JP3823049B2 - ペースト塗布機 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はペースト収納筒に充填されたペーストを、ノズルの吐出口から基板上に吐出させながら基板とノズルの相対位置関係を変化させ、基板上に所望形状のペーストパターンを描画するペースト塗布機に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の技術としては、特開平11−262712号公報では、ペースト収納筒とノズル及び基板うねり測定用の距離計を直動ガイドで案内したZ軸テーブルを、ボールねじとサーボモータにより上下方向に制御し、基板表面にペーストパターンを塗布描画する構成にしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来の技術としては、塗布機カバーに側面に開口部を設け、また、架台上面の気流を下面に通す開口部も設け、清浄なダウンフローを流して塗布時の清浄度を安定化を図っているが、装置の環境条件によって、清浄度が低下する問題があり、清浄度の向上が求められている。
【0004】
上述のように、本発明の目的は、かかる問題を解消し、塗布動作時における架台上部に堆積したパーティクルの舞い上がりによる、基板上の清浄度が低下することを防止しできるペースト塗布機を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は塗布機上部からのダウンフローに加えて、基板テーブル側面に沿って大気(パーティクル)の吸引口を設け、かつ、安全カバー内周の4面に大気(パーティクル)の吸引口を設け、塗布動作時の清浄度を向上できることを特徴とする。
【0006】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
図1は本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図である。
【0007】
図1において、架台1の面上には、X軸方向への移動ガイドを備えたX軸移動テーブル3が設けられている。このX軸移動テーブル3に直交するように、Y軸方向への移動ガイドを備えたY軸移動テーブル5が設けてある。更に、X軸移動テーブル3上には、Y軸移動テーブル5をX軸方向に移動させるためのX軸サーボモータとボールネジが設けられいる。また、Y軸移動テーブル5上ににはθ軸移動テーブル8が設けてあり、Y軸移動テーブルにθ軸移動テーブル8をY軸方向に移動させるためのY軸サーボモータ6とボールネジが設けてある。θ軸移動テーブル8上には基板保持機構を備えた基板保持テーブル7が設けてある。θ軸移動テーブル8には基板保持テーブル7をθ軸方向に回転させるためのθ軸サーボモータ8aが設けてある。ここで、基板保持機構は、基板を負圧により吸引し吸着させる吸引吸着機構を用いている。
【0008】
また、架台1上にはZ軸テーブル支持架台2が設けてある。Z軸テーブル支持架台2には、Z軸移動テーブル支持ブラケット10が設けられ、このZ軸移動テーブル支持ブラケット10に、Z軸方向の移動ガイドを備えたZ軸移動テーブル11が固定されている。Z軸移動テーブル11上には距離計16やペースト収納(シリンジ)13等を取り付けた支持台(可動部)が設けられ、Z軸移動テーブル11にはこの支持台をZ軸方向に移動させるためのZ軸サーボモータ12やボールネジが設けてある。また、ペースト収納筒13は、支持台(可動部)に着脱自在に取り付けられている。ペースト収納筒13の先端側にはノズル支持具14が設けてある。
【0009】
また、照明の可能な光源を有する鏡筒を備えた画像認識カメラ15も、基板の位置合わせやペーストパターンの形状認識などのために、支持台に基板に対向するように設けられている。
【0010】
更に、架台1の内部には、各サーボモータ4、6、8a、12などを制御する主制御部17が設けられている。この制御部17は、ケーブル21を介して副制御部18に接続されている。副制御部18にはモニタ19と、キーボード20と外部記憶装置18aとが接続されている。キーボード20からは、かかる主制御部17での各種処理のためのデータが入力される。また、画像認識カメラ15で捉えた画像や主制御部17での処理状況がモニタ19で表示される。更に、キーボード20から入力されたデータなどは、外部記憶装置であるハードディスク18aやフロッピディスク18bなどの記憶媒体に記憶保管される。
【0011】
図2に図1におけるペースト収納筒13と距離計16との部分を拡大して示す斜視図を示す。本図において、図1に対応する部分には同一符号をつけている。
【0012】
図2において、距離計16は、下端部に三角形の切込部があって、その切込部に発光素子と複数の受光素子とが設けられている。ノズル13aは、距離計16の切込部の下部に位置付けられている。距離計16は、ノズル13aの先端部からガラスからなる基板9の表面(上面)までの距離を非接触の三角測法で計測する。即ち、上記三角形の切込部での片側の斜面に発光素子が設けられ、この発光素子から放射されたレーザ光Lは基板9上の計測点Sで反射し、上記切込部の他方の斜面に設けられた複数の受光素子のいずれかで受光される。従って、レーザ光Lはペースト収納筒13やノズル13aで遮られることはない。
【0013】
また、基板9上でのレーザ光Lの計測点Sとノズル13aの直下位置とは基板9上で僅かな距離ΔX、ΔYだけずれる。この僅かな距離ΔX、ΔY程度のずれでは、基板9の表面の凹凸に差がないので、距離計16の計測結果とノズル13aの先端部から基板28の表面(上面)までの距離との間に差は殆ど存在しない。 従って、この距離計16の計測結果に基いてZ軸サーボモータ12を制御することにより、基板9の表面の凹凸(うねり)に合わせてノズル13aの先端部から基板9の表面(上面)までの距離(間隔)を一定に維持することができる。
【0014】
このようにして、ノズル13aの先端部から基板9の表面(上面)までの距離(間隔)は一定に維持され、かつ、ノズル13aから吐出される単位時間当りのペースト量が定量に維持されることにより、基板9上に塗布描画されるペーストパターンは幅や厚さが一様になる。
【0015】
ところで、従来の塗布機においては、基板を設置するテーブルは、各動作毎に架台上で平面方向に移動している。このとき、クリールームの上方から流される清浄なダウンフローは、装置内のテーブル移動により、乱され、局所的にわずかに負圧となるなど、架台上にわずかに堆積したパーティクルが舞い上がり、処理中の基板に落下、付着する問題がある。
【0016】
このため、本発明の実施形態では図5に示すようにパーティクルを吸引する手段と吸着する手段とを併用する構成とした。図5に、パーティクル吸引手段と吸着手段備えたペースト塗布機を示す。
【0017】
図5に示すようにパーティクルが基板上に落下、付着することを防ぐことを目的に、基板保持テーブル7のXY軸方向の両側に第1吸引手段としての空気の吸引口27を設けてある。また、XYθテーブルを設置している装置(架台1の上面)の外周を囲む安全カバー30が設けてある。この、安全カバー30を設けた装置の外周(安全カバー30の内側)に第2吸引手段としての吸引口28を設けてある。なお、安全カバー30の上部には、清浄なダウンフロー用の空気流を発生させるための図示していない送風手段が設けてある。この送風手段は、場合によっては設ける必要はない。また、XYθテーブルを設置する架台1の上面にパーティクルを吸着するために、静電吸着手段である静電吸着プレート26を設けた。そして、基板の搭載、排出動作や塗布動作中に、上記の吸引手段と静電吸着手段を動作させ、装置内で浮遊するパーティクルを吸引又は、吸着することにより、基板上部の塗布環境を清浄に保つようにした。
次に、本実施形態における制御系の構成を説明する。
図3は、図1における制御部の構成を示すブロック図である。 同図において、主制御部17は、マイクロコンピュータ17aと、データ通信バス17cと、モータコントローラ17bと、各軸ドライバ17f〜17iと、画像処理装置17eと、外部インターフェース17dとを内蔵している。
【0018】
この主制御部17において、マイクロコンピュータ17aがデータ通信バス17cに接続されている。更に、このデータ通信バス11には、モータコントローラ17bと、画像認識カメラ15で得られる映像信号を処理する画像処理装置17eと、副制御部18との間の信号伝送やレギュレータ22a、23a、バルブユニット24の制御、及び、距離計16の入力を行なう外部インターフェース17dが接続されている。また、モータコントローラ17bには、X、Y、θ、Zの各軸ドライバ17f〜17iが接続されている。
【0019】
また、マイクロコンピュータ17aには図示しないが、主演算部や後述する塗布描画を行なうための処理プログラムを格納したROM、主演算部での処理結果や外部インターフェース17d及びモータコントローラ17bからの入力データを格納するRAM、外部インターフェース17dやモータコントローラ17bとデータをやりとりする入出力部などを備えている。
【0020】
各軸ドライバ17f〜17iには、それぞれ各サーボモータ4、6、8a、12が接続されており、各サーボモータに設けてあるエンコーダにより回転量を検出し、その検出結果をX、Y、Z、θの各軸ドライバ17f〜17iに戻して位置制御を行なっている。
【0021】
サーボモータ4、6、8a、12が、キーボード20から入力されてマイクロコンピュータ17aのRAMに格納されているデータに基いて正逆回転することにより、基板保持テーブル7(図1)に保持された基板9が、Z軸移動テーブル11(図1)を介して、支持したノズル13a(図2)に対し、X、Y軸方向に任意の距離を移動する。その移動中、ペースト収納筒13に僅かな気圧が継続して印加されてノズル13aの先端部の吐出口からペーストが吐出され、基板9に所望のペーストパターンが塗布描画される。
【0022】
尚、本実施形態の空圧系は、正圧源23と負圧源22を有しており、正圧源23からの配管には正圧レギュレータ23aが設けてあり、負圧源22には負圧レギュレータ22aが設けてある。この正、負のレギュレータ22a、23aは外部インターフェース17dからの制御信号に応じて所定の圧力に調整して、バルブユニット24を介してペースト収納筒13に所定圧の空気を送り込む。
【0023】
更に、他の空圧系として、図5で説明した第1の吸引手段の吸引口27及び第2の吸引手段の吸引口28に接続される負圧源29が設けてある。この負圧源29で発生した負圧のON・OFF制御を、マイクロコンピュータ17aからの指令信号を外部インターフェースを介して吸引口の空圧系に設けたバルブ機構に加えることで行い、基板面、及びケース内の塵埃を吸着するようにしてある。尚、本実施形態では、負圧源29をペースト塗布用の負圧源22と別に設けた構成としたが、負圧源を共通化しても良い。
【0024】
さらに、外部インターフェースに17dには静電吸着手段である静電吸着プレート26が接続されており、マイクロコンピュータ17aからの制御信号に基づいて静電吸着プレート26が制御される。
【0025】
基板保持テーブル7に保持された基板9がX、Y軸方向への水平移動中に距離計14がノズル13aと基板9との間隔を計測し、これを常に一定の間隔を維持するように、サーボモータ12がZ軸ドライバ17iで制御される。
【0026】
次に、図4により、この実施形態での装置の動作について説明する。なお、図5では基板保持テーブル上に基板9が既に搬入されている状態からの動作を示してある。なお、図5でも詳細に示していないが、基板搬入時は安全カバー30の基板搬入側に開口部又は開閉可能な扉として構成されている。更に、この基板搬入側の安全カバーに設けてある第2吸引手段も安全カバーと一緒に移動される構成にし、基板搬入のじゃまにならないようにしてある。
【0027】
図4において、電源が投入されると(ステップ100)、まず、塗布機の初期設定が実行されるが(ステップ200)、この初期設定工程では、図1において、サーボモータ4、6、8a、12を駆動することにより、基板保持テーブル7をX、Y、θ方向に移動させて所定の基準位置に位置決めする。尚位置決め動作開始から塗布動作終了までの間は、第1及び第2吸引口よりパーテクルの吸引動作と架台面上のパーティクルの舞上りを防止するために静電吸着手段を動作させる。なお、このとき第1及び第2吸引口27、28及び静電吸着プレート26のすべてを動作させる必要はなく、少なくともこれら吸引、吸着機構のうちの2つを動作させればよい。
【0028】
次に、ノズル13a(図2)を、そのペースト吐出口がペースト塗布を開始する位置(即ち、ペースト塗布開始点)となるように、所定の原点位置に設定すると共に、前回装置を停止した時に設定されていた品種のペーストパターンの塗布に関係する全てのデータや基板位置データの設定を行なうものである。
【0029】
かかるデータの入力は、キーボード20(図1)から行なわれ、入力されたデータは、前述したように、マイクロコンピュータ17a(図3)に内蔵されたRAMに格納される。
【0030】
この初期設定工程(ステップ200)が終了すると、次に、基板9を基板吸着機構7(図1)に搭載して保持させる(ステップ300)。以上の工程が終了すると、次に、基板予備位置決め処理(ステップ400)を行なう。この処理では、基板保持機構7に搭載された基板9の位置決め用マークを画像認識カメラ15で撮影し、位置決め用マークの重心位置を画像処理で求めて基板9のθ方向での傾きを検出し、これに応じてサーボモータ8a(図3)を駆動し、このθ方向の傾きも補正する。
【0031】
なお、ペースト収納筒13内の残りペーストが少ない場合には、次のペースト塗布作業では、この作業の途中でペーストの途切れがないようにするために、前以てペースト収納筒13をノズル13aとともに交換するが、このようにノズル13aを交換すると、その位置ずれが生ずることがあるので、基板9のペーストパターンを形成しない箇所に交換した新たなノズル13aを用いて十字描画を行ない、この十字描画交点の重心位置を画像処理で求め、この重心位置と基板9上の位置決め用マークの重心位置との間の距離を算出して、これをノズル13aのペースト吐出口の位置ずれ量dx、dyとしてマイクロコンピュータ17aに内蔵のRAMに格納する。これにより、基板予備位置決め処理(ステップ400)を終了する。
【0032】
かかるノズル13aの位置ずれ量dx、dyは、後に行なうペーストパターンの塗布描画の動作時、この位置ずれを補正するようにする。
【0033】
次に、ペーストパターン描画処理(ステップ500)を行なう。
【0034】
この処理では、塗布開始位置にノズル13aの吐出口を位置付けるために、基板9を移動させ、ノズル位置の比較・調整移動を行なう。このために、まず、先の基板予備位置決め処理(ステップ400)で得られてマイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたノズル13aの位置ずれ量dx、dyが、図2に示したノズル13aの位置ずれ量の許容範囲△X、△Yにあるか否かの判断を行なう。許容範囲内(△X≧dx及び△Y≧dy)であればそのままとし、許容範囲外(△X<dxまたは△Y<dy)であれば、この位置ずれ量dx、dyを基に基板9を移動させることにより、ノズル13aのペースト吐出口と基板9の所望位置との間のずれを解消させ、ノズル13aを所望位置に位置決めする。
【0035】
次に、ノズル13aの高さをペーストパターン描画高さに設定する。ノズルの初期移動距離データに基づいてノズル13aを初期移動距離分下降させる。続く動作では、基板9表面高さを距離計14により測定し、ノズル13a先端がペーストパターンを描画する高さに設定されているか否かを確認し、描画高さに設定できていない場合は、ノズル13aを微小距離下降をさせ、上記の基板9表面計測とノズル13aの微小距離下降を繰返し動作をおこない、ノズル13a先端をペーストパターンを塗布描画する高さに設定する。また、ペースト収納筒13が交換されていないときには、ノズル13aの位置ずれ量dx、dyのデータはないので、ペーストパターン描画処理(ステップ500)に入ったところで、直ちに、上記で説明したノズル13aの高さ設定を行なう。
【0036】
以上の処理が終了すると、次に、マイクロコンピュータ17aのRAMに格納されたペーストパターンデータに基づいてサーボモータ4、6が駆動され、これにより、ノズル13aのペースト吐出口が基板28に対向した状態で、このペーストパターンデータに応じて、基板9がX、Y方向に移動するとともに、ペースト収納筒13に僅かな気圧を印加してノズル13aのペースト吐出口からのペーストの吐出を開始する。これにより、基板9へのペーストパターンの塗布描画が開始する。
【0037】
そして、これとともに、先に説明したように、マイクロコンピュータ17aは距離計14からノズル13aのペースト吐出口と基板9の表面との間隔の実測データを入力し、基板9の表面のうねりを測定して、この測定値に応じてサーボモータ12を駆動することにより、基板9の表面からのノズル13aの設定高さが一定に維持される。
【0038】
このようにして、ペーストパターンの描画が進むが、ノズル13aのペースト吐出口が基板9上の上記ペーストパターンデータによって決まる描画パターンの終端であるか否かの判断により、この終端でなければ、再び基板の表面うねりの測定処理に戻り、以下、上記の塗布描画を繰り返して、ペーストパターン形成が描画パターンの終端に達するまで継続する。
【0039】
そして、この描画パターン終端に達すると、サーボモータ12を駆動してノズル13aを上昇させ、このペーストパターン描画工程(ステップ500)が終了する。この描画工程が終了すると、先に述べたように、吸引・吸着両手段の動作を停止する。
【0040】
次に、基板排出処置(ステップ600)に進み、図1において、基板9の保持を解除し、装置外に排出する。
【0041】
そして、以上の全工程を停止するか否かを判定し(ステップ700)、複数枚の基板に同じパターンでペースト膜を形成する場合には、ステップ300から繰り返され、全ての基板についてかかる一連の処理が終了すると、作業が全て終了(ステップ800)となる。
【0042】
また、吸着手段は、基板表面での気流とXYθ機構の側面での気流を安定化させることにも寄与することができる。
更に、静電吸着手段で保持したパーティクルは、定期的に清掃するようにすることで、効果的に吸着できる様になる。
【0043】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、塗布機上部からのダウンフローに加えて、基板テーブル側面に沿って大気(パーティクル)の吸引口を設け、かつ、安全カバー内周の4面に大気(パーティクル)の吸引口を設けパーティクルを含んだ空気を吸引し、又、静電吸着手段を架台上面に設置し、堆積したパーティクルの巻き上げを防止し、塗布動作時の清浄度を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるペースト塗布機の一実施形態を示す斜視図である。
【図2】図1に示した実施形態でのペースト収納筒と距離計との配置関係を示す斜視図である。
【図3】図1に示した実施形態での制御系統を示すブロック図である。
【図4】図1に示した実施形態の全体動作を示すフローチャートである。
【図5】図1に示した実施形態での吸引手段と静電吸着手段を示す斜視図である。
【符号の説明】
1…架台、2…Z軸テーブル支持架台、3…X軸移動テーブル、4…X軸サーボモータ、5…Y軸移動テーブル、6…Y軸サーボモータ、7…基板保持機構、8…θ軸移動テーブル、9…基板、10…Z軸移動テーブル支持ブラケット、11…Z軸移動テーブル、12…Z軸サーボモータ、13…ペースト収納筒(シリンジ)、14…ノズル支持具、15…照明の可能な光源を備えた鏡筒と画像認識カメラ、16…距離計、17…主制御部、18…副制御部、18a、ハードディスク、18b…フロッピィーディスク、19…モニタ、20…キーボード、21…接続ケーブル、22…負圧源、22a…負圧レギュレータ、23…正圧源、23a…正圧レギュレータ、24…バルブユニット、26…静電吸着プレート、27…第1部吸引手段、28…第2吸引手段。
Claims (2)
- ペースト収納筒に充填したペーストを吐出する吐出口を有するノズルと、前記吐出口に対向して基板を載置する基板支持テーブルと、前記基板支持テーブルを保持する架台と、前記ペースト収納筒と前記テーブルとを相対移動するため夫々に設けた駆動機構とを備えたペースト塗布機において、
前記基板支持テーブルの周囲に設けた第1の吸引手段と、装置全体を囲むように設けた安全カバーと、前記安全カバー上部には清浄なダウンフローの空気流を発生させる送風手段を有し、前記安全カバーに前記基板支持テーブルの周囲と対向するように設けた第2の吸引手段と、前記基板支持テーブルを保持する架台面上に静電吸着手段を設けたことを特徴とするペースト塗布機。 - 請求項1に記載のペースト塗布機において、第1の吸引手段と、第2の吸引手段及び静電吸着手段とを適宜2つ以上稼動させることを特徴とするペースト塗布機。
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