JP3750067B2 - ワックスのヒドロ異性化用二元機能触媒 - Google Patents
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Description
本発明は、β−ゼオライトと同形のボロ−シリケート又はボロ−アルミノ−シリケート及び周期律表第VIIIA族に属する1以上の金属でなる二元機能触媒、その調製及び炭素原子15個以上を含有する長鎖n−パラフィンのヒドロ異性化における使用に係る。
【0002】
ワックスを異性化して低い流動点及び高い粘度指数の値によって特徴づけられる潤滑油用の基剤を生成する方法は好適な触媒の使用を必要とする。
【0003】
実際のところ、ワックス(主として(80重量%以上)炭化水素15個以上のn−パラフィンでなり、室温において固状である)は相当する分枝状異性体(直線状異性体よりも低い融点を示す)に変化されなければならない。事実、n−C16パラフィンは融点19℃を有し、一方、その5−メチルペンタデカン異性体は−31℃で溶融する。
【0004】
しかしながら、有効なヒドロ異性化触媒は、可及的なクラッキング及びヒドロクラッキング反応(同じ酸性部位によって触媒作用を受け、中間体としてヒドロ異性化に有用な同じカルボカチオンを有する)を最小に維持するものでなければならない。これらの副反応は分子の減成を生じ、軽質、価値の低い生成物を生成し、これらは揮発性を増大させるため、最終生成物から除去されなければならない。これは明らかに方法全体の負担となる。
【0005】
この方法に関連して、二元機能触媒(すなわち、酸性部位及び水素化−脱水素活性部位の両方を有する触媒)が開発されている。触媒の酸性度は選択した無定形又は結晶性の担体の種類によって左右され、その機能は正確に異性化活性である。
【0006】
水素化−脱水素活性は、付着された金属相によって触媒に付与され、その機能もクラッキングを最小にすることにある。
【0007】
過去においては(J.F.Le Page,Applied Heterogeneous Catalyst,Technip編,Paris,1987,435〜466)、水素化活性が同一の場合、最も選択的な触媒は担体が制御された酸性度を有し、クラッキングと比べてn−パラフィンの異性化を最高にするものであることが証明されている。しかしながら、異性化に続いてクラッキング反応が生ずるため、異性化反応の最大選択率は低い変化率レベルにおいて得られる(G.Fromentら,Ind.Eng.Chem.Prod.Res.Dev.,1981,20,p.654〜660)。一般に、ワックスの変化率は、クラッキング反応によって生ずる軽質の生成物の生成を最小にするため20〜40重量%に制限される。
【0008】
各種の触媒の有効性は、n−パラフィンとしてのモデル化合物について、所定のn−パラフィンの変化率:異性化生成物への選択率の比を測定することによって評価される。
【0009】
ワックスをヒドロ異性化して潤滑油用の基剤原料を生成することに関して、第VIIIA族の金属で官能化したゼオライトを使用することはしばしば報告されている。たとえば、ヨーロッパ特許公開第440,540号にはオメガ−ゼオライトの使用が開示され、ヨーロッパ特許公開第431,448号にはZSM−5の使用、米国特許第4,541,919号には、アルカリ土類金属とイオン交換したゼオライトX、Yの使用が開示されている。
【0010】
さらに、米国特許第4,419,220号、同第4,518,485号及び同第4,975,177号、同第4,554,065号、ヨーロッパ特許公開第464,546号、米国特許第4,788,378号には、各種の変性β−ゼオライト(後述する)+水素化−脱水素成分の使用が開示されている。
【0011】
β−構造を有するゼオライトは、アルミノ−シリケートとして(米国特許第3,308,069号)、ボロ−シリケートとして(ベルギー国特許第877,205号;米国特許第5,110,570号)又はボロ−アルミノ−シリケートとして(ヨーロッパ特許公開第172,715号;米国特許第5,110,570号)調製される。
【0012】
水熱合成では、米国特許第4,518,485号に開示された如くSiO2:Al2O3 の最大モル比100:1をもつβ−構造のアルミノシリケートが得られる。
【0013】
ゼオライト構造中に存在するアルミニウムは酸性部位の形成に関与することが知られている。上述の特許によれば、かかる部位は異性化反応を促進するために必要であるが、あまりにも多数存在する際には、望ましくないクラッキング反応を促進することが明らかである。
【0014】
この理由のため、従来技術は、制御された酸性度(かかる制御は酸性部位の数について、すなわち触媒中に含まれるアルミニウムの量について行われる)をもつβ−ゼオライトの使用を開示している。
【0015】
このようなパラメーターは、下記の2つの方法に従って変更される。
(1)米国特許第4,419,220号、同第4,518,485号、同第4,975,177号、同第4,554,065号に開示された如く、酸抽出及び/又は水蒸気の存在下における加熱処理によるアルミニウムの除去。このようにして、100:1以上、又は250:1又は500:1程度の高いモル比が得られる。
(2)β構造を有するボロ−アルミノ−シリケートの水熱合成。
アルミニウムのホウ素による部分置換により、より高いSiO2:Al2O3 モル比をもつβ−ゼオライトを合成できる。しかしながら、酸性度が充分に低いレベルに、すなわちクラッキングではなく、異性化を促進し得るレベルに低減された物質を得るためには、直接合成によって得られた物質に関して、水蒸気処理(ヨーロッパ特許公開第464,546号)によって含有されるアルミニウムのレベルを低下させることにより、又はSiCl4 での処理(米国特許第4,788,378号)によってホウ素を交換することによりさらに変性させる必要性がなお残っている。
【0016】
要約すると、従来技術によると、β−ゼオライトは異性化反応において活性であり、そのままで、n−パラフィンのヒドロ異性化において水素化−脱水素機能の存在下で使用される。その異性化活性は、そのフレームワーク内に含有されるアルミニウム原子によって生ずる酸性部位の存在によって与えられる。かかる部位の数は望ましくないクラッキング反応を抑制して異性化反応の選択率に影響を有する。
【0017】
物質中に存在する酸性部位の数を制限することは、製造段階及び触媒コストの点でかなりの負担となる。
【0018】
米国特許第4,788,378号及びヨーロッパ特許公開第464,546号に開示されたホウ素の導入は、水熱合成の工程の間に入ったアルミニウムを低減させることを可能にする明らかに有効な唯一の手段であるが、物質を変性させるための工程が常に要求される。従来の技術によれば、ホウ素に関して検討した反応では触媒活性は予測できない。これに対してホウ素の除去は有効である(米国特許第4,788,378号)。
【0019】
本発明は、ワックスのヒドロ水素化において有効な触媒の製法に係り、当該触媒は従来技術に影響を及ぼす欠点を示さない。すなわち、アルミニウムの除去又はホウ素の交換の如き他の処理を何ら必要としない。
【0020】
発明者らは、水熱合成の間にすべてのアルミニウムがホウ素によって交換されたβ−ゼオライト(ベルギー国特許第877,205号によるBOR−B)を、水素化−脱水素反応において有効な1つの成分と共に使用する際には、高い異性化反応の選択率が得られ、クラッキング反応に向かう物質の活性が非常に低いとの予測できない知見を得た。
【0021】
水熱合成の間に極微量のアルミニウムは入るが、SiO2:Al2O3 のモル比が300:1以上であれば良好な選択率をもつ物質が得られる。直接合成によって得られた当該物質は、アルミニウムの除去又はいずれにしても酸性部位の数の低減を目的とする後処理を何ら必要とせず、製法をかなり簡素化できる。
【0022】
最終的に合成された生成物は1〜5の範囲内のα−テスト値を示す。
【0023】
このように、本発明は、炭素原子15個以上を含有するn−パラフィンをヒドロ異性化する方法において、ヒドロ異性化条件下、n−パラフィン又はn−パラフィンの混合物を、(a)SiO2:Al2O3 のモル比が300:1以上、好ましくは500:1以上であるボロ−シリケート(BOR−B)及びボロ−アルミノ−シリケート(Al−BOR−B)の中から選ばれるβ−ゼオライトと同形の多孔性の結晶性物質、(b)周期律表第VIIIA族に属する1以上の金属(好ましくは白金及びパラジウムの中から選ばれる)0.05〜5重量%、好ましくは0.1〜1重量%を包含してなる二元機能触媒と接触させることを特徴とするn−パラフィンのヒドロ異性化法に係る。
【0024】
本発明の他の目的は、上述のヒドロ異性化法において使用される触媒の製法にある。
【0025】
かかる製法は2つの工程からなり、その第1工程はβ−ゼオライトと同形のBOR−B又はAl−BOR−Bの調製であり、第2工程は当該多孔性の結晶性物質の第VIIIA族に属する金属による含浸である。
【0026】
このように、ヒドロ異性化法で使用される触媒の製法は、(1)ボロ−シリケート及びボロ−アルミノ−シリケートの中から選ばれるβ−ゼオライトと同形の多孔性の結晶性物質を調製する第1工程と、(2)この工程(1)で得られたゼオライトを第VIIIA族から選ばれる金属で処理する第2工程とを包含してなる。
【0027】
第1工程において、米国特許第5,110,570号に開示されたように、ケイ素源、ホウ素源、アルカリ金属水酸化物(MEOH)、テトラアルキルアンモニウム塩(R+)、蒸留水及び任意にアルミニウム源を含有する混合物を調製する。この混合物の組成は次のとおりである(酸化物として表示)。
SiO2/B2O3 > 1
R/SiO2=0.1〜1.0
ME/SiO2=0.01〜1.0
H2O/SiO2=5〜80
SiO2/Al2O3 > 300、好ましくは>500(ボロ−アルミノ−シリケートの場合)
この混合物に種晶1〜60%の一定量を添加してもよい。かかる種晶は同じ組成を有し、反応混合物の自然発生圧力下、温度90〜160℃、少なくとも1日間、水熱条件下での部分結晶化に予め供したものである。
【0028】
得られた混合物を、オートクレーブ中、水熱条件、自然発生圧力下において温度90〜160℃で加熱する。
【0029】
結晶化時間は1〜7日間であり、種晶の存在下では短時間となる。
【0030】
終了後、反応混合物をオートクレーブから排出し、結晶性物質を濾過によって回収し、蒸留水で洗浄し、120℃で数時間乾燥させる。従来技術から公知の方法に従って、得られた生成物をイオン交換に供して酸形に変換させる。
【0031】
本発明による方法で使用されるケイ素源は、コロイドシリカ、シリカゲル、ナトリウムシリケート等の中から選ばれ、好ましくはコロイドシリカである。ホウ素源は、ホウ酸、アルカリボレート、トリアルキルボレート等であり、ホウ酸が好適である。有機テンプレートとしては、テトラアルキルアンモニウム塩、好ましくはテトラエチルアンモニウム水酸化物を使用できる。
【0032】
上述の如くして得られた酸形のゼオライトを、ついで第VIIIA族から選ばれる金属(好ましくはパラジウム又は白金)で少なくとも部分的に被覆できる操作に供する(工程2)。
【0033】
この第2の工程は、水性媒体での含浸又はイオン交換によって行われる(好ましくは含浸による)。
【0034】
含浸技術によれば、室温において又は室温に近い温度で操作して、第1工程から得られたゼオライトを、金属化合物(たとえばクロロ白金酸又はPd(NH3)4(NO3)2)の水溶液で湿潤させる。
【0035】
水性含浸の後、固状物質を好ましくは空気中、室温又は室温に近い温度で乾燥させ、ついで酸化雰囲気(好ましくは空気)中で加熱処理に供する。この加熱処理に好適な温度は200〜600℃である。ついで、条件を制御して、粒子(工程1で調製したもの)上に金属0.05〜5重量%、好ましくは0.1〜2重量%を析出させる。
【0036】
イオン交換法によれば、室温又は室温に近い温度で操作して、工程(1)で得られたゼオライトを貴金属錯体又は塩の水溶液(たとえばPt(NH3)4(OH)2、Pt(NH3)4Cl2、Pd(NH3)4(NO3)2 の水溶液)中に懸濁させる。イオン交換後、得られた固状物質を分離し、水で洗浄し、乾燥し、最後に不活性及び/又は酸化雰囲気中での熱処理に供する。この目的には、200〜600℃の範囲の加熱処理温度が有効である。ついで、条件を調整して、処理したゼオライト上に金属0.05〜5重量%、好ましくは0.1〜2重量%を析出させる。
【0037】
本発明による触媒は、そのままで又は結合剤として作用する好適な不活性の固状物質と組合せて使用される。
【0038】
シリカ、アルミナ、チアニア、マグネシア及びジルコニアの如き種類の酸化物(個々に又は相互に組合せて使用される)が好適である。触媒及び結合剤は相互比(重量)30:70〜90:10、好ましくは50:50〜70:30で混合される。両成分を圧縮して所望の最終形状(たとえば押出し物又はペレット)を付与する。
【0039】
本発明による方法から得られた触媒は、乾燥及び/又は還元によって、好ましくは乾燥及びつづく還元によって活性化される。乾燥は不活性雰囲気下、温度100〜400℃で行われ、還元はサンプルを還元雰囲気下、温度150〜500℃における熱処理に供することによって行われる。
【0040】
上述の方法に従って調製された触媒はヒドロ異性化法(連続式又はバッチ式で行われる)において活性である。
【0041】
ヒドロ異性化は、H2の存在下、温度200〜540℃、好ましくは250〜450℃、圧力大気圧〜25000kPa、好ましくは4000〜10000kPaで好適に行われる。
【0042】
有効な触媒量(ヒドロ異性化されるべきn−パラフィン又はn−パラフィン混合物に対する重量百分率で表示される)は、一般に0.5〜30重量%、好ましくは1〜15重量%である。
【0043】
本発明をさらに良好に説明するため、以下にいくつかの実施例を例示する。
【0044】
【実施例1】
(触媒1)
このボロ−シリケートはベルギー国特許第877,205号に開示されている。
【0045】
NaOH 3.0g及びホウ酸6.4gを40%テトラエチルアンモニウム水酸化物水溶液28.1gに溶解させた。これにより透明な溶液が得られ、これを蒸留水30.0gで希釈し、Ludox ASシリカ(シリカ 30重量%を含有する)51.0gに添加した。
【0046】
得られた懸濁液(pH 12.2)を室温で4時間撹拌し、ついでオートクレーブに充填して、静止条件下、自然発生圧力、150℃において7日間結晶化させた。
【0047】
この時間の経過後、得られた生成物を排出し、洗浄し、乾燥させた。
【0048】
この物質をX線分析によって分析したところ、純粋なBOR−Bの構造を示した。
【0049】
生成物を550℃で5時間か焼し、酢酸アンモニウム溶液での処理及びつづく上述の条件下でのか焼によって酸形に変換させた。
【0050】
得られた物質はSiO2:B2O3 のモル比の値45を示し、n−ヘキサンとのクラッキング反応でテストする場合、α値=1を示す。
【0051】
このβ−ゼオライト上に水性含浸によってPt金属相を析出させた。
【0052】
詳述すると、上述の如く調製し、晶析装置に充填したβ−ゼオライト 10g上に、的確に混合しながら、H2PtCl6(0.45% 重量/容量)及び(0.6M)HClを含有する水溶液12.6mlを滴加した。反応体を16時間接触させ、ついで60℃で1時間加熱することによって水を蒸発させ、つづいてサンプルをなお空気中、150℃で2時間乾燥させた。マッフル炉を23℃から500℃に90分間で加熱しながら、流動する空気流下、500℃で3時間か焼を行った。
【0053】
【実施例2】
(触媒2)
米国特許第5,110,570号に開示された如く以下のように操作することによってAl−BOR−B合成用の種晶の懸濁液を調製した。
【0054】
蒸留水30gにNaOH 4g及びホウ酸8gを溶解させた。この溶液に、40%テトラエチルアンモニウム水酸化物水溶液35g及び予め水10gに溶解させたAl(NO3)2・9H2O 0.2gを添加した。このようにして得られた溶液をLudox ASシリカ(30重量%)64gに添加した。
【0055】
これにより混合物「A」が得られ、これを室温に約4時間静置し、ついでオートクレーブに充填し、静止条件下、自然発生圧力、温度150℃で5日間結晶化させた。
【0056】
このようにして調製された種晶懸濁液26gを、混合物「A」と同じ組成を有する混合物155gに添加した。
【0057】
撹拌しながら、自然発生圧力下、150℃で3日間結晶化させた後、アルミニウムを含有するBOR−Bを得た。酸形に変換させた後、生成物はα値=4を示した。組成は次のとおりである。
SiO2/Al2O3=698
SiO2/B2O3=41
このようにして得られたボロ−アルミノ−シリケートを実施例1に記載のように白金の含浸工程に供した。
【0058】
【実施例3】
(比較例:触媒3)
14重量%テトラエチルアンモニウム水酸化物溶液65.5g中にNaOH 0.8g、NaAlO2 0.4g及びH3BO3 3.7gを溶解させることによって反応体混合物「A」を調製した。得られた透明な溶液にLudox HSシリカ(40重量%)31.2gを添加した。得られた「A」混合物をオートクレーブに充填し、静止条件下、自然発生圧力、150℃で2日間結晶化させた。このようにして、ミルク様の種晶懸濁液を得た。
【0059】
このミルク様の種晶懸濁液24gを、「A」混合物と同じ組成を有する混合物130gに添加した。得られた懸濁液を自然発生圧力、静止条件下、150℃で2日間結晶化させた。
【0060】
酸形に変換させた後、生成物は次のモル組成を有していた。
SiO2/B2O3=43
SiO2/Al2O3=90
実施例1と同じ操作法に従って、得られたAl−BOR−Bに白金を含浸させた。
【0061】
【実施例4】
(比較例:触媒4)
米国特許第3,308,069号に開示されたものと同様の条件下でβ−ゼオライトを調製した。
【0062】
40%(重量/重量)テトラエチルアンモニウム水酸化物(TEA−OH)水溶液59.8g及びアルミン酸ナトリウム 1.9gを脱塩水58.4gに添加した。得られた混合物を約80℃まで加熱し、NaAlO2 が完全に溶解するまで撹拌を続けた。得られた溶液をLudox HSコロイド状シリカ(40重量%)48.7gに添加した(SiO2:Al2O3のモル比の値=28)。
【0063】
pH 14の得られた均質懸濁液をステンレス鋼製のオートクレーブに充填し、水熱条件、静止条件下、自然発生圧力、150℃で10日間結晶化させた。結晶化生成物(純粋なβ−ゼオライトである)を濾取し、洗浄し、120℃で1時間乾燥させ、550℃で5時間か焼し、酢酸アンモニウムによるイオン交換及びつづく上記条件下でのか焼によって酸形に変換させた。
【0064】
実施例1に開示の如くして、水性含浸によってPt金属相をβ−ゼオライト上に付着させた。
【0065】
【実施例5】
実施例1による触媒を、マイクロオートクレーブ内において下記の条件下で行ったn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。
【0066】
ミクロオートクレーブは、鋼製本体とオートクレーブ加圧用、排気用及び必要であればガス生成物回収用の複数の弁及び安全(圧力リリーフ)用ディスクを具備するカバーとで構成される。撹拌装置は薄い内部金属ロッドで構成される。
【0067】
この反応器にC16パラフィン 8g及び触媒0.25gを充填した。冷時、系をH2で5MPaに加圧し、ついで温度360℃まで加熱した。反応器内の温度が所望の値に達した時点を0時点とした。120分後、反応器を冷却させ、その内部圧力を解放させ、反応混合物を回収した。
【0068】
変化率及び生成物の分布を測定するための生成物の分析を、得られた混合物についてガスクロマトグラフィー(架橋メチルシリコーンゴムHP−1カラム、原子発光検出器)によって直接に実施した。
【0069】
表1に変化率及び選択率の値を報告する。これらは下記の式に基づいて算定した。
【0070】
【数1】
式中、「イソ−C16」は炭素数16の異性体の混合物である。
【0071】
【実施例6】
実施例1による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は、温度を350℃に下げたことを除き実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0072】
【実施例7】
実施例1による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は、温度を340℃に下げたことを除き実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0073】
【実施例8】
(比較例)
実施例2による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0074】
【実施例9】
実施例4による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は、反応時間を60分間に短縮させたことを除き実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0075】
【実施例10】
実施例2による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は、温度を350℃に低下させたことを除き実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0076】
【実施例11】
実施例2による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は、温度を340℃に低下させたことを除き実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0077】
【実施例12】
実施例2による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は、温度を300℃に低下させたことを除き実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0078】
【実施例13】
(比較例)
実施例3による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は実施例6と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0079】
【実施例14】
(比較例)
実施例4による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は実施例6と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0080】
【実施例15】
(比較例)
実施例4による触媒をn−C16パラフィンのヒドロ異性化反応でテストした。反応条件は、温度を300℃に低下させたことを除き実施例5と同じである。変化率及び選択率の値を表1に報告する。
【0081】
【表1】
実施例5から、BOR−B及びPtを基材とする触媒が、技術文献で通常考慮されているものよりも高い変化率レベルにおいてC16異性体への選択率が極めて良好な値を示すことが理解される。
【0082】
実施例5、6及び7から、温度の上昇は変化率を低下させるが、C16異性体への選択率を96%まで上昇させることが理解される。
【0083】
実施例5及び8から、構造体内への少量のAlの導入は、他の実験条件が同一の場合、変化率を上昇させ、その結果C16異性体への選択率が70%に低下することで理解される。
【0084】
実施例8及び9から、反応時間の短縮は変化率を半分に低下させ、これに従って有用生成物への選択率が93%に上昇することが理解される。
【0085】
実施例8、10、11及び12から、低すぎる反応温度(300℃)では、変化率は20%よりも低い値に低下するが、中間の温度(340℃)では、変化率(75%):C16異性体への選択率(90%)の良好な比が得られることが理解される。
【0086】
実施例6、10、13及び14から、β構造をもつゼオライト、又は高すぎるAl含量を有し、アルミニウムの除去処理に供していないBOR−Bは、他の実験条件が同じである場合、ほぼ定量的変化率レベルの存在下で非常に低い選択率を示すことが理解される。
【0087】
反応温度を300℃に低下させる場合(実施例15)でも、変化率及び有用生成物への選択率の値は実質的に変化しない。
Claims (12)
- 炭素原子15個以上を含有するn−パラフィンをヒドロ異性化するための二元機能触媒であって、(a)SiO2:Al2O3のモル比が300:1以上であるボロ−シリケート(BOR−B)及びボロ−アルミノ−シリケート(Al−BOR−B)の中から選ばれるβ−ゼオライトと同形の多孔性の結晶性物質であって、酸形である多孔性の結晶性物質、(b)白金0.05〜5重量%を包含してなる、n−パラフィンのヒドロ異性化用二元機能触媒。
- SiO2:Al2O3のモル比が500:1以上である、請求項1記載のn−パラフィンのヒドロ異性化用二元機能触媒。
- SiO2:Al2O3のモル比が698:1以上である、請求項2記載のn−パラフィンのヒドロ異性化用二元機能触媒。
- β−ゼオライトと同形の多孔性の結晶性物質が、ボロ−アルミノ−シリケート(Al−BOR−B)である、請求項1記載のn−パラフィンのヒドロ異性化用機能二元触媒。
- 白金が0.1〜2重量%の量で存在する、請求項1記載のn−パラフィンのヒドロ異性化用二元機能触媒。
- 請求項1記載の触媒を製造する方法において、(1)SiO2:Al2O3のモル比が300:1以上であるボロ−シリケート(BOR−B)及びボロ−アルミノ−シリケート(Al−BOR−B)の中から選ばれるβ−ゼオライトと同形の多孔性の結晶性物質であって、酸形である多孔性の結晶性物質を調製する第1工程と、(2)前記工程(1)から得られたゼオライトを、イオン交換又は含浸によって白金で処理する第2工程とを包含してなる、n−パラフィンのヒドロ異性化用二元機能触媒の製法。
- 工程(2)を含浸法によって行う、請求項6記載の製法。
- 炭素原子15個以上を含有するn−パラフィンをヒドロ異性化する方法において、ヒドロ異性化条件下、n−パラフィン又はn−パラフィンの混合物を、(a)SiO2:Al2O3のモル比が300:1以上であるボロ−シリケート(BOR−B)及びボロ−アルミノ−シリケート(Al−BOR−B)の中から選ばれるβ−ゼオライトと同形の多孔性の結晶性物質、(b)白金0.05〜5重量%を包含してなる二元機能触媒と接触させることを特徴とする、n−パラフィンのヒドロ異性化法。
- ボロ−アルミノ−シリケートが、SiO2:Al2O3のモル比500:1以上を有するものである、請求項8記載のn−パラフィンのヒドロ異性化法。
- 白金が0.1〜2%のレベルで含有されてなる、請求項8記載のn−パラフィンのヒドロ異性化法。
- ヒドロ異性化を、H2の存在下、温度200〜540℃、圧力大気圧〜25,000kPaで行う、請求項8記載のn−パラフィンのヒドロ異性化法。
- ヒドロ異性化を、水素の存在下、温度250〜450℃、圧力4,000〜10,000kPaで行う、請求項11記載のn−パラフィンのヒドロ異性化法。
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