JP3787177B2 - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は多層プリント配線板およびその製造方法に係り、特に高精細なパターンを有する多層プリント配線板と、このような多層プリント配線板を低コストで製造することができる製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体技術の飛躍的な発展により、半導体パッケージの小型化、多ピン化、ファインピッチ化、電子部品の極小化などが急速に進み、いわゆる高密度実装の時代に突入した。それに伴って、プリント配線板も片面配線から両面配線へ、さらに多層化、薄型化が進められている。
【0003】
現在、プリント配線板の銅パターンの形成には、主としてサブトラクティブ法と、アディティブ法が用いられている。
【0004】
サブトラクティブ法は、銅張り積層板に穴を開けた後に、穴の内部と表面に銅メッキを行い、フォトエッチングによりパターンを形成する方法である。このサブトラクティブ法は技術的に完成度が高く、またコストも安いが、銅箔の厚さ等による制約から微細パターンの形成は困難である。
【0005】
一方、アディティブ法は無電解メッキ用の触媒を含有した積層板上の回路パターン形成部以外の部分にレジストを形成し、積層板の露出している部分に無電解銅メッキ等により回路パターンを形成する方法である。このアディティブ法は、微細パターンの形成が可能であるが、コスト、信頼性の面で難がある。
【0006】
多層基板の場合には、上記の方法等で作製した片面あるいは両面のプリント配線板を、ガラス布にエポキシ樹脂等を含浸させた半硬化状態のプリプレグと一緒に加圧積層する方法が用いれている。この場合、プリプレグは各層の接着剤の役割をなし、層間の接続はスルーホールを作成し、内部に無電解メッキ等を施して行っている。
【0007】
また、高密度実装の進展により、多層基板においては薄型、軽量化と、その一方で単位面積当りの高い配線能力が要求され、一層当たりの基板の薄型化、層間の接続や部品の搭載方法等に工夫がなされている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のサブトラクティブ法により作製された両面プリント配線板を用いた多層基板の作製は、両面プリント配線板の穴形成のためのドリル加工の精度と、微細化限界の面から高密度化に限界があり、製造コストの低減も困難であった。
【0009】
一方、近年では上述のような要求を満たすものとして、基材上に導体パターン層と絶縁層とを順次積層して作製される多層配線板が開発されている。この多層配線板は、銅メッキ層のフォトエッチングと感光性樹脂のパターニングを交互に行って作製されるため、高精細な配線と任意の位置での層間接続が可能となっている。
【0010】
しかしながら、この方式では銅メッキとフォトエッチングを交互に複数回行うため、工程が煩雑となり、また、基板上に1層づつ積み上げる直列プロセスのため、中間工程でトラブルが発生すると、製品の再生が困難となり、製造コストの低減に支障を来していた。
【0011】
さらに、従来の多層配線板においては、層間の接続がバイアホールを作成することにより行われていたため、煩雑なフォトリソグラフィー工程が必要であり、製造コスト低減の妨げとなっていた。
【0012】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、高精細なパターンを有する多層プリント配線板と、このような多層プリント配線板をフォトリソグラフィー工程を含まず基板上への転写積層方式により製造することが可能な製造方法とを提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の多層プリント配線板の製造方法は、少なくとも表面が導電性の透明転写基板上に絶縁性材料からなるパターンを形成し、前記パターンの形成されていない部位にメッキ法により導電性層を形成し、さらに該導電性層上に絶縁層を形成し、その後、前記絶縁層を覆うように前記透明転写基板上にポジ型の粘着感光性樹脂層を形成し、前記透明転写基板の下側から光を照射し前記導電性層をマスクとして前記粘着感光性樹脂層を露光し現像することにより前記絶縁層上に樹脂層を形成して、前記導電性層、前記絶縁層および前記樹脂層を有する配線パターン層を設けた配線パターン層転写版を複数作製し、次に、多層プリント配線板用の基板の一方の面に前記樹脂層を介して前記配線パターン層転写版を圧着し、前記透明転写基板を剥離することにより前記配線パターン層を転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複数の前記配線パターン層を形成するような構成とした。
さらに、前記絶縁層は、電着法、電解重合法、およびフォトリソグラフィー法のいずれかにより形成するような構成とした。
【0017】
また、本発明の多層プリント配線板の製造方法は、少なくとも表面が導電性の透明転写基板上に絶縁性材料からなるパターンを形成し、前記パターンの形成されていない部位にメッキ法により導電性層を形成し、該導電性層を覆うように前記透明転写基板上にポジ型の粘着絶縁感光性樹脂層を形成し、前記透明転写基板の下側から光を照射し前記導電性層をマスクとして前記粘着絶縁感光性樹脂層を露光し現像することにより前記導電性層上に絶縁樹脂層を形成して、前記導電性層と前記絶縁樹脂層とを有する配線パターン層を設けた配線パターン層転写版を複数作製し、次に、多層プリント配線板用の基板の一方の面に前記絶縁樹脂層を介して前記配線パターン層転写版を圧着し、前記透明転写基板を剥離することにより前記配線パターン層を転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複数の前記配線パターン層を形成するような構成とした。
【0018】
さらに、本発明の多層プリント配線板の製造方法は、前記配線パターン層が相互に交差する部位および/または前記配線パターン層が近接する部位の必要箇所に、各配線パターン層を構成する導電性層相互間に跨がるように接合部を形成することにより配線パターン層相互間を接続するような構成とした。
【0019】
このような本発明の多層プリント配線板では、基板に形成された配線パターン層は導電性層、絶縁層および樹脂層からなる積層体、あるいは導電性層および絶縁樹脂層からなる積層体を備えた、いわゆる重ね刷り型の構造であり、各配線パターン層の導電性層は部分的に常に裸出されており、上記配線パターンの形成は、配線パターン層転写版上の配線パターン層を基板上に順次転写することにより行われるため、基板上におけるメッキおよびフォトエッチング工程は不要であり、多層配線板の製造工程の簡略化が可能となる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
【0021】
図1は本発明の多層プリント配線板の一例を示す概略断面図である。図1において、多層プリント配線板1は、絶縁性の基板2と、基板2上に設けられた第1層目の配線パターン層3と、この配線パターン層3上に形成された第2層目の配線パターン層4と、更に配線パターン層4上に形成された第3層目の配線パターン層5とを備た3層構成の多層プリント配線板である。
【0022】
この多層プリント配線板1を構成する各配線パターン層3,4,5は、それぞれ導電性層3a,4a,5aと、この導電性層の下部に形成された絶縁層3b,4b,5bおよび樹脂層3c,4c,5cとを有している。そして、多層プリント配線板1は、配線パターン層3を基板2の上に、また各配線パターン層4,5を下層の配線パターン層の上に順次転写した重ね刷り型の構造であり、各配線パターン層が相互に交差する部位(交差部)では、上下の配線パターン層間の絶縁は上層の配線パターン層を構成する絶縁層により保たれている。
【0023】
このため、本発明の多層プリント配線板1は、従来の多層プリント配線板に見られたような絶縁層による配線パターンの被覆がなく、各配線パターン層3,4,5の導電性層3a,4a,5aは部分的に常に裸出されており、後述するように、配線パターン層の交差部あるいは各配線パターン層が相互に近接する部位(近接部)における各配線パターン層相互の接続を容易に行うことができる。
【0024】
本発明の多層プリント配線板1を構成する基板2は、ガラスエポキシ基板、ポリイミド基板、アルミナセラミック基板、ガラスエポキシとポリイミドの複合基板等、多層プリント配線板用の基板として公知の基板を使用することができる。この基板2の厚さは5〜1000μmの範囲であることが好ましい。また、基板2として、ガラス布にエポキシ樹脂を含浸させた半硬化状態のプリプレグ基板を使用することもできる。
【0025】
各配線パターン層3,4,5の厚みは、後述する積層転写における下層の配線パターン層の乗り越えを欠陥なく行うために、100μm以下、好ましくは10〜60μmの範囲とする。また、各配線パターン層3,4,5を構成する導電性層3a,4a,5aの厚みは、配線パターン層の電気抵抗を低く抑えるため1μm以上、好ましくは5〜40μmの範囲とする。さらに、絶縁層3b,4b,5bの厚みは、交差部において上下の配線パターン層間の絶縁を保つために少なくとも1μm以上、好ましくは5〜50μmの範囲とする。また、樹脂層3c,4c,5cの厚みは、1〜100μm程度が好ましい。このような配線パターン層3,4,5の線幅は、最小幅10μm程度まで任意に設定することができる。
【0026】
導電性層3a,4a,5aの材料は、後述するようにメッキ法により薄膜形成が可能なものであれば特に制限はなく、例えば、銅、銀、金、ニッケル、クロム、亜鉛、すず、白金等を用いることができる。
【0027】
絶縁層3b,4b,5bは、従来公知の電気絶縁性の材料により形成することができる。
【0028】
また、樹脂層3c,4c,5cは、粘着感光性樹脂を硬化させたものである。樹脂層3c,4c,5cを形成するための粘着感光性樹脂としては、従来公知の感光性樹脂に、粘着性付与物質としてロジン系、テルペン系、石油樹脂系等の樹脂を添加したものを使用することができる。
【0029】
次に、上記の多層プリント配線板1を例にして図2乃至図5を参照しながら本発明の多層プリント配線板の製造方法を説明する。
【0030】
まず、表面に酸化インジウムスズ(ITO)等の透明導電膜11aを備えた透明転写基板11上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト層12を形成する。そして、所定のフォトマスクを用いてフォトレジスト層12を密着露光し現像して、透明転写基板11のうち配線パターン部分11bを露出させる(図2(A))。次に、透明転写基板11の配線パターン部分11b上にメッキ法により導電性層14を形成する(図2(B))。
【0031】
次に、導電性層14上に絶縁層15を形成する(図2(C))。この絶縁層15は、電着法、電解重合法、フォトリソグラフィー法等により形成することができる。
【0032】
電着法により導電性層14上に絶縁層15を形成する場合、絶縁性を有するアニオン性、またはカチオン性の合成高分子樹脂からなる電着性絶縁物質を使用することができる。具体的には、アニオン性合成高分子樹脂として、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン化油樹脂、ポリブタジエン樹脂、エポキシ樹脂等を単独で、あるいは、これらの樹脂の任意の組み合わせによる混合物として使用できる。さらに、上記のアニオン性合成高分子樹脂とメラミン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等の架橋性樹脂とを併用してもよい。
【0033】
また、カチオン性合成高分子樹脂として、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂等を単独で、あるいは、これらの任意の組み合わせによる混合物として使用できる。さらに、上記のカチオン性合成高分子樹脂とポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等の架橋性樹脂とを併用してもよい。
【0034】
上記の電着性絶縁物質には、絶縁性、耐熱性等の信頼性を高める目的で、ブロックイソシアネート等の熱重合性不飽和結合を有する公知の熱硬化性樹脂を添加し、多層プリント配線板の全層を転写形成後、熱処理によってすべての絶縁層を硬化させてもよい。勿論、熱硬化性樹脂以外にも、重合性不飽和結合(例えば、アクリル基、ビニル基、アリル基等)を有する樹脂を電着性絶縁物質に添加しておけば、多層プリント配線板の全層を転写形成後、電子線照射によってすべての絶縁樹脂層を硬化させることができる。
【0035】
また、電解重合法によって導電性層14上に絶縁層15を形成する場合、電解還元重合および電解酸化重合のいずれでもよい。すなわち、絶縁層15は、電解還元重合用の下記の電解重合液、あるいは電解酸化重合用の下記の電解重合液を用いて、電解重合法によって形成することができ、印加電圧、通電時間等を調節することにより絶縁層の厚みを制御することができる。
(電解還元重合用の電解重合液)
下記の単量体単独、下記の単量体に重合性官能基を付加したもの、および、下記単量体どうしの共重合体の少なくとも1種を、下記の溶媒またはその混合物に溶解したものであり、必要に応じて下記の添加剤を添加することができる。
【0036】
単量体
・アクリルニトリルまたはその誘導体
・アクロレインまたはその誘導体
・アクリル酸またはその誘導体
・アクリルアミドまたはその誘導体
・無水マレイン酸
・スチレンまたはその誘導体
・ビニルピリジンまたはその誘導体
・ビニルイミダゾールまたはその誘導体
・キシレンまたはハロゲン化キシレン等のキシレン誘導体
・ジビニルベンゼンまたはその誘導体
溶媒
・メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール
・メチルセルソルブ、セルソルブ、ブチルセルソルブ、セルゾルブアセテート等のセルソルブ系溶媒
・エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,5ペンタジオール等のグリコール
・ジメチルホルムアミド
・ジメチルアセトアミド
・アセトン
・アセトニトリル
・ジクロロメタン
・イオン交換水
添加剤
・アリルアミン、エチレンジアミン、プロピルアミン等のアミン誘導体
・ポリオキシエチレン、Triton X-100(ロームアンドハース社製)等の界面活性剤
・水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の塩基
・シュウ酸等の酸
・ケイ酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、過塩化酸アンモニウム等の塩(電解酸化重合用の電解重合液)
下記の単量体単独、下記の単量体に重合性官能基を付加したもの、および、下記単量体どうしの共重合体の少なくとも1種を、下記の溶媒またはその混合物に溶解したものであり、必要に応じて下記の添加剤を添加することができる。
【0037】
単量体
・フェノールまたはその誘導体:ジフェニルフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキシベンズアルデヒド、ヒドロキシプロピオフェノン、4−(P−ヒドロキシフェニル)−2−ブタノン、ヒドロキシアセトフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アリルフェノール、ヒドロキシけい皮酸、ハロゲン化フェノール等
・アニリンまたはその誘導体:アミノけい皮酸、フェニレンジアミン、ジカルボキシアニリン等
・チオフェンまたはその誘導体
・チオフェノールまたはその誘導体
・ピロールまたはその誘導体
・キノリノールまたはその誘導体:アミノキノリノール等
・キノンまたはその誘導体:1,4−ナフトキノン等
溶媒
・メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール
・メチルセルソルブ、セルソルブ、ブチルセルソルブ、セルゾルブアセテート等のセルソルブ系溶媒
・エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,5ペンタジオール等のグリコール
・ジメチルホルムアミド
・ジメチルアセトアミド
・アセトン
・アセトニトリル
・ジクロロメタン
・イオン交換水
添加剤
・アリルアミン、エチレンジアミン、プロピルアミン等のアミン誘導体
・ポリオキシエチレン、Triton X-100(ロームアンドハース社製)等の界面活性剤
・水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の塩基
・シュウ酸等の酸
・ケイ酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の塩
また、フォトリソグラフィー方によって導電性層14上に絶縁層15を形成する場合、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂等に、光照射により溶解を促進する物質としてキノンジアジド系、ニトロベンジルスルホン酸エステル系、ジヒドロピリジン系等を添加したポジ型の絶縁感光性樹脂を塗布し、透明転写基板11の下側から導電性層をマスクとして露光、現像して絶縁層15を形成することができる。
【0038】
次に、絶縁層15を覆うように透明転写基板11上にポジ型の粘着感光性樹脂を塗布して粘着感光性樹脂層16を形成する(図2(D))。ポジ型の粘着感光性樹脂としては、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリブタジエン樹脂、シリコーン樹脂等のポジ型感光性樹脂に、粘着性付与物質としてロジン系、テルペン系、石油樹脂系等の樹脂を添加したものを使用することができる。そして、透明転写基板11の下側(粘着感光性樹脂層16が形成されていない面)から光を照射することにより、導電性層14をマスクとして粘着感光性樹脂層16の露光が行われる(図2(D))。この露光工程では、従来行われていたマスクアライメントが不要となり、装置および工程の簡略化が可能となる。その後、粘着感光性樹脂層16の現像を行うことによって、絶縁層15上に粘着性の樹脂層17が形成される(図2(E))。
【0039】
これにより、導電性層14、絶縁層15および粘着性の樹脂層17を有する第1層用の配線パターン層13を設けた配線パターン層転写版10が得られる。
【0040】
同様にして、図3および図4に示されるように、透明転写基板21,31上に導電性層24,34、絶縁層25,35、および粘着性の樹脂層27,37を形成して、配線パターン層23,33を有する第2層用の配線パターン層転写版20、第3層用の配線パターン層転写版30を作製する。
【0041】
次に、絶縁性の基板2上に、上記の配線パターン層転写版10を粘着性の樹脂層17が基板2に当接するように圧着する。この圧着は、ローラ圧着、プレート圧着、真空圧着等、いずれの方法にしたがってもよい。また、上記の粘着性の樹脂層17が加熱により粘着性あるいは接着性を発現する場合には、熱圧着を行うこともできる。その後、透明転写基板11を剥離して配線パターン層13を基板2上に転写することにより、導電性層3a、絶縁層3bおよび樹脂層3cを有する第1層目の配線パターン層3を基板2上に形成する(図5(A))。その後、第1層目の配線パターン層3が転写形成された基板2上に、第2層用の配線パターン層転写版20を用いて第1層目の配線パターン層に対する位置合わせを行ったうえで同様に配線パターン層の転写を行い、導電性層4a、絶縁層4bおよび樹脂層4cを有する第2層目の配線パターン層4を形成する(図5(B))。さらに、第1層目の配線パターン層3および第2層目の配線パターン層4が転写形成された基板2上に、第3層用の配線パターン層転写版30を用いて同様に位置合わせを行って配線パターン層の転写を行い、導電性層5a,絶縁層5bおよび樹脂層5cを有する第3層目の配線パターン層5を形成する(図5(C))。
【0042】
上述のように、各配線パターン層3,4,5の形成は、配線パターン層転写版10,20,30の配線パターン層13,23,33を基板上に順次転写することにより行われるため、多層プリント配線板1は各配線パターン層3,4,5からなる、いわゆる重ね刷り型の構造である。そして、例えば、この多層プリント配線板1を構成する配線パターン層3と配線パターン層4は、図6に示されるように、各配線パターン層3,4の導電性層3a,4aが部分的に常に裸出されたものとなり、交差部では、配線パターン層3と配線パターン層4との間の絶縁は上層である配線パターン層4を構成する絶縁層4bにより保たれている。また、配線パターン層の交差部、あるいは、図7に示されるように各配線パターン層が相互に近接する部位(近接部、図示例では配線パターン層3と配線パターン層4とが近接している)における各配線パターン層相互の接続を容易に行うことができる。
【0043】
図8は本発明の多層プリント配線板の他の例を示す概略断面図である。図8において、多層プリント配線板41は、絶縁性の基板42と、基板42上に設けられた第1層目の配線パターン層43と、この配線パターン層43上に形成された第2層目の配線パターン層44と、更に配線パターン層44上に形成された第3層目の配線パターン層45とを備えた3層構成の多層プリント配線板である。
【0044】
この多層プリント配線板41を構成する各配線パターン層43,44,45は、それぞれ導電性層43a,44a,45aと、この導電性層の下部に形成された絶縁樹脂層43b,44b,45bを有している。そして、多層プリント配線板41は、配線パターン層43を基板42の上に、また各配線パターン層44,45を下層の配線パターン層の上に順次転写した重ね刷り型の構造であり、各配線パターン層が相互に交差する部位(交差部)では、上下の配線パターン層間の絶縁は上層の配線パターン層を構成する絶縁樹脂層により保たれている。
【0045】
このため、本発明の多層プリント配線板41は、従来の多層プリント配線板に見られたような絶縁層による配線パターンの被覆がなく、各配線パターン層43,44,45の導電性層43a,44a,45aは部分的に常に裸出されており、後述するように、配線パターン層の交差部あるいは各配線パターン層が相互に近接する部位(近接部)における各配線パターン層相互の接続を容易に行うことができる。
【0046】
本発明の多層プリント配線板41を構成する基板42は、上述の多層プリント配線板1を構成する基板2と同様とすることができる。
【0047】
各配線パターン層43,44,45の厚みは、積層転写における下層の配線パターン層の乗り越えを欠陥なく行うために、100μm以下、好ましくは10〜60μmの範囲とする。また、各配線パターン層43,44,45を構成する導電性層43a,44a,45aの厚みは、配線パターン層の電気抵抗を低く抑えるため1μm以上、好ましくは5〜40μmの範囲とする。さらに、絶縁樹脂層43b,44b,45bの厚みは、交差部において上下の配線パターン層間の絶縁を保つために少なくとも1μm以上、好ましくは5〜50μmの範囲とする。このような配線パターン層43,44,45の線幅は、最小幅10μm程度まで任意に設定することができる。
【0048】
導電性層43a,44a,45aの材料は、上述の多層プリント配線板1の導電性層3a,4a,5aと同様とすることができる。
【0049】
絶縁樹脂層43b,44b,45bは、粘着絶縁感光性樹脂を硬化させたものである。絶縁樹脂層43b,44b,45bを形成するための粘着絶縁感光性樹脂としては、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂等に、光照射により溶解を促進する物質としてキノンジアジド系、ニトロベンジルスルホン酸エステル系、ジヒドロピリジン系等を添加したポジ型の絶縁感光性樹脂に、粘着性付与物質としてロジン系、テルペン系、石油樹脂系等の樹脂を添加したものを使用することができる。
【0050】
次に、上記の多層プリント配線板41を例にして図9を参照しながら本発明の多層プリント配線板の製造方法の他の例を説明する。
【0051】
まず、表面に酸化インジウムスズ(ITO)等の透明導電膜51aを備えた透明転写基板51上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト層52を形成する。そして、所定のフォトマスクを用いてフォトレジスト層52を密着露光し現像して、透明転写基板51のうち配線パターン部分51bを露出させる(図9(A))。次に、透明転写基板51の配線パターン部分51b上にメッキ法により導電性層54を形成する(図9(B))。
【0052】
次に、導電性層54を覆うように透明転写基板51上にポジ型の粘着絶縁感光性樹脂を塗布して粘着絶縁感光性樹脂層56を形成する(図9(C))。ポジ型の粘着絶縁感光性樹脂としては、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂等に、光照射により溶解を促進する物質としてキノンジアジド系、ニトロベンジルスルホン酸エステル系、ジヒドロピリジン系等を添加したポジ型の絶縁感光性樹脂に、粘着性付与物質としてロジン系、テルペン系、石油樹脂系等の樹脂を添加したものを使用することができる。そして、透明転写基板51の下側(粘着絶縁感光性樹脂層56が形成されていない面)から光を照射することにより、導電性層54をマスクとして粘着絶縁感光性樹脂層56の露光が行われる(図9(C))。この露光工程では、従来行われていたマスクアライメントが不要となり、装置および工程の簡略化が可能となる。その後、粘着絶縁感光性樹脂層56の現像を行うことによって、導電性層54上に粘着性の絶縁樹脂層57が形成される(図9(D))。
【0053】
これにより、導電性層54および粘着性の絶縁樹脂層57を有する第1層用の配線パターン層53を設けた配線パターン層転写版50が得られる。
【0054】
同様にして、透明転写基板上に導電性層および粘着性の絶縁樹脂層を形成して、配線パターン層を有する第2層用の配線パターン層転写版、第3層用の配線パターン層転写版を作製する(図示せず)。
【0055】
次に、絶縁性の基板42上に、上記の配線パターン層転写版50を粘着性の絶縁樹脂層57が基板42に当接するように圧着する。この圧着は、ローラ圧着、プレート圧着、真空圧着等、いずれの方法にしたがってもよい。また、上記の粘着性の樹脂層が加熱により粘着性あるいは接着性を発現する場合には、熱圧着を行うこともできる。その後、透明転写基板51を剥離して配線パターン層53を基板42上に転写することにより、導電性層43aおよび絶縁樹脂層43bを有する第1層目の配線パターン層43を基板42上に形成することができる。その後、第1層目の配線パターン層43が転写形成された基板42上に、第2層用の配線パターン層転写版を用いて第1層目の配線パターン層に対する位置合わせを行ったうえで同様に配線パターン層の転写を行い、導電性層44aおよび絶縁樹脂層44bを有する第2層目の配線パターン層44を形成する。さらに、第1層目の配線パターン層43および第2層目の配線パターン層44が転写形成された基板42上に、第3層用の配線パターン層転写版を用いて同様に位置合わせを行って配線パターン層の転写を行い、導電性層45aおよび絶縁樹脂層45bを有する第3層目の配線パターン層45を形成する。
【0056】
上述のように、各配線パターン層43,44,45の形成は、各配線パターン層転写版の配線パターン層を基板上に順次転写することにより行われるため、多層プリント配線板41は各配線パターン層43,44,45からなる、いわゆる重ね刷り型の構造である。そして、この多層プリント配線板41を構成する配線パターン層43と配線パターン層44は、上述の多層プリント配線板1を構成する配線パターン層3と配線パターン層4と同様に、各配線パターン層43,44の導電性層43a,44aが部分的に常に裸出されたものとなり、交差部では、配線パターン層43と配線パターン層44との間の絶縁は上層である配線パターン層44を構成する絶縁樹脂層44bにより保たれている。また、配線パターン層の交差部、あるいは、各配線パターン層が相互に近接する部位における各配線パターン層相互の接続を容易に行うことができる。
【0057】
次に、本発明の多層プリント配線板41を例に各配線パターン層の交差部あるいは近接部における接続について説明する。
【0058】
図10乃至図14は、多層プリント配線板41の配線パターン層の交差部の接続状態を示す斜視図である。図10は、上層の配線パターン層44に形成したスルーホールに接合部61を形成して接続したものである。また、図11は交差部の一部に接合部62を形成して配線パターン層43の導電性層43aと配線パターン層44の導電性層44aとを接続したものである。さらに、図12は配線パターン層43と配線パターン層44との交差部を覆うような接合部63を形成したものである。また、図13は近接部の一部に跨がるように接合部64を形成して配線パターン層43と配線パターン層44とを接続したものであり、図14は配線パターン層43と配線パターン層44との近接部を覆うような接合部65を形成して接続したものである。
【0059】
このような各配線パターン層の交差部あるいは近接部における接合部の形成による接続としては、(1) 印刷法、(2) ディスペンス法、(3) 超微粒子吹付け法、(4) レーザー描画法、(5) 選択無電解メッキ法、(6) 選択蒸着法、(7) 溶接接合法等が挙げられる。
【0060】
上記(1) の印刷法による多層プリント配線板1の配線パターン層の交差部あるいは近接部の接続は、印刷により各配線パターン層を構成する導電性層相互間に跨がるように導電ペーストまたはハンダを固着して接合部を形成することにより行うものである。用いる印刷方式は特に限定されるものではないが、一般に厚膜の印刷に適し、電子工業分野で多用されているスクリーン印刷が好ましい。スクリーン印刷を行う場合には、予め配線間の接続部に相当する部分に開孔部をもつスクリーン印刷版を作成し、多層配線板上に位置を合わせて配置し、銀ペースト等の導電性ペーストインキを印刷すればよい。
【0061】
また、上記(2) のディスペンス法による多層プリント配線板1の配線パターン層の交差部あるいは近接部の接続は、上記の印刷法に類似しているが、導電性のインキを微細なノズルから噴出させ、配線間に接合部を直接描画形成することにより行うものである。具体的には、一般に接着剤等を必要箇所に少量付着させるために用いられている針状の噴出口を有するディスペンサーが使用できる。また、使用する導電性インキの粘度によっては、コンピュータ等の出力装置に使用されているインクジェット方式も使用可能である。
【0062】
上記(3) の超微粒子吹付け法は、超微粒子を高速の気流に乗せて搬送し、多層プリント配線板に近接して設けられた微細なノズルから多層プリント配線板に吹き付けることによって、超微粒子と多層プリント配線板との衝突エネルギーにより相互に燒結して膜を形成する方法であり、ガスデポジション法と呼ばれている方法が利用できる。この方法に用いる装置は、基本的には高真空と低真空の2つの真空槽と、各真空槽を接続する接続パイプからなる。そして、超微粒子は、アルゴンガス等を導入した低真空槽内において真空蒸発法により形成され、また、基板は高真空槽内に設置されている。上記の接続パイプは、低真空槽内の超微粒子の発生する近傍と、高真空槽内の多層プリント配線板の近傍部であって、この配線板に直交する方向とに開口部を有している。各真空槽は、それぞれ真空排気系によって一定の圧力に保たれているため、各真空槽間の圧力差により接続パイプ内には低真空槽から高真空槽へ向かう高速の気流(ガス流)が発生し、低真空槽内で発生した超微粒子はこの気流に乗せられて高真空槽側へ搬送され、多層プリント配線板の配線パターン層に衝突して互いに燒結し膜状になる。金、銀、銅、ニッケル等の金属を母材にこの方法を用いることにより、配線間の接続を必要とする箇所に選択的に導電体(接合部)を形成することができる。
【0063】
上記(4) のレーザー描画法は、導電性の微粒子を分散した溶液を多層プリント配線板に塗布し、この塗膜の所望の箇所をレーザーによって加熱することにより、樹脂バインダーを分解あるいは蒸発させて除去し、この加熱箇所に導電性微粒子を析出、凝集させて選択的に導電体を形成するものである。溶液としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等に金、銀等の導電性微粒子を分散したものを用い、アルゴンレーザー等を絞って照射することにより、数十μm程度の細線を描画することができる。
【0064】
上記(5) の選択無電解メッキ法は、一般にフォトフォーミング法として知られている選択的な無電解メッキ技術を用いることができる。この技術は、還元可能で、かつ無電解メッキに対して触媒となる酸化状態の金属を含む感光剤層を多層プリント配線板上に形成し、この感光剤層を選択的に露光させることにより、無電解メッキに対して触媒となる金属粒子を析出させ、その後、無電解メッキ液に浸漬することにより露光部にのみ選択的なメッキを施すものである。
【0065】
また、上記(6) の選択蒸着法は、薄膜形成技術の一つである選択的膜堆積技術を用いるものである。すなわち、真空槽内に金属、炭素等の導電性元素を含む有機金属ガス、あるいは、導電性元素を含む有機物の蒸気を導入し、真空槽内に設置した多層プリント配線板表面に上記のガスあるいは蒸気を吸着させ、次に、レーザーあるいはイオンビームを、集光あるいは収束して基板に照射し、その部分に吸着しているガスあるいは蒸気を熱または衝突エネルギーによって分解して、金属、炭素等の導電性物質を多層プリント配線板上に堆積させるものである。このような選択蒸着法は、LSIの配線修正技術として実用化されている。具体的には、集光したアルゴンレーザーによってクロム、コバルト、白金、タングステン等を含む有機金属ガスを分解して、これらの金属を所望の修正箇所に堆積する技術、あるいは、ガリウムのイオンビームによってピレン等の有機材料の蒸気を分解して炭素膜を堆積する技術を用いることができる。
【0066】
さらに、上記(7) の溶接接合法は、配線パターン層の交差部をレーザーで選択的に加熱し、上下の配線パターン層の導電性層間に存在する絶縁樹脂層(上層を構成する絶縁樹脂層)を溶融・蒸発させ、さらに、導電性層自体も高温に加熱することによって、各配線パターン層を構成する導電性層を相互に融着して接合部を形成し接続するものである。
【0067】
さらに、本発明の多層プリント配線板を構成する配線パターン層相互の接続は、(8) ワイヤーボンディング法、(9) ワイヤーボンディング装置を用いた1ショット法、 (10) レーザーメッキ法、(11)導電体と半田メッキとの積層体の一括転写法、 (12) 金属塊挿入法、 (13) 無電解メッキ法等により行うことができる。上記(8) のワイヤーボンディング法は、例えば、図15に示されるように配線パターン層43,44の導通されていない近接部(交差部においても同様に対処可能である)を、ワイヤーボンディング装置を用いて、ワイヤーボンディングを行い、導電性層43aと44aとをワイヤーブリッジ66により接続する方法である。
【0068】
上記(9) のワイヤーボンディング装置を用いた1ショット法は、例えば、図16に示されるように配線パターン層43,44の導通されていない近接部(交差部においても同様に対処可能である)を、ワイヤーボンディング装置を用いて、1ショット(1回)のボンディングを行い、ブリッジなしの状態で導電性層43aと44aとをボンディング塊(パッド)67により接続する方法である。
【0069】
上記 (10) のレーザーメッキ法は、例えば、パラジウムメッキ液中に、接続操作前の多層プリント配線板を浸漬させた状態で、所定のスポット径、照射面でのパワー等を調整したレーザー(例えば、アルゴンレーザー)を、導通すべき近接部ないしは交差部に所定時間照射し、照射部分に例えばPd膜を所定厚さに析出させて接続する方法である。なお、好ましくは、パラジウムメッキ液を循環させながらレーザーを照射させるのがよい。また、メッキ液は水洗により除去され、図17に示されるごとく析出したメッキ膜68により導電性層43aと44aとの接続がなされる。
【0070】
上記(11)の導電体と半田メッキとの積層体の一括転写法は、図18(A),(B)に示されるごとく行われる。まず最初に、図18(B)に示されるように導電体層71と半田メッキ層72の積層体70を以下の要領で作製する。すなわち、導電性の基板75上に、レジスト法を用いて現像し所望のパターン(導電性パターン)を形成した透明転写基板の上に、例えば、電解メッキを施し導電体層71を形成し、この導電体層上に所定の半田メッキ浴組成物を用いて半田メッキを行い、半田メッキ層72を形成する。なお、半田メッキ層72は、半田メッキの他、半田ペーストのスクリーン印刷、ディッピングでも同様に形成可能である。このようにして積層した積層体70を、図18(A)に示されるように配線パターン層43,44の導通されていない近接部(交差部においても同様に対処可能である)に一括熱転写し、導電性層43aと44aとの接続を行う。この際、熱転写温度は半田メッキ層72が溶融変形可能な温度である200〜300℃程度の温度範囲で行われる。
【0071】
上記 (12) の金属塊挿入法は、図19(A)に示されるように配線パターン層43,44の導通されていない近接部の配線間隙に、例えば、直径30〜100μm程度の金属ボール81を配置し、しかる後、図19(B)に示されるようにその上から感圧接着剤を塗布したシート82を圧着し、導電性層43aと44aとを接続する方法である。なお、金属ボールの使用は、より好ましい使用態様であるが、球形でないいわゆる金属片(塊)のようなものでも使用可能である。また、このような金属ボール(塊)は、前記印刷法、ディスペンス法においても接続部の信頼性をより向上させるために使用することもできる。すなわち、金属ボールを設置した後に、前記の印刷ないしはディスペンスを行うのである。
【0072】
上記 (13) の無電解メッキ法を図20(A)〜(F)に基づいて説明する。まず、最初に図20(A)に示されるような配線パターン層43,44を備える多層プリント配線板上に無電解メッキ触媒を全面に塗布して触媒層91を形成する(図20(B))。次いで、この上にフォトレジストを塗布してレジスト層93を形成したのち、所定のフォトマスクを用いてレジスト層93を密着露光、現像し、配線パターンの接続すべき位置に相当する部分Hを露出させる(図20(C))。その後、この露出部分Hを活性化させた後、無電解メッキ行い接続部95を形成させ導電性層43aと44aとを接続する(図20(D))。しかる後、残余の不要なレジストおよび触媒層を順次、除去して、接続部95(触媒層91a)のみを残す(図20(E)、(F))。
【0073】
本発明の多層プリント配線板は、上述した(2) 〜(13)のような接続方式を用いることにより、スルーホールの形成箇所に拘束されずに任意の箇所で各配線パターン層間の接続ができるため、多層プリント配線板を作製した後の回路設計の変更の自由度が、従来の多層プリント配線板に比べて大きいものである。
【0074】
尚、上記の例では多層プリント配線板1は3層構成であるが、本発明の多層プリント配線板の製造方法は、同様の積層転写を繰り返し行うことにより所望の数の配線パターン層を備えた多層プリント配線板を製造することができる。
【0075】
また、2層構造の本発明の多層プリント配線板は、従来の両面プリント配線板の問題点、すなわち、両面プリント配線板の穴形成のためのドリル加工の精度から生じる高密度化における問題を解決することができる。これは、上述したように、本発明の多層プリント配線板では、各配線パターン層の導電性層が部分的に常に裸出しており、スルーホールを形成することなく配線パターン層の交差部、あるいは、近接部における各配線パターン層相互の接続を容易に行うことができるからである。
【0076】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
(実施例1)
(1) 配線パターン層転写版における導電性層の形成(図2(B)対応))
透明転写基板として、表面にITO透明導電膜(厚み2000Å)を備えたガラス基板(厚み1.1mm)を準備し、この透明転写基板上に市販のメッキ用フォトレジスト(東京応化工業(株)製 PMER P-AR900)を厚さ20μmに塗布乾燥し、配線パターンが形成されている3種のフォトマスクを用いてそれぞれ密着露光を行った後、現像・水洗・乾燥し、さらに熱硬化を行って配線パターン部分を露出させた透明転写基板(3種)を作製した。
【0077】
上記の透明転写基板と白金電極を対向させて下記の組成のピロ燐酸銅メッキ浴(pH=8,液温=55℃)中に浸漬し、直流電源の陽極に白金電極を接続し、陰極に上記の透明転写基板を接続して、電流密度10A/dm2 で5分間の通電を行い、フォトレジストで被覆されていない透明転写基板のITO裸出部に厚さ10μmの銅メッキ膜を形成し導電性層とした。この導電性層形成を3種の透明転写基板について行った。
【0078】
(ピロ燐酸銅メッキ浴の組成)
ピロ燐酸銅 … 94g/l
ピロ燐酸銅カリウム … 340g/l
アンモニア水 … 3g/l
(2) 絶縁層用の絶縁感光性樹脂液の調製
4,4´ジアミノフェニルエーテル(以下、DDEと略す)4.00gとピロメリット酸ジメチルエステルジクロリド6.38gをN−メチルピロリドン(以下、NMPと略す)95gに溶解し、これに炭酸ナトリウム8.6gを添加し、室温で6時間反応させた。
【0079】
反応終了後、この溶液を1リットルの水中に入れ、沈殿をろ別乾燥して樹脂粉末8.06gを得た。得られた樹脂粉末3gをNMP17gに再溶解し、固形分15重量%のポリアミック酸エステル溶液を調製した。
【0080】
一方、DDE4.00g、ピロメリット酸二無水物4.23gをNMP47gに溶解し、室温で6時間反応させてポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液2gと、上記のポリアミック酸エステル溶液18gとを混合し、固形分15重量%のポリアミック酸エステル、ポリアミック酸混合液を調製した。
【0081】
この混合溶液に2,3,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノンの1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸の3モル置換化合物0.90gを加え室温で3時間攪拌後、1.0μmのフィルターによりろ過し、ポジ型の絶縁感光性樹脂液を調製した。
(3) 配線パターン層転写版における絶縁層の形成(図2(C)対応))
上記(1)において導電性層を形成した透明転写基板(3種)の導電性層形成面側に、上記の(2)で調製した絶縁感光性樹脂液をスピンコート法により塗布し乾燥(80℃、60分間)して絶縁感光性樹脂層を形成した。その後、導電性層をマスクとして透明転写基板の下側から下記の条件で露光(背面露光)を行い、次いで、現像、リンス、乾燥を行い、さらに熱硬化(250℃、30分間)を行って、導電性層上に絶縁層(厚み約12μm)を形成した。
【0082】
(露光条件)
密着露光機:大日本スクリーン製造(株)製 P−202−G
真空引き :60秒
露光時間 :600カウント
(4) 樹脂層用の粘着絶縁感光性樹脂液の調製
メチルメタクリレート75重量部、アロニックスM113(東亜合成化学(株)製)10重量部、アゾビスイソブチロニトリル0.5重量部を反応溶液中で70℃で加熱攪拌し、酢酸エチル50重量部を約2時間かけて滴下し、2時間保持した。次いで、この溶液に、アゾビスイソブチロニトリル2重量部を酢酸エチル25重量部に溶解した溶液を約3時間かけて滴下し、さらに3時間保持反応を行った。その後、140℃に加熱して脱溶剤を行い、アクリル共重合体を得た。
【0083】
上記のようにして得たアクリル共重合体を、ポジ型フォトレジスト(東京応化工業(株)製 OFPR 8000 )と混合攪拌して粘着絶縁感光性樹脂液を調製した。
(5) 配線パターン層転写版における樹脂層の形成(図2(E)対応))
上記(3)において導電性層上に絶縁層を形成した透明転写基板(3種)の導電性層と絶縁層の形成面側に、上記の(4)で調製した粘着絶縁感光性樹脂液をスピンコート法により塗布し乾燥(80℃、60分間)して粘着絶縁感光性樹脂層を形成した。その後、導電性層をマスクとして透明転写基板の下側から下記の条件で露光(背面露光)を行い、次いで、現像、リンス、乾燥を行い、さらに熱硬化(250℃、30分間)を行って、絶縁層上に粘着性の樹脂層(厚み約12μm)を形成して、3種の配線パターン層転写版A1、A2、A3を得た。
【0084】
(露光条件)
密着露光機:大日本スクリーン製造(株)製 P−202−G
真空引き :60秒
露光時間 :30カウント
(6) 多層プリント配線板の作製(図5対応)
厚さ25μmのポリイミドフィルム基板上に、上記の(5)において作製した配線パターン層用の転写用原版A1を下記の条件で圧着して導電性層、絶縁層および粘着性の樹脂層からなる第1層目の配線パターン層を転写した。
【0085】
(圧着条件)
圧 力 : 10kgf/cm2
温 度 : 室温
次に、第1層目の配線パターン層が形成されたフィルム基板上に、上記の(5)において作製した配線パターン層用の転写用原版A2を上記と同様の条件で圧着して導電性層、絶縁層および粘着性の樹脂層からなる第2層目の配線パターン層を転写した。
【0086】
同様に、第2層目の配線パターン層が形成されたフィルム基板上に、上記の(5)において作製した配線パターン層用の転写用原版A3を上記と同様の条件で圧着して導電性層、絶縁層および粘着性の樹脂層からなる第3層目の配線パターン層を転写した。
【0087】
次いで、250℃、30分の条件で絶縁層と粘着性の樹脂層とを硬化させて、図1に示されるような3層の配線パターン層を備えた本発明の多層プリント配線板を作製した。
(実施例2)
(1) 配線パターン層転写版における導電性層の形成(図9(B)対応))
実施例1の(1)と同様にして、表面にITO透明導電膜を備えた透明転写基板に厚さ10μmの銅メッキ膜を形成して導電性層とした。この導電性層形成を3種の透明転写基板について行った。
(2) 絶縁樹脂層用の粘着絶縁感光性樹脂液の調製
実施例1の(4)と同様にして、粘着絶縁感光性樹脂液を調製した。
(3) 配線パターン層転写版における絶縁樹脂層の形成(図9(D)対応))
上記(1)において導電性層を形成した透明転写基板(3種)の導電性層形成面側に、上記の(2)で調製した粘着絶縁感光性樹脂液をスピンコート法により塗布し乾燥(80℃、60分間)して粘着絶縁感光性樹脂層を形成した。その後、導電性層をマスクとして透明転写基板の下側から下記の条件で露光(背面露光)を行い、次いで、現像、リンス、乾燥を行い、さらに熱硬化(250℃、30分間)を行って、導電性層上に粘着性の絶縁樹脂層(厚み約12μm)を形成して、3種の配線パターン層転写版B1、B2、B3を得た。
【0088】
(露光条件)
密着露光機:大日本スクリーン製造(株)製 P−202−G
真空引き :60秒
露光時間 :30カウント
(4) 多層プリント配線板の作製
厚さ25μmのポリイミドフィルム基板上に、上記の(3)において作製した配線パターン層用の転写用原版B1を下記の条件で圧着して導電性層と粘着性の絶縁樹脂層からなる第1層目の配線パターン層を転写した。
【0089】
(圧着条件)
圧 力 : 10kgf/cm2
温 度 : 室温
次に、第1層目の配線パターン層が形成されたフィルム基板上に、上記の(3)において作製した配線パターン層用の転写用原版B2を上記と同様の条件で圧着して導電性層と粘着性の絶縁樹脂層からなる第2層目の配線パターン層を転写した。
【0090】
同様に、第2層目の配線パターン層が形成されたフィルム基板上に、上記の(3)において作製した配線パターン層用の転写用原版B3を上記と同様の条件で圧着して導電性層と粘着性の絶縁樹脂層からなる第3層目の配線パターン層を転写した。
【0091】
次いで、250℃、30分の条件で粘着性の絶縁樹脂層を硬化させて、図8に示されるような3層の配線パターン層を備えた本発明の多層プリント配線板を作製した。
【0092】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば透明転写基板上に設けた配線パターン層を基板上に転写することにより、上部に導電性層を下部に絶縁層と樹脂層を備えた配線パターン層、あるいは、上部に導電性層を下部に絶縁樹脂層を備えた配線パターン層を、基板上に多層に形成することができ、この多層形成は、所定の配線パターン層を形成した転写基板を並行して複数作製し、これらの転写基板を用いて順次転写する並直列プロセスであるため、転写前の検査により不良品を排除することができ、製造歩留が向上するとともに、スループットが高く、さらに、従来基板上で行っていた配線層の形成やパターニングのためのメッキ、およびフォトエッチング工程は不要となり、製造工程の簡略化が可能となる。
【0093】
また、透明転写基板上に上記の配線パターン層を形成して配線パターン層転写版を作製する際に、透明転写基板上に形成した粘着感光性樹脂層あるいは粘着絶縁感光性樹脂層を、透明転写基板の下側から光を照射して導電性層をマスクとして露光を行うので、従来の転写基板の上側からの露光におけるマスクアライメントが不要となり、装置および工程の簡略化が可能となる。
【0094】
また、多層プリント配線板には、従来の多層プリント配線板に見られたような絶縁層による配線パターンの被覆がなく、各配線パターン層を構成する導電性層は部分的に常に裸出されており、各配線パターン層の交差部あるいは各配線パターン層が相互に近接する部位における各配線パターン層相互の接続を容易に行うことができ、汎用性の極めて高い多層プリント配線板が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の多層プリント配線板の一例を示す概略断面図である。
【図2】本発明の多層プリント配線板の製造方法を説明するための図面である。
【図3】本発明の多層プリント配線板の製造方法に使用する配線パターン層転写版の一2222222例を示す概略断面図である。
【図4】本発明の多層プリント配線板の製造方法に使用する配線パターン層転写版の一例を示す概略断面図である。
【図5】本発明の多層プリント配線板の製造方法を説明するための図面である。
【図6】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の交差部を示す斜視図である。
【図7】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部を示す斜視図である。
【図8】本発明の多層プリント配線板の他の例を示す概略断面図である。
【図9】本発明の多層プリント配線板の製造方法の他の例を説明するための図面である。
【図10】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
【図11】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
【図12】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の交差部における接続状態を示す斜視図である。
【図13】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図14】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図15】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図16】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図17】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続状態を示す斜視図である。
【図18】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続状態を説明するための図である。
【図19】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続を順次形成する状態を示す斜視図である。
【図20】本発明の多層プリント配線板の配線パターン層の近接部における接続状態を説明するための図である。
【符号の説明】
1,40…多層プリント配線板
2,42…基板
3,4,5,43,44,45…配線パターン層
3a,4a,5a,43a,44a,45a…導電性層
3b,4b,5b…絶縁層
3c,4c,5c…樹脂層
43b,44b,45b…絶縁樹脂層
10,20,30,50…配線パターン層転写版
11,51…透明転写基板
11a,51a…透明導電膜
13,23,33,53…配線パターン層
61,62,63,64,65,66,67,68,70,81,91…接合部
Claims (4)
- 少なくとも表面が導電性の透明転写基板上に絶縁性材料からなるパターンを形成し、前記パターンの形成されていない部位にメッキ法により導電性層を形成し、さらに該導電性層上に絶縁層を形成し、その後、前記絶縁層を覆うように前記透明転写基板上にポジ型の粘着感光性樹脂層を形成し、前記透明転写基板の下側から光を照射し前記導電性層をマスクとして前記粘着感光性樹脂層を露光し現像することにより前記絶縁層上に樹脂層を形成して、前記導電性層、前記絶縁層および前記樹脂層を有する配線パターン層を設けた配線パターン層転写版を複数作製し、次に、多層プリント配線板用の基板の一方の面に前記樹脂層を介して前記配線パターン層転写版を圧着し、前記透明転写基板を剥離することにより前記配線パターン層を転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複数の前記配線パターン層を形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
- 前記絶縁層は、電着法、電解重合法、およびフォトリソグラフィー法のいずれかにより形成することを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板の製造方法。
- 少なくとも表面が導電性の透明転写基板上に絶縁性材料からなるパターンを形成し、前記パターンの形成されていない部位にメッキ法により導電性層を形成し、該導電性層を覆うように前記透明転写基板上にポジ型の粘着絶縁感光性樹脂層を形成し、前記透明転写基板の下側から光を照射し前記導電性層をマスクとして前記粘着絶縁感光性樹脂層を露光し現像することにより前記導電性層上に絶縁樹脂層を形成して、前記導電性層と前記絶縁樹脂層とを有する配線パターン層を設けた配線パターン層転写版を複数作製し、次に、多層プリント配線板用の基板の一方の面に前記絶縁樹脂層を介して前記配線パターン層転写版を圧着し、前記透明転写基板を剥離することにより前記配線パターン層を転写する操作を順次繰り返し、前記基板上に複数の前記配線パターン層を形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
- 前記配線パターン層が相互に交差する部位および/または前記配線パターン層が近接する部位の必要箇所に、各配線パターン層を構成する導電性層相互間に跨がるように接合部を形成することにより配線パターン層相互間を接続することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の多層プリント配線板の製造方法。
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