JP3821054B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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- H05B6/6479—Aspects related to microwave heating combined with other heating techniques combined with convection heating using steam
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の高周波加熱装置は、加熱用の高周波発生装置を備えた電子レンジや、この電子レンジに熱風を発生させるコンベクションヒータを付加したコンピネーションレンジ等がある。また、蒸気を加熱室に導入して加熱するスチーマーや、スチーマーにコンベクションヒータを付加したスチームコンベクションオーブン等も加熱調理器として利用されている。
【０００３】
上記の加熱調理器により食品等を加熱調理する際、食品の加熱仕上がり状態が最も良好な状態になるように加熱調理器を制御する。即ち、高周波加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はコンビネーションレンジ、蒸気加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はスチームコンベクションオーブンによりそれぞれ制御することができる。しかし、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせた調理は、それぞれの加熱処理を別個の加熱調理器間で加熱食品を移し替えて行う等の手間が生じることになる。その不便を解消するために、高周波加熱と、蒸気加熱と、電熱加熱とを一台の加熱調理器で実現したものがある。この加熱調理器は、例えば、特開昭５４−１１５４４８号公報に開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記公報の構成によれば、加熱蒸気発生のための気化室が加熱室の下方に埋設されており、常に貯水タンクから一定水位で水が供給されるようになっている。従って、日常における加熱室周辺の清掃作業が行いにくく、特に気化室においては、蒸気発生の過程で水分中のカルシウムやマグネシウム等が濃縮され、気化室底部やパイプ内に沈殿固着し、蒸気発生量が少なくなり、その結果、カビ等の繁殖しやすい不衛生な環境となる問題があった。
【０００５】
また、蒸気を加熱室に導入する方法として、加熱室の外側に配置されたボイラー等の加熱手段により蒸気を発生させ、ここで発生した蒸気を加熱室に供給する方式も考えられるが、蒸気導入のためのパイプに雑菌の繁殖、凍結による破損、錆等による異物混入等の問題を生じ、また、加熱手段の分解・清掃が困難であることが多く、食品を扱うために特に衛生上配慮の必要がある加熱調理器においては、外部から蒸気を導入する方式は採用し難いものであった。
【０００６】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、蒸気発生部が清掃容易で常に衛生的に保つことができ、しかも、蒸気発生部の温度を制御することで食品に最適な蒸気量を発生させ、加熱効率を高めた蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的達成のため、本発明の高周波加熱装置は高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、蒸気発生部の温度を検出する複数の温度検出部を備えたものである。
【０００８】
これによって、加熱室内にいち早く蒸気を供給することができ蒸気発生の効率を向上し、高周波加熱と蒸気加熱を併用し被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、短時間で効率の良い調理が可能となるとともに、蒸発皿の温度分布にムラがあってもより正確に温度の検出が可能になり、制御の信頼性を高めることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記蒸気発生部は、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿近傍に蒸気発生部の温度を検出する温度検出部を複数備え、前記複数の温度検出部の少な
くとも一方を、蒸発皿に水を供給する給水部の近傍に配設されたことを特徴とする。
【００１０】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室の内部で蒸気を発生するようにしているので、加熱室内にいち早く蒸気を供給することができ、蒸気発生の効率を向上できる。また、蒸気発生部が加熱室内に存在するため、加熱室内の清掃と同時に、蒸気発生部の清掃を簡単にして行うことができ、加熱室内を常に衛生的な環境に保つことができる。また、蒸気発生部の温度を検出する温度検出部を備えているため、水が無い状態で加熱される空焚き状態を防ぎ、安全性を上げる事が出来る。また、加熱方式としては、高周波加熱と蒸気加熱の両方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、両方を所定の順番で行ったりすることが自在にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な調理方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、短時間で効率の良い調理が可能となる。
【００１１】
加えてこの蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸気を発生する蒸発皿近傍に温度検出部を備えているので、より細かく蒸発皿の温度を制御可能になり、蒸気の発生量を食品に合わせて最適に制御する事が出来る。特に上記温度検出部は複数設けてあるから、蒸発皿の温度分布にムラがあってもより正確に温度の検出が可能になり、制御の信頼性を高めることができる。
【００１２】
本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、温度検出部が、蒸発皿を加熱する蒸発皿加熱ヒータからの輻射熱を前記蒸発皿へ反射する反射板の外側に温度検出手段を配設されていることを特徴とする。
【００１３】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータで蒸発皿を加熱する事で蒸気を発生し、蒸発皿ヒータからの輻射熱を反射板により蒸発皿に向けて反射するようにしているので、ヒータの発生する熱を高効率で蒸気発生に利用することが出来る。また、温度検出部を反射板の外側に設けているので、ヒータの輻射熱の影響を受けることなく蒸発皿の温度を検知することが出来、食品に応じた蒸気の発生量を制御することが可能となる。
【００１４】
【実施例】
以下、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の好適な実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１５】
（第１の実施の形態）
図１は第１の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２はこの装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図、図３は蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図、図４は蒸気発生部の断面図である。
【００１６】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置１００は、被加熱物を収容する加熱室１１に、高周波（マイクロ波）と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン１３と、加熱室１１内で蒸気を発生する蒸気発生部１５と、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン１７と、加熱室１１内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータ１９とを備えている。
【００１７】
加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面に、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓２１ａ付きの開閉扉２１が設けられている。開閉扉２１は、下端が本体ケース１０の下縁にヒンジ結合されることで、
上下方向に開閉可能となっている。加熱室１１と本体ケース１０との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。特に加熱室１１の背後の空間は、循環ファン１７及びその駆動モータ（図示せず）を収容した循環ファン室２５となっており、加熱室１１の後面の壁が、加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する仕切板２７となっている。仕切板２７には、加熱室１１側から循環ファン室２５側への吸気を行う吸気用通風孔２９と、循環ファン室２５側から加熱室１１側への送風を行う送風用通風孔３１とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔２９，３１は、多数のパンチ孔として形成されている。
【００１８】
循環ファン１７は、矩形の仕切板２７の中央部に回転中心を位置させて配置されており、循環ファン室２５内には、この循環ファン１７を取り囲むようにして矩形環状のコンベクションヒータ１９が設けられている。そして、仕切板２７に形成された吸気用通風孔２９は循環ファン１７の前面に配置され、送風用通風孔３１は矩形環状のコンベクションヒータ１９に沿って配置されている。循環ファン１７を回すと、風は循環ファン１７の前面側から駆動モータのある後面側に流れるように設定されているので、加熱室１１内の空気が、吸気用通風孔２９を通して循環ファン１７の中心部に吸い込まれ、循環ファン室２５内のコンベクションヒータ１９を通過して、送風用通風孔３１から加熱室１１内に送り出される。従って、この流れにより、加熱室１１内の空気が、撹拌されつつ循環ファン室２５を経由して循環されるようになっている。
【００１９】
マグネトロン１３は、例えば加熱室１１の下側の空間に配置されており、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根３３が設けられている。そして、マグネトロン１３からの高周波を、回転するスタラー羽根３３に照射することにより、該スタラー羽根３３によって高周波を加熱室１１内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン１３やスタラー羽根３３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の上面や側面側に設けることもできる。
【００２０】
蒸気発生部１５は、図２に示すように加熱により蒸気を発生する水溜凹所３５ａを有した蒸発皿３５と、蒸発皿３５の下側に配設され、図３及び図４に示すように蒸発皿３５を加熱する蒸発皿加熱ヒータ３７と、該ヒータの輻射熱を蒸発皿３５に向けて反射する断面略Ｕ字形の反射板３９とから構成されている。温度検出部２０は蒸発皿３５の下方でかつ反射板３９の外側に配設されている。蒸発皿３５は、金属製の細長板状のもので、加熱室１１の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する仕切板２７に沿わせた向きで配設されている。蒸発皿３５は加熱室１１の底部と同じ材料で構成されており、蒸気を発生する水溜凹所３５ａの表面にはフッ素などによる表面処理が施されている。また、水溜凹所３５ａの裏面３５ｂは、たとえば黒色などの材料色とは異なる熱吸収率の高い色で加工されている。なお、蒸発皿加熱ヒータ３７としては、ガラス管ヒータ、シーズヒータ、プレートヒータ等が利用できる。
【００２１】
このように、本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、加熱室１１の外部ではなく内部で蒸気を発生する構成にしているので、加熱室１１内を清掃する場合と同様に、蒸気を発生する部分、つまり蒸発皿３５の清掃を簡単に行うことができる。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて蒸発皿３５の底部に沈殿固着することがあるが、蒸発皿３５の表面に付着したものを布等で拭き取るだけできれいに払拭することができる。また、蒸発皿３５の表面にはフッ素などにより表面処理を施されているので、汚れなども付着しにくく、拭き取りも簡単に行えるので加熱室１１の内部を常に衛生的な環境に保つことが容易となる。
【００２２】
また、この高周波加熱装置では蒸発皿３５を加熱室１１と同じ材料で構成しているので、加熱室の他の面と溶接やカシメ等で固着される場合でも、異種金属の接触による電解腐
食を防ぐことが出来、蒸気などの水分が多い環境下においても腐食が発生しにくくなり、腐食により溶接などの固着部が外れ電波が加熱室外に漏れたり、スパークの発生の危険の少ない加熱室を構成することができる。また、コストを低く押さえるために加熱室底面の一部を絞り下げて蒸発皿３５を構成することも可能である。
【００２３】
さらに、この高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータ３７で蒸発皿３５を加熱することにより蒸気を発生させているので、簡単な構造で効率良く蒸気を供給することができ、加熱によりある程度高い温度の蒸気が発生するので、単に加湿するだけの調理、あるいは高周波加熱と併用して乾燥を防止しつつ加熱する調理も可能である。
【００２４】
また、蒸発皿加熱ヒータ３７の輻射熱は、反射板３９で蒸発皿３５に向けて反射させ水溜凹所３５ａの裏面３５ｂを熱吸収率の高い色に加工して構成しているので、蒸発皿加熱ヒータ３７の発生する熱を無駄なく効率良く蒸気発生のために利用することができる。
【００２５】
また、加熱方法としては、高周波加熱と蒸気加熱の双方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、双方を所定の順番で行ったりすることが自由にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な加熱方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、効率の良い調理が可能となる。
【００２６】
（第２の実施形態）
次に、本実施形態に係る第２の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図５及び図６を用いて説明する。なお、以下の説明では前述した第１実施形態と同じ部材に対しては同一の符号を付与することでその説明は省略するものとする。
【００２７】
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図５に示すように蒸発皿３５の蒸気を発生する水溜凹所３５ａに突起面３６を設けたことを特徴とする。
【００２８】
本実施形態の構成によれば、図６に示すように蒸発皿３５に水が供給され蒸気を発生させることで水面が変化したときに、水が少なくなると突起面３６が水面から露出される。水溜凹所３５ａは蒸発皿加熱ヒータ３７により加熱されているが、蒸発皿３５に水が残っていると水の蒸発温度である１００度付近に温度が安定する。しかし、突起面３６は水面から露出しており蒸発皿加熱ヒータ３７により加熱されるため、１００度以上に温度が上昇する。温度検出部２０は、蒸発皿３５の下方でかつ反射板３９の外側に配設されているので、蒸発皿加熱ヒータ３７の輻射熱の影響を直接受けることが無く突起面３６の温度変化を検出することが可能となる。
【００２９】
この構成により、前述した実施形態よりも温度検出部２０が蒸発皿の水が完全に無くなる前に水残量の検知が可能となり、空焚きを防ぐとともに食品に応じた蒸気の発生量を制御することが可能となる。
【００３０】
（第３の実施の形態）
次に、本実施形態に係る第３の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図７を用いて説明する。
【００３１】
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図７に示すように蒸発皿３５の蒸気を発生する水溜凹所３５ａに設けた突起面３６を反射板の内側から外側まで連続して設けられ、温度検出部２０が突起面３６ｂに配設されていることを特徴とする。
【００３２】
本実施形態の構成によれば、蒸発皿３５に水が供給されたときに突起面３６ａが水面に
水没するが、温度検出部２０が配設された突起面３６ｂも同時に水面に水没することになる。蒸気を発生させることで水面が変化したときに、水が少なくなると突起面３６ａ、ｂが水面から露出され蒸発皿加熱ヒータ３７により加熱されるため、１００度以上に温度が上昇する。
【００３３】
この構成により、前述した実施形態よりも温度検出部２０が配設される面自体が水面に水没するため、水面から露出したときの温度差が大きくなり水残量の検知がより精度が上がり、蒸気発生量のより正確な制御が可能となる。
【００３４】
（第４の実施の形態
次に、本実施形態に係る第４の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図８、図９及び図１０を用いて説明する。
【００３５】
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図８に示すように蒸発皿３５の蒸気を発生する水溜凹所３５ａに複数の突起面３６ｃ、ｄを設けたことを特徴とする。
【００３６】
本実施形態の構成によれば、蒸発皿３５は、金属製の細長板状のもので、加熱室１１の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する仕切板２７に沿わせた向きで配設されており、必然的に蒸発皿３５の形状は横長の長細い形状になる。そうなると、蒸発皿加熱ヒータ３７のコイルの巻きムラや水のもつ表面張力による分布ムラなどのために蒸発皿３５自体に温度ムラが発生する。しかし、水溜凹所３５ａに複数の突起面３６ｃ、ｄを設けそれぞれの近傍に温度検出部を配設することで、温度ムラの影響を小さくする事ができる。また、図９に示すように複数配設された突起面の少なくとも一方を蒸発皿３５に水を供給する給水部４２近傍に配設することで、新しい水が供給されたときに突起面３６ｃ近傍の温度が下がり、蒸発皿に新しい水が供給されたことを検知することが可能となる。また、図１０に示すように複数配設された突起面３６ｅ、ｆの高さを変えることで、水面からそれぞれの突起面が露出する水位が異なるため、蒸発皿に残る水の水位レベルの検出が可能となる。
【００３７】
この構成により、前述した実施形態よりも加熱室で蒸気を発生する蒸発皿近傍に温度検出部が複数配設されているので、蒸発皿の温度分布にムラがあってもより正確に温度の検出が可能になり、制御の信頼性を高めることができるだけでなく、新しい水の供給の有無の検出や、水位レベルの検出も可能になり、よりきめの細かい蒸気発生制御と、空焚き防止の安全性を高めることができる。
【００３８】
【発明の効果】
本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、加熱室の内部で蒸気を発生するようにしているので、加熱室内にいち早く蒸気を供給することができ、蒸気発生の効率を向上できる。また、蒸気発生部が加熱室内に存在するため、加熱室内の清掃と同時に、蒸気発生部の清掃を簡単にして行うことができ、加熱室内を常に衛生的な環境に保つことができる。また、加熱方式としては、高周波加熱と蒸気加熱の両方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、両方を所定の順番で行ったりすることが自在にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な調理方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、短時間で効率の良い調理が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の扉を開けた状態を示す正面図
【図２】 図１の蒸気発生機能付き高周波加熱装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図
【図３】 蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図
【図４】 同装置の蒸気発生部の断面図
【図５】 本発明の第２の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸発皿を示す斜視図
【図６】 同装置の蒸気発生部の断面図
【図７】 本発明の第３の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸発皿を示す断面図
【図８】 本発明の第４の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸発皿
を示す斜視図
【図９】 同装置の給水部近傍に突起面を設けた蒸気発生部の断面図
【図１０】 同装置の高さの異なる突起面を設けた蒸気発生部の断面図
【符号の説明】
１１ 加熱室
１３ マグネトロン（高周波発生部）
１５ 蒸気発生部
２０ 温度検出部
３５ 蒸発皿
３６ 突起面
３７ 蒸発皿加熱ヒータ
３９ 反射板
４２ 給水部
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせて被加熱物を加熱処理する蒸気発生機能付き高周波加熱装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の高周波加熱装置は、加熱用の高周波発生装置を備えた電子レンジや、この電子レンジに熱風を発生させるコンベクションヒータを付加したコンピネーションレンジ等がある。また、蒸気を加熱室に導入して加熱するスチーマーや、スチーマーにコンベクションヒータを付加したスチームコンベクションオーブン等も加熱調理器として利用されている。
【０００３】
上記の加熱調理器により食品等を加熱調理する際、食品の加熱仕上がり状態が最も良好な状態になるように加熱調理器を制御する。即ち、高周波加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はコンビネーションレンジ、蒸気加熱と熱風加熱とを組み合わせた調理はスチームコンベクションオーブンによりそれぞれ制御することができる。しかし、高周波加熱と蒸気加熱とを組み合わせた調理は、それぞれの加熱処理を別個の加熱調理器間で加熱食品を移し替えて行う等の手間が生じることになる。その不便を解消するために、高周波加熱と、蒸気加熱と、電熱加熱とを一台の加熱調理器で実現したものがある。この加熱調理器は、例えば、特開昭５４−１１５４４８号公報に開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記公報の構成によれば、加熱蒸気発生のための気化室が加熱室の下方に埋設されており、常に貯水タンクから一定水位で水が供給されるようになっている。従って、日常における加熱室周辺の清掃作業が行いにくく、特に気化室においては、蒸気発生の過程で水分中のカルシウムやマグネシウム等が濃縮され、気化室底部やパイプ内に沈殿固着し、蒸気発生量が少なくなり、その結果、カビ等の繁殖しやすい不衛生な環境となる問題があった。
【０００５】
また、蒸気を加熱室に導入する方法として、加熱室の外側に配置されたボイラー等の加熱手段により蒸気を発生させ、ここで発生した蒸気を加熱室に供給する方式も考えられるが、蒸気導入のためのパイプに雑菌の繁殖、凍結による破損、錆等による異物混入等の問題を生じ、また、加熱手段の分解・清掃が困難であることが多く、食品を扱うために特に衛生上配慮の必要がある加熱調理器においては、外部から蒸気を導入する方式は採用し難いものであった。
【０００６】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、蒸気発生部が清掃容易で常に衛生的に保つことができ、しかも、蒸気発生部の温度を制御することで食品に最適な蒸気量を発生させ、加熱効率を高めた蒸気発生機能付き高周波加熱装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的達成のため、本発明の高周波加熱装置は高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部と、蒸気発生部の温度を検出する複数の温度検出部を備えたものである。
【０００８】
これによって、加熱室内にいち早く蒸気を供給することができ蒸気発生の効率を向上し、高周波加熱と蒸気加熱を併用し被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、短時間で効率の良い調理が可能となるとともに、蒸発皿の温度分布にムラがあってもより正確に温度の検出が可能になり、制御の信頼性を高めることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記蒸気発生部は、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿近傍に蒸気発生部の温度を検出する温度検出部を複数備え、前記複数の温度検出部の少な
くとも一方を、蒸発皿に水を供給する給水部の近傍に配設されたことを特徴とする。
【００１０】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、加熱室の内部で蒸気を発生するようにしているので、加熱室内にいち早く蒸気を供給することができ、蒸気発生の効率を向上できる。また、蒸気発生部が加熱室内に存在するため、加熱室内の清掃と同時に、蒸気発生部の清掃を簡単にして行うことができ、加熱室内を常に衛生的な環境に保つことができる。また、蒸気発生部の温度を検出する温度検出部を備えているため、水が無い状態で加熱される空焚き状態を防ぎ、安全性を上げる事が出来る。また、加熱方式としては、高周波加熱と蒸気加熱の両方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、両方を所定の順番で行ったりすることが自在にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な調理方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、短時間で効率の良い調理が可能となる。
【００１１】
加えてこの蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸気を発生する蒸発皿近傍に温度検出部を備えているので、より細かく蒸発皿の温度を制御可能になり、蒸気の発生量を食品に合わせて最適に制御する事が出来る。特に上記温度検出部は複数設けてあるから、蒸発皿の温度分布にムラがあってもより正確に温度の検出が可能になり、制御の信頼性を高めることができる。
【００１２】
本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置は、温度検出部が、蒸発皿を加熱する蒸発皿加熱ヒータからの輻射熱を前記蒸発皿へ反射する反射板の外側に温度検出手段を配設されていることを特徴とする。
【００１３】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータで蒸発皿を加熱する事で蒸気を発生し、蒸発皿ヒータからの輻射熱を反射板により蒸発皿に向けて反射するようにしているので、ヒータの発生する熱を高効率で蒸気発生に利用することが出来る。また、温度検出部を反射板の外側に設けているので、ヒータの輻射熱の影響を受けることなく蒸発皿の温度を検知することが出来、食品に応じた蒸気の発生量を制御することが可能となる。
【００１４】
【実施例】
以下、本発明の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の好適な実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１５】
（第１の実施の形態）
図１は第１の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２はこの装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図、図３は蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図、図４は蒸気発生部の断面図である。
【００１６】
この蒸気発生機能付き高周波加熱装置１００は、被加熱物を収容する加熱室１１に、高周波（マイクロ波）と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部としてのマグネトロン１３と、加熱室１１内で蒸気を発生する蒸気発生部１５と、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン１７と、加熱室１１内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータ１９とを備えている。
【００１７】
加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面に、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓２１ａ付きの開閉扉２１が設けられている。開閉扉２１は、下端が本体ケース１０の下縁にヒンジ結合されることで、
上下方向に開閉可能となっている。加熱室１１と本体ケース１０との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。特に加熱室１１の背後の空間は、循環ファン１７及びその駆動モータ（図示せず）を収容した循環ファン室２５となっており、加熱室１１の後面の壁が、加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する仕切板２７となっている。仕切板２７には、加熱室１１側から循環ファン室２５側への吸気を行う吸気用通風孔２９と、循環ファン室２５側から加熱室１１側への送風を行う送風用通風孔３１とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔２９，３１は、多数のパンチ孔として形成されている。
【００１８】
循環ファン１７は、矩形の仕切板２７の中央部に回転中心を位置させて配置されており、循環ファン室２５内には、この循環ファン１７を取り囲むようにして矩形環状のコンベクションヒータ１９が設けられている。そして、仕切板２７に形成された吸気用通風孔２９は循環ファン１７の前面に配置され、送風用通風孔３１は矩形環状のコンベクションヒータ１９に沿って配置されている。循環ファン１７を回すと、風は循環ファン１７の前面側から駆動モータのある後面側に流れるように設定されているので、加熱室１１内の空気が、吸気用通風孔２９を通して循環ファン１７の中心部に吸い込まれ、循環ファン室２５内のコンベクションヒータ１９を通過して、送風用通風孔３１から加熱室１１内に送り出される。従って、この流れにより、加熱室１１内の空気が、撹拌されつつ循環ファン室２５を経由して循環されるようになっている。
【００１９】
マグネトロン１３は、例えば加熱室１１の下側の空間に配置されており、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根３３が設けられている。そして、マグネトロン１３からの高周波を、回転するスタラー羽根３３に照射することにより、該スタラー羽根３３によって高周波を加熱室１１内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン１３やスタラー羽根３３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の上面や側面側に設けることもできる。
【００２０】
蒸気発生部１５は、図２に示すように加熱により蒸気を発生する水溜凹所３５ａを有した蒸発皿３５と、蒸発皿３５の下側に配設され、図３及び図４に示すように蒸発皿３５を加熱する蒸発皿加熱ヒータ３７と、該ヒータの輻射熱を蒸発皿３５に向けて反射する断面略Ｕ字形の反射板３９とから構成されている。温度検出部２０は蒸発皿３５の下方でかつ反射板３９の外側に配設されている。蒸発皿３５は、金属製の細長板状のもので、加熱室１１の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する仕切板２７に沿わせた向きで配設されている。蒸発皿３５は加熱室１１の底部と同じ材料で構成されており、蒸気を発生する水溜凹所３５ａの表面にはフッ素などによる表面処理が施されている。また、水溜凹所３５ａの裏面３５ｂは、たとえば黒色などの材料色とは異なる熱吸収率の高い色で加工されている。なお、蒸発皿加熱ヒータ３７としては、ガラス管ヒータ、シーズヒータ、プレートヒータ等が利用できる。
【００２１】
このように、本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、加熱室１１の外部ではなく内部で蒸気を発生する構成にしているので、加熱室１１内を清掃する場合と同様に、蒸気を発生する部分、つまり蒸発皿３５の清掃を簡単に行うことができる。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて蒸発皿３５の底部に沈殿固着することがあるが、蒸発皿３５の表面に付着したものを布等で拭き取るだけできれいに払拭することができる。また、蒸発皿３５の表面にはフッ素などにより表面処理を施されているので、汚れなども付着しにくく、拭き取りも簡単に行えるので加熱室１１の内部を常に衛生的な環境に保つことが容易となる。
【００２２】
また、この高周波加熱装置では蒸発皿３５を加熱室１１と同じ材料で構成しているので、加熱室の他の面と溶接やカシメ等で固着される場合でも、異種金属の接触による電解腐
食を防ぐことが出来、蒸気などの水分が多い環境下においても腐食が発生しにくくなり、腐食により溶接などの固着部が外れ電波が加熱室外に漏れたり、スパークの発生の危険の少ない加熱室を構成することができる。また、コストを低く押さえるために加熱室底面の一部を絞り下げて蒸発皿３５を構成することも可能である。
【００２３】
さらに、この高周波加熱装置では、蒸発皿加熱ヒータ３７で蒸発皿３５を加熱することにより蒸気を発生させているので、簡単な構造で効率良く蒸気を供給することができ、加熱によりある程度高い温度の蒸気が発生するので、単に加湿するだけの調理、あるいは高周波加熱と併用して乾燥を防止しつつ加熱する調理も可能である。
【００２４】
また、蒸発皿加熱ヒータ３７の輻射熱は、反射板３９で蒸発皿３５に向けて反射させ水溜凹所３５ａの裏面３５ｂを熱吸収率の高い色に加工して構成しているので、蒸発皿加熱ヒータ３７の発生する熱を無駄なく効率良く蒸気発生のために利用することができる。
【００２５】
また、加熱方法としては、高周波加熱と蒸気加熱の双方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、双方を所定の順番で行ったりすることが自由にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な加熱方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、効率の良い調理が可能となる。
【００２６】
（第２の実施形態）
次に、本実施形態に係る第２の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図５及び図６を用いて説明する。なお、以下の説明では前述した第１実施形態と同じ部材に対しては同一の符号を付与することでその説明は省略するものとする。
【００２７】
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図５に示すように蒸発皿３５の蒸気を発生する水溜凹所３５ａに突起面３６を設けたことを特徴とする。
【００２８】
本実施形態の構成によれば、図６に示すように蒸発皿３５に水が供給され蒸気を発生させることで水面が変化したときに、水が少なくなると突起面３６が水面から露出される。水溜凹所３５ａは蒸発皿加熱ヒータ３７により加熱されているが、蒸発皿３５に水が残っていると水の蒸発温度である１００度付近に温度が安定する。しかし、突起面３６は水面から露出しており蒸発皿加熱ヒータ３７により加熱されるため、１００度以上に温度が上昇する。温度検出部２０は、蒸発皿３５の下方でかつ反射板３９の外側に配設されているので、蒸発皿加熱ヒータ３７の輻射熱の影響を直接受けることが無く突起面３６の温度変化を検出することが可能となる。
【００２９】
この構成により、前述した実施形態よりも温度検出部２０が蒸発皿の水が完全に無くなる前に水残量の検知が可能となり、空焚きを防ぐとともに食品に応じた蒸気の発生量を制御することが可能となる。
【００３０】
（第３の実施の形態）
次に、本実施形態に係る第３の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図７を用いて説明する。
【００３１】
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図７に示すように蒸発皿３５の蒸気を発生する水溜凹所３５ａに設けた突起面３６を反射板の内側から外側まで連続して設けられ、温度検出部２０が突起面３６ｂに配設されていることを特徴とする。
【００３２】
本実施形態の構成によれば、蒸発皿３５に水が供給されたときに突起面３６ａが水面に
水没するが、温度検出部２０が配設された突起面３６ｂも同時に水面に水没することになる。蒸気を発生させることで水面が変化したときに、水が少なくなると突起面３６ａ、ｂが水面から露出され蒸発皿加熱ヒータ３７により加熱されるため、１００度以上に温度が上昇する。
【００３３】
この構成により、前述した実施形態よりも温度検出部２０が配設される面自体が水面に水没するため、水面から露出したときの温度差が大きくなり水残量の検知がより精度が上がり、蒸気発生量のより正確な制御が可能となる。
【００３４】
（第４の実施の形態
次に、本実施形態に係る第４の実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置について、図８、図９及び図１０を用いて説明する。
【００３５】
本実施形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置では、図８に示すように蒸発皿３５の蒸気を発生する水溜凹所３５ａに複数の突起面３６ｃ、ｄを設けたことを特徴とする。
【００３６】
本実施形態の構成によれば、蒸発皿３５は、金属製の細長板状のもので、加熱室１１の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に長手方向を加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する仕切板２７に沿わせた向きで配設されており、必然的に蒸発皿３５の形状は横長の長細い形状になる。そうなると、蒸発皿加熱ヒータ３７のコイルの巻きムラや水のもつ表面張力による分布ムラなどのために蒸発皿３５自体に温度ムラが発生する。しかし、水溜凹所３５ａに複数の突起面３６ｃ、ｄを設けそれぞれの近傍に温度検出部を配設することで、温度ムラの影響を小さくする事ができる。また、図９に示すように複数配設された突起面の少なくとも一方を蒸発皿３５に水を供給する給水部４２近傍に配設することで、新しい水が供給されたときに突起面３６ｃ近傍の温度が下がり、蒸発皿に新しい水が供給されたことを検知することが可能となる。また、図１０に示すように複数配設された突起面３６ｅ、ｆの高さを変えることで、水面からそれぞれの突起面が露出する水位が異なるため、蒸発皿に残る水の水位レベルの検出が可能となる。
【００３７】
この構成により、前述した実施形態よりも加熱室で蒸気を発生する蒸発皿近傍に温度検出部が複数配設されているので、蒸発皿の温度分布にムラがあってもより正確に温度の検出が可能になり、制御の信頼性を高めることができるだけでなく、新しい水の供給の有無の検出や、水位レベルの検出も可能になり、よりきめの細かい蒸気発生制御と、空焚き防止の安全性を高めることができる。
【００３８】
【発明の効果】
本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置によれば、加熱室の内部で蒸気を発生するようにしているので、加熱室内にいち早く蒸気を供給することができ、蒸気発生の効率を向上できる。また、蒸気発生部が加熱室内に存在するため、加熱室内の清掃と同時に、蒸気発生部の清掃を簡単にして行うことができ、加熱室内を常に衛生的な環境に保つことができる。また、加熱方式としては、高周波加熱と蒸気加熱の両方を同時に行ったり、いずれかを個別に行ったり、両方を所定の順番で行ったりすることが自在にできるため、食品の種類や冷凍品か冷蔵品かの区別等に応じて、適切な調理方法を任意に選択することができる。特に、高周波加熱と蒸気加熱を併用した場合には、被加熱物の温度上昇速度を速めることができるので、短時間で効率の良い調理が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の扉を開けた状態を示す正面図
【図２】 図１の蒸気発生機能付き高周波加熱装置に用いられる蒸気発生部の蒸発皿を示す斜視図
【図３】 蒸気発生部の蒸発皿加熱ヒータと反射板を示す斜視図
【図４】 同装置の蒸気発生部の断面図
【図５】 本発明の第２の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸発皿を示す斜視図
【図６】 同装置の蒸気発生部の断面図
【図７】 本発明の第３の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸発皿を示す断面図
【図８】 本発明の第４の実施の形態における蒸気発生機能付き高周波加熱装置の蒸発皿
を示す斜視図
【図９】 同装置の給水部近傍に突起面を設けた蒸気発生部の断面図
【図１０】 同装置の高さの異なる突起面を設けた蒸気発生部の断面図
【符号の説明】
１１ 加熱室
１３ マグネトロン（高周波発生部）
１５ 蒸気発生部
２０ 温度検出部
３５ 蒸発皿
３６ 突起面
３７ 蒸発皿加熱ヒータ
３９ 反射板
４２ 給水部
Claims (3)
- 被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記蒸気発生部は、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿近傍に蒸気発生部の温度を検出する温度検出部を複数備え、前記複数の温度検出部の少なくとも一方を、蒸発皿に水を供給する給水部の近傍に配設されたことを特徴とする高周波加熱装置。
- 被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記蒸気発生部は、加熱により蒸気を発生する水溜凹所を有した蒸発皿近傍に蒸気発生部の温度を検出する温度検出部を複数備え、前記複数の温度検出部が、前記蒸発皿を加熱する蒸発皿加熱ヒータからの輻射熱を前記蒸発皿へ反射する反射板の外側に温度検出手段を配設され、前記複数の温度検出部の少なくとも一方を、蒸発皿に水を供給する給水部の近傍に配設されたことを特徴とする高周波加熱装置。
- 被加熱物を収容する加熱室に高周波を供給する高周波発生部と、前記加熱室内で蒸気を発生する蒸気発生部とを備え、前記加熱室に高周波と蒸気との少なくともいずれかを供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記蒸気発生部の温度を検出する温度検出部を複数備え、前記複数の温度検出部が、前記蒸発皿を加熱する蒸発皿加熱ヒータからの輻射熱を前記蒸発皿へ反射する反射板の外側に温度検出手段を配設され、前記複数の温度検出部の少なくとも一方を、蒸発皿に水を供給する給水部の近傍に配設されたことを特徴とする高周波加熱装置。
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