled as a single unit in addition to a mother substrate. Further, it goes without saying that the manufacturing apparatus of the present invention is applicable not only when a large number of cell substrates are stacked and collectively processed, but also when thermocompression processing is performed one by one.
[0018]
In the present invention, the tray support means includes a tray receiving pin provided so as to be movable in and out with respect to the lower heater table, and the tray receiving pin against the weight of the tray and the cell substrate placed thereon. It is preferable in terms of structure and cost to be composed of a spring member that is urged so as to protrude from the lower heater table and that yields with the applied pressure when the cell substrate is pressurized.
[0019]
In the present invention, the tray supporting means may be air cylinder driving means or motor driving means for moving the tray up and down with respect to the lower heater table. According to these driving means, the tray can be kept floating from the lower heater table until the pressurization to the cell substrate is completed against the pressurizing force of the upper heater table. is there.
[0020]
The tray is made of a plate material having a relatively small heat capacity, for example, an aluminum, brass or ceramic plate having a thickness of about 2 to 3 mm. A buffer material having a predetermined thickness, for example, Teflon ( (Product name) sheet or silicon rubber sheet is preferably provided.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The invention will now be described in more detail on the basis of the embodiments shown in the drawings. In this embodiment, parts that are the same as or the same as those of the conventional example described above are denoted by the same reference numerals.
[0022]
As shown in FIG. 1, also in this embodiment, each has a lower heater table 10 and an upper heater table 20 that can be controlled to a predetermined temperature, and the object to be thermocompression bonded will be described first. Similarly to the mother substrate M including the plurality of cell substrates 1, according to the present invention, the lower heater table 10 has the tray 11 on which the mother substrate M is placed, the tray support means 12 and the like. Is provided.
[0023]
In the present invention, the tray 11 is preferably a plate having a relatively small heat capacity. For example, it is preferably made of aluminum, brass or ceramic and has a thickness of about 2 to 3 mm.
[0024]
A buffer material is provided on the tray 11, but in this embodiment, the buffer material is formed of two layers. That is, on the tray 11, a silicon rubber sheet 111 having a thickness of 1 to 2 mm as a first cushioning material, and a Teflon (trade name) sheet 112 having a thickness of 0.3 mm as a second cushioning material disposed thereon. Are stacked.
[0025]
In this embodiment, as shown in the cross-sectional view of FIG. 2, the tray support means 12 has a tray receiving pin 121 provided so as to be able to protrude and retract with respect to the lower heater table 10, and the tray receiving pin 121 above the tray receiving means 121. And a coil spring 122 that urges toward the end.
[0026]
The tray receiving pins 121 are arranged at, for example, five locations at the four corners and the central portion of the lower heater table 10 and support the tray 11 at a height position of 25 to 35 mm from the surface of the lower heater table 10 at the maximum protrusion. Have a length to get.
[0027]
Further, when the upper heater table 20 is in a non-pressurized state on the coil spring 122, the weight of the tray 11 and the mother substrate M (which may be either a single or a plurality) placed thereon is provided. A compression coil spring is used that has a spring force that urges the tray receiving pins 121 so as to protrude from the lower heater table 10, but yields depending on the pressure applied to the upper heater table 20.
[0028]
As shown in FIG. 2, a recess 101 for accommodating the tray receiving pin 121 and its coil spring 122 is formed at a location where the tray receiving pin 121 of the lower heater table 10 is provided.
[0029]
According to this apparatus, the mother substrate M is thermocompression bonded as follows. First, the lower heater table 10 and the upper heater table 20 are heated to a predetermined temperature (for example, 140 to 190 ° C.). This heating is performed for the lower heater table 10 by an electric heater incorporated therein, and for the upper heater table 20 by heated air from a heating air supply source (not shown).
[0030]
Next, the mother substrate M is placed on the buffer material provided in the tray 11. Although only one mother substrate M is shown in FIG. 1 for convenience of drawing, in this embodiment, three to four mother substrates M are stacked with a spacer plate (not shown) interposed between the substrates. .
[0031]
As described above, the mother substrate M is formed by bonding a pair of transparent electrode substrates through a peripheral sealing material 4 (see FIG. 3) made of a thermosetting resin. Is pre-cured at a temperature equal to or lower than the curing reaction temperature for the purpose of precuring the peripheral sealing material 4 and removing the solvent contained therein.
[0032]
According to this apparatus, since the tray 11 is supported by the tray support means 12 so as to float from the lower heater table 10, each mother board M is cleaned for removing dust one by one, Even when the spacer plates are sequentially stacked on the tray 11 while the spacer plates are arranged between the substrates, the lower mother substrate M set at the beginning receives more heat than the mother substrate M stacked thereafter. Absent.
[0033]
Thereafter, the upper heater table 20 is lowered to pressurize all the mother boards M with a predetermined pressure. By this pressurization, the tray 11 comes into contact with the lower heater table 10. In this embodiment, when each substrate temperature from the substrate setting to the completion of pressurization is measured, the substrate is set in the order of 80 to 65. ° C.
[0034]
On the other hand, in the conventional apparatus shown in FIG. 4, the lower heater table 10 is heated to 140 to 190 ° C. as in this embodiment, and the same number of mother boards M as in this embodiment are placed on the lower heater. When stacking directly on the buffer material 10a of the table 10 and pressurizing with the upper heater table 20, each substrate temperature from the substrate setting to the completion of pressurization was 120 to 80 ° C. in the order of the substrate setting. .
[0035]
Thus, according to the present invention, the temperature of each substrate from the substrate setting to the completion of pressurization can be kept low in the same state as before without lowering the heating temperature of the lower heater table 10. And the variation is small.
[0036]
Therefore, the pressurization can be completed without reaching the reaction start temperature (for example, 120 to 130 ° C.) of the peripheral sealing material 4, and the seal is caused by the occurrence of poor conduction due to excessive heating before the pressurization or the gap width variation. Occurrence of display unevenness in the vicinity is prevented. In addition, as for the material of the peripheral sealing material, conventionally usable materials are limited, but according to the present invention, the degree of freedom of selection of the sealing material can be expanded.
[0037]
Unlike the above embodiment, the tray 11 may be moved up and down by driving means such as a motor or an air cylinder. In the case of using a motor, a pinion-rack mechanism or a feed screw shaft may be used. When such a driving means is employed, the tray can be kept floating from the lower heater table until the pressurization is completed.
[0038]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, by sandwiching and heating the cell substrate of the liquid crystal display element at a predetermined pressure between the lower heater table and the upper heater table, the peripheral sealing material for the cell substrate Is provided with a tray that can be moved up and down with respect to the lower heater table, and the tray is placed on the lower heater table until the cell substrate is set. By maintaining the height position, it is possible to prevent the occurrence of poor conduction due to excessive heating before pressurization or the occurrence of display unevenness in the vicinity of the seal due to the gap width variation.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view schematically showing an embodiment of a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a tray support means in the embodiment.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a basic configuration of a cell substrate of a liquid crystal display element.
FIG. 4 is a front view schematically showing a conventional liquid crystal display device manufacturing apparatus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cell substrate 2 of liquid crystal display element 2, 3 Transparent electrode substrate 4 Peripheral sealing material 10 Lower heater table 11 Tray 111,112 Buffer material 12 Tray support means 121 Tray receiving pin 122 Coil spring

Claims (4)

下側ヒータテーブルと、同下側ヒータテーブルに対して昇降可能な上側ヒータテーブルとを含み、一対の透明電極基板を熱硬化性樹脂からなる周辺シール材を介して貼り合わせた液晶表示素子のセル基板を上記下側ヒータテーブルと上側ヒータテーブルとの間で所定の圧力で挟持して加熱することにより、上記周辺シール材を硬化させる液晶表示素子の製造装置において、
上記下側ヒータテーブルには、上記セル基板が載置されるトレーと、上記両ヒータテーブルによる上記セル基板の加熱処理開始時点までの間、上記トレーを上記下側ヒータテーブル上の所定高さ位置に支持し、上記セル基板の加熱処理時には上記トレーを上記下側ヒータテーブルに接触させるトレー支持手段とが設けられていることを特徴とする液晶表示素子の製造装置。
A cell of a liquid crystal display element comprising a lower heater table and an upper heater table that can be raised and lowered relative to the lower heater table, wherein a pair of transparent electrode substrates are bonded together via a peripheral sealing material made of a thermosetting resin In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element that cures the peripheral sealing material by sandwiching and heating the substrate at a predetermined pressure between the lower heater table and the upper heater table,
In the lower heater table, the tray is placed at a predetermined height position on the lower heater table between the tray on which the cell substrate is placed and the start of the heat treatment of the cell substrate by the two heater tables. And a tray supporting means for bringing the tray into contact with the lower heater table during the heat treatment of the cell substrate.
上記トレー支持手段は、上記下側ヒータテーブルに対して出没自在に設けられたトレー受けピンと、上記トレーおよびそれに載置された上記セル基板の重量に抗して同トレー受けピンを上記下側ヒータテーブルから突出するように付勢し、上記セル基板の加圧時にはその加圧力にて降伏するバネ部材とからなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造装置。The tray support means includes a tray receiving pin provided to be movable in and out of the lower heater table, and the tray receiving pin against the weight of the tray and the cell substrate placed thereon. 2. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, further comprising a spring member that is urged so as to protrude from the table and that yields when the cell substrate is pressurized. 上記トレー支持手段が、上記トレーを上記下側ヒータテーブルに対して上下動させるエアシリンダ駆動手段もしくはモータ駆動手段からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子の製造装置。The apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the tray support means comprises air cylinder driving means or motor driving means for moving the tray up and down relative to the lower heater table. 上記トレーは比較的熱容量の小さな板材からなり、かつ、その液晶表示素子載置面には、所定厚さの緩衝材が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示素子の製造装置。3. The liquid crystal display according to claim 1, wherein the tray is made of a plate material having a relatively small heat capacity, and a buffer material having a predetermined thickness is provided on the liquid crystal display element mounting surface. Device manufacturing equipment.
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