JP3777222B2 - 微小金属球のハンダめっき法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、直径が0.1mm〜1.0mm程度の微小金属球の外周面に吸蔵されるH2量の少ないハンダめっき被膜を設けるハンダめっき法に係り、ハンダめっき液を不活性ガスにてバブリングしながら電気めっきして、微小金属球表面に含有H2量の少ない所定厚みのハンダめっき被膜を設けた微小金属球のハンダめっき法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、BGA(Ball Grid Array)タイプの半導体パッケージのバンプ芯材として用いられる微小金属球は、直径が0.1mm〜1.0mm程度で材質としては、所定組成のハンダの他、最近では、電気特性や機械的特性を考慮して、コバール(Ni−Co−Fe合金)、Cu、42Ni−Fe合金などの金属球を芯材としてろう材を被覆したチップキャリアーが提案(特開昭62−112355号)され、また、前記合金には製造上不可避的な不純物が含有されたり、機械的特性を向上させる等の種々の目的で少量の添加元素を含有したものも提案されている。
【0003】
前記微小金属球の製造方法として、溶融金属を所定温度の液体中に滴下し、溶融金属自体の表面張力にて球形化してそのまま凝固する所謂液体中滴下方法、金型によるフォーミング等の所謂機械的塑性加工方法、金属粒又は片を非酸化性雰囲気中で平板上に載置して振動を加えながら加熱溶融してその表面張力で球形化してそのまま凝固する振動加熱方法(特公平2−50961号)などが提案されている。
【0004】
このように製造された微小金属球の外周面にろう材としては、要求される寸法精度や半導体パッケージとプリント基板との固着強度などにより適宜選定される、例えば、厚み5〜50μmの種々の組成からなるハンダ(Pb−Sn系)が被覆され、また下地層としてNiなどの積層あるいは複合層が被覆されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
この外周面にハンダめっき被膜を設けた微小金属球は、パッケージボードに加熱装着する際に、ハンダめっき被膜に膨れが生じ、この膨れが破裂する際にボールが該基板から剥離飛散する問題があった。
【0006】
この発明は、外周面にハンダめっき被膜を設けた微小金属球がパッケージボードに加熱装着した際に発生した被膜の膨れにて基板から剥離飛散する問題を解消できる微小金属球のハンダめっき法の提供を目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
発明者らは、従来の微小金属球の基板から剥離飛散する問題について種々検討した結果、微小金属球のハンダめっき被膜中に吸蔵されるH2ガス量と相関関係があり、問題解決にはハンダめっき被膜中に吸蔵されるH2量を極力低減する必要があることを知見した。
【0008】
一般に、ハンダめっきを施す場合、酸性めっき浴では被めっき物表面から水素ガスが発生し、この発明対象の微小金属球では、球体であり体積当たりの表面積が大きいことからハンダめっき被膜中に吸蔵されるH2ガス量も多くなる。
【0009】
そこで、発明者らは、ハンダめっき被膜中に吸蔵されるH2ガス量を低減できるハンダめっき方法について鋭意検討した結果、めっき前及びめっき中に不活性ガスによるバブリングを行い、めっき浴中を常に置換ガスで充満させておくこと、例えば、溶存酸素濃度が2ppm以下であれば不活性ガスで十分に置換されていることを確認でき、該置換ガスで充満させておくことにより、めっき浴中に発生した水素ガスを素早く追い出すことができることを知見し、このめっき方法にて微小金属球にハンダめっき被膜を設けると、前述した被膜の膨れにて微小金属球が基板から剥離飛散する問題を解消できることを確認し、この発明を完成した。
【0010】
すなわち、この発明は、直径が 0.1mm 〜 1.0mm の微小金属球をハンダめっき液中に浸漬前または浸漬後に、前記めっき液を不活性ガスにてバブリングして溶存O2量を予め設定した値、 2ppm 以下に低減し、さらに前記バブリングを行いながら電気めっきして微小金属球の外周面に所定厚みのハンダめっき被膜を設けたことを特徴とする微小金属球のハンダめっき法である。
【0011】
【発明の実施の形態】
この発明において、めっき浴のバブリング方法は、例えば、めっき浴槽の底部から窒素又はアルゴンガスを導入して、めっき浴中の溶存ガスを置換するもので、めっき浴中に導入する不活性ガスの流量は、50ml/分未満ではバブリング効果が十分でなく、溶存ガスとの置換に長時間を要し、所定の溶存O2量とすることが困難となり、また、1000ml/分を越えるとめっき液を飛散させるなどの問題を生じるほか、バブリングに要するコストが上昇して実用的でないため、バブリング時の不活性ガス流量は、50ml/分〜1000ml/分であることが好ましい。
【0012】
ハンダめっき液はその組成により、溶存O2量は若干異なり、一般的に7〜9ppmであるが、この発明において、電気めっき前のめっき浴のバブリングにて溶存O2量を2ppm以下とすることにより、電気めっき中のバブリングとあいまって微小金属球表面に形成するハンダめっき被膜に吸蔵されるH2ガス量を極力低減でき、その結果、得られたハンダめっき被膜を有する微小金属球をパッケージボードに加熱装着する際に、ハンダめっき被膜に膨れを生じることがなく、微小金属球がボードより剥離飛散することを著しく減少できる。
【0013】
この発明において、電気めっき時のバブリング方法は、めっき前と同様にめっき浴槽の底部から不活性ガスを導入する方法を採用でき、さらに、バレルめっき法ではバレル内に不活性ガスを導入する方法が効果的である。
【0014】
【実施例】
実施例
直径が0.6mmのCu線をプレスマシンによって定寸切断し、直径D=0.6mm、長さL=0.64mmの円柱状個片(L/D=1.07)としたCu個片を作製し、これらを非イオン系高級アルコール洗剤で脱脂した後、カーボン製の平板状個片配置治具に形成されている穴内に振込配置した後、水素雰囲気で1150℃の電気炉内に20分配置して加熱溶融した後、25℃/分の冷却速度で冷却して凝固させ直径0.7mmのCuボールを作成した。
【0015】
ハンダめっき浴として、Sn2+ 8.4g/l、Pb2+ 1.6g/l、酸、光沢剤を含むpH<1のめっき液を用い、浴温24℃にて電気めっき開始前にめっき浴槽底部より、窒素ガス流量200ml/分にてバブリングを2.5時間行った。ここで、バブリング前のめっき浴中の溶存O2量を溶存酸素メーターにて測定したところ、7〜8ppmであったが、窒素ガスによるバブリングを1.5時間行った後は溶存O2量が2ppm以下に低下しており、さらに、バブリングを続け2.5時間後に再度測定したところ、ほとんど変化していなかったため、窒素ガスで十分に置換されたものとして、電気めっきを開始した。
【0016】
電気めっきは、水平バレルを用い、陰極電流密度0.06A/dm2、陽極板Sn/Pb=6/4にて電気めっき中も窒素ガス流量200ml/分にてバブリングを引続き行いながら、21時間めっきを行い、Cuボール外周面に膜厚み35μmの共晶ハンダめっき層を被覆した。
【0017】
得られたこの発明によるハンダめっき層を有するCuボールを、200℃、210℃、220℃、各10秒間、各条件1000個を溶着して、それぞれの膨れ発生率を測定した。表1にその結果を示す。また、TCD検出器法により、室温から600℃間で温度を上昇させながら水素ガスの放出量を測定温度におけるピークごとに測定した。表2にその結果を示す。
【0018】
比較例
実施例と同様に作製したCuボールを用い、めっき前及びめっき中のバブリングを行うことなく、先の実施例と同一条件でCuボール外周面に膜厚み35μmの共晶ハンダめっき層を被覆した。その後、実施例と同様に膨れ発生率、基板からの剥離飛散率、水素ガス放出量をそれぞれ測定した。その結果を表1,2に示す。
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【0021】
【発明の効果】
この発明は、めっき前及びめっき中に不活性ガスによるバブリングを行い、めっき浴中を常に置換ガスで充満させておくことにより、ハンダめっき被膜中に吸蔵されるH2ガス量を低減でき、かかる発明方法にて、微小金属球にハンダめっき被膜を設けると、実施例に明らかなようにハンダめっき被膜を設けた微小金属球がパッケージボードに加熱装着した際に被膜の膨れが激減し、基板から微小金属球が剥離飛散する問題が解消される。
Claims (2)
- 直径が 0.1mm 〜 1.0mm の微小金属球をハンダめっき液中に浸漬前または浸漬後に、前記めっき液を不活性ガスにてバブリングして溶存O2量を予め2ppm 以下に低減し、さらに前記バブリングを行いながら電気めっきして微小金属球の外周面に所定厚みのハンダめっき被膜を設けたことを特徴とする微小金属球のハンダめっき法。
- 請求項1において、バブリング時の不活性ガス流量が、50ml/分〜1000ml/分である微小金属球のハンダめっき法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18883496A JP3777222B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 微小金属球のハンダめっき法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18883496A JP3777222B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 微小金属球のハンダめっき法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1018096A JPH1018096A (ja) | 1998-01-20 |
JP3777222B2 true JP3777222B2 (ja) | 2006-05-24 |
Family
ID=16230663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18883496A Expired - Fee Related JP3777222B2 (ja) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | 微小金属球のハンダめっき法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3777222B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4029639A4 (en) | 2019-09-11 | 2023-04-12 | Shinryo Corporation | SN-BI BASED LOW MELTING POINT CONNECTOR, METHOD OF MANUFACTURE THEREOF, SEMICONDUCTOR ELECTRONIC CIRCUIT AND ASSEMBLY METHOD THEREOF |
JP7080939B2 (ja) | 2020-09-04 | 2022-06-06 | 株式会社新菱 | 低融点接合部材およびその製造方法ならびに半導体電子回路およびその実装方法 |
-
1996
- 1996-06-28 JP JP18883496A patent/JP3777222B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1018096A (ja) | 1998-01-20 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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