JP3778158B2 - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3778158B2 JP3778158B2 JP2002333721A JP2002333721A JP3778158B2 JP 3778158 B2 JP3778158 B2 JP 3778158B2 JP 2002333721 A JP2002333721 A JP 2002333721A JP 2002333721 A JP2002333721 A JP 2002333721A JP 3778158 B2 JP3778158 B2 JP 3778158B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water production
- pure water
- production apparatus
- ultrapure water
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は超純水製造装置に係り、特に、金属濃度がきわめて低い超純水を製造することができる超純水製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体洗浄用水として用いられている超純水は、図2に示すように前処理システム1、一次純水製造装置10、二次純水製造装置20から構成される超純水製造装置で原水(工業用水、市水、井水等)を処理することにより製造される。図2において各システムの役割は次の通りである。
【0003】
凝集、加圧浮上(沈殿)、濾過(膜濾過)装置など(この従来例では凝集濾過装置)よりなる前処理システム1では、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。また、この過程では高分子系有機物、疎水性有機物などの除去も可能である。
【0004】
前処理された水のタンク11、逆浸透膜分離装置(RO装置)12、イオン交換装置(混床式又は4床5塔式など)13及び脱気装置14を備える一次純水製造装置10では、原水中のイオンや有機成分の除去を行う。なお、逆浸透膜分離装置12では、塩類を除去すると共に、イオン性、コロイド性のTOCを除去する。イオン交換装置13では、塩類を除去すると共にイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換されるTOC成分の除去を行う。脱気装置14では無機系炭素(IC)、溶存酸素の除去を行う。
【0005】
一次純水製造装置で製造された一次純水は、配管16を介して二次純水製造装置20へ送水される。この二次純水製造装置20は、純水タンク21、ポンプ22、熱交換器23、低圧紫外線酸化装置(UV装置)24、イオン交換装置25及び限外濾過膜(UF膜)分離装置26を備えている。低圧紫外線酸化装置24では、低圧紫外線ランプより出される185nmの紫外線によりTOCを有機酸、さらにはCO2まで分解する。分解により生成した有機物及びCO2は後段のイオン交換装置25で除去される。限外濾過膜分離装置26では、微粒子が除去され、イオン交換樹脂からの流出粒子も除去される。
【0006】
この二次純水製造装置20で製造された超純水は、配管30を介してユースポイント40に送られ、未使用の超純水は配管50を介してタンク21へ戻される。なお、配管30に昇圧ポンプが設置されることもある。
【0007】
熱交換器23は、二次純水製造装置20からユースポイント40に送水される超純水の水温を所定温度(例えば約25℃程度)に保つためのものである。
【0008】
一般に、二次純水製造装置20で製造された超純水はユースポイントへ供給され、余剰の超純水(未使用)はユースポイント40から二次純水製造装置20へ返送され、再度該二次純水製造装置20で処理されて一定の超純水水質を維持されながら循環する。そして、常時循環することで水が滞留せず、微生物の繁殖が抑制されている。この循環途中において、ポンプや低圧紫外線酸化装置24の紫外線照射のランプの熱などにより循環超純水の水温が上昇するのを熱交換器23によって奪熱し、循環する超純水の水温を所定温度に維持する。
【0009】
ところで、LSIの超微細化、高集積化に伴い、超LSIチップ製造における洗浄水としての超純水中の不純物の影響はより大きくなってきている。
【0010】
集積度1メガビット以下のLSIにおいては従来の超純水水質で半導体製品(LSI等)の製品に関する不良トラブルは発生しなかったが、LSIの集積度が向上した現在、超純水中の極微量金属に起因する製品不良(主にライフタイム不良)が発生している。
【0011】
調査分析の結果、原水中の金属は超純水製造装置にて除去されているが、二次純水製造システム内で発生(溶出)する金属が超純水に混入することが認められた。極微量分析の結果、超純水水質の金属濃度は約0.1〜5ng/L程度である。
【0012】
超純水中に溶出した金属は、微量の酸素などと結合してコロイド粒子化しており、二次純水製造システムのイオン交換装置では除去できず、後段の限外濾過膜にて捕捉され、膜表面を汚染する。この限外濾過膜面に濃縮した金属は、超純水にて再溶解して超純水中の金属濃度を高くすることが認められ、特に通水初期には超純水中の金属濃度が高くなることが認められた。
【0013】
二次純水製造装置内の機器からの金属の溶出を調査した結果、超純水中の金属濃度を上昇させる主原因は供給ポンプ、熱交換器、昇圧ポンプからの金属溶出であることが認められた。
【0014】
従来、二次純水製造装置20内のポンプ22は接水面がステンレス製のものが使用されている。
【0015】
熱交換器23は、超純水を約24℃程度にコントロールするために設置されている。現在使用されている熱交換器23は、耐食性に優れたステンレス製又はチタン製のものであるが微量の金属の溶出がある。
【0016】
金属溶出防止のためにフッ素樹脂等でライニングした熱交換器を用いることも考えられる(特許第3172730号)が、熱伝導性が悪く、膨大な大きさ(容積)のものとなる。
【0017】
【特許文献1】
特許第3172730号
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような従来技術の問題点を解決し、金属濃度が著しく低い超純水を製造することができる超純水製造装置を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明の超純水製造装置は、一次純水製造装置に通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造装置において、前記二次純水製造装置からユースポイントへ超純水を供給する超純水供給手段及びユースポイントで未使用の超純水を二次純水製造装置へ返送する返送配管と、該返送配管を介して返送される超純水の一部を前記一次純水製造装置に返送するための返送手段とを備え、二次純水製造装置の接水部のすべて又は大部分は、非金属材料で構成されており、かつ、熱交換器が二次純水製造装置には設置されていないことを特徴とするものである。
【0020】
かかる本発明によると、二次純水製造装置からの金属の溶出が防止されるため、超純水中の金属濃度が著しく低いものとなる。
【0021】
本発明では、送水用のポンプは、接水部が非金属材料で構成され、かつ、ポンプ軸受け部の通過水をポンプ吐出水に混合させることなく排出する排水機構を有することが好ましい。このポンプによれば、ポンプから純水あるいは超純水中に金属が溶出することが防止され、超純水中の金属濃度がさらに低いものとなる。
【0022】
本発明では、二次純水製造装置に熱交換器を設けないようにし、これによって二次純水製造装置の熱交換器からの金属の溶出に起因した超純水中への金属混入を防止する。
【0023】
例えば、二次純水製造装置を純水タンク、ポンプ、紫外線照射装置、膜分離装置及びそれらの間を接続する接続手段にて構成することにより、二次純水製造装置に熱交換器を設けない超純水製造装置となる(なお、必要に応じ、さらに昇圧ポンプが設けられてもよい。)。この場合、熱交換器は一次純水製造装置に設置してもよく、一次純水製造装置及び二次純水製造装置のいずれにも設けないようにしてもよい。
【0024】
本発明では、二次純水製造装置からユースポイントへ超純水を供給する超純水供給手段及びユースポイントで未使用の超純水を二次純水製造装置へ返送する返送配管の接水部が非金属材料で構成されていることが好ましい。このようにすれば、ユースポイントに供給される超純水に金属が溶出することがなく、また、ユースポイントから戻されて再利用される未使用超純水に金属が溶出することが防止される。なお、この超純水供給手段としては、配管あるいは該配管に設けられたポンプや弁が例示される。
【0025】
本発明では、返送配管を介して返送される超純水の一部を前記一次純水製造装置に返送するための返送手段を設ける。この構成は、特に熱交換器を一次純水製造装置に設けた場合に好適である。この場合、返送手段によって一次純水製造装置に返送される超純水の量を制御する手段を設けることにより、二次純水製造装置の水温を調整することができる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して実施の形態について説明する。図1は実施の形態に係る超純水製造装置の系統図である。
【0027】
この実施の形態では、図2の従来の超純水製造装置において、タンク11と逆浸透膜分離装置12との間に熱交換器15を設け、一次純水製造装置10で処理される水を降温させるようにしている。二次純水製造装置20では熱交換器23は省略され、ポンプ22からの送水が直接に低圧紫外線酸化装置24に供給されている。二次純水製造装置20には、限外濾過膜分離装置26からユースポイント40へ超純水を送水する配管30にポンプ27(昇圧ポンプ)が設けられている。
【0028】
ユースポイント40からの未使用超純水の返送用配管50は、この超純水を一次純水製造装置のタンク11に戻す配管51と二次純水製造装置の純水タンク21に戻す配管52とに分かれている。配管51,52の一方又は双方には流量調整弁などの流量調節手段(図示略)が設けられている。
【0029】
また、二次純水製造装置20を構成する各機器としてのタンク21、ポンプ22、低圧紫外線酸化装置24、イオン交換装置25、限外濾過膜分離装置26及びポンプ27と、各機器間の通水接続部材と、各配管30,50,51,52の接水面はいずれも合成樹脂のライニングが施されるか又は合成樹脂部材にて構成されている。タンク21や通水接続部材、配管30,50,51,52は全体として合成樹脂製であってもよい。
【0030】
図1のその他の構成は図2と同一であり、同一符号は同一部分を示している。
【0031】
このように構成された超純水製造装置において、原水は前処理システム1で凝集濾過等の処理がなされた後、タンク11にて配管51からの返送未使用超純水が混合される。次いで、被処理水は熱交換器15で降温された後、逆浸透膜分離装置12、イオン交換装置13、脱気装置14の順に流れる。その後、配管16を経て二次純水製造装置20の純水タンク21に送水され、ここで配管52からの返送未使用超純水が混合される。このタンク21内の水は、ポンプ22、低圧紫外線酸化装置24、イオン交換装置25及び限外濾過膜分離装置26にて処理されて超純水となり、ポンプ27から配管30を介してユースポイント40へ送水される。
【0032】
この実施の形態では、二次純水製造装置20の各機器の接水面が合成樹脂であるため、金属が溶出することがなく、超純水中の金属濃度が著しく低いものとなる。
【0033】
また、熱交換器を二次純水製造装置20ではなく一次純水製造装置10に配置しており、熱交換器15は接水面(熱交換面)を合成樹脂ライニングを施してない金属面としている。このため、熱交換器15の熱交換特性が極めて良好であり、熱交換器が大型化しない。
【0034】
なお、上記合成樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニルジフルオライド等のフッ素樹脂のほか、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ塩化ビニル、ポリサルホン等が例示される。前述の通り、この合成樹脂はライニング材として用いられてもよく、機器ないし部材の構成材料として用いられてもよい。ライニング材として用いられる場合、ライニングされる金属材料はステンレス、チタン、チタン合金等の高耐食金属材が好適であるが、これに限定されない。
【0035】
合成樹脂はガラス繊維、炭素繊維等で補強された繊維強化合成樹脂(FRP)であってもよい。これは、タンクの構成材として好適である。
【0036】
なお、純水タンク21としては、具体的には、フッ素樹脂製、ポリエチレン製、ポリプロピレンでライニングしたステンレス製のものが例示される。
【0037】
配管としては、フッ素樹脂製、ポリエーテルエーテルケトン製、ポリ塩化ビニル製のものが例示される。
【0038】
低圧紫外線酸化装置24の容器としては耐紫外線性に優れたフッ素樹脂でライニングしたステンレス製が好適である。なお、低圧紫外線酸化装置24の容器の接水面は小さいので、合成樹脂ライニングを省略し、ステンレス面としてもよい。ランプ保護面は石英製が好ましい。
【0039】
イオン交換装置25の容器はFRP、合成樹脂ライニングステンレス等で構成されることが好ましい。このイオン交換装置25は、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを充填した混床式イオン交換装置が好適であり、再生型、非再生型のいずれでもよい。電気再生式イオン交換装置であってもよい。
【0040】
限外濾過膜分離装置26の容器は、ポリサルホン製、FRP製、合成樹脂ライニングステンレス製が好適である。
【0041】
ポンプ22,27としては、接水面を合成樹脂ライニングしたものが好適であり、例えば、クリーンキャンドモータポンプ、クリーン渦流ポンプ、クリーンマグネットポンプなどの低発塵ポンプの接水面に合成樹脂ライニングステンレスを施したものが好適である。また、このポンプは、軸受部を通過した水が超純水と混ざらないように排出されるよう構成したものが好適である。このポンプの一例については図3を参照して後述する。
【0042】
図1の実施の形態では、二次純水製造装置20の熱交換器を省略し、代りに一次純水製造装置10に熱交換器15を設置している。熱交換器は、二次純水製造装置の他の機器に比べて接水面積が大きいものであり、二次純水製造装置に組み込まれた場合、金属溶出量が二次純水製造装置で最も多いものとなる。
【0043】
そこで、図1の実施の形態では、熱交換器を二次純水製造装置20から一次純水製造装置10に移設している。この実施の形態では、二次純水製造装置20からユースポイント40に供給される超純水の水温をコントロールするために、超純水返送用配管50からの超純水の一部を配管51から一次純水製造装置10に戻し、この一次純水製造装置10の熱交換器15にて降温させている。この配管51と配管52とに分流させる超純水量を調整することにより、二次純水製造装置20から送水される超純水の水温が調整される。
【0044】
図1の実施の形態では一次純水製造装置10に熱交換器15を設けているが、原水の水温によっては一次純水製造装置10の熱交換器も省略してもよい。例えば、前処理システム1を経て一次純水製造装置10に流入してくる原水水温が15℃程度の場合、配管51からの返送超純水と混合しても一次純水製造装置10から二次純水製造装置20へ送られる一次純水の水温は25℃よりも相当に低く、純水タンク21にて配管52からの返送超純水が混合されても、なお約20℃前後のものとなる。これにより、二次純水製造装置20からユースポイント40へ送水される超純水の水温を約25℃とすることができる。
【0045】
なお、返送超純水の一部を一次純水製造装置10に返送すると、一次純水製造装置10内の水温が上昇するが、この水温上昇により、一次純水製造装置10の逆浸透膜分離装置12の透過水量(フラックス)が増加するという効果が得られる。また、返送超純水の一部を一次純水製造装置10の原水に添加することにより、一次純水製造装置10の原水水質が向上し、一次純水製造装置10の各処理装置に加えられる負荷が低下するという効果も得られる。
【0046】
ただし、配管50を流れる返送超純水の少なくとも一部は、二次純水製造装置20へ返送されることが望ましい。これは、一次純水製造装置10からの一次純水よりも返送超純水の水質の方が良好であるためである。
【0047】
高水質の返送超純水の少なくとも一部を二次純水製造装置20に戻すことにより、二次純水製造装置20からユースポイント40へ送水される超純水の水質が良好なものとなる。
【0048】
上記図1の実施の形態では、二次純水製造装置20の熱交換器を省略しているが、熱交換器に合成樹脂ライニングを施して二次純水製造装置20に熱交換器を設けた場合、合成樹脂ライニングを施すと熱交換特性が悪くなり、熱交換器が大型になるので、二次純水製造装置20からは熱交換器を省略する。
【0049】
次に図3を参照して二次純水製造装置20に設置するポンプの好適例について説明する。
【0050】
インペラ用ハウジング60内にインペラ62が配置されている。このインペラ62はシャフト64によって回転される。ハウジング60の中央部には水の流入口66が設けられ、外周部に流出口68が設けられている。
【0051】
このインペラ用ハウジング60に隣接して設けられた封水用ハウジング70を該シャフト64が貫通している。シャフト64とハウジング70との間はシールリング72を有したメカニカルシール機構によってシールされている。このシールリング72の外周とハウジング70との間にはリテーナリング74が設置されている。シールリング72はスプリング76によって図の左方に付勢されている。シールリング72とシャフト64との間には若干の隙間があいており、スロート部80及びこの隙間を通って流出する水は、ハウジング70のドレンポート82からポンプ外へ排出される。ハウジング60の内面には合成樹脂ライニング86が施され、インペラ62とシャフト64の先端部の外周面にも合成樹脂ライニング84が施されている。このライニング用合成樹脂としては、フッ素樹脂、ポリプロピレン、ポリエーテルエーテルケトンなどが好適であるが、これに限定されない。
【0052】
【実施例】
以下、実施例及び比較例について説明する。
【0053】
図1と図2の超純水製造装置についてそれぞれ同一の原水を通水して超純水を製造し、二次純水製造装置20からの超純水中のFe濃度を測定し、結果を図4に示した。
【0054】
なお、図1と図2の熱交換器15,23は同一のものである。
【0055】
実施例に係る図1では、タンク21、低圧紫外線酸化装置24、イオン交換装置25、限外濾過膜分離装置26をいずれもフッ素樹脂ライニングした。図2ではこのフッ素樹脂ライニングは施されていない。また、図1では、ポンプ22,27として図3に示すものを採用した。
【0056】
図4の通り、実施例によると、比較例に比べFe濃度が低いことが認められ、特に実施例では起動直後のFe濃度が比較例に比べ著しく低いことが認められる。
【0057】
即ち、比較例の超純水製造装置では、起動初期の超純水中の鉄濃度は5ng/L以上であり、時間経過とともに鉄濃度は減少して行くが、定常の鉄濃度(0.1ng/L以下)となるまでには約1ヶ月を要する。それに対し、実施例では、起動時初期から0.1ng/L以下の測定値である。
【0058】
また、起動初期(3〜5分)のポンプ22出口の鉄濃度を測定したところ、比較例では21ng/Lであるのに対し、実施例では0.1ng/L以下であり、ポンプからの鉄の溶出が著しく少ないことが認められた。
【0059】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によると、金属濃度の極めて低い超純水を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態に係る超純水製造装置の系統図である。
【図2】従来例に係る超純水製造装置の系統図である。
【図3】実施の形態に用いられるポンプの断面図である。
【図4】実施例の測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
10 一次純水製造装置
20 二次純水製造装置
40 ユースポイント
50,51,52 超純水返送用配管
60,70 ハウジング
62 インペラ
82 ドレンポート
84,86 合成樹脂ライニング
Claims (7)
- 一次純水製造装置に通水して一次純水を製造し、この一次純水を二次純水製造装置に通水して超純水を製造する超純水製造装置において、
前記二次純水製造装置からユースポイントへ超純水を供給する超純水供給手段及びユースポイントで未使用の超純水を二次純水製造装置へ返送する返送配管と、該返送配管を介して返送される超純水の一部を前記一次純水製造装置に返送するための返送手段とを備え、
二次純水製造装置の接水部のすべて又は大部分は、非金属材料で構成されており、かつ、熱交換器が二次純水製造装置には設置されていないことを特徴とする超純水製造装置。 - 請求項1において、送水用のポンプとして、接水部が非金属材料で構成され、かつ、ポンプ軸受け部の通過水をポンプ吐出水に混合させることなく排出する排水機構を有するポンプを備えたことを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1又は2において、二次純水製造装置は、純水タンク、ポンプ、紫外線照射装置、膜分離装置及びそれらの間を接続する接続手段にて構成されていることを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1ないし3のいずれか1項において、一次純水製造装置に熱交換器が設置されていることを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1ないし4のいずれか1項において、該超純水供給手段及び返送配管の接水部が非金属材料で構成されていることを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1ないし5のいずれか1項において、該返送手段によって一次純水製造装置に返送される超純水の量を制御する手段を備えたことを特徴とする超純水製造装置。
- 請求項1ないし6のいずれか1項において、前記非金属材料は合成樹脂であることを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002333721A JP3778158B2 (ja) | 2002-11-18 | 2002-11-18 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002333721A JP3778158B2 (ja) | 2002-11-18 | 2002-11-18 | 超純水製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004167308A JP2004167308A (ja) | 2004-06-17 |
JP3778158B2 true JP3778158B2 (ja) | 2006-05-24 |
Family
ID=32698356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002333721A Expired - Fee Related JP3778158B2 (ja) | 2002-11-18 | 2002-11-18 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3778158B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010214300A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4942067B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2012-05-30 | オルガノ株式会社 | 生菌測定方法 |
JP5499753B2 (ja) * | 2010-02-18 | 2014-05-21 | 栗田工業株式会社 | 水処理方法及び装置 |
JP5953726B2 (ja) * | 2011-12-07 | 2016-07-20 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造方法及び装置 |
JP2013202610A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-07 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
JP6584363B2 (ja) * | 2016-04-28 | 2019-10-02 | オルガノ株式会社 | 精製水供給システムおよび精製水供給装置 |
JP6978353B2 (ja) | 2018-03-13 | 2021-12-08 | オルガノ株式会社 | 水処理管理装置及び水質監視方法 |
JP7204597B2 (ja) * | 2019-07-08 | 2023-01-16 | オルガノ株式会社 | 超純水製造システム及び超純水製造方法 |
WO2023053572A1 (ja) * | 2021-09-29 | 2023-04-06 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造用イオン交換装置、超純水製造システム、及び超純水製造方法 |
-
2002
- 2002-11-18 JP JP2002333721A patent/JP3778158B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010214300A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004167308A (ja) | 2004-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI241989B (en) | Hydrogen-dissolved water production apparatus | |
KR940003209B1 (ko) | 가열 탈기 초순수 장치 | |
JP2793100B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
WO2005095280A1 (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH09192661A (ja) | 超純水製造装置 | |
US20050263458A1 (en) | Process for removing organics from ultrapure water | |
WO2019244443A1 (ja) | 被処理水中のホウ素除去方法、ホウ素除去システム、超純水製造システム及びホウ素濃度の測定方法 | |
JP3778158B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP5953726B2 (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
JP2013202581A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP4635827B2 (ja) | 超純水製造方法および装置 | |
JP3985500B2 (ja) | 超純水供給方法 | |
JP2018038943A (ja) | 非再生型イオン交換樹脂の洗浄装置及び超純水製造システム | |
JP5257175B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH09253638A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2005246126A (ja) | 純水又は超純水の製造装置及び製造方法 | |
JP3215277B2 (ja) | ほう素を除去した純水又は超純水の製造方法及び装置 | |
JP4848641B2 (ja) | 純水製造方法及び装置 | |
JP3963319B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2013202610A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2703034B2 (ja) | 加熱脱気装置を用いた超純水装置 | |
JP2007222724A (ja) | 電気脱イオン装置の流量調整方法 | |
JP2003010849A (ja) | 二次純水製造装置 | |
JP2020116507A (ja) | ホウ素超高純度除去型超純水製造装置及びホウ素超高純度除去超純水の製造方法 | |
US20230398499A1 (en) | Method of cleaning ultrafiltration membrane module and management method of ultrapure water manufacturing system using same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050920 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060207 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060220 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3778158 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090310 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100310 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110310 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120310 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120310 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130310 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130310 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140310 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |