JP3827261B2 - 半導体レーザ励起固体レーザ及びそれを用いた光学装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザから出射したレーザ光を励起光として用いる半導体レーザ励起固体レーザ及びそれを用いた光学装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、固体レーザ結晶を半導体レーザから出射されたレーザ光で軸方向に励起し、軸方向に構成された共振器により赤外レーザ光を発振させる半導体レーザ励起固体レーザが知られている。
このような半導体レーザ励起固体レーザは、超小型、長寿命で単一縦モード発振が可能であり、高周波変調が可能であるといった利点を有する。
【0003】
この半導体レーザとしては、固体レーザ結晶の吸収波長域である808〜810nmの発振波長で出力が100mW以上のものが、また、固体レーザ結晶としては、Nd(ネオジウム)等の希土類を添加したYAG(イットリウムアルミニウムガーネット)等が用いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
半導体レーザ励起固体レーザでは、半導体レーザの出力が効率良く固体レーザ結晶に吸収されなければならない。現在、最も高出力が得られる半導体レーザの発振波長は800nm帯であるが、Nd3+(ネオジウム)の吸収がこの近傍にあるため、Ndを添加した酸化物結晶等が固体レーザ結晶として広く用いられている。
【0005】
ところで、半導体レーザ励起固体レーザにおいて、単一縦モードで発振させ、非常に発振周波数の安定した低ノイズのレーザ光を得るためには、共振器モードの周波数間隔を広くすることが要求され、そのためには固体レーザ結晶を薄くする必要が生じる。
【0006】
このように固体レーザ結晶を薄くすると、半導体レーザから出射されたレーザ光の内、固体レーザ結晶を透過する光量が増加する一方固体レーザ結晶に吸収され固体レーザ結晶を励起する光量が減少し、半導体レーザから出射されたレーザ光に対して効率的に赤外レーザを得ることができないという問題があった。
【0007】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、励起光の吸収効率を向上させ、効率的に安定した赤外レーザ出力を得ることができる半導体レーザ励起固体レーザ及びそれを用いた光学装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、固体レーザ媒質と、前記固体レーザ媒質を励起するための半導体レーザと、前記固体レーザ媒質で励起された光を共振させるための対向した一対のミラーとを備えた半導体レーザ励起固体レーザであって、前記固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係が、0.1≦FS/GW<1となる範囲内で前記一対のミラー間の間隔が選択され、前記固体レーザ媒質はNdが添加されたYVO4結晶からなり且つ前記半導体レーザから出射された励起用レーザ光の吸収率が85%以上のものであって、更に当該固体レーザ媒質の厚さは0.4mm以上、3.75mm以下であり、前記一対のミラーは、前記固体レーザ媒質の対向する2つの面に直接コーティングされた反射膜で構成され、前記固体レーザ媒質の前記半導体レーザからレーザ光が入射する一方の面には前記レーザ光について無反射でかつ波長1340nmの発振光に対して高反射のミラーがコーティングされ、前記固体レーザ媒質の前記一方の面と対向する他方の面には波長1340nmの発振光を反射するとともにその一部を透過するミラーがコーティングされていることを特徴とする。
【0009】
また、請求項2の発明は、請求項1記載の半導体レーザ励起固体レーザであって、前記固体レーザ媒質、半導体レーザ及び一対のミラーを同一の熱伝導性支持体の上に取り付け、前記熱伝導性支持体の温度制御を行う温度制御装置を設けたことを特徴とする。
【0010】
また、請求項3の発明は、請求項1記載の半導体レーザ励起固体レーザであって、前記固体レーザ媒質、半導体レーザ及び一対のミラーは、前記固体レーザ媒質で励起された光の出射面に窓を有するケース内に内蔵されると共に前記ケースの窓に波長板または偏光子を備えたことを特徴とする。
【0011】
また、請求項4の発明は、互に直交する偏光面を有するレーザ光を発する第1及び第2のレーザ光源と、第1及び第2のレーザ光源からのレーザ光を合成する偏光ビームスプリッタと、偏光ビームスプリッタから合成されたレーザ光を合成する偏光ビームスプリッタと、偏光ビームスプリッタから合成されたレーザ光を集光し光ファイバーの端面に導く結合光学系とを備えた光学装置であって、前記第1及び第2のレーザ光源は、固体レーザ媒質と、前記固体レーザ媒質を励起するための半導体レーザと、前記固体レーザ媒質で励起された光を共振させるための対向した一対のミラーとを備えた半導体レーザ励起固体レーザであって、前記固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係が、0.1≦FS/GW<1となる範囲内で前記一対のミラー間の間隔が選択され、前記固体レーザ媒質はNdが添加されたYVO4結晶からなり且つ前記半導体レーザから出射された励起用レーザ光の吸収率が85%以上のものであって、更に当該固体レーザ媒質の厚さは0.4mm以上、3.75mm以下であり、前記一対のミラーは、前記固体レーザ媒質の対向する2つの面に直接コーティングされた反射膜で構成され、前記固体レーザ媒質の前記半導体レーザからレーザ光が入射する一方の面には前記レーザ光について無反射でかつ波長1340nmの発振光に対して高反射のミラーがコーティングされ、前記固体レーザ媒質の前記一方の面と対向する他方の面には波長1340nmの発振光を反射するとともにその一部を透過するミラーがコーティングされ、前記結合光学系に入射する前の前記第1のレーザ光源からのレーザ光のビームウェストと前記偏光ビームスプリッタ間の距離と、前記結合光学系に入射する前の前記第2のレーザ光源からのレーザ光のビームウェストと前記偏光ビームスプリッタ間の距離とを等しくしたことを特徴とする。
【0015】
【作用】
請求項1に記載の発明は、固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係が0.1≦FS/GW<1となる範囲内で一対のミラー間の間隔が選択されるように構成したので、通信用の実用周波数範囲である2GHz以下で低ノイズであり、かつ励起効率の低下を起こさずに容易に製造可能な固体レーザ媒質の厚さを有する半導体レーザ励起固体レーザを得ることができる。
また、一対のミラーを、固体レーザ媒質の対向する2つの面に直接コーティングされた反射膜で構成したので容易に製造可能な半導体レーザ励起固体レーザを得ることができる。
また、固体レーザ媒質を、Ndが添加されたYVO結晶からなり且つ半導体レーザから出射された励起用レーザ光の吸収率が85%以上のものとして構成したので励起効率の高い半導体レーザ励起固体レーザを得ることができる。
【0019】
また、請求項2に記載の発明は、固体レーザ媒質、半導体レーザ及び一対のミラーを同一の熱伝導性支持体の上に取り付け、熱伝導性支持体の温度制御を行う温度制御装置を設けた構成としたので、温度制御性能を向上でき、半導体レーザ励起固体レーザの発振出力を向上することができる。
【0020】
請求項3に記載の発明は、固体レーザ媒質、半導体レーザ及び一対のミラーは、固体レーザ媒質で励起された光の出射面に窓を有するケース内に内蔵されると共にケースの窓に波長板または偏光子を備えるように構成したので、部品点数を少なくすることができ、その結果光学収差を低減することができる。
【0021】
また、請求項4に記載の発明は、第1及び第2のレーザ光源からの偏光面が互に直交するレーザ光を偏光ビームスプリッタにより合成し、合成されたレーザ光を集光し光ファイバーの端面に導く結合光学系とを備えた光学装置において、結合光学系に入射する前の第1のレーザ光源からのレーザ光のビームウェストと偏光ビームスプリッタ間の距離と、結合光学系に入射する前の第2のレーザ光源からのレーザ光のビームウェストと偏光ビームスプリッタ間の距離とが等しくなるように構成したので、レーザ光の結合効率の良い光学装置を得ることができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の一実施形態による半導体レーザ励起固体レーザを示す。
1は、最大出力1W、発振波長808nmの励起用半導体レーザ、2は、励起用半導体レーザから放射される励起用レーザ光を集光する集光レンズ、3は、Ndが添加されたYVO4 (イットリウムバナジウム酸化物)結晶又はNdが添加されたYAG結晶からなる固体レーザ媒質(固体レーザ結晶)である。
【0023】
固体レーザ媒質3の励起用レーザ光の入射面には、励起用レーザ光(808
nm)に対し無反射で、発振光(1340nm)を全反射するダイクロイックミラーからなるミラーR1がコーテイングされている。また、固体レーザ媒質3の発振光の出力面には、発振光(1340nm)を数%透過し、残りを反射するミラーR2がコーテイングされている。この一対のミラーR1、R2により共振器が構成される。
【0024】
図2は、周波数対固体レーザ媒質の利得幅、共振器モードとの関係を示す。
図2において、f20は、固体レーザ媒質の利得対周波数の関係を、GWは、固体レーザ媒質の利得幅を、f24〜f28は、共振器モードをそれぞれ示している。隣接する共振器モードf24〜f28の周波数間隔FSは、FS=c/2nlで与えられる。ここで、cは光速、nは固体レーザ媒質の屈折率、lは共振器長である。
【0025】
共振器モードの周波数間隔FSが固体レーザ媒質の利得幅GWより大きい場合には単一縦モードで発振することになるが、本発明では固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係が0.1≦FS/GW<1となる範囲内で前記一対のミラー間の間隔(共振器長、すなわち固体レーザ媒質の厚
さ)lが選択されている。この場合、縦モード数は、後述するように2〜11となる。このように、共振器長lを設定することにより、レーザノイズのレベルを実用上、最低限に抑えられ、半導体レーザから出射されたレーザ光に対して効率的に赤外レーザ光を得ることができる。
【0026】
以下に、固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係を上述のように設定した理由について説明する。
波長1340nmの発振光を得られる固体レーザ媒質であるNd:YVO4
は、半導体レーザから出射された励起用レーザ光の吸収率が他の結晶に比して高い(例えばYAGの吸収率の約3倍である)。しかしながら、縦モードを単一にするためには、固体レーザ媒質の厚さを0.2mm程度にする必要があるが、この場合、結晶の加工、取り扱いが難しくなり、また、Ndのドープ量が1atm%として吸収される半導体レーザからの励起用レーザ光は、約30%程度にとどまり、赤外レーザの発振の効率が悪い。
【0027】
励起用レーザ光の吸収率は、Ndのドープ量と固体レーザ媒質の厚さに関係
し、99%の吸収率を得るためにはNdのドープ量と固体レーザ媒質の厚さの積を3atm%・mm以上、85%の吸収率を得るためには1.2atm%・mm程度にする必要がある。
【0028】
図3は、本発明に係る励起用レーザ光の吸収率、Ndのドープ量、固体レーザ媒質の厚さ及びFS/GWの相互関係を示す図である。例えば、Ndのドープ量が3atm%の場合、固体レーザ媒質の厚さ(結晶厚さ)が0.4mmのときに85%以上の励起用レーザの吸収率を示し、固体レーザ媒質の厚さが1.0mmのときに99%以上の励起用レーザの吸収率を示す。また、固体レーザ媒質の厚さが0.4mmのときにFS/GWは1.0、固体レーザ媒質の厚さが3.75mmのときにFS/GWは1/10となる。
Ndのドープ量が一定の場合、励起用レーザ光の吸収率を99%とするための固体レーザ媒質の厚さは、励起用レーザ光の吸収率を85%とするための固体レーザ媒質の厚さの約2.5倍となる。
【0029】
図4は、励起用レーザ光の吸収率を変えた場合の励起用レーザ光の出力と赤外レーザ出力との関係を示す図である。実測値を実線、理論値を破線で示してい
る。
【0030】
固体レーザ媒質の両面の平行度、平坦度を高め、固体レーザ媒質の両面に上述のように一対のミラーR1、R2を形成して共振器を構成した場合、励起用のレーザ光の固体レーザ媒質内部でのプロファイル、固体レーザ媒質内でのレーザ利得と損失の関係から固体レーザ媒質の厚さは薄いほうが1340nmの赤外レーザ出力が高く効率的になる場合がある。
【0031】
上述の0.1≦FS/GWの条件は、通信用の実用周波数範囲である2GHz以下で低ノイズとする条件から決定される。レーザノイズで2GHz付近に発生する可能性のあるものは、共振器モードの周波数間隔FSから生じるビートノイズである。さらに、横モードが低次ではあるがマルチモードになった場合には縦横共鳴モードによるノイズが発生し、このノイズの周波数帯はビートノイズの1/10付近となる可能性がある。
【0032】
従って、ビートノイズの周波数帯は20GHz以上にする必要があり、このことから共振器モードの周波数間隔FSは20GHz以上にする必要がある。ここで、Ndのドープ量が1atm%のNd:YVO4 結晶の利得幅GWは、実験的に200GHz程度であることが判明している。
【0033】
以上のことから、2GHz以下で低ノイズとするためには、0.1≦FS/GWとする必要が生じる。なお、0.1=FS/GWの時、縦モード数は、最大11本となる。
【0034】
一般に入手可能なNd:YVO4 結晶のNdのドープ量は、0.5〜3atm%であり、Ndのドープ量が少ないほど808nmの励起用レーザ光の吸収率が低くなる。Ndのドープ量が少ない場合には結晶の厚さを増加させることにより励起用レーザ光の吸収率を増加させるが、結果として共振器長lが広がり共振器モードの周波数間隔FSが狭くなる。
【0035】
上述の励起用レーザ光の吸収率と、Ndのドープ量と固体レーザ媒質の厚さの積の関係から、励起用レーザ光の吸収率を99%とするためには、例えばNdのドープ量を1atm%とした場合固体レーザ媒質の厚さlを最低でも3mm以上とする必要がある。0.1≦FS/GWという条件から導かれる共振器長は、
3.75mm以下であるのでNdのドープ量を1atm%とした場合でも励起用レーザ光の吸収率を99%とすることができる。また、Ndのドープ量を0.5atm%とした場合でも励起用レーザ光の吸収率を95%とすることができる。
【0036】
一方、FS/GW<1の条件は、Ndのドープ量を3%とした場合励起用レーザ光の吸収率を85%以上とし、固体レーザ媒質の厚さを極力薄くできる条件から決定される。
励起用半導体レーザの出力が1Wの場合、固体レーザ媒質の励起用レーザ光の吸収率が85%以上であれば、230mW以上の赤外レーザ出力が得られる。この場合、レーザ装置として定格出力200mWに設定でき、例えば通信用として十分な性能となる。
【0037】
上述の励起用レーザ光の吸収率と、Ndのドープ量と固体レーザ媒質の厚さの積の関係から、例えばNdのドープ量を3atm%とした場合固体レーザ媒質の厚さlを0.4mm以上とすれば、励起用レーザ光の吸収率が85%以上となる。この程度の厚さであれば固体レーザ媒質の加工、取り扱いは難しくない。この場合の共振器モードの周波数間隔FSは、約190GHzで、Nd:YVO4 結晶の利得幅GWにほぼ一致し、FS/GW<1が得られる。
【0038】
以上のように、固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係が0.1≦FS/GW<1となる範囲内で前記一対のミラー間の間隔lを選択した場合、励起用レーザ光の吸収率が85%以上となり赤外レーザ出力(1340nm)が23%以上の効率で得られることになる。この時、横モードはTEM01以下の低次のモードとなっている。
なお、実用周波数範囲である2GHz以下では、−120dB/Hz以下のノイズレベル(図5のaで示すカーブは30MHz以下の領域を図示)となっている。又、図5のbで示すカーブは30MHz以下の領域におけるバックグラウンドノイズのレベルを示している。
【0039】
上述の実施形態では、固体レーザ媒質としてNd:YVO4 結晶を用いた例を示したがこれに替えてNd:YAG結晶を用いても同様の作用、効果が得られ
る。
但し、Nd:YAG結晶では、励起用レーザ光の吸収率がNd:YVO4 結晶の1/3程度なので結晶の厚さを約3倍にする必要がある。
【0040】
図6(a)、(b)は、上述の半導体レーザ励起固体レーザをレーザ光源として用いた光学装置の一例を示す。図6(a)は、レーザ光源20aの側面から見た断面図であり、図6(b)は、全体の光学系の構成を示す平面図である。
レーザ光源20a、20bは、上述のように発振波長808nmの励起用半導体レーザ1、励起用半導体レーザから放射される励起用レーザ光を集光する集光レンズ2、Ndが添加されたYVO4 結晶又はNdが添加されたYAG結晶からなる固体レーザ媒質3、固体レーザ媒質3で励起された光を共振させるための対向した一対のミラーR1、R2及び偏光子4、6、ファラデー素子5で構成される光アイソレータ7で構成され、1340nmの赤外レーザ光を出力する。
【0041】
レーザ光源20a、20bから出射される互いに直交する偏光面を有するレーザ光は、光アイソレータ7を介して偏光ビームスプリッタ10に導かれ合成され、集光レンズ8(一つの結合光学系)により光ファイバーコネクタ12を介して光ファイバー9に結合される。
【0042】
このように、互いに直交する偏光面を有するレーザ光を合成して光ファイバー9に結合することにより、光ファイバー9に結合するパワーが増大すると共に光ファイバー9の出口で所定の偏光面の光を取り出す場合、偏光面の角度に依存しないで一定のパワーが得られる。
【0043】
また、二つのレーザ光源20a、20bが同じ場合、各々のレーザ光の集光レンズ8に入射前のビームウェストと偏光ビームスプリッタ10間のそれぞれの距離を等しく(L1=L2)することにより、光ファイバーへの結合効率を向上させることができる。
【0044】
半導体レーザ1、集光レンズ2、固体レーザ媒質3、一対のミラーR1、R2及び光アイソレータ7は、固体レーザ媒質で励起された光の出射面に窓を有し、熱伝導性を有する材料で形成されているケース11内に内蔵され、光アイソレータ7の偏光子6をケースの窓(光学ウィンドウ)として使用している。
【0045】
このように、レーザ光源20a、20bをモジュール化することにより、交換作業等が容易となり、また偏光子等の複屈折性を有する光学薄膜をケースの窓として用いることにより部品点数が1つ削減でき結果として収差を低減することができる。なお、ケース内部に波長板が用いられる場合にも同様に波長板をケースの窓として用いても良い。
【0046】
レーザ光源20a、20b、偏光ビームスプリッタ10、集光レンズ8及び光ファイバーコネクタ12は、同一の熱伝導性支持体13の上に取り付けられている。
そして、この熱伝導性支持体13はヒートシンク14に接合されたペルチェ素子15の上に固定されている。
【0047】
半導体レーザ1、集光レンズ2、固体レーザ媒質3、一対のミラーR1、R
2、光アイソレータ7、偏光ビームスプリッタ10、集光レンズ8及び光ファイバーコネクタ12は、半導体レーザ1の近傍に配置された図示しない温度センサからの温度検出信号に応答して、図示しない温度調節回路がペルチェ素子15を駆動制御することにより所定温度に保たれる。
【0048】
半導体レーザ1、集光レンズ2、固体レーザ媒質3、一対のミラーR1、R
2、光アイソレータ7、偏光ビームスプリッタ10、集光レンズ8及び光ファイバーコネクタ12は、筐体16内に収納され、シールされている。また、筐体16内には、吸湿剤17が配されている。これにより、筐体16内の内部空間が低湿度に保たれて結露を防止することができる。
【0049】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、励起光の吸収効率を向上させ、効率的に安定した赤外レーザ出力を得ることができる半導体レーザ励起固体レーザ及びそれを用いた光学装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態による半導体レーザ励起固体レーザを示す図である。
【図2】半導体レーザ励起固体レーザの周波数対固体レーザ媒質の利得幅、共振器モードとの関係を示す図である。
【図3】本発明に係る励起用レーザ光の吸収率、Ndのドープ量、固体レーザ媒質の厚さ及びFS/GWの相互関係を示す図である。
【図4】本発明に係る励起用レーザ光の吸収率を変えた場合の励起用レーザ光の出力と赤外レーザ出力との関係を示す図である。
【図5】本発明に係る励起用レーザ光のノイズ特性を示す図である。
【図6】本発明による半導体レーザ励起固体レーザをレーザ光源として用いた光学装置の一例を示す図である。
【符号の説明】
1・・・・・半導体レーザ
2・・・・・集光レンズ
3・・・・・固体レーザ媒質
4・・・・・偏光子
5・・・・・ファラデー素子
6・・・・・偏光子
7・・・・・光アイソレータ
8・・・・・集光レンズ
9・・・・・光ファイバー
10・・・・・偏光ビームスプリッタ
11・・・・・ケース
12・・・・・光ファイバーコネクタ
13・・・・・熱伝導性支持体
14・・・・・ヒートシンク
15・・・・・ペルチェ素子
16・・・・・筐体
17・・・・・吸湿剤
20a・・・・・レーザ光源
20b・・・・・レーザ光源
R1・・・・・ミラー
R2・・・・・ミラー

Claims (4)

  1. 固体レーザ媒質と、前記固体レーザ媒質を励起するための半導体レーザと、前記固体レーザ媒質で励起された光を共振させるための対向した一対のミラーとを備えた半導体レーザ励起固体レーザであって、
    前記固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係が、
    0.1≦FS/GW<1
    となる範囲内で前記一対のミラー間の間隔が選択され、
    前記固体レーザ媒質はNdが添加されたYVO4結晶からなり且つ前記半導体レーザから出射された励起用レーザ光の吸収率が85%以上のものであって、
    更に当該固体レーザ媒質の厚さは0.4mm以上、3.75mm以下であり、
    前記一対のミラーは、前記固体レーザ媒質の対向する2つの面に直接コーティングされた反射膜で構成され、
    前記固体レーザ媒質の前記半導体レーザからレーザ光が入射する一方の面には前記レーザ光について無反射でかつ波長1340nmの発振光に対して高反射のミラーがコーティングされ、前記固体レーザ媒質の前記一方の面と対向する他方の面には波長1340nmの発振光を反射するとともにその一部を透過するミラーがコーティングされていることを特徴とする半導体レーザ励起固体レーザ。
  2. 前記固体レーザ媒質、半導体レーザ及び一対のミラーを同一の熱伝導性支持体の上に取り付け、前記熱伝導性支持体の温度制御を行う温度制御装置を設けたことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ励起固体レーザ。
  3. 前記固体レーザ媒質、半導体レーザ及び一対のミラーは、前記固体レーザ媒質で励起された光の出射面に窓を有するケース内に内蔵されると共に前記ケースの窓に波長板または偏光子を備えたことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ励起固体レーザ。
  4. 互に直交する偏光面を有するレーザ光を発する第1及び第2のレーザ光源と、第1及び第2のレーザ光源からのレーザ光を合成する偏光ビームスプリッタと、偏光ビームスプリッタから合成されたレーザ光を合成する偏光ビームスプリッタと、偏光ビームスプリッタから合成されたレーザ光を集光し光ファイバーの端面に導く結合光学系とを備えた光学装置であって、
    前記第1及び第2のレーザ光源は、固体レーザ媒質と、前記固体レーザ媒質を励起するための半導体レーザと、前記固体レーザ媒質で励起された光を共振させるための対向した一対のミラーとを備えた半導体レーザ励起固体レーザであって、
    前記固体レーザ媒質の利得幅GWと共振器モードの周波数間隔FSとの関係が、
    0.1≦FS/GW<1
    となる範囲内で前記一対のミラー間の間隔が選択され、
    前記固体レーザ媒質はNdが添加されたYVO4結晶からなり且つ前記半導体レーザから出射された励起用レーザ光の吸収率が85%以上のものであって、
    更に当該固体レーザ媒質の厚さは0.4mm以上、3.75mm以下であり、
    前記一対のミラーは、前記固体レーザ媒質の対向する2つの面に直接コーティングされた反射膜で構成され、
    前記固体レーザ媒質の前記半導体レーザからレーザ光が入射する一方の面には前記レーザ光について無反射でかつ波長1340nmの発振光に対して高反射のミラーがコーティングされ、前記固体レーザ媒質の前記一方の面と対向する他方の面には波長1340nmの発振光を反射するとともにその一部を透過するミラーがコーティングされ、
    前記結合光学系に入射する前の前記第1のレーザ光源からのレーザ光のビームウェストと前記偏光ビームスプリッタ間の距離と、前記結合光学系に入射する前の前記第2のレーザ光源からのレーザ光のビームウェストと前記偏光ビームスプリッタ間の距離とを等しくしたことを特徴とする光学装置。
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WO2008015951A1 (fr) * 2006-08-04 2008-02-07 Panasonic Corporation Dispositif d'affichage
JP2009229721A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Fujifilm Corp 光デバイスおよび画像露光装置
US10944232B2 (en) * 2017-03-24 2021-03-09 Macquarie University Terahertz lasers and terahertz extraction
CN107093836A (zh) * 2017-07-12 2017-08-25 北京理工大学 激光纵模个数可调输出装置及方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2893862B2 (ja) * 1990-05-16 1999-05-24 ソニー株式会社 固体レーザー発振器
JPH104233A (ja) * 1996-06-18 1998-01-06 Fuji Photo Film Co Ltd 波長変換レーザー

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