JP3765395B2 - 石英ガラスの製造装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は石英ガラスの製造装置に係わり、特に、製造装置に高電圧を印加する電極を設けることにより石英ガラスが金属汚染されるのを防止する石英ガラスの製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
高純度で耐熱性に優れているため、多くの石英ガラス部材が半導体産業等において使用されている。この石英ガラス部材に用いられる石英ガラスの製造方法には、天然水晶、珪石または珪砂を原料とする製造方法と、四塩化珪素を高温の酸水素火炎中で加水分解して製造する等の合成石英ガラスの製造方法とがある。
【0003】
図3に示すように、前者の天然石英ガラス原料を使用する石英ガラスの製造方法に用いられる石英ガラスの製造装置41は、原料タンク42に収納された原料粉を、原料タンク42の下方に設けられた原料供給装置43に供給し、この原料供給装置43により一定量づつ供給された原料粉をバーナ44により加熱して、溶融ガラスとして生成し、溶融炉45内に設けられた耐火物製の溜込容器46に堆積させ、溜込容器46の形状に合わせて、ロッド状または角柱状の石英ガラスブロックを製造するものである。この製造されたブロック状石英ガラスは、次工程で所定の肉厚に切断され種々に用途に使用される石英ガラス板となる。
【0004】
また、後者の四塩化珪素を高温の酸水素火炎中で加水分解して製造する等の合成石英ガラスの製造方法には、特開昭63−282133号公報に記載のような方法がある。この公報記載の合成石英ガラスの製造方法は、石英ガラス原料としてのH、OおよびSiClの混合ガスをバーナに導入し、バーナにより溶融ガラスとして生成し、溶融炉内に設けられた溜込容器に堆積させ、溜込容器の形状に合わせて、ロット状または角柱状の石英ガラスブロックを製造するものである。
【0005】
しかしながら、図3に示すような前者の天然石英ガラス原料を用いる石英ガラス製造装置41、あるいは、後者の特開昭63−282133号公報に記載の合成石英ガラスの製造装置も共に、単に炉体内に耐火物製溜込容器が収納されているだけであるので、溜込容器の耐火物とこの溜込容器に溜込まれた石英ガラスとの接触溶融であり、さらにほぼ密閉に近い溶融炉であるため、溜込容器を形成しジルコニア製のレンガやレンガ内表面にジルコニア微粉末を塗布した耐火物、溶融炉の炉材からの不純物汚染で石英ガラスの純度を悪化させていた。特に、溜込容器と石英ガラス界面付近における不純物汚染が多く、その汚染部は切断除去する必要があり歩留を低下させる要因となっていた。
【0006】
また、緻密質のジルコニア製レンガを溜込容器に使用した場合、溶融石英ガラスとの剥離性が悪く、石英ガラスブロックの容器接触面部に細かなクラックが発生するなどの問題点があり、さらに、ジルコニア微粉末を塗布する場合、作業性が悪く、コスト高となる問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、耐火物からの不純物汚染の影響が少なく、製品歩留が良く、生産性の高い石英ガラスの製造装置が要望されていた。
【0008】
本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、耐火物からの不純物汚染の影響が少なく、製品歩留が良く、生産性の高い石英ガラスの製造装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するためになされた本願請求項1の発明は、供給される石英ガラス原料を溶融ガラスとして生成するバーナと、金属汚染の少ない耐火物からなり前記溶融ガラスを溜込んで石英ガラスブロックにする溜込容器と、この溜込容器が収納される断熱炉体と、この断熱炉体と前記溜込容器間に設けられ高電圧が印加される電極とを有することを特徴とする石英ガラスの製造装置であることを要旨としている。
【0010】
本願請求項2の発明では、上記溜込容器は、かさ密度が2.5〜2.7g/cmのジルコニア製であることを特徴とする請求項1に記載の石英ガラスの製造装置であることを要旨としている。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係わる石英ガラスの製造装置の第1の実施形態について添付図面を参照して説明する。
【0012】
図1は、本発明に係わる石英ガラスの製造装置の第1の実施形態の概念図であり、本石英ガラスの製造装置は酸水素火炎溶融法に用いられる。
【0013】
図1に示すように、本第1の実施形態の石英ガラスの製造装置1は、天然石英ガラス原料(粉)、例えば水晶粉が収納される原料タンク2と、この原料タンク2の下方に設けられ原料粉を定量供給するガラス原料供給装置3と、このガラス原料供給装置3の下方に設けられ原料粉を加熱し、溶融ガラスとして生成する酸水素火炎バーナ4と、このバーナ4の下方に設けられた溶融炉5とを有している。
【0014】
この溶融炉5は、バーナ4の下方に配置され、高純度の耐火物からなる溜込容器6と、この溜込容器6を収納する断熱炉体7と、この断熱炉体7を囲繞する外筐8とを有する二重構造で構成されている。また、溜込容器6と断熱炉体7間には、例えば20〜30mmの空隙9が形成され、この空隙9には断熱性を損なわないために断熱材10が充填され、さらに、断熱材10には断熱炉体7を貫通する電極11が挿入されており、この電極11は、高電圧発生電源12に接続されている。
【0015】
また、上記溜込容器6は、バーナ4から落下する溶融ガラスを溜込んで石英ガラスブロック(インゴット)Igにするためのものであり、例えば、円形リング形状あるいは矩形リング形状の枠体6aと底板6bとで形成されており、所望する石英ガラスインゴットの寸法、形状により、所定の枠体6aと底板6bを組み合わせて使用する。その材質としては、石英ガラスが溶融される1800℃以上の耐熱性がある材質であれば特に規制されないが、金属汚染の少ない耐火物、例えば、ジルコニアや炭化珪素等を一種のみで、あるいは、これらを組み合わせて使用する。特に好ましくは、ジルコニアであり、このジルコニアのかさ密度を2.5〜2.7g/cmとすることが好ましい。かさ密度が2.5g/cmより小さいと、強度が不足して、溶融中、溜込容器5の倒れなどが発生する。逆に3.0g/cmより大きいと、石英ガラスブロックの容器接触面部にクラックが発生し易くなる。
【0016】
さらに、断熱材10としては、粒径1〜5mmの中空粒子のジルコニアやAl等を用いることが好ましい。
【0017】
また、上記電極11に印加される高電圧の極性は、陽極とすることが好ましい。その理由は断熱材10に高電圧を印加することにより、断熱材10は陽極に帯電し、溜込容器6外部からのNa、K、Li、Cuの陽イオンは、同極性であるため、反発し、溜込容器6への侵入を抑制することが可能である。また、印加電圧については、容器寸法などによって決定されるが、10〜20kVの範囲とすることが好ましい。
【0018】
さらに、電極11としては、Pt、カーボン、モリブデン、タングステン等が使用可能であるが、酸化雰囲気であるため、PtにRhを添加したものが好ましい。カーボン、モリブデン、タングステンを使用した場合、酸化による消耗があるため、酸化防止の処置が必要となる。Pt電極の構造としては、特に規制はないが、断熱材の充填作業等作業性を考慮して、棒状とすることが望ましく、断熱材層に50mm以下の間隔に挿入するのが好ましい。
【0019】
次に本発明に係わる石英ガラスの製造装置を用いた石英ガラスの製造方法について説明する。
【0020】
図1に示すような石英ガラスの製造装置1の原料タンク2に原料粉を収納し、さらに、断熱炉体9内に底板6bを配置し、この底板6bに所定の大きさ、形状の枠体6aを載置して、溜込容器6を形成し、しかる後、バーナ4に酸素および水素を送って点火する。また、溶融炉5の加熱を開始して、溜込容器6、断熱炉体7等を加熱する。
【0021】
このバーナ4が点火されたらガラス原料供給装置3を介して原料タンク2から原料粉をバーナ4に供給する。さらに、溜込容器6と断熱炉体7間に設けられた電極11には、高電圧発生電源12を介して高電圧が印加される。
【0022】
このように電極11に高電圧が印加された状態で、バーナ4に供給された原料粉はバーナ4に発生している酸水素火炎によって加熱、溶融され溶融炉5内に配置された溜込容器6に溜め込まれ、徐々に冷却されて所望の石英ガラスブロックIgになり、石英ガラスブロックIgが製造される。
【0023】
このような石英ガラスの製造工程において、溜込容器6と断熱炉体7間に充填された断熱材10に埋設された電極11を、バーナ4の火炎点火と同時に高電圧を印加することにより、断熱材10は陽極に帯電し、溜込容器6の外部の断熱炉体7からのNa、K、Li、Cuの陽イオンは、同極性であるため、反発し、溜込容器6へ侵入するのが抑制され、断熱炉体7からの不純物の影響を少なくすることが可能となり、高純度な石英ガラスブロックIgが製造される。このようにして製造された石英ガラスブロックIgは、次工程で所定肉厚にスライスされ石英ガラス板材となる。
【0024】
さらに、点火から溶融原料供給開始に至るまでの溜込容器6の加熱工程において、溜込容器6自体に含有する上記のような不純物イオンの蒸発を促進させることが可能であり、溜込容器6自体の純化が図れ、従来に比べて、溜込容器6と断熱炉体7を形成する耐火物からの不純物汚染を減少させることができ、高純度な石英ガラスブロックIgが溶融可能となる。
【0025】
このようにして溶融された石英ガラスブロックIgは、溜込容器6の耐火物にかさ密度2.5〜2.7g/cmのジルコニアを用いているので、耐火物との剥離性が優れ、接触部にクラックは見られず良好な外観となる。
【0026】
さらに従来の容器材のように、レンガを組み合わせた構造およびこのレンガ表面にZr0粉末を塗布する方法に比べ、溜込容器の組込み作業を容易に行なうことができ、石英ガラスの製造コストの低減が図れる。
【0027】
次に、本発明に係わる石英ガラスの製造装置の第2の実施形態について説明する。
【0028】
本第2の実施形態は、上述した第1の実施形態が天然石英原料分をバーナによって加熱、溶融する酸水素溶融法に用いられる製造装置であるのに対して、四塩化珪素等の珪素化合物を酸水素炎中で加水分解させて生成したシリカ微粒子を堆積させる合成石英ガラス製造方法に用いられる製造装置である。
【0029】
例えば、図2に示すように、本第2の実施形態の石英ガラスの製造装置21は、バーナ22と、このバーナ22の下方に設けられた溶融炉23とを有している。
【0030】
この溶融炉23は、バーナ22の下方に配置され、高純度の耐火物からなる溜込容器24と、この溜込容器24をほぼ気密的に収納する断熱炉体25と、この断熱炉体25を囲繞する外筐26とを有する二重構造で構成されている。
【0031】
溜込容器24は底板24bと枠体24aで形成され、また、溜込容器24と断熱炉体25間には、20〜30mmの空隙27が形成され、この空隙27には、上述した第1の実施形態と同様の断熱材28が充填され、さらに、断熱材28には断熱炉体25を貫通する電極29が挿入されており、この電極29は、高電圧発生電源30に接続されている。
【0032】
また、バーナ22には、四塩化珪素流量制御器31に接続された四塩化珪素気化器32が接続され、さらに、酸素流量制御器33を介して酸素供給源(図示せず)および水素流量制御器34を介して水素供給源(図示せず)に接続されている。
【0033】
さらに、気密的に溜込容器24を収納する断熱炉体25には、内圧測定センサー35に制御され断熱炉体25の圧力を制御する内圧制御器36およびこの内圧制御器36に連通する排ガス吸引ファン37が接続されている。
【0034】
次に本第2の実施形態を用いた石英ガラスの製造方法について説明する。
【0035】
図2に示すような石英ガラスの製造装置21の断熱炉体25内に底板24bを配置し、この底板24bに所定の大きさ、形状の枠体24aを載置して、溜込容器24を形成し、しかる後、溶融炉23の加熱を開始して、溜込容器24、断熱炉体25等を加熱する。また、溜込容器24と断熱炉体25間に設けられた電極29に、高電圧発生電源11を介して高電圧を印加する。さらに、溶融炉23が加熱されたら、酸水素火炎バーナ22を点火し、四塩化珪素を酸水素炎中で加水分解させて生成したシリカ微粒子を軟化状態に保ったまま、溶融炉23内に配置された溜込容器24に溜め込まれ、徐々に冷却されて所望の石英ガラスブロックIgになり、石英ガラスブロックIgが製造される。
【0036】
このような石英ガラスの製造工程において、シリカ微粒子の生成に先だって溜込容器24と断熱炉体25間に充填された断熱材28に埋設された電極29に高電圧を印加することにより、上述第1の実施形態と同様に、断熱材28は陽極に帯電し、溜込容器24の外部の断熱炉体25からのNa、K、Li、Cuの陽イオンは、同極性であるため、反発し、溜込容器24へ侵入するのが抑制され、断熱炉体25からの不純物の影響を少なくすることが可能となり、生成されたシリカ微粒子が断熱炉体25からの不純物の影響を少なくすることが可能となり、高純度な石英ガラスブロックIgが製造される。
【0037】
さらに、シリカ微粒子の生成に先だって溜込容器24を加熱することにより、溜込容器24自体に含有する上記のような不純物イオンの蒸発を促進させることが可能であり、溜込容器24自体の純化が図れ、従来に比べて、溜込容器24と断熱炉体25を形成する耐火物からの不純物汚染を減少させることが出来、高純度な石英ガラスブロックIgが製造可能となる。
【0038】
このようにして溶融された石英ガラスブロックIgは、耐火物との剥離性が優れ、接触部にクラックは見られず良好な外観であった。
【0039】
なお、上述した第1の実施形態および第2の実施形態において、電極を断熱炉体と溜込容器間に充填された断熱材に埋設させた例で説明したが、本発明に係わる石英ガラスの製造装置は、断熱材を埋設しない空隙に電極を配置して、上記空間に電場を作り、断熱炉体からのNa、K、Li、Cuの陽イオンを反発させて、溜込容器への侵入を防止するようにしてもよい。
【0040】
【実施例】
(試験1)
試験方法:図1に示すような本発明に係わる石英ガラスの製造装置を使用し、材質としてかさ密度2.7g/cmのジルコニアを用い、寸法(W)500×(h)320×(t)20mmのプレートを4枚組み合わせ、460×460高さ320mmの角状溜込容器を作り、溜込容器と断熱炉体との間の空隙に粒径1〜5mmのジルコニア中空粒子を断熱材として充填し、石英ガラスブロックを溶融した(実施例1)。
【0041】
試験結果:
(実施例1);溶融された石英ガラスブロックは、耐火物との剥離性が優れ、接触部にクラックは見られず、良好な外観であった。
【0042】
(比較例1);実施例1に準じ、かさ密度4.4のジルコニアを溜込容器材として使用したところ、溶融石英ガラスの耐火物接触部にクラックが発生した。
【0043】
(比較例2);実施例1に準じ、かさ密度2.4g/cmのジルコニアプレートを容器材として使用したところ、溶融途中でプレートが倒れるという問題が発生した。
【0044】
(試験2)
試験方法:試験1と同様の製造装置を用い、溜込容器と断熱炉体間の断熱材に、線径0.5mmのPt−Rh線を電極とし、約50mm間隔に挿入し、+10kVの高電圧を印加した(実施例2)。
【0045】
試験結果:
(実施例2);石英ガラスブロックが溜込容器底板と接触する石英ガラスブロックの接触面からの所定距離毎に測定した不純物汚染状態を表1に示す。
【0046】
(比較例3);実施例2に準じ、高電圧を印加しない場合の耐火物界面での不純物濃度を表1に示す。
【0047】
【表1】
Figure 0003765395
【0048】
実施例2は、比較例3に比べてNaの濃度が1/10、Kの濃度が1/3となり、その濃度が著しく小さくなることが分かった。Alでも濃度が20%小さいことが分かった。
【0049】
【発明の効果】
本発明に係わる石英ガラスの製造装置によれば、耐火物からの不純物汚染の影響が少なく、製品歩留が良く、生産性の高い石英ガラスの製造装置を提供することができる。
【0050】
すなわち、供給される石英ガラス原料を溶融ガラスとして生成するバーナと、金属汚染の少ない耐火物からなり溶融ガラスを溜込んで石英ガラスブロックにする溜込容器と、この溜込容器が収納される断熱炉体と、この断熱炉体と溜込容器間に設けられ高電圧が印加される電極とを有する石英ガラスの製造装置であるので、断熱炉体からの不純物の影響を少なくすることが可能となり,高純度な石英ガラスブロックを製造することができる。
【0051】
また、溜込容器は、かさ密度が2.5〜2.7g/cmのジルコニア製であるので、耐火物からの不純物汚染の影響をなくし、耐火物との剥離性が優れ、接触部にクラックのない石英ガラスブロックを製造するのに有効である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる石英ガラスの製造装置の第1の実施形態の概念図。
【図2】本発明に係わる石英ガラスの製造装置の第2の実施形態の概念図。
【図3】従来の石英ガラスの製造装置の概念図。
【符号の説明】
1 石英ガラスの製造装置
2 原料タンク
3 ガラス原料供給装置
4 酸水素火炎バーナ
5 溶融炉
6 溜込容器
6a 枠体
6b 底板
7 断熱炉体
8 外筐
9 空隙
10 断熱材
11 電極
12 高電圧発生電源
21 石英ガラスの製造装置
22 酸水素火炎バーナ
23 溶融炉
24 溜込容器
25 断熱炉体
26 外筐
27 空隙
28 断熱材
29 電極
30 高電圧発生電源
31 四塩化珪素流量制御器
32 四塩化珪素気化器
33 酸素流量制御器
34 水素流量制御器
35 内圧測定センサー
36 内圧制御器
37 排ガス吸引ファン

Claims (2)

  1. 供給される石英ガラス原料を溶融ガラスとして生成するバーナと、金属汚染の少ない耐火物からなり前記溶融ガラスを溜込んで石英ガラスブロックにする溜込容器と、この溜込容器が収納される断熱炉体と、この断熱炉体と前記溜込容器間に設けられ高電圧が印加される電極とを有することを特徴とする石英ガラスの製造装置。
  2. 上記溜込容器は、かさ密度が2.5〜2.7g/cmのジルコニア製であることを特徴とする請求項1に記載の石英ガラスの製造装置。
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