JP3817146B2 - 沈殿装置におけるレーキ - Google Patents
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【発明の属する技術分野】
本発明は、沈殿槽内で被処理液中の懸濁物質等を沈降分離させて被処理液を清澄化する凝集沈殿装置等の沈殿装置に関し、特に沈殿槽の底部に堆積される汚泥の共廻りという現象を防止するための技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
凝集沈殿装置は、沈降分離方式の水処理装置の一種であり、原廃水等の被処理液に含まれている懸濁物質等を適当な添加剤により凝集しフロック化し、被処理液から懸濁物質等を沈殿除去しようとするものである。
【0003】
この種の凝集沈殿装置としては、特公平1−38523号公報によって開示されたものが知られている。この公報に記載された凝集沈殿装置は、図4に概略的に示すように、懸濁物質等の凝集を行う筒状のミキシングチャンバ1が沈殿槽2内の中心に直立状態で設けられており、ミキシングチャンバ1内の凝集フロックを有する被処理液は、ディストリビュータ3により沈殿槽2内に分配供給されるようになっている。
【0004】
沈殿槽2内では、被処理液中の凝集フロックが沈降分離し、沈殿槽2の底部にて汚泥層を形成する。その一方で、沈殿槽2の上部には上澄液が上昇していき、上層の上澄液は清澄なものとなり、処理済み液として沈殿槽2の流出口4から槽外部に取り出される。沈殿槽2の底部に形成された汚泥層は、沈殿槽2内で回転駆動されるレーキ5によって槽底部の中央に設けられた汚泥引抜き用凹部6に掻き寄せられ、濃縮された均質なものとなる。そして、汚泥引抜き用凹部6に集められた汚泥は、汚泥引抜きポンプ7によって随時引き抜かれ、汚泥層の界面が一定の高さに維持されるようになっている。
【0005】
従来一般のレーキ5は、図4に示すように、沈殿槽2と同軸に配置された回転可能な回転シャフト8の下端部に設けられており、センタシャフト8から外方に延びる2本の旋回シャフト5aと、各旋回シャフト5aから下方に延びる複数の支持ロッド5bの下端にそれぞれ取り付けられた掻寄せ用ブレード5cとから構成されている。また、図5からも理解される通り、掻寄せ用ブレード5cは、旋回シャフト5aの旋回に伴って汚泥を槽中心側に押し動かすことができるよう、旋回シャフト5aの軸線に対して斜めに向けられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上述したような従来のレーキ5においては、汚泥の共廻りと称される現象が生ずることがある。すなわち、レーキ5の回転駆動によって、本来ならば汚泥は槽中心側に掻き寄せられていくが、何らかの原因により汚泥が槽中心側に移動せず圧縮されていき、やがてレーキ5と一体となって汚泥層全体が槽底面上で回転するという現象が生ずることがある。
【0007】
このような汚泥共廻りが生じた場合、汚泥層は濃縮されず、また汚泥層の界面高さが上昇し、凝集沈殿装置の所期の機能を奏し得ないこととなる。かかる場合には、凝集沈殿装置の運転を停止し、沈殿槽2内の清掃を行う必要があり、被処理液の処理効率が大幅に低下してしまう。
【0008】
かかる問題は、凝集フロックを沈殿槽内で形成しない型式のレーキ汚泥濃縮式の沈殿装置においても同様に生じるものである。
【0009】
そこで、本発明の目的は、凝集沈殿装置等の沈殿装置における汚泥共廻りを防止するための手段を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明者らは種々検討した結果、従来構成においては、図5に示すように、隣合う掻寄せ用ブレード5c1,5c2間の間隔が狭く、各掻寄せ用ブレード5c1の内側端部の回転半径r1が、その内側に隣接配置された掻寄せ用ブレード5c2の外側端部の回転半径r2と同一又はそれよりも小さいことに着目した。そして、そのような構成では、各旋回シャフト5aにおける或る掻寄せ用ブレード5c1が汚泥を槽中心に押動させた場合、その一部が内側の掻寄せ用ブレード5c2の旋回方向背面に当たり、それ以上の槽中心側への移動が妨げられる場合があるため、徐々に隣合うブレード5c1,5c2間で汚泥が圧縮されることがあり、これが汚泥共廻りの一因となっていることを見出した。
【0011】
本発明は、かかる知見に基づいてなされたものであり、沈殿槽内で被処理液中の懸濁物質等を沈降分離させて被処理液を清澄化する沈殿装置において用いられるレーキであって、沈殿槽内に垂直に配置された回転シャフトと、回転シャフトを回転駆動する駆動手段と、回転シャフトから外方に延び、互いに周方向に等間隔に配置された少なくとも3本の旋回シャフトと、旋回シャフトのそれぞれに所定の間隔で取り付けられ、回転シャフトが回転駆動された場合に沈殿槽の底部の汚泥を沈殿槽の中央部に掻き寄せる複数枚の掻寄せ用ブレードとを備え、旋回シャフトの各々における一の掻寄せ用ブレードの内側端部の回転半径が、前記一の掻寄せ用ブレードの内側に隣接配置された他の掻寄せ用ブレードの外側端部の回転半径よりも大きく、且つ、一の旋回シャフトにおける隣合う掻寄せ用ブレードの軌跡間の間隙上を、前記一の旋回シャフトに隣接する他の旋回シャフトにおける前記掻寄せ用ブレードがそれぞれ通過するよう、掻寄せ用ブレードが配置されていることを特徴としている。
【0012】
このような構成では、各旋回シャフトにおける掻寄せ用ブレード間の間隔が広く、汚泥がこれらのブレード間で押し固められることが回避される。また、旋回方向において掻寄せ用ブレードは互い違いに配置されることになるので、槽底部上で汚泥を停滞させることなく、逐次、汚泥を槽中心側に移動させることができる。更に、旋回シャフトの本数を3本以上としていることから、ブレード数の減少防止、ひいては濃縮効率の低下を防止することができる。
【0013】
なお、旋回シャフトは、周方向に90度間隔に配置された4本とすることが、組立やバランス等が好適である。
【0014】
また、沈殿槽内に直立状態で配設され、被処理液及び添加剤が導入され混合・撹拌されるミキシングチャンバと、ミキシングチャンバ内の被処理液を沈殿槽内に分配供給するディストリビュータとを備える凝集沈殿装置においては、汚泥層の界面の高さ制御が処理性能の観点から極めて重要であるため、本発明のレーキは凝集沈殿装置に適用されることが有効である。かかる場合、ディストリビュータを回転駆動する回転シャフトの下端部分にレーキの旋回シャフトを取り付けることが、装置構成の簡略化の点から好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
【0016】
図1は、本発明によるレーキが設けられた汚泥濃縮装置の一種である凝集沈殿装置を概略的に示す断面図である。図1に示す凝集沈殿装置10は、原廃水等の被処理液から懸濁物質や凝集フロックを沈降分離し、清澄化された上澄液を処理済み液として取り出すことのできる沈殿槽12と、その内側に配置され、被処理液中の懸濁物質等を予め凝集しフロック化するためのミキシングチャンバ14とを備えている。
【0017】
ミキシングチャンバ14は、沈殿槽12の側壁上縁部に掛け渡された架台16の中央部から垂設された細長い略円筒体である。ミキシングチャンバ14の上部には、被処理液が輸送されてくる導入管18が接続されている。また、ミキシングチャンバ14には、被処理液中の懸濁物質等を凝集させフロックを形成する各種添加剤を注入するための注入ノズル20が配置されている。
【0018】
ミキシングチャンバ14内には、被処理液と添加剤とを混合し撹拌するためのミキサ22が内蔵されており、架台16に取り付けられた駆動装置24により回転駆動されるようになっている。また、ミキサ22の中心部には回転シャフト26が垂直方向延びている。回転シャフト26の上部は架台16にて軸支されており、架台16上の駆動装置28により回転駆動される。
【0019】
回転シャフト26の下部部分はミキシングチャンバ14の下端よりも下方に突出している。回転シャフト26のこの下部部分にはディストリビュータ30が固定されている。回転シャフト26は回転駆動されるため、ディストリビュータ30も回転シャフト26と共に回転され、ミキシングチャンバ14内の被処理液を沈殿槽22内に均等に分配供給することができるようになっている。
【0020】
回転シャフト26は、ディストリビュータ30よりも下方に延長されており、その下端部にはレーキ32及びコーンスクレーパ34が固定されている。レーキ32は、被処理液中の凝集フロックが沈降して堆積する汚泥を濃縮すると共に、槽底面中央の汚泥引抜き用凹部36に汚泥を掻き寄せるためのものである。コーンスクレーパ34は汚泥引抜き用凹部36内に配され、凹部36の内壁面の汚泥を刮ぎ落とす等の機能を有している。この凹部36は沈殿槽12の基礎38に形成された汚泥引抜管40と接続されている。汚泥引抜管40は汚泥引抜ポンプ42に接続されている。
【0021】
一方、沈殿槽12内の上部にはトラフ(集水樋)52が設けられており、このトラフ52の上縁を越えた沈殿槽12内の被処理液の上澄液が処理済み液として、沈殿槽12に設けられた流出口54から槽外部に流出されるようになっている。
【0022】
ここで、レーキ32の構成を更に詳細に説明する。図2に示すように、レーキ32は、回転シャフト26の下端部から外方に向かって略水平方向に延びる4本の旋回シャフト44を有している。これらの旋回シャフト44は90度間隔で配置されている。各旋回シャフト44は、その中心軸線に直交する断面の形状が略矩形となっており、幅(水平方向の幅)は一定とされているのに対して、高さ(垂直方向における幅)は外端部に向かって漸次減じられている。これは、旋回時に旋回シャフト44にかかる負荷を低減するためである。
【0023】
また、各旋回シャフト44には複数本の支持ロッド46が垂直下方に延びるよう取り付けられている。各旋回シャフト44における隣合う支持ロッド46間の間隔は一定とされている。
【0024】
図3に明示するように、各支持ロッド46の下端にはアングル鋼48が溶接等の手段により支持ロッド46に対して横向きに結合されている。アングル鋼48の下縁部には、或る程度の弾性を有する合成樹脂からなる掻寄せ用ブレード50が取り付けられている。掻寄せ用ブレード50の下縁部は沈殿槽12の底面、すなわち基礎38の上面に接し、その状態となるよう支持ロッド46、アングル鋼48及び掻寄せ用ブレード50の取付位置や寸法が適宜調整されている。なお、凝集フロックの密度が高く、濃縮しやすい等、汚泥の性質によっては掻寄せ用ブレード50を基礎38から一定の間隔(この間隔は汚泥の性質により調整する)で離間させて取り付けてもよい。この場合には、掻寄せ用ブレード50は鋼板製としてもよい。
【0025】
また、掻寄せ用ブレード50は、そのブレード50が取り付けられている旋回シャフト44の中心軸線に対して所定の傾斜角θ、図示実施形態では55度の角度をもって斜めに取り付けられている。傾斜の向きは、旋回シャフト44の旋回方向で定まる。すなわち、旋回シャフト44が旋回した場合に、旋回方向前面となるブレード50の面に接した汚泥に対して槽中心側の押圧力が作用する向きとされている。別言するならば、各掻寄せ用ブレード50の外側端部は、当該掻寄せ用ブレード50の内側端部よりも旋回シャフト44の旋回方向において前方に配置されている。なお、掻寄せ用ブレード50の傾斜角θは、旋回速度によっても適宜変更されるものである。
【0026】
更に、本実施形態では、各旋回シャフト44における隣合う掻寄せ用ブレード50間の間隔は十分に広く開けられており、或る掻寄せ用ブレード50の内側端部の回転半径(回転シャフトの中心軸線からの水平距離)が、その内側に隣接配置された掻寄せ用ブレード50の外側端部の回転半径よりも大きくされている。
【0027】
また、一直線に延びる1対の旋回シャフト44(以下、適宜、区別のため添字aを付す)における掻寄せ用ブレード50と、もう1対の旋回シャフト44(以下、適宜、区別のために添字bを付す)における掻寄せ用ブレード50とは、その取付位置が異なっている。例えば、旋回シャフト44aの掻寄せ用ブレード50は4枚あり、これに90度の角度で隣接する旋回シャフト44bの掻寄せ用ブレード50は3枚ある。そして、回転シャフト26を回転させた場合に、旋回シャフト44aにおける掻寄せ用ブレード50が描く軌跡の間の3本の間隙S1,S2,S3上を、旋回シャフト44bにおける3枚の掻寄せ用ブレード50がそれぞれ通過するように、掻寄せ用ブレード50が位置決めされている。より詳細に述べるならば、図2に基づいて、旋回シャフト44aにおける各掻寄せ用ブレード50の内側端部の回転半径をそれぞれria1,ria2,ria3,ria4…rian、外側端部の回転半径をそれぞれroa1,roa2,roa3,roa4…rianとし、旋回シャフト44bにおける各掻寄せ用ブレード50の内側端部の回転半径をそれぞれrib1,rib2,rib3、…ribm、外側端部の回転半径をそれぞれrob1,rob2,rob3…robmとするならば、次式を満たすよう掻寄せ用ブレード50は配置されている。
【0028】
robm≧roan
roa(n+1)≧ribm
(nは、旋回シャフト44aにおける最も外側のブレード50から数えてn番目のブレード50を表し、mは、旋回シャフト44bにおける最も外側のブレード50から数えてn番目のブレード50を表す。)
このような構成のレーキ32を備える凝集沈殿装置10にて清澄な処理済み液を得ようとする場合、被処理液は、導入管18からミキシングチャンバ14内に供給される。ミキシングチャンバ14内においては、注入ノズル20から添加剤が任意のタイミングで添加される。そして、ミキシングチャンバ14内の被処理液と添加剤とはミキサ22によって撹拌混合され、被処理液中の懸濁物質等が凝集して凝集フロックを形成する。
【0029】
凝集フロックを含む被処理液はディストリビュータ30から沈殿槽12内に供給される。ディストリビュータ30は駆動装置28により回転駆動されているので、被処理液は沈殿槽12内に均等に分配される。これにより、沈殿槽12内には均等な上昇流が発生する。被処理液の上昇流における粗大な凝集フロック等は重力により沈降分離して、沈殿槽12の底部に汚泥層Aを形成する。そして、スラッジブランケット型の運転方式にあっては、沈殿槽12の中間部に、凝集フロックや懸濁物質等からなる懸濁・流動状態のスラッジブランケット層Bが形成される。スラッジブランケット層Bは上昇流に含まれる微細なフロック等を捕捉するので、沈殿槽12内の被処理液の上層Cは極めて清澄な上澄液となる。そして、沈殿槽12内の上層Cの上澄液はトラフ52を越え、清澄な処理済み液として沈殿槽12の流出口54から系外に排出される。
【0030】
一方、沈殿槽12の底部では、回転シャフト26の回転によって回転駆動されるレーキ32によって汚泥層Aが濃縮されると共に、槽中央部の汚泥引抜き用凹部36に掻き寄せられるので、汚泥層Aは濃縮された均質なものとなる。この際、旋回シャフト44aに固定された各掻寄せ用ブレード50により槽中心側に押し動かされた汚泥は、隣合うブレード50,50間の間隔が十分に開けられているため、隣接する内側の掻寄せ用ブレード50の旋回方向背面に押し付けられることはなく、図2の符号S1,S2,S3で示される領域に進んだところで停留することになる。そして、この領域で停留した汚泥は、次に進んでくる旋回方向後方の旋回シャフト44bの掻寄せ用ブレード50により拾われ、槽中心側に押される。この場合も、当該旋回シャフト44bにおける内側のブレード50の背面に押し付けられることはなく、汚泥が押し固められていくことはない。
【0031】
このように、掻寄せ用ブレード50が隣接のものと十分な間隔をおき、且つ、旋回方向において互い違いに配列されていることから、汚泥は過度に圧縮されることはなく、円滑に槽中心の汚泥引抜き用凹部36に到達することになる。従って、汚泥層Aは常に安定した均質な濃縮状態に維持され、汚泥層Aのコントロールが処理性能を大きく左右する凝集沈殿装置においては有効となる。
【0032】
また、掻寄せ用ブレード50の全枚数については、旋回シャフト44を4本としていることから、従来構成の2本の旋回シャフトからなるレーキの場合と同数又はそれ以上とすることができ、汚泥の掻寄せ・濃縮化効率は従来構成と同等以上のものとなる。
【0033】
その上、本実施形態の構成においては、従来構成と汚泥の掻寄せ・濃縮化効率が同じであっても、汚泥が軽い力で内側に進んでいくことから、レーキ32を回転駆動させるためのトルクは若干小さくなる。凝集沈殿装置10は長期にわたり連続運転を行うことから、トルクが僅かでも小さくなることは、省エネルギに寄与し、構成部品の寿命を延ばすという効果がある。
【0034】
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。例えば、旋回シャフトを3本、或いは5本以上とすることも可能である。
【0035】
また、本発明は凝集沈殿装置におけるレーキに限られず、懸濁物質の凝集化のためのミキシングチャンバを有しない他の型式の汚泥濃縮式沈殿装置のレーキにも適用可能である。
【0036】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、レーキと共に汚泥層が回転する、いわゆる共廻り現象が防止され、汚泥を確実に沈殿槽から引き抜くことができる。従って、汚泥層を常に安定した状態に維持することができ、かかる沈殿装置から得られる処理済み液の水質を一定に維持することが可能となる。これによって、各種工業製品の品質向上や環境保全にも大いに寄与することが可能となる。
【0037】
また、共廻り解消或いは共廻り防止のために従来においては、沈殿装置の運転を停止して沈殿槽内の清掃作業を行っていたが、本発明によればそのような作業は不要となり、或いはその回数が減じられるため、運転処理効率が向上することになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるレーキを有する凝集沈殿装置を示す断面図であり、図2のI−I線に沿っての断面図である。
【図2】図1におけるII−II線に沿っての断面部分図である。
【図3】図1のレーキの一部を拡大して示す側面図である。
【図4】従来一般のレーキを有する凝集沈殿装置を示す断面図である。
【図5】図4のレーキの一部を拡大して示す平面図である。
【符号の説明】
10…凝集沈殿装置、12…沈殿槽、14…ミキシングチャンバ、26…回転シャフト、28…駆動装置(駆動手段)、30…ディストリビュータ、32…レーキ、44…旋回シャフト、46…支持ロッド、48…アングル鋼、50…掻寄せ用ブレード50。
Claims (3)
- 沈殿槽内で被処理液中の懸濁物質等を沈降分離させて被処理液を清澄化する沈殿装置において用いられる、前記沈殿槽の底部に堆積した汚泥を前記沈殿槽の中央部に掻き寄せて濃縮するためのレーキであって、
前記沈殿槽内に垂直に配置された回転シャフトと、
前記回転シャフトを回転駆動する駆動手段と、
前記回転シャフトから外方に延び、互いに周方向に等間隔に配置された少なくとも3本の旋回シャフトと、
前記旋回シャフトのそれぞれに所定の間隔で取り付けられ、前記回転シャフトが回転駆動された場合に前記沈殿槽の底部の汚泥を前記沈殿槽の中央部に掻き寄せる複数枚の掻寄せ用ブレードと、
を備え、
前記旋回シャフトの各々における一の掻寄せ用ブレードの内側端部の回転半径が、前記一の掻寄せ用ブレードの内側に隣接配置された他の掻寄せ用ブレードの外側端部の回転半径よりも大きく、且つ、
一の旋回シャフトにおける隣合う前記掻寄せ用ブレードの軌跡間の間隙上を、前記一の旋回シャフトに隣接する他の旋回シャフトにおける前記掻寄せ用ブレードがそれぞれ通過するよう、前記掻寄せ用ブレードが配置されていることを特徴とする沈殿装置におけるレーキ。 - 前記旋回シャフトが周方向に90度間隔に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の沈殿装置におけるレーキ。
- 前記沈殿装置が、前記沈殿槽内に直立状態で配設され、被処理液及び添加剤が導入され混合・撹拌されるミキシングチャンバと、前記ミキシングチャンバ内の被処理液を前記沈殿槽内に分配供給し、前記ミキシングチャンバ内を延びる前記回転シャフトに固定され回転駆動されるディストリビュータとを備える凝集沈殿装置であり、
前記旋回シャフトが、前記ディストリビュータよりも下方に延びる回転シャフトの部分に取り付けられている請求項1又は2に記載の沈殿装置におけるレーキ。
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