JP3791106B2 - 電磁調理用プレート - Google Patents
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Description
【０００１】
【技術分野】
本発明は，電磁調理用プレート，特に軽量で熱容量の大きい電磁調理用プレートに関する。
【０００２】
【従来技術】
レストランやステーキ専門店などではステーキやハンバーグなどを載せるための皿として，黒色の鉄製のプレートが用いられている。鉄製のプレートは，表面が黒色の耐熱塗料で被覆されていることが多い。
このプレートは，例えば，調理している間に電磁調理器により加熱しておき、料理を盛りつけて木台や陶磁器製の受け皿に載せ，それをウエイトレスがお客様の所まで運び、その場でステーキソースやハンバーグソースをかけて料理を食べるという使われ方をしている。
【０００３】
このような加熱したプレートを使用すると，料理のできたて感を演出することができる。特に，お客様の前でステーキソースやハンバーグソースをかけると音を立て，いいにおいを発するために, おいしさを更にアピールできることになる。また, 熱いプレートに載せることにより, ステーキやハンバーグ等の料理を食べ終わるまで冷めにくくすることにも寄与している。
【０００４】
【解決しようとする課題】
しかしながら，鉄製のプレートのような熱容量の小さい材料では，料理を上記のように冷めにくくするためには, プレートの肉厚を厚くする必要がある。そのため，鉄製のプレートは非常に重くなってしまう。
また，鉄製のプレートに料理を盛りつけて, 木台や陶磁器製の受け皿に載せた状態では，プレート全体の重さは更に重くなる。そのため，サービスするウエイトレスは腕，手に腱鞘炎を起こすことがあり, ウエイトレスの仕事環境を悪化させ，定着率にも問題が生じる原因となる。そのため, この重い鉄製のプレートを軽くすることは，重要な課題となっている。
【０００５】
また, 鉄製のプレートは，表面を黒色の耐熱塗料で被覆しているが, その耐熱塗料が剥げると下地の鉄がさび，長期間使用できないという問題点がある。
【０００６】
そこで，プレートを軽量にするために，アルミニウム製のプレートを使うことが考えられる。しかし，アルミニウムは銀色を呈し，また電磁調理器ではアルミニウム製のプレートを加熱することができない。
そのため，アルミニウム製のプレートの表面を黒色にし，電磁調理器に使えるようにするために，鉄粉を溶射する必要があり，そうとするとプレートの値段がかなり高くなる。また，アルミニウムは鉄よりも比熱が小さい。そのため，アルミニウム製のプレートは，鉄製のプレートと同程度に厚くしても，蓄熱性が悪く，プレートが冷めやすくなる。従って, アルミニウム製のプレートは，軽量ではあるが，保温性に劣るという問題がある。
【０００７】
本発明はかかる従来の問題点に鑑み，電磁調理が可能で，かつ軽量で長期間使用でき，保温性に優れた電磁調理用プレートを提供しようとするものである。
【０００８】
【課題の解決手段】
請求項１の発明は，結晶化ガラス又は陶磁器からなるプレート基体と，該プレート基体の表面を被覆してなる釉薬と，上記プレート基体の底部に焼き付けてなる銀被膜とからなり，かつ，上記釉薬は黒色顔料を含有していることを特徴とする電磁調理用プレートである。
【０００９】
次に，本発明の作用及び効果について説明する。
本発明の電磁調理用プレートは，プレート基体として結晶化ガラス又は陶磁器を用いている。結晶化ガラス及び陶磁器は，ともに鉄よりも比重が小さく，また比熱が大きい。そのため，従来の鉄製のプレートよりも，保温性が良く，かつ，軽量の電磁調理用プレートを得ることができる。
【００１０】
また，プレート基体の底部には，銀被膜を形成している。銀被膜は，電磁力により発熱し，プレート基体を加熱する。そのため，プレート基体の上に料理を載せた状態で，銀被膜に電磁力を与えると，銀被膜の発熱によって料理を調理することができる。従って，本発明の電磁調理用プレートは，電磁調理に用いることができる。
【００１１】
また，プレート基体の表面は，釉薬により被覆されている。釉薬は，プレート基体の中に水が浸入することを防止する。それゆえ，プレート基体の表面に水が付着した状態で電磁調理をした場合にも，プレート基体の中に水は浸入せず，プレート基体にクラックが発生することはない。特に，プレート基体として陶磁器を用いた場合には，釉薬を被覆することによる耐水性効果は高い。
従って，本発明の電磁調理用プレートは，耐熱衝撃性に優れ，長期間使用することができる。
【００１２】
上記プレート基体は，結晶化ガラス又は陶磁器からなる。
上記結晶化ガラスは，ペタライトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 , スポジューメンＬｉ 2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 , 炭酸リチウムＬｉ2 ＣＯ3 , 粘土Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ・２Ｈ2 Ｏ, ソーダ長石Ｎａ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , カリ長石Ｋ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , マグネサイトＭｇＣＯ 3 , 酸化チタンＴｉＯ2 , 酸化ジルコニウムＺｒＯ2 , 五酸化二リンＰ2 Ｏ5 , 酸化砒素Ａｓ2 Ｏ3 などの原料を準備する。
【００１３】
次いで，これらの原料を，約１７００℃の高温で溶融し, １３００〜１５００℃の温度でロール成形やプレス成形などにより形を作り, その後通常のガラスと同様に徐冷する。この時成形されたガラスには結晶が生成していない。そのため，このガラスの熱膨張は４．０〜５．０×１０-6／℃と大きい。そこで，次に，このガラスを結晶化処理して，低膨張性にする。
【００１４】
即ち，結晶化処理の温度が６５０〜８００℃の温度で一旦加熱すると，ＺｒＯ2 ・ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 などの結晶核が約０．００５μｍの大きさで生成する。そして，結晶化処理の温度が８５０〜９００℃の場合には，上記結晶核を中心としてその周りにβ−石英あるいはβ−ユークリプタイトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 結晶が約０．１μｍの大きさで生成する。更に，高温の１０５０〜１２００℃で結晶化処理を行う場合には，β−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶が約１．０μｍの大きさで生成する。
【００１５】
上記の各種温度による結晶化処理の中，８５０〜９００℃の温度で行う場合には，β−石英あるいはβ−ユークリプタイト結晶が生成し，これらの結晶は温度が上昇すると縮むという特性である。そのため，これらの結晶の縮みは，結晶化ガラスの中の残存ガラスの膨張と打ち消し合って，結晶化ガラスは全体としてほとんど膨張しない。しかも，この結晶の大きさは約０．１μｍであり，人間の目で見える光つまり可視光線の波長（約０．５〜０．７μｍ）より小さく, この結晶と残存ガラスとの屈折率が近いことから，光が散乱せずに透明となる。
【００１６】
また，結晶化処理を１０５０〜１２００℃の温度で行った場合には，β−スポジューメンが生成する。β−スポジューメンが生成した結晶化ガラスは，熱膨張が小さい（例えば，１．１×１０-6／℃）。この結晶の大きさは約１．０μｍであるので可視光線の波長より大きく，可視光を通さず, 白色の陶磁器のような外観となる。しかもこの結晶は緻密に生成し, 結晶生成率は９０〜９５％であることから，機械的強度，具体的には，曲げ強度が１５００ｋｇｆ／ｃｍ2 と大きい。
【００１７】
また，上記陶磁器としては，例えば，Ｌｉ2 Ｏ系のペタライト陶磁器，スポジューメン系陶磁器を用いることが好ましい。これらの熱膨張は，０．１〜２．５×１０-6／℃と非常に小さいからである。
【００１８】
これらの陶磁器を製造するに当たっては，例えば，ペタライトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 , スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 , 粘土Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ・２Ｈ2 Ｏ, 亜鉛華ＺｎＯ, セリサイトＫ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 などの原料を準備する。次いで，この原料に水及び解こう剤を混合し，粉砕して, 鋳込み成形用のスリップ又はろくろ成形用の練土を作製する。
【００１９】
次いで，スリップ又は練土を鋳込み成形又はろくろ成形して，所望の形を作り, 乾燥後１１００〜１３００℃の温度で焼成する。この時, 素地内部に低膨張のβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶が生成し, アルカリ金属酸化物，具体的にはＬｉ2 Ｏ，Ｎａ2 Ｏ, Ｋ2 ＯやＺｎＯなどとＡｌ2 Ｏ3 , ＳｉＯ2 との反応により生成するガラス成分が低膨張のβ−スポジューメン結晶を結合するような組織となる。そのため, 得られた陶磁器は，上記のごとく低膨張性となる。
【００２０】
また, 本発明における陶磁器としては，上記のペタライト磁器やスポジューメン磁器以外でも, 各種低膨張磁器を使用することができる。具体的には，コーディエライト２ＭｇＯ・２Ａｌ2 Ｏ3 ・５ＳｉＯ2 , リン酸ジルコニウム（ＺｒＯ）2 Ｐ2 Ｏ7 , チタン酸アルミウムＡｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＯ2 , チタン酸マグネシウムＭｇＯ・ＴｉＯ2 , セルシアンＢａＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 磁器を用いることができる。
【００２１】
請求項２の発明のように，上記プレート基体は，β−スポジューメン結晶を有することが好ましい。β−スポジュメン結晶は，低熱膨張性結晶である。そのため，結晶化ガラス又は陶磁器からなるプレート基体は，殆ど熱膨張せず，電磁調理での急激な加熱に耐えることができる。それゆえ，電磁調理用プレートの耐熱性，耐熱衝撃性をより高くすることができる。
【００２２】
請求項３の発明のように，上記釉薬は，β−スポジューメン結晶を有することが好ましい。これにより，釉薬の熱膨張を抑制することができ，電磁調理での加熱に耐えることができる。
【００２３】
そして，上記釉薬は，黒色顔料を含有している。表面を黒色顔料により黒色に着色すれば，従来の鉄製のプレートに近い外観を得ることができる。
上記黒色顔料としては，例えば，Ｃｒ２Ｏ３−ＭｎＯ２−Ｆｅ２Ｏ３−Ｃｏ３Ｏ4−ＮｉＯ−ＣｕＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の黒色顔料などを用いることができる。
【００２４】
上記黒色顔料を用いて，黒色の釉薬を調製するに当たっては，上記黒色顔料に，低膨張性結晶形成剤，溶融剤，結晶化剤を添加し，これに水, 解こう剤, 増粘剤, 消泡剤などを混合し，粉砕して, スプレー掛け用の釉薬を作製する。
【００２５】
上記低膨張性結晶形成剤としては，例えば，アルカリ金属酸化物，アルカリ土類金属酸化物，具体的には，ペタライトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 , スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 , ユークリプタイトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 , 粘土Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ・２Ｈ2 Ｏ等を用いることができる。
【００２６】
上記溶融剤としては，例えば，Ｎａ2 Ｏ−Ｋ2 Ｏ−ＭｇＯ−ＣａＯ−ＢａＯ−ＺｎＯ系の溶融剤，具体的には，ソーダ長石Ｎａ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , カリ長石Ｋ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , マグネサイトＭｇＣＯ3 , 炭酸カルシウムＣａＣＯ3 , 炭酸バリウムＢａＣＯ3 , 亜鉛華ＺｎＯ等を用いることができる。
上記結晶化剤としては，例えば，酸化チタンＴｉＯ2 , 酸化ジルコニウムＺｒＯ2 等を用いることができる。
【００２７】
上記釉薬は，例えば，上記低膨張の陶磁器の表面にスプレー掛けにて施釉し, １０５０〜１２５０℃の温度で焼成する。この時, 低膨張性結晶形成剤，具体的にはＬｉ2 Ｏ，Ｎａ2 Ｏ, Ｋ2 Ｏ, ＭｇＯ，ＣａＯ，ＢａＯやＺｎＯなどの修飾酸化物と，Ａｌ2 Ｏ3 , ＳｉＯ2 等の中間酸化物又は網目形成酸化物との反応により，ガラス成分中に結晶化剤（例えば，ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 ）を核にして，低膨張のβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶が生成し, ガラス中に低膨張結晶が析出した組織となる。そのため, この釉薬は０．２〜２．７×１０-6／℃の低膨張となる。
【００２８】
請求項４の発明のように，上記銀被膜は，金属銀粉末と，ガラスフリットと，バインダーとからなる銀ペーストを，上記プレート基体に対して焼き付けてなることが好ましい。
上記フレーク状銀粉末は，粒子状銀粉末を粉砕することにより銀粒子が押しつぶされて結合し，フレーク状に大きくなったものである。そのため，フレーク状銀粉末の銀粒子間は，粒子状銀粉末よりも緻密となり，含有空気量も少ない。
【００２９】
また，上記フレーク状銀粉末は，金属銀粉末中に５０％以上と多量に含有させることが好ましい。これにより，金属銀粉末中の含有空気量が減少する。そのため，銀ペーストをプレート基体に焼き付けた場合には，僅かな含有空気が外部に逃げるのみである。
【００３０】
そのため，得られた銀被膜には，クラックやちぢれが生じない。それ故，銀ペーストの印刷面積の大小にかかわらず，収縮量が少なく，クラックやちぢれのない銀被膜を形成することができる。従って，広い面積を有する電磁調理用容器の底部である基板に，クラックやちぢれのない銀被膜を形成することができる。
また，銀被膜は，滑らかな連続膜となり，優れた電気的導通性を発揮する。
【００３１】
また，銀ペーストを用いる場合には，焼き付け時の昇温降温パターンが急激で，短時間焼成を行なう場合にも，上記クラックやちぢれが生じない。
したがって，プレート基体の底部に，クラックやちぢれを発生させることなく，広い面積に渡って銀被膜を形成することができる。
【００３２】
上記金属銀粉末に含まれる粒子状粉末の大きさは０．４〜０．８μｍであり，また，フレーク状銀粉末の大きさは５．０〜３０．０μｍであることが好ましい。これにより，空気含有量の少ない銀被膜を形成することができ，銀被膜のクラックやちぢれを防止することができる。
【００３３】
上記ガラスフリットとしては，例えば，ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 系又はＮａ2 Ｏ−ＣａＯ−ＳｉＯ2 系のものを用いることができる。上記ガラスフリットの粒径は，３〜５μｍであることが好ましい。これにより，銀ペーストがプレート基体に対して強固に接着する。
上記バインダーとしては，例えば，アクリル系, メタクリル系, セルロース系等の有機バインダー等を用いることができる。
【００３４】
上記銀ペーストは，例えば，上記プレート基体の底部にスクリーン印刷し, 焼き付ける。銀ペーストの焼き付け温度は，例えば，７５０〜８５０℃である。
【００３５】
また, 上記銀ペーストより銀転写紙をあらかじめ作製し, これを上記プレート基体の底部に貼着し, 焼き付けることもできる。この場合には, 裏面は水が吸い込みやすく, 表面に水性の糊が塗りつけてある転写紙用の紙の表面に, 上記銀ペーストを焼付後の厚みが２０〜５０μｍとなるように制御してスクリーン印刷し, その上に転写用のアクリル系フィルムを印刷して銀転写紙を作製する。この銀転写紙をプレート基体の底部に転写し, 焼き付ける。焼付温度は，例えば，７５０〜８５０℃である。
【００３６】
上記銀被膜の焼付後の厚みは，２０〜５０μｍであることが好ましい。これにより，銀被膜がプレート基体に対して強固に接着する。
【００３７】
請求項５の発明のように，上記銀被膜は，オーバーコートガラスにより被覆されていることが好ましい。これにより，銀被膜に，摩擦，引っ掻きなどの外力により損傷を与えることを抑制することができ，長期間使用することができる。また，銀被膜をプレート基体に対してより強固に接着させることができる。
【００３８】
オーバーコートガラスの焼付後の厚みは５〜１５μｍであることが好ましい。これにより，銀被膜の接着強度を更に高めることができる。
オーバーコートガラスの焼付温度は，上記銀被膜と同様に７５０〜８５０℃であり, 上記銀被膜と同時焼付も可能である。また, 転写紙作製時に銀ペーストの上にオーバーコートガラスを重ねて印刷することも可能である。
【００３９】
本発明に係る請求項１〜５の電磁調理用プレートは，レストランにおいて接客用の皿として用いることができる。レストランにおいては，ハンバーグ，ステーキ等の料理を，上記電磁調理用プレートに載せて提供する。電磁調理用プレートは上記のごとく軽量で，かつ保温性に優れているため，サービスするウエイトレスは腱鞘炎を起こすこともなくなり, ウエイトレスの仕事環境を大幅に改善することができる。
【００４０】
また, 本発明の電磁調理用プレートに料理を盛りつけて電磁調理器により加熱して, レストランなどで使用されている木製の受け皿などにはめ込んで用いると, 温かい料理を簡単に客に提供することができる。
また，一般家庭においても，本発明の電磁調理用プレートを用いて温かい料理を簡単に提供することができる。
【００４１】
更に，上記プレート基体は，上記皿の他に，碗，鍋，フライパン等の容器として用いることができる。
【００４２】
【発明の実施の形態】
実施形態例１
本発明の実施形態例に係る電磁調理用プレートについて，図１を用いて説明する。
本例の電磁調理用プレート１は，図１に示すごとく，結晶化ガラスからなるプレート基体２と，プレート基体２の表面を被覆してなる黒色の釉薬３と，プレート基体の底部に焼き付けてなる銀被膜４とからなる。
【００４３】
本例の電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，４．５重量％Ｌｉ2 Ｏ, ６５．５重量％ＳｉＯ2 , ２２．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 , ０．５重量％Ｎａ2 Ｏ, ０．３重量％Ｋ2 Ｏ, ０．５重量％ＭｇＯ, ２．０重量％ＴｉＯ2 , ２．５重量％ＺｒＯ2 , １．０重量％Ｐ2 Ｏ5 , １．２重量％Ａｓ2 Ｏ3 の組成になるように原料粉末を調製した。
【００４４】
この原料粉末を約１７００℃の高温で溶融し, １４００℃の温度でプレス成形し, その後ゆっくり徐冷した。この成形品を約７００℃の温度で一旦加熱して十分ＺｒＯ2 ・ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 などの結晶核を生成させ, 続いて約１１００℃の温度でβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶を生成させて，低膨張の結晶化ガラスからなるプレート基体を得た。
【００４５】
また，黒色釉薬を調製した。即ち，黒色釉薬は, ペタライト７２．０重量％, 炭酸カルシウム１０．０重量％, マグネサイト３．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土３．０重量％, 及び黒色顔料９．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 消泡剤０．１重量％を加えて，約１２時間混合粉砕して作製した。
【００４６】
ここで使用した黒色顔料は，主成分が２０．０重量％Ｃｒ2 Ｏ3 と, ３０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ３５．０重量％のＣｏ3 Ｏ4 と，５．０重量％のＮｉＯと, ６．０重量％のＡｌ 2 Ｏ3 と, ４．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕した。この黒色顔料の平均粒径は２〜５μｍであった。
【００４７】
次いで，上記のプレート基体の表面に，上記の黒色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍとした。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１０８０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで６時間で冷却した。
【００４８】
また，銀ペーストを調製した。銀ペーストは，平均粒径０．５μｍの粒子状銀粉末３０．０重量％，平均粒径１５．０μｍのフレーク状銀粉末６０．０重量％, 及びガラスフリット１０．０重量％に，外掛けでアクリル系バインダー３５．０重量％加えて混練して調製した。ガラスフリットの成分は，５０．０重量％ＰｂＯと，１０．０重量％Ｂ2 Ｏ3 と，３０．０重量％ＳｉＯ2 と，８．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 と，２．０重量％Ｌｉ2 Ｏとからなる。
【００４９】
得られた銀ペーストを印刷しやすい粘度までブチルカルビトールアセテートで希釈し，焼付後の厚みが２５．０〜３０．０μｍとなるように転写紙用の紙に印刷した。この紙の表面には水性の糊が塗り付けてあり，また裏面は吸水性である。
次いで，銀ペーストの表面に, 転写用のアクリル系フィルムを印刷して，銀転写紙を作製した。
【００５０】
次いで，上記結晶化ガラスからなるプレート基体の底部に，上記銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付けて，銀被膜を形成した。
得られた結晶化ガラス黒色製の電磁調理用プレートは，４００ｇと非常に軽かった。
【００５１】
一方，比較のために，後述するごとく，同一形状の鋳鉄製の電磁調理用プレート（比較例１）を製造した。この鋳鉄製の電磁調理用プレートは，１０３０ｇであった。
【００５２】
次に, 本例のペタライト磁器黒色製の電磁調理用プレートについて，電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。
発熱試験は，三洋電機製電磁調理器ＴＩＣ−Ｄ２０２（電源が２００Ｖ，最高出力２０５０Ｗ）の上に上記電磁調理用プレートを載置し, 最大電力で２分間した。その時の電磁調理用プレートの表面温度を測定した。その結果，この電磁調理用プレートの表面温度は３０５℃まで昇温した。
【００５３】
次に, 加熱後室温でそのまま静置した時の，１０分経過後の電磁調理用プレートの表面温度を測定して，保温試験を行った。その結果，電磁調理用プレートの表面温度は１２０℃であった。
以上より, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性及び保温性に優れていることがわかった。
【００５４】
実施形態例２
本例の電磁調理用プレートは，ペタライト磁器からなるプレート基体の表面に，黒色の釉薬が焼き付けてある。
【００５５】
次に，上記電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，ペタライト５５．０重量％, 木節粘土４０．０重量％, 亜鉛華３．０重量％, セリサイト２．０重量％に，外掛けで水３５重量％, 及びポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．２重量％を加えて，約１８時間混合粉砕して鋳込み用のスリップを作製した。このスリップを焼成寸法が２３０ｍｍ×１７０ｍｍの楕円（小判型）の形状となるように作製した石膏型に流し込むことにより形を作った。この成形品を乾燥後, 昇温速度２００℃／時間で１２５０℃まで昇温し, ２時間保持後に，室温まで８時間で冷却した。これにより，ペタライト磁器からなるプレート基体を得た。
【００５６】
また，黒色釉薬を調製した。即ち，黒色釉薬は, ペタライト７０．０重量％, 炭酸カルシウム８．０重量％, マグネサイト２．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土５．０重量％, 亜鉛華２．０重量％, 及び黒色顔料１０．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 専用の消泡剤０．１重量％を加えて，約１２時間混合粉砕して作製した。
【００５７】
ここで使用した黒色顔料は，主成分が２０．０重量％Ｃｒ2 Ｏ3 と, ４０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ２５．０重量％のＣｏ3 Ｏ4 と，５．０重量％のＮｉＯと, ６．０重量％のＡｌ 2 Ｏ3 と, ４．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕したものである。この黒色顔料の平均粒径は２〜５μｍである。
【００５８】
次いで，上記プレート基体の表面に，上記の黒色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍとした。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１１５０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで７時間で冷却した。これにより，プレート基体の表面に釉薬を焼き付けた。
【００５９】
上記のプレート基体の底部に，実施形態例１と同様の銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付けた。これにより，プレート基体の底部に銀被膜を形成した。
以上により，本例のペタライト磁器黒色製の電磁調理用プレートを得た。この電磁調理用プレートの重量は４２０ｇと非常に軽かった。
一方，同一形状の鋳鉄製の電磁調理用プレート（比較例１）は，１０３０ｇであった。
【００６０】
次に, この結晶化ガラス製の黒色の電磁調理用プレートについて，実施形態例１と同じ条件で，電磁調理器により発熱試験及び保温試験を行った。電磁調理用プレートの表面温度は２分後に２５０℃まで昇温し, １０分経過後に１０５℃になった。
このことから, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性，及び保温性に優れていることが分かった。
【００６１】
比較例１
本例の電磁調理用プレートは，市販の鋳鉄製の黒色プレートである。
本比較例の電磁調理用プレートの形状（２３０ｍｍ×１７０ｍｍの楕円形状）は，上記実施形態例１のものと同様である。この電磁調理用プレートの重量は１０３０ｇであった。
【００６２】
また, この鋳鉄製の電磁調理用プレートについて，実施形態例１と同様に電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。その結果，鋳鉄製の電磁調理用プレートの表面温度は２分後に２９５℃まで昇温し, １０分経過後に１２０℃になった。
【００６３】
比較例２
本例の電磁調理用プレートは，アルミニウム鋳物である。
上記電磁調理用プレートは，アルミニウム鋳物の黒色プレート（市販品）であり，その形状は実施形態例１と同一形状（２３０ｍｍ×１７０ｍｍの楕円形状）である。このプレートの裏面には，鉄粉溶射が施されており電磁調理器に使用できるようにしてある。
【００６４】
上記アルミニウム鋳物の黒色プレートの重量は４８０ｇであった。
次に, この黒色プレートについて実施形態例１と同様に電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。黒色プレートの表面温度は２分後に３０５℃まで昇温し, １０分経過後に１１０℃になった。
【００６５】
参考例１
本例の電磁調理用プレートは，茶色の釉薬をペタライト磁器からなるプレート基体に焼き付けたことを特徴とする。
【００６６】
本例の電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，実施形態例１と同様に, ペタライト５５．０重量％, 木節粘土４０．０重量％, 亜鉛華３．０重量％, 及びセリサイト２．０重量％に，外掛けで水３５重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．２重量％を加えて，約１８時間混合粉砕して，鋳込み用のスリップを作製した。
【００６７】
このスリップを焼成寸法がφ１９０ｍｍの円形状となるように作製した石膏型に流し込むことにより形を作った。この成形品を乾燥後, 昇温速度２００℃／時間で１２５０℃まで昇温し, ２時間保持後に室温まで８時間で冷却して，ペタライト磁器からなるプレート基体を得た。
【００６８】
また，茶色釉薬を調製した。即ち，この茶色釉薬は, ペタライト７５．０重量％, 炭酸カルシウム８．０重量％, マグネサイト２．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土５．０重量％, 亜鉛華２．０重量％, 及び茶色顔料５．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 専用の消泡剤０．１重量％を加えて約１２時間混合粉砕して作製した。
【００６９】
ここで使用した茶色顔料は，主成分が６０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ３０．０重量％のＺｎＯと, ５．０重量％のＡｌ2 Ｏ3 と, ５．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕したものである。この茶色顔料の平均粒径は２〜５μｍである。
【００７０】
上記のプレート基体の表面に，茶色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍとなるようにした。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１１５０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで７時間で冷却した。これにより，プレート基体に釉薬を焼き付けた。
【００７１】
また，銀ペーストを調製した。銀ペーストは，平均粒径０．５μｍの粒子状銀粉末３０．０重量％，平均粒径１５．０μｍのフレーク状銀粉末６０．０重量％, 及びガラスフリット１０．０重量％に，アクリル系バインダー３５．０重量％加えて混練して，調製した。上記のガラスフリットは，５０．０重量％ＰｂＯと，１０．０重量％Ｂ2 Ｏ3 と，３０．０重量％ＳｉＯ2 と，８．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 と，２．０重量％Ｌｉ2 Ｏとからなる。
【００７２】
得られた銀ペーストを印刷しやすい粘度までブチルカルビトールアセテートで希釈した。希釈した銀ペーストを, スクリーン印刷で焼付後の厚みが２５．０〜３０．０μｍとなるように実施形態例１で用いた転写紙用の紙に印刷し, そのうえに転写用のアルリル系フィルムを印刷して，転写紙を作製した。
【００７３】
次いで，施釉したプレート基体の底部に，銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付けて，銀被膜を形成した。
これにより，ペタライト磁器製の茶色の電磁調理用プレートを得た。この重量は，３８０ｇと非常に軽かった。
【００７４】
次に, このペタライト磁器製の茶色の電磁調理用プレートについて，電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。松下電器製電磁調理器ＫＺ−Ｐ８（電源１００Ｖ，最高出力１４００Ｗ）の上に上記電磁調理用プレートを載置し, 最大電力で１分３０秒間加熱した。その時のプレート表面温度を測定した。電磁調理用プレートの表面温度は１８０℃まで昇温した。
【００７５】
次に, 電磁調理用プレートを加熱後，木台に載せて室温でそのまま静置した時の１０分経過後の表面温度を測定した。表面温度は７０℃となった。
この結果, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性及び保温性について問題がなかった。
【００７６】
参考例２
本例の電磁調理用プレートは，茶色の釉薬を結晶化ガラスからなるプレート基体に焼き付けたことを特徴とする。
【００７７】
本例の電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，実施形態例２と同様に, ４．５重量％Ｌｉ2 Ｏ, ６５．５重量％ＳｉＯ2 , ２２．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 , ０．５重量％Ｎａ2 Ｏ, ０．３重量％Ｋ2 Ｏ, ０．５重量％ＭｇＯ, ２．０重量％ＴｉＯ2 , ２．５重量％ＺｒＯ2 , １．０重量％Ｐ2 Ｏ5 , １．２重量％Ａｓ2 Ｏ3 の組成になるように調整された原料粉末を約１７００℃の高温で溶融し, １４００℃の温度で板状にロール成形し, その後ゆっくり徐冷した。
【００７８】
この成形品を所定のサイズφ１９０ｍｍに切断後, 約７００℃の温度で一旦加熱して，ＺｒＯ2 ・ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 などの結晶核を十分に生成させ, 約１１００℃の温度でβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶を生成させて，低膨張の結晶化ガラスからなるプレート基体を得た。
【００７９】
また，茶色の釉薬を調製した。即ち，茶色釉薬は, ペタライト７６．０重量％, 炭酸カルシウム１０．０重量％, マグネサイト３．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土３．０重量％, 及び茶色顔料５．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 専用の消泡剤０．１重量％を加えて約１２時間混合粉砕して作製した。
【００８０】
ここで使用した茶色顔料は，主成分が６０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ３０．０重量％のＺｎＯと, ５．０重量％のＡｌ2 Ｏ3 と, ５．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕したものである。この茶色顔料の平均粒径は２〜５μｍであった。
【００８１】
得られたプレート基体の表面に茶色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍである。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１０８０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで６時間で冷却した。
これにより，プレート基体の表面に釉薬を焼き付けた。
【００８２】
この施釉したプレート基体の底部に，銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付け，銀被膜を形成した。この銀転写紙は，実施形態例１に使用したものと同様である。
これにより，本例の結晶化ガラス製の茶色の電磁調理用プレートを得た。この重量は３７０ｇと非常に軽かった。
【００８３】
次に, この結晶化ガラス製の茶色の電磁調理用プレートについて，実施形態例１と同じ条件で電磁調理器により発熱試験を行った。この電磁調理用プレートの表面温度は２分後に１９０℃まで昇温した。次に，電磁調理用プレートを加熱後陶磁器製の皿に載せて室温でそのまま静置した時の１０分経過後の表面温度を測定した。表面温度は７５℃となった。
この結果, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性及び保温性について問題がなかった。
【００８４】
なお，上記の実施形態例１，２，及び比較例１，２の電磁調理用プレートの重量，及び発熱試験，保温試験の結果を，表１にまとめて示した。
【００８５】
【表１】
【００８６】
【発明の効果】
本発明によれば，電磁調理が可能で，かつ軽量で長期間使用でき，保温性に優れた電磁調理用プレートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態例１の電磁調理用プレートの断面説明図。
【符号の説明】
１．．．電磁調理用プレート，
２．．．プレート基体，
３．．．釉薬，
４．．．銀被膜，
【技術分野】
本発明は，電磁調理用プレート，特に軽量で熱容量の大きい電磁調理用プレートに関する。
【０００２】
【従来技術】
レストランやステーキ専門店などではステーキやハンバーグなどを載せるための皿として，黒色の鉄製のプレートが用いられている。鉄製のプレートは，表面が黒色の耐熱塗料で被覆されていることが多い。
このプレートは，例えば，調理している間に電磁調理器により加熱しておき、料理を盛りつけて木台や陶磁器製の受け皿に載せ，それをウエイトレスがお客様の所まで運び、その場でステーキソースやハンバーグソースをかけて料理を食べるという使われ方をしている。
【０００３】
このような加熱したプレートを使用すると，料理のできたて感を演出することができる。特に，お客様の前でステーキソースやハンバーグソースをかけると音を立て，いいにおいを発するために, おいしさを更にアピールできることになる。また, 熱いプレートに載せることにより, ステーキやハンバーグ等の料理を食べ終わるまで冷めにくくすることにも寄与している。
【０００４】
【解決しようとする課題】
しかしながら，鉄製のプレートのような熱容量の小さい材料では，料理を上記のように冷めにくくするためには, プレートの肉厚を厚くする必要がある。そのため，鉄製のプレートは非常に重くなってしまう。
また，鉄製のプレートに料理を盛りつけて, 木台や陶磁器製の受け皿に載せた状態では，プレート全体の重さは更に重くなる。そのため，サービスするウエイトレスは腕，手に腱鞘炎を起こすことがあり, ウエイトレスの仕事環境を悪化させ，定着率にも問題が生じる原因となる。そのため, この重い鉄製のプレートを軽くすることは，重要な課題となっている。
【０００５】
また, 鉄製のプレートは，表面を黒色の耐熱塗料で被覆しているが, その耐熱塗料が剥げると下地の鉄がさび，長期間使用できないという問題点がある。
【０００６】
そこで，プレートを軽量にするために，アルミニウム製のプレートを使うことが考えられる。しかし，アルミニウムは銀色を呈し，また電磁調理器ではアルミニウム製のプレートを加熱することができない。
そのため，アルミニウム製のプレートの表面を黒色にし，電磁調理器に使えるようにするために，鉄粉を溶射する必要があり，そうとするとプレートの値段がかなり高くなる。また，アルミニウムは鉄よりも比熱が小さい。そのため，アルミニウム製のプレートは，鉄製のプレートと同程度に厚くしても，蓄熱性が悪く，プレートが冷めやすくなる。従って, アルミニウム製のプレートは，軽量ではあるが，保温性に劣るという問題がある。
【０００７】
本発明はかかる従来の問題点に鑑み，電磁調理が可能で，かつ軽量で長期間使用でき，保温性に優れた電磁調理用プレートを提供しようとするものである。
【０００８】
【課題の解決手段】
請求項１の発明は，結晶化ガラス又は陶磁器からなるプレート基体と，該プレート基体の表面を被覆してなる釉薬と，上記プレート基体の底部に焼き付けてなる銀被膜とからなり，かつ，上記釉薬は黒色顔料を含有していることを特徴とする電磁調理用プレートである。
【０００９】
次に，本発明の作用及び効果について説明する。
本発明の電磁調理用プレートは，プレート基体として結晶化ガラス又は陶磁器を用いている。結晶化ガラス及び陶磁器は，ともに鉄よりも比重が小さく，また比熱が大きい。そのため，従来の鉄製のプレートよりも，保温性が良く，かつ，軽量の電磁調理用プレートを得ることができる。
【００１０】
また，プレート基体の底部には，銀被膜を形成している。銀被膜は，電磁力により発熱し，プレート基体を加熱する。そのため，プレート基体の上に料理を載せた状態で，銀被膜に電磁力を与えると，銀被膜の発熱によって料理を調理することができる。従って，本発明の電磁調理用プレートは，電磁調理に用いることができる。
【００１１】
また，プレート基体の表面は，釉薬により被覆されている。釉薬は，プレート基体の中に水が浸入することを防止する。それゆえ，プレート基体の表面に水が付着した状態で電磁調理をした場合にも，プレート基体の中に水は浸入せず，プレート基体にクラックが発生することはない。特に，プレート基体として陶磁器を用いた場合には，釉薬を被覆することによる耐水性効果は高い。
従って，本発明の電磁調理用プレートは，耐熱衝撃性に優れ，長期間使用することができる。
【００１２】
上記プレート基体は，結晶化ガラス又は陶磁器からなる。
上記結晶化ガラスは，ペタライトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 , スポジューメンＬｉ 2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 , 炭酸リチウムＬｉ2 ＣＯ3 , 粘土Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ・２Ｈ2 Ｏ, ソーダ長石Ｎａ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , カリ長石Ｋ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , マグネサイトＭｇＣＯ 3 , 酸化チタンＴｉＯ2 , 酸化ジルコニウムＺｒＯ2 , 五酸化二リンＰ2 Ｏ5 , 酸化砒素Ａｓ2 Ｏ3 などの原料を準備する。
【００１３】
次いで，これらの原料を，約１７００℃の高温で溶融し, １３００〜１５００℃の温度でロール成形やプレス成形などにより形を作り, その後通常のガラスと同様に徐冷する。この時成形されたガラスには結晶が生成していない。そのため，このガラスの熱膨張は４．０〜５．０×１０-6／℃と大きい。そこで，次に，このガラスを結晶化処理して，低膨張性にする。
【００１４】
即ち，結晶化処理の温度が６５０〜８００℃の温度で一旦加熱すると，ＺｒＯ2 ・ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 などの結晶核が約０．００５μｍの大きさで生成する。そして，結晶化処理の温度が８５０〜９００℃の場合には，上記結晶核を中心としてその周りにβ−石英あるいはβ−ユークリプタイトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 結晶が約０．１μｍの大きさで生成する。更に，高温の１０５０〜１２００℃で結晶化処理を行う場合には，β−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶が約１．０μｍの大きさで生成する。
【００１５】
上記の各種温度による結晶化処理の中，８５０〜９００℃の温度で行う場合には，β−石英あるいはβ−ユークリプタイト結晶が生成し，これらの結晶は温度が上昇すると縮むという特性である。そのため，これらの結晶の縮みは，結晶化ガラスの中の残存ガラスの膨張と打ち消し合って，結晶化ガラスは全体としてほとんど膨張しない。しかも，この結晶の大きさは約０．１μｍであり，人間の目で見える光つまり可視光線の波長（約０．５〜０．７μｍ）より小さく, この結晶と残存ガラスとの屈折率が近いことから，光が散乱せずに透明となる。
【００１６】
また，結晶化処理を１０５０〜１２００℃の温度で行った場合には，β−スポジューメンが生成する。β−スポジューメンが生成した結晶化ガラスは，熱膨張が小さい（例えば，１．１×１０-6／℃）。この結晶の大きさは約１．０μｍであるので可視光線の波長より大きく，可視光を通さず, 白色の陶磁器のような外観となる。しかもこの結晶は緻密に生成し, 結晶生成率は９０〜９５％であることから，機械的強度，具体的には，曲げ強度が１５００ｋｇｆ／ｃｍ2 と大きい。
【００１７】
また，上記陶磁器としては，例えば，Ｌｉ2 Ｏ系のペタライト陶磁器，スポジューメン系陶磁器を用いることが好ましい。これらの熱膨張は，０．１〜２．５×１０-6／℃と非常に小さいからである。
【００１８】
これらの陶磁器を製造するに当たっては，例えば，ペタライトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 , スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 , 粘土Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ・２Ｈ2 Ｏ, 亜鉛華ＺｎＯ, セリサイトＫ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 などの原料を準備する。次いで，この原料に水及び解こう剤を混合し，粉砕して, 鋳込み成形用のスリップ又はろくろ成形用の練土を作製する。
【００１９】
次いで，スリップ又は練土を鋳込み成形又はろくろ成形して，所望の形を作り, 乾燥後１１００〜１３００℃の温度で焼成する。この時, 素地内部に低膨張のβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶が生成し, アルカリ金属酸化物，具体的にはＬｉ2 Ｏ，Ｎａ2 Ｏ, Ｋ2 ＯやＺｎＯなどとＡｌ2 Ｏ3 , ＳｉＯ2 との反応により生成するガラス成分が低膨張のβ−スポジューメン結晶を結合するような組織となる。そのため, 得られた陶磁器は，上記のごとく低膨張性となる。
【００２０】
また, 本発明における陶磁器としては，上記のペタライト磁器やスポジューメン磁器以外でも, 各種低膨張磁器を使用することができる。具体的には，コーディエライト２ＭｇＯ・２Ａｌ2 Ｏ3 ・５ＳｉＯ2 , リン酸ジルコニウム（ＺｒＯ）2 Ｐ2 Ｏ7 , チタン酸アルミウムＡｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＯ2 , チタン酸マグネシウムＭｇＯ・ＴｉＯ2 , セルシアンＢａＯ・Ａｌ2 Ｏ3 ・ＳｉＯ2 磁器を用いることができる。
【００２１】
請求項２の発明のように，上記プレート基体は，β−スポジューメン結晶を有することが好ましい。β−スポジュメン結晶は，低熱膨張性結晶である。そのため，結晶化ガラス又は陶磁器からなるプレート基体は，殆ど熱膨張せず，電磁調理での急激な加熱に耐えることができる。それゆえ，電磁調理用プレートの耐熱性，耐熱衝撃性をより高くすることができる。
【００２２】
請求項３の発明のように，上記釉薬は，β−スポジューメン結晶を有することが好ましい。これにより，釉薬の熱膨張を抑制することができ，電磁調理での加熱に耐えることができる。
【００２３】
そして，上記釉薬は，黒色顔料を含有している。表面を黒色顔料により黒色に着色すれば，従来の鉄製のプレートに近い外観を得ることができる。
上記黒色顔料としては，例えば，Ｃｒ２Ｏ３−ＭｎＯ２−Ｆｅ２Ｏ３−Ｃｏ３Ｏ4−ＮｉＯ−ＣｕＯ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系の黒色顔料などを用いることができる。
【００２４】
上記黒色顔料を用いて，黒色の釉薬を調製するに当たっては，上記黒色顔料に，低膨張性結晶形成剤，溶融剤，結晶化剤を添加し，これに水, 解こう剤, 増粘剤, 消泡剤などを混合し，粉砕して, スプレー掛け用の釉薬を作製する。
【００２５】
上記低膨張性結晶形成剤としては，例えば，アルカリ金属酸化物，アルカリ土類金属酸化物，具体的には，ペタライトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・８ＳｉＯ2 , スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 , ユークリプタイトＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 , 粘土Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ・２Ｈ2 Ｏ等を用いることができる。
【００２６】
上記溶融剤としては，例えば，Ｎａ2 Ｏ−Ｋ2 Ｏ−ＭｇＯ−ＣａＯ−ＢａＯ−ＺｎＯ系の溶融剤，具体的には，ソーダ長石Ｎａ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , カリ長石Ｋ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・６ＳｉＯ2 , マグネサイトＭｇＣＯ3 , 炭酸カルシウムＣａＣＯ3 , 炭酸バリウムＢａＣＯ3 , 亜鉛華ＺｎＯ等を用いることができる。
上記結晶化剤としては，例えば，酸化チタンＴｉＯ2 , 酸化ジルコニウムＺｒＯ2 等を用いることができる。
【００２７】
上記釉薬は，例えば，上記低膨張の陶磁器の表面にスプレー掛けにて施釉し, １０５０〜１２５０℃の温度で焼成する。この時, 低膨張性結晶形成剤，具体的にはＬｉ2 Ｏ，Ｎａ2 Ｏ, Ｋ2 Ｏ, ＭｇＯ，ＣａＯ，ＢａＯやＺｎＯなどの修飾酸化物と，Ａｌ2 Ｏ3 , ＳｉＯ2 等の中間酸化物又は網目形成酸化物との反応により，ガラス成分中に結晶化剤（例えば，ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 ）を核にして，低膨張のβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶が生成し, ガラス中に低膨張結晶が析出した組織となる。そのため, この釉薬は０．２〜２．７×１０-6／℃の低膨張となる。
【００２８】
請求項４の発明のように，上記銀被膜は，金属銀粉末と，ガラスフリットと，バインダーとからなる銀ペーストを，上記プレート基体に対して焼き付けてなることが好ましい。
上記フレーク状銀粉末は，粒子状銀粉末を粉砕することにより銀粒子が押しつぶされて結合し，フレーク状に大きくなったものである。そのため，フレーク状銀粉末の銀粒子間は，粒子状銀粉末よりも緻密となり，含有空気量も少ない。
【００２９】
また，上記フレーク状銀粉末は，金属銀粉末中に５０％以上と多量に含有させることが好ましい。これにより，金属銀粉末中の含有空気量が減少する。そのため，銀ペーストをプレート基体に焼き付けた場合には，僅かな含有空気が外部に逃げるのみである。
【００３０】
そのため，得られた銀被膜には，クラックやちぢれが生じない。それ故，銀ペーストの印刷面積の大小にかかわらず，収縮量が少なく，クラックやちぢれのない銀被膜を形成することができる。従って，広い面積を有する電磁調理用容器の底部である基板に，クラックやちぢれのない銀被膜を形成することができる。
また，銀被膜は，滑らかな連続膜となり，優れた電気的導通性を発揮する。
【００３１】
また，銀ペーストを用いる場合には，焼き付け時の昇温降温パターンが急激で，短時間焼成を行なう場合にも，上記クラックやちぢれが生じない。
したがって，プレート基体の底部に，クラックやちぢれを発生させることなく，広い面積に渡って銀被膜を形成することができる。
【００３２】
上記金属銀粉末に含まれる粒子状粉末の大きさは０．４〜０．８μｍであり，また，フレーク状銀粉末の大きさは５．０〜３０．０μｍであることが好ましい。これにより，空気含有量の少ない銀被膜を形成することができ，銀被膜のクラックやちぢれを防止することができる。
【００３３】
上記ガラスフリットとしては，例えば，ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 系又はＮａ2 Ｏ−ＣａＯ−ＳｉＯ2 系のものを用いることができる。上記ガラスフリットの粒径は，３〜５μｍであることが好ましい。これにより，銀ペーストがプレート基体に対して強固に接着する。
上記バインダーとしては，例えば，アクリル系, メタクリル系, セルロース系等の有機バインダー等を用いることができる。
【００３４】
上記銀ペーストは，例えば，上記プレート基体の底部にスクリーン印刷し, 焼き付ける。銀ペーストの焼き付け温度は，例えば，７５０〜８５０℃である。
【００３５】
また, 上記銀ペーストより銀転写紙をあらかじめ作製し, これを上記プレート基体の底部に貼着し, 焼き付けることもできる。この場合には, 裏面は水が吸い込みやすく, 表面に水性の糊が塗りつけてある転写紙用の紙の表面に, 上記銀ペーストを焼付後の厚みが２０〜５０μｍとなるように制御してスクリーン印刷し, その上に転写用のアクリル系フィルムを印刷して銀転写紙を作製する。この銀転写紙をプレート基体の底部に転写し, 焼き付ける。焼付温度は，例えば，７５０〜８５０℃である。
【００３６】
上記銀被膜の焼付後の厚みは，２０〜５０μｍであることが好ましい。これにより，銀被膜がプレート基体に対して強固に接着する。
【００３７】
請求項５の発明のように，上記銀被膜は，オーバーコートガラスにより被覆されていることが好ましい。これにより，銀被膜に，摩擦，引っ掻きなどの外力により損傷を与えることを抑制することができ，長期間使用することができる。また，銀被膜をプレート基体に対してより強固に接着させることができる。
【００３８】
オーバーコートガラスの焼付後の厚みは５〜１５μｍであることが好ましい。これにより，銀被膜の接着強度を更に高めることができる。
オーバーコートガラスの焼付温度は，上記銀被膜と同様に７５０〜８５０℃であり, 上記銀被膜と同時焼付も可能である。また, 転写紙作製時に銀ペーストの上にオーバーコートガラスを重ねて印刷することも可能である。
【００３９】
本発明に係る請求項１〜５の電磁調理用プレートは，レストランにおいて接客用の皿として用いることができる。レストランにおいては，ハンバーグ，ステーキ等の料理を，上記電磁調理用プレートに載せて提供する。電磁調理用プレートは上記のごとく軽量で，かつ保温性に優れているため，サービスするウエイトレスは腱鞘炎を起こすこともなくなり, ウエイトレスの仕事環境を大幅に改善することができる。
【００４０】
また, 本発明の電磁調理用プレートに料理を盛りつけて電磁調理器により加熱して, レストランなどで使用されている木製の受け皿などにはめ込んで用いると, 温かい料理を簡単に客に提供することができる。
また，一般家庭においても，本発明の電磁調理用プレートを用いて温かい料理を簡単に提供することができる。
【００４１】
更に，上記プレート基体は，上記皿の他に，碗，鍋，フライパン等の容器として用いることができる。
【００４２】
【発明の実施の形態】
実施形態例１
本発明の実施形態例に係る電磁調理用プレートについて，図１を用いて説明する。
本例の電磁調理用プレート１は，図１に示すごとく，結晶化ガラスからなるプレート基体２と，プレート基体２の表面を被覆してなる黒色の釉薬３と，プレート基体の底部に焼き付けてなる銀被膜４とからなる。
【００４３】
本例の電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，４．５重量％Ｌｉ2 Ｏ, ６５．５重量％ＳｉＯ2 , ２２．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 , ０．５重量％Ｎａ2 Ｏ, ０．３重量％Ｋ2 Ｏ, ０．５重量％ＭｇＯ, ２．０重量％ＴｉＯ2 , ２．５重量％ＺｒＯ2 , １．０重量％Ｐ2 Ｏ5 , １．２重量％Ａｓ2 Ｏ3 の組成になるように原料粉末を調製した。
【００４４】
この原料粉末を約１７００℃の高温で溶融し, １４００℃の温度でプレス成形し, その後ゆっくり徐冷した。この成形品を約７００℃の温度で一旦加熱して十分ＺｒＯ2 ・ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 などの結晶核を生成させ, 続いて約１１００℃の温度でβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶を生成させて，低膨張の結晶化ガラスからなるプレート基体を得た。
【００４５】
また，黒色釉薬を調製した。即ち，黒色釉薬は, ペタライト７２．０重量％, 炭酸カルシウム１０．０重量％, マグネサイト３．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土３．０重量％, 及び黒色顔料９．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 消泡剤０．１重量％を加えて，約１２時間混合粉砕して作製した。
【００４６】
ここで使用した黒色顔料は，主成分が２０．０重量％Ｃｒ2 Ｏ3 と, ３０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ３５．０重量％のＣｏ3 Ｏ4 と，５．０重量％のＮｉＯと, ６．０重量％のＡｌ 2 Ｏ3 と, ４．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕した。この黒色顔料の平均粒径は２〜５μｍであった。
【００４７】
次いで，上記のプレート基体の表面に，上記の黒色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍとした。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１０８０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで６時間で冷却した。
【００４８】
また，銀ペーストを調製した。銀ペーストは，平均粒径０．５μｍの粒子状銀粉末３０．０重量％，平均粒径１５．０μｍのフレーク状銀粉末６０．０重量％, 及びガラスフリット１０．０重量％に，外掛けでアクリル系バインダー３５．０重量％加えて混練して調製した。ガラスフリットの成分は，５０．０重量％ＰｂＯと，１０．０重量％Ｂ2 Ｏ3 と，３０．０重量％ＳｉＯ2 と，８．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 と，２．０重量％Ｌｉ2 Ｏとからなる。
【００４９】
得られた銀ペーストを印刷しやすい粘度までブチルカルビトールアセテートで希釈し，焼付後の厚みが２５．０〜３０．０μｍとなるように転写紙用の紙に印刷した。この紙の表面には水性の糊が塗り付けてあり，また裏面は吸水性である。
次いで，銀ペーストの表面に, 転写用のアクリル系フィルムを印刷して，銀転写紙を作製した。
【００５０】
次いで，上記結晶化ガラスからなるプレート基体の底部に，上記銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付けて，銀被膜を形成した。
得られた結晶化ガラス黒色製の電磁調理用プレートは，４００ｇと非常に軽かった。
【００５１】
一方，比較のために，後述するごとく，同一形状の鋳鉄製の電磁調理用プレート（比較例１）を製造した。この鋳鉄製の電磁調理用プレートは，１０３０ｇであった。
【００５２】
次に, 本例のペタライト磁器黒色製の電磁調理用プレートについて，電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。
発熱試験は，三洋電機製電磁調理器ＴＩＣ−Ｄ２０２（電源が２００Ｖ，最高出力２０５０Ｗ）の上に上記電磁調理用プレートを載置し, 最大電力で２分間した。その時の電磁調理用プレートの表面温度を測定した。その結果，この電磁調理用プレートの表面温度は３０５℃まで昇温した。
【００５３】
次に, 加熱後室温でそのまま静置した時の，１０分経過後の電磁調理用プレートの表面温度を測定して，保温試験を行った。その結果，電磁調理用プレートの表面温度は１２０℃であった。
以上より, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性及び保温性に優れていることがわかった。
【００５４】
実施形態例２
本例の電磁調理用プレートは，ペタライト磁器からなるプレート基体の表面に，黒色の釉薬が焼き付けてある。
【００５５】
次に，上記電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，ペタライト５５．０重量％, 木節粘土４０．０重量％, 亜鉛華３．０重量％, セリサイト２．０重量％に，外掛けで水３５重量％, 及びポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．２重量％を加えて，約１８時間混合粉砕して鋳込み用のスリップを作製した。このスリップを焼成寸法が２３０ｍｍ×１７０ｍｍの楕円（小判型）の形状となるように作製した石膏型に流し込むことにより形を作った。この成形品を乾燥後, 昇温速度２００℃／時間で１２５０℃まで昇温し, ２時間保持後に，室温まで８時間で冷却した。これにより，ペタライト磁器からなるプレート基体を得た。
【００５６】
また，黒色釉薬を調製した。即ち，黒色釉薬は, ペタライト７０．０重量％, 炭酸カルシウム８．０重量％, マグネサイト２．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土５．０重量％, 亜鉛華２．０重量％, 及び黒色顔料１０．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 専用の消泡剤０．１重量％を加えて，約１２時間混合粉砕して作製した。
【００５７】
ここで使用した黒色顔料は，主成分が２０．０重量％Ｃｒ2 Ｏ3 と, ４０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ２５．０重量％のＣｏ3 Ｏ4 と，５．０重量％のＮｉＯと, ６．０重量％のＡｌ 2 Ｏ3 と, ４．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕したものである。この黒色顔料の平均粒径は２〜５μｍである。
【００５８】
次いで，上記プレート基体の表面に，上記の黒色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍとした。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１１５０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで７時間で冷却した。これにより，プレート基体の表面に釉薬を焼き付けた。
【００５９】
上記のプレート基体の底部に，実施形態例１と同様の銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付けた。これにより，プレート基体の底部に銀被膜を形成した。
以上により，本例のペタライト磁器黒色製の電磁調理用プレートを得た。この電磁調理用プレートの重量は４２０ｇと非常に軽かった。
一方，同一形状の鋳鉄製の電磁調理用プレート（比較例１）は，１０３０ｇであった。
【００６０】
次に, この結晶化ガラス製の黒色の電磁調理用プレートについて，実施形態例１と同じ条件で，電磁調理器により発熱試験及び保温試験を行った。電磁調理用プレートの表面温度は２分後に２５０℃まで昇温し, １０分経過後に１０５℃になった。
このことから, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性，及び保温性に優れていることが分かった。
【００６１】
比較例１
本例の電磁調理用プレートは，市販の鋳鉄製の黒色プレートである。
本比較例の電磁調理用プレートの形状（２３０ｍｍ×１７０ｍｍの楕円形状）は，上記実施形態例１のものと同様である。この電磁調理用プレートの重量は１０３０ｇであった。
【００６２】
また, この鋳鉄製の電磁調理用プレートについて，実施形態例１と同様に電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。その結果，鋳鉄製の電磁調理用プレートの表面温度は２分後に２９５℃まで昇温し, １０分経過後に１２０℃になった。
【００６３】
比較例２
本例の電磁調理用プレートは，アルミニウム鋳物である。
上記電磁調理用プレートは，アルミニウム鋳物の黒色プレート（市販品）であり，その形状は実施形態例１と同一形状（２３０ｍｍ×１７０ｍｍの楕円形状）である。このプレートの裏面には，鉄粉溶射が施されており電磁調理器に使用できるようにしてある。
【００６４】
上記アルミニウム鋳物の黒色プレートの重量は４８０ｇであった。
次に, この黒色プレートについて実施形態例１と同様に電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。黒色プレートの表面温度は２分後に３０５℃まで昇温し, １０分経過後に１１０℃になった。
【００６５】
参考例１
本例の電磁調理用プレートは，茶色の釉薬をペタライト磁器からなるプレート基体に焼き付けたことを特徴とする。
【００６６】
本例の電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，実施形態例１と同様に, ペタライト５５．０重量％, 木節粘土４０．０重量％, 亜鉛華３．０重量％, 及びセリサイト２．０重量％に，外掛けで水３５重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．２重量％を加えて，約１８時間混合粉砕して，鋳込み用のスリップを作製した。
【００６７】
このスリップを焼成寸法がφ１９０ｍｍの円形状となるように作製した石膏型に流し込むことにより形を作った。この成形品を乾燥後, 昇温速度２００℃／時間で１２５０℃まで昇温し, ２時間保持後に室温まで８時間で冷却して，ペタライト磁器からなるプレート基体を得た。
【００６８】
また，茶色釉薬を調製した。即ち，この茶色釉薬は, ペタライト７５．０重量％, 炭酸カルシウム８．０重量％, マグネサイト２．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土５．０重量％, 亜鉛華２．０重量％, 及び茶色顔料５．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 専用の消泡剤０．１重量％を加えて約１２時間混合粉砕して作製した。
【００６９】
ここで使用した茶色顔料は，主成分が６０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ３０．０重量％のＺｎＯと, ５．０重量％のＡｌ2 Ｏ3 と, ５．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕したものである。この茶色顔料の平均粒径は２〜５μｍである。
【００７０】
上記のプレート基体の表面に，茶色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍとなるようにした。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１１５０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで７時間で冷却した。これにより，プレート基体に釉薬を焼き付けた。
【００７１】
また，銀ペーストを調製した。銀ペーストは，平均粒径０．５μｍの粒子状銀粉末３０．０重量％，平均粒径１５．０μｍのフレーク状銀粉末６０．０重量％, 及びガラスフリット１０．０重量％に，アクリル系バインダー３５．０重量％加えて混練して，調製した。上記のガラスフリットは，５０．０重量％ＰｂＯと，１０．０重量％Ｂ2 Ｏ3 と，３０．０重量％ＳｉＯ2 と，８．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 と，２．０重量％Ｌｉ2 Ｏとからなる。
【００７２】
得られた銀ペーストを印刷しやすい粘度までブチルカルビトールアセテートで希釈した。希釈した銀ペーストを, スクリーン印刷で焼付後の厚みが２５．０〜３０．０μｍとなるように実施形態例１で用いた転写紙用の紙に印刷し, そのうえに転写用のアルリル系フィルムを印刷して，転写紙を作製した。
【００７３】
次いで，施釉したプレート基体の底部に，銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付けて，銀被膜を形成した。
これにより，ペタライト磁器製の茶色の電磁調理用プレートを得た。この重量は，３８０ｇと非常に軽かった。
【００７４】
次に, このペタライト磁器製の茶色の電磁調理用プレートについて，電磁調理器により発熱試験, 及び保温試験を行った。松下電器製電磁調理器ＫＺ−Ｐ８（電源１００Ｖ，最高出力１４００Ｗ）の上に上記電磁調理用プレートを載置し, 最大電力で１分３０秒間加熱した。その時のプレート表面温度を測定した。電磁調理用プレートの表面温度は１８０℃まで昇温した。
【００７５】
次に, 電磁調理用プレートを加熱後，木台に載せて室温でそのまま静置した時の１０分経過後の表面温度を測定した。表面温度は７０℃となった。
この結果, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性及び保温性について問題がなかった。
【００７６】
参考例２
本例の電磁調理用プレートは，茶色の釉薬を結晶化ガラスからなるプレート基体に焼き付けたことを特徴とする。
【００７７】
本例の電磁調理用プレートの製造方法について説明する。
まず，実施形態例２と同様に, ４．５重量％Ｌｉ2 Ｏ, ６５．５重量％ＳｉＯ2 , ２２．０重量％Ａｌ2 Ｏ3 , ０．５重量％Ｎａ2 Ｏ, ０．３重量％Ｋ2 Ｏ, ０．５重量％ＭｇＯ, ２．０重量％ＴｉＯ2 , ２．５重量％ＺｒＯ2 , １．０重量％Ｐ2 Ｏ5 , １．２重量％Ａｓ2 Ｏ3 の組成になるように調整された原料粉末を約１７００℃の高温で溶融し, １４００℃の温度で板状にロール成形し, その後ゆっくり徐冷した。
【００７８】
この成形品を所定のサイズφ１９０ｍｍに切断後, 約７００℃の温度で一旦加熱して，ＺｒＯ2 ・ＴｉＯ2 , ＺｒＯ2 などの結晶核を十分に生成させ, 約１１００℃の温度でβ−スポジューメンＬｉ2 Ｏ・Ａｌ2 Ｏ3 ・４ＳｉＯ2 結晶を生成させて，低膨張の結晶化ガラスからなるプレート基体を得た。
【００７９】
また，茶色の釉薬を調製した。即ち，茶色釉薬は, ペタライト７６．０重量％, 炭酸カルシウム１０．０重量％, マグネサイト３．０重量％, 炭酸バリウム３．０重量％, 木節粘土３．０重量％, 及び茶色顔料５．０重量％に，外掛けで水４０重量％, ポリカルボン酸アンモニウム系の解こう剤０．１重量％, メチルセルロース系増粘剤０．１重量％, 専用の消泡剤０．１重量％を加えて約１２時間混合粉砕して作製した。
【００８０】
ここで使用した茶色顔料は，主成分が６０．０重量％のＦｅ2 Ｏ3 と, ３０．０重量％のＺｎＯと, ５．０重量％のＡｌ2 Ｏ3 と, ５．０重量％のＳｉＯ2 とよりなり, これらの各種原料粉末を混合した後, ９００〜１０００℃で仮焼し, 粉砕後１２００〜１４００℃で焼成し, さらに微粉砕したものである。この茶色顔料の平均粒径は２〜５μｍであった。
【００８１】
得られたプレート基体の表面に茶色の釉薬をスプレー掛けした。釉薬の厚みは焼き上げ厚みで５０〜２５０μｍである。釉焼は昇温速度２００℃／時間で１０８０℃まで昇温し, １時間保持後に室温まで６時間で冷却した。
これにより，プレート基体の表面に釉薬を焼き付けた。
【００８２】
この施釉したプレート基体の底部に，銀転写紙を転写により貼り付けて, ８２０℃で焼き付け，銀被膜を形成した。この銀転写紙は，実施形態例１に使用したものと同様である。
これにより，本例の結晶化ガラス製の茶色の電磁調理用プレートを得た。この重量は３７０ｇと非常に軽かった。
【００８３】
次に, この結晶化ガラス製の茶色の電磁調理用プレートについて，実施形態例１と同じ条件で電磁調理器により発熱試験を行った。この電磁調理用プレートの表面温度は２分後に１９０℃まで昇温した。次に，電磁調理用プレートを加熱後陶磁器製の皿に載せて室温でそのまま静置した時の１０分経過後の表面温度を測定した。表面温度は７５℃となった。
この結果, 本例の電磁調理用プレートは，軽量で, 電磁調理器による昇温性及び保温性について問題がなかった。
【００８４】
なお，上記の実施形態例１，２，及び比較例１，２の電磁調理用プレートの重量，及び発熱試験，保温試験の結果を，表１にまとめて示した。
【００８５】
【表１】
【発明の効果】
本発明によれば，電磁調理が可能で，かつ軽量で長期間使用でき，保温性に優れた電磁調理用プレートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態例１の電磁調理用プレートの断面説明図。
【符号の説明】
１．．．電磁調理用プレート，
２．．．プレート基体，
３．．．釉薬，
４．．．銀被膜，
Claims (5)
- 結晶化ガラス又は陶磁器からなるプレート基体と，該プレート基体の表面を被覆してなる釉薬と，上記プレート基体の底部に焼き付けてなる銀被膜とからなり，かつ，上記釉薬は黒色顔料を含有していることを特徴とする電磁調理用プレート。
- 請求項１において，上記プレート基体は，β−スポジューメン結晶を有することを特徴とする電磁調理用プレート。
- 請求項１又は２において，上記釉薬は，β−スポジューメン結晶を有することを特徴とする電磁調理用プレート。
- 請求項１〜３のいずれか１項において，上記銀被膜は，金属銀粉末と，ガラスフリットと，バインダーとからなる銀ペーストを，上記プレート基体に対して焼き付けてなることを特徴とする電磁調理用プレート。
- 請求項１〜４のいずれか１項において，上記銀被膜は，オーバーコートガラスにより被覆されていることを特徴とする電磁調理用プレート。
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