JP3748673B2 - 回路基板の製造装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ベース材となる基板上に導体板により電子回路の回路パターンを形成した回路基板の製造装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
基板上に電子回路を構成するための回路基板は、一般的には絶縁体基板の表面に貼りつけられた銅箔等の導体層を回路パターンの形状に加工して形成されることは周知の通りである。前記回路パターンの形成は、導体層が形成された基板材料上に回路パターンの形状にマスキングするマスク材をスクリーン印刷あるいはフォトプロセッシングの手法により形成し、マスキングされていない部分の導体層を化学的に除去するエッチングの工程により、前記導体層により回路パターンを形成した回路基板を製造することができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の回路基板の製造には、フォトプロセッシングやエッチング等の加工に化学的な処理が用いられるため、加工処理や廃液の処理等に大がかりな処理施設が必要である。また、化学的処理を行うためエッチング処理や洗浄等の処理時間を要し、1回路基板当たりの製造時間が大きくなる課題を有していた。
【0004】
また、回路設計や製品改良等の作業において往々にして発生する回路変更に対応するには、回路パターン原版の修正から開始する必要があり、柔軟且つ迅速な対応ができないこと、更には、多品種少量生産の回路基板や特注品、試作等にも回路パターン原版をそれぞれに作成する必要があった。
【0005】
本発明の目的とするところは、機械的な加工により回路パターンを形成することにより小規模な加工設備での製造を可能にすると共に、回路変更や少量製造等への対応を容易にした回路基板の製造装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本発明は、導体板に対して、穿孔による開口部を延長方向に連続して形成した分割帯によって複数の配線路に離隔し、分割帯の形成を任意位置で中断することにより離隔する配線路の間を部分的につなぐ橋絡部を形成して回路パターンを形成する第1の加工手段と、回路パターンが形成された導体板にベース材を接合する接合手段と、導体板をベース材に接合した後に前記橋絡部を除去する第2の加工手段とを備えた回路基板の製造装置であって、第1の加工手段は、導体板の加工領域とするX−Y平面のX軸方向に導体板を所定間隔で送給する搬送手段と、前記X−Y平面のY軸方向に間隔を置いて複数のポンチを配してなるポンチヘッドが、X軸方向に前記所定間隔を置いて複数配置されて構成されたポンチヘッド群と、穿孔位置座標データに基づいて、前記ポンチヘッド群の各ポンチを選択的に穿孔動作させる制御手段とを有することを特徴とする。
また本発明は、導体板に対して、穿孔による開口部を延長方向に連続して形成した分割帯によって複数の配線路に離隔し、分割帯の形成を任意位置で中断することにより離隔する配線路の間を部分的につなぐ橋絡部を形成して回路パターンを形成する第1の加工手段と、回路パターンが形成された導体板に、樹脂成形により樹脂ベース材を接合する樹脂成形手段と、導体板を樹脂ベース材に接合した後に前記橋絡部を除去する第2の加工手段とを備えた回路基板の製造装置であって、第1の加工手段は、導体板の加工領域とするX−Y平面のX軸方向に導体板を所定間隔で送給する搬送手段と、前記X−Y平面のY軸方向に間隔を置いて複数のポンチを配してなるポンチヘッドが、X軸方向に前記所定間隔を置いて複数配置されて構成されたポンチヘッド群と、穿孔位置座標データに基づいて、前記ポンチヘッド群の各ポンチを選択的に穿孔動作させる制御手段とを有することを特徴とする。
【0007】
本発明によれば、導体板を分割帯により複数の配線路に離隔して回路パターンを形成し、この導体板をベース材に接合することにより回路基板が製作できる。従来のエッチングにより配線路を残して他の部分を除去する化学的加工方法と異なり、機械的な加工により配線路の非接続部分を離隔するので、1回路基板当たりの製造が早く、また、回路パターン原版を作成することなく製作することもでき、回路変更等にも分割帯の加工位置を変更することで容易に対応することができる。更に、機械的な加工により回路パターンを形成するため、導体板の厚さは従来の箔状のものより厚くすることができ、電源回路のように大きな電流回路を構成するのに従来のように配線路の幅だけでなく、厚さによっても大電流に対応させることが可能となる。
【0008】
上記分割帯は、穿孔による開口部の分割帯延長方向への連結によって形成することができ、加工最小単位が微小な開口部を形成する穿孔で、これを所望の方向に連結して形成していくことにより溝状の分割帯により導体板を複数の配線路に離隔することができる。穿孔による分割帯の形成は、穿孔による円形開口部の半径をrとしたとき、穿孔ピッチPが[P=0.83r]となるように穿孔して分割帯を形成することにより、円形の開口部が重なり合うように形成した溝状の分割帯により配線路を形成することができる。
【0009】
また、分割帯の形成を任意位置で中断することにより、離隔する配線路の間を部分的につなぐ橋絡部を形成し、導体板をベース材に接合した後に前記橋絡部を除去することにより、導体板への回路パターンの加工時に分割帯により離隔される各配線路を離散させることなく1枚の導体板の状態を維持させることができる。
【0010】
更に、導体板とベース材との接合は、回路パターンを形成した導体板をベース材に貼り付けることにより回路基板を製造する方法、あるいは、回路パターンを形成した導体板の所定表面に樹脂成形によりベース材を接合することにより回路基板の製造する方法を採用することができる。
【0011】
更に、長尺に形成された導体板に1回路基板毎の回路パターンを連続して形成し、ベース材への接合後に1回路基板単位に切り離して回路基板を製造する方法を採用して、製造効率を向上させることもできる。
【0013】
また、第1の加工手段により導体板に分割帯を形成し、この分割帯により導体板を複数の配線路に離隔させて回路パターンを形成する。機械的な加工により回路パターンを形成するので、1回路基板当たりの加工速度が早く、また、分割帯の加工位置は任意に変更できるので、回路変更等にも容易に対応でき、少量多品種の生産にも対応が容易である。
【0014】
上記第1の加工手段は、穿孔による開口部を分割帯延長方向に連結して形成することによって分割帯を形成する穿孔手段により構成することができ、加工最小単位が微小な開口部を形成する穿孔で、これを所望の方向に連結して形成していくことにより溝状の分割帯により導体板を複数の配線路に離隔することができ、多数の穿孔単位をマトリックス状に配列することにより加工速度を向上させることができる。
【0015】
また、導体板に対して分割帯を形成すると共に、分割帯の形成を任意位置で中断することにより離隔する配線路の間を部分的につなぐ橋絡部を形成する第1の加工手段と、導体板をベース材に接合した後に前記橋絡部を除去する貫通孔及び回路基板形成に必要な貫通孔を形成する第2の加工手段とを備えて構成することができ、第1の加工手段により分割帯を形成して回路パターンを形成し、この導体板をベース材に接合した後に第2の加工手段により部品のリード挿入孔や回路基板の取付孔等を形成することができる。
【0016】
更に、第1の加工手段による分割帯の形成を任意位置で中断することにより離隔する配線路の間を部分的につなぐ橋絡部を形成し、導電板をベース材に接合した後に第2の加工手段により前記橋絡部を除去することにより、分割帯により複数の配線路に離隔された導体板の離散を橋絡部の形成により防止し、ベース材に接合された後に前記橋絡部を除去して回路パターンを完成させることができる。
【0017】
更に、第1の加工手段により分割帯の形成及び橋絡部を除く開口部の形成を行った後、所定部位を空けて樹脂成形によりベース材を導体板に接合し、第2の加工手段により前記橋絡部を除去する構成を採用することができ、ベース材を樹脂成形により接合することにより分割帯に充填される樹脂によって接合度の向上と分割帯によって離隔された配線路間の絶縁性を高めることができる。また、樹脂成形では取付孔等の開口は成形により形成できるので、導体板に分割帯だけでなく取付孔等の開口も同時に行うことができ、ベース材の接合後の加工は橋絡部を除去するための加工だけでよい。
【0018】
更に、第1の加工手段は単位穿孔動作によって形成される円形開口部の半径をrとしたとき、穿孔ピッチPが[P=0.83r]となるようにして、ポンチを配列間隔GでY軸方向に列設したポンチヘッドをY軸方向に穿孔ピッチPの距離にずらしてX軸方向に複数基(N h 配列したポンチヘッド群に形成し、導体板のY軸方向加工幅をLとしたとき、ポンチヘッド群全体で必要なポンチの個数Na及び1ポンチヘッドに必要なポンチの個数Np、配列間隔Gが次式のように設定されてなると、穿孔する位置のX−Y座標を設定して、ポンチの穿孔動作と導体板の移動ステップとを同期制御することにより、複数の穿孔を同時に行うことができ、穿孔ピッチPで分割帯が形成される。
Na=[L/P]+1
G=P×Nh
Np=[Na/Nh]+1
【0019】
また、長尺に形成された導体板に1回路基板毎の回路パターンを連続して形成し、ベース材への接合後に1回路基板単位に切り離す裁断手段を設けて構成することにより、導体板への連続加工が迅速になされ、ベース材にも長尺材料を用いて連続供給することにより接合加工も連続的になされ、また、樹脂成形によりベース材を接合する場合にも連続加工された導体板に樹脂成形した後に裁断手段により回路基板の単位に裁断して、製造効率を向上させることができる。
また、ベース材上に接合された導体板が回路パターンに形成されてなる回路基板であって、前記導体板は、穿孔による開口部を部分的に重ね合わせて連続形成することによって単孔を連接させた分割帯により回路パターンが形成されてなるように構成すると、前記穿孔は機械的な加工が可能であるため導体板の厚さの選択は自由であり、大きな電流容量を厚さによって確保することができ、電源回路等の回路基板を構成するのに適したものとなる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して本発明の一実施形態について説明し、本発明の理解に供する。
【0021】
図1(a)は、本発明の第1の実施形態に係る回路基板の製造方法により製造された回路基板の例を示す導体板側の平面図で、回路基板1は、図1(b)に示す側面図のように、絶縁体基板(ベース材)3に、回路パターンを形成した導体板2を接合して構成されている。従来の回路基板が絶縁体の基板上に予め貼り付けられた導体層(銅箔等)を、配線路を形成する導体のラインやランドを残して他の部分をエッチング等の化学的手段により除去することにより回路パターンを形成するのに対して、本発明では、導体板2に溝状の分割帯5(白地ライン部分)を形成することによって導体板2を複数の配線路に離隔して回路パターンを形成した後に、絶縁体基板3に接合することを特徴としている。
【0022】
図2は、本実施形態に係る回路基板1の製造方法の工程順序を示しており、第1の工程(S1)では、図3(a)に示すように、導体板2に所定径の孔(開口部)を連続して穿孔し、この孔を所望の延長方向に連結するように穿孔することによって分割帯5を形成し、この分割帯5によって導体板2を所望の回路が形成されるような配線路に分割する。穿孔手段として、ポンチとダイとの組み合わせによるプレス加工や、レーザー加工、放電加工、ウォータジェット加工等を利用することができるが、本実施形態ではプレス加工を採用している。また、穿孔による孔の形状は必ずしも丸孔でなくてもよいが、穿孔手段の特性や加工性等を考慮すると丸孔が最も適した形状といえる。図1(c)は、図3(a)に示す穿孔方法によって図1(a)に示した回路基板1を作成すべく第1の工程により分割帯5を加工している途中の状態を示しており、導体板2を配線路となる複数の部位(黒地部分)に分割帯5により離隔することにより回路パターンを形成するもので、分割帯5は導体板2に穿孔した孔の連結によって形成されている。このとき、分割帯5の形成を無作為に行うと、導体板2は大小複数の部分に離散してしまうが、図1(c)及び図3(a)に示すように、分割帯5を形成する孔の連結を所定位置で中断して、分割帯5によって離隔される各部位間が橋絡部4で連結されるように加工する。この橋絡部4は、図3(a)に示すように、分割帯5を形成する開口部の連結を橋絡部4を形成する位置で穿孔を故意に停止することにより形成できる。
【0023】
第2の工程(S2)では、分割帯5の加工が終了した導体板2を絶縁体基板3に貼り合わせる。
【0024】
第3の工程(S3)では、橋絡部4を形成するために穿孔を停止していた位置に、図3(b)に示すように、絶縁体基板3と共に橋絡部除去孔27を穿孔することによって、あるいは絶縁体基板3に設けた橋絡部除去孔27aを通して橋絡部4を除去し、橋絡部4によって不連続となっていた分割帯5を連続させて回路パターンを完成させる。更に、リード線を配線基板1に挿入して取り付ける部品のリード挿入孔や配線基板1の取付孔等の貫通孔6の加工を行う。この貫通孔6の孔径がポンチによる穿孔径より大きい場合には、穿孔位置をずらせた孔の連結によって必要な孔径に開口させることもできる。
【0025】
導体板2及び絶縁体基板3にロール状に巻回されたフープ材のような長尺材料を使用して、長尺の導体板2上に上記工程にて回路パターンを連続して形成し、続いて長尺の絶縁体基板3に貼り合わせる製造方法を用いる場合には、第1〜第3の工程が終了した後、第4の工程(S4)により裁断加工を行うことにより、長尺材料に連続して形成された各回路基板1は1回路基板単位に切り離される。
【0026】
上記回路基板の製造方法を実施するための回路基板製造装置は、次のように構成することができる。
【0027】
図4は、回路基板製造装置を構成する各部の配置を示すもので、導体板2及び絶縁体基板3を1回路基板の単位に切断された単板を用いて製作する場合には、図4(a)に示すように、搬送路19上に第1穿孔部(第1の加工手段)7、基板貼着部(接合手段)8、第2穿孔部(第2の加工手段)9を配列し、第1穿孔部7で導体板2に穿孔により図1(c)に示したように分割帯5を形成し、基板貼着部8で分割帯5が形成された導体板2を絶縁体基板3に貼り付け、第2穿孔部9で橋絡部4を除去するための穿孔及び貫通孔6を開口させるための穿孔を行う。この後、必要に応じて第1、第2の各穿孔部7、9の加工領域外に設ける孔や外形切断等の加工、半田レジストの印刷等を行うことができる。
【0028】
導体板2及び絶縁体基板3にフープ材のような長尺材料を使用して回路基板1を製造する場合には、図4(b)に示すように、フープ導電板2aを連続的に第1穿孔部7に供給して1回路基板毎の分割帯5を加工する。基板貼着部8にはフープ絶縁体基板3aが連続的に供給され、分割帯5が加工されたフープ導電板2aとフープ絶縁体基板3aとが貼り合わされ、第2穿孔部9で橋絡部4の除去のための穿孔及び貫通孔6の穿孔が行われて連続した回路基板1aが作成される。
【0029】
この回路基板1aは裁断部(裁断手段)10に搬送されて1回路基板毎に切断される。
【0030】
上記第1穿孔部7における穿孔構造と、その制御構成について次に説明する。
【0031】
図5(a)は、第1穿孔部7を構成するポンチヘッド11及びダイ13の配列を説明する斜視図、図5(b)は、穿孔構造を説明する断面図である。
【0032】
穿孔構造は、図5(b)に示すように、ポンチ12とダイ13との組み合わせによって構成されており、図5(a)に示すポンチヘッド11には複数個のポンチ12が所定間隔で列設され、各ポンチ12に対応する位置に所定間隔でダイ13が列設されている。穿孔加工は所定間隔の移動ステップで送り込まれてくる導体板2をポンチヘッド11のストリッパ14の下降によりダイ13との間に押さえ込み、穿孔位置に該当するポンチ12が下降して穿孔が実行される。ポンチ12の駆動は、ソレノイド駆動、シリンダ駆動、カム駆動等の駆動手段を用いることができる。ポンチヘッド11に列設するポンチ12の列設間隔は、その機構上から制約されるので、1基のポンチヘッド11では、図5(a)に示す導体板2の送給方向(X軸方向)と直交する方向(Y軸方向)に隣接する孔を連結させて穿孔することはできない。そこで、図示するように複数のポンチヘッド11を導体板2の送給方向(X軸方向)に配列し、Y軸方向の位置を各ポンチヘッド11上のポンチ12の位置が所定間隔(P)づつずれるように配設することにより、Y軸方向の穿孔による孔を連結させて形成することができるようになる。この孔が連結するように穿孔するためのポンチ12の配列は次のように設定することができる。
【0033】
図6は、穿孔による分割帯5の形成とポンチ12との対応を示すもので、形成される配線路の品質を確保するために分割帯5により形成される配線路の縁部に生じる凹凸を少なく、また、配線経路を図示X軸またはY軸方向から曲がる方向に形成する場合にもX軸、Y軸方向に形成される配線経路の幅と近似の幅に形成する穿孔条件の設定例を示している。
【0034】
図示するように、ポンチヘッド11上のポンチ12の配列方向をY軸、導体板2の移動方向をX軸として、ポンチ12により穿孔された開口部15の半径をr、ポンチ12による穿孔ピッチをP、Y軸方向の開口部15の重なり量をdu 、X軸方向から45度方向に穿孔した開口部15の重なり量をdv 、導体板2の移動ステップ量をMとすると、前記穿孔ピッチPと各値との関係は幾何的に次式(1)〜(3)のように示すことができる。
【0035】
P=2r−du……(1)
P=(2r−dv)/√2……(2)
P=M× 1 1 :整数)……(3)
導体板2の移動ステップ量Mは、穿孔ピッチP以下にしても穿孔動作を徒に増加させるだけであるので、 1 =1でよく、次式(条件1)とする。
【0036】
P=M……(条件1)
また、0<du <2r、0<dv <2rであるから、ポンチ12の配列ピッチは、
0<P<√2r……(条件2)
の範囲となるが、配線路の幅を曲がり方向にも一定に形成するためには、
P=2(√2−1)r=0.83r……(条件3)
となり、式(1)(2)より、開口孔15の重なり量du 、dv は、
u =2(2−√2)r=1.17r
v =2(√2−1)r=0.83r=P
となる。
【0037】
穿孔ピッチPは、前記(条件3)のように設定できるが、1基のポンチヘッド11に半径rのポンチ12を2r以下の間隔で一列に配置することはできない。
【0038】
そこで、図6に示すように、ポンチ12を配列間隔Gで列設したポンチヘッド11をY軸方向に穿孔ピッチPの距離でずらして複数基(Nh )のポンチヘッド11をX軸方向に配置間隔Hで配置する。このポンチヘッド群を構成する各パラメータの設定は、以下のように設定することができる。
【0039】
導体板2の加工幅をLとすると、ポンチヘッド群全体で必要なポンチ12の個数Naは、
a=[L/P]+1……(条件4)
ポンチ12の配列間隔Gは、
G=P× h ……(条件5)
1ポンチヘッド11に必要なポンチ12の個数Npは、
p[N a /N h ]+1……(条件6)
ポンチヘッド11の配置間隔Hは、
H=P× 2 2 :整数)……(条件7)
尚、整数 2 及びポンチヘッド11の数Nhは、ポンチ12の半径r及びポンチ12の駆動系のサイズに合わせて決定する。
【0040】
図6に示す構成例では、4列に配置されたポンチヘッド11a〜11dによりポンチヘッド群を構成してY軸方向の穿孔ピッチPと、導体板2のX軸方向への移動ステップMとをP=Mに設定している。図示するように分割帯5は、各ポンチ12のY軸座標a1 〜d5 (a〜dは各ポンチヘッドA〜Dに、添字は各ポンチヘッドA〜Dの各ポンチ12のナンバーを示している)に該当するポンチ12を導体板2の移動ステップM毎に駆動させて穿孔することにより形成される。従って、穿孔する位置のX−Y座標を設定してポンチ12の穿孔動作と導体板2の移動ステップとを同期制御することによって分割帯5の形成を行うことができる。この分割帯5の形成時に、橋絡部4を形成する位置の穿孔を実行しないように設定しておくことによって、図示するように橋絡部4によって配線路の間が分散しないように確保され、この橋絡部5は図3(b)に示したように、絶縁体基板3が貼着された後の第2穿孔部9の加工工程における同一座標位置への穿孔によって除去される。
【0041】
上記構成になる第1穿孔部7はコンピュータ制御により個々のポンチ12の動作を制御できるように構成することにより、回路基板CAD等で設計した回路パターンに対して導体板2に穿孔する位置のX−Y座標を所定条件の下コンピュータで自動生成し、回路基板1の回路パターン形成を行うことができ、また、穿孔座標の変更により回路パターンの変更を容易に行うことができるため、従来のエッチングによる回路パターンの形成に必要なパターン原版の作成が不要であるばかりでなく、回路設計や製品改良等において往々にして発生する動作の不具合に対する回路変更にも容易に対応することができる。また、複数の回路パターンを形成するための穿孔位置座標データをコンピュータに記憶させておくことにより、選択した穿孔位置座標データによって制御することができ、多品種少量生産や特注、試作等の1品製造の用にも対応させることができる。更に、導体板2の厚さは従来の箔状のものより厚い材料を用いることができるので、電源回路のように大きな電流回路に厚さからも対応させることができ、配線路の幅と厚さによる断面積を大きく形成することが可能となる。
【0042】
上記第1穿孔部7で加工された導体板2は、基板貼着部8で絶縁体基板3と貼り合わされ、第2穿孔部9で橋絡部4を除去し、部品のリード挿入孔、取付孔等を形成するための穿孔が実施される。この第2穿孔部9は、第1穿孔部7と同一の構成を配置した場合に、橋絡部4は、これを形成するために穿孔を停止した位置の穿孔を実行することにより、橋絡部4は除去される。また、回路基板1の取付孔等の貫通孔6の直径はポンチ12の直径より大きいので、このような大きな孔の形成は、図7に示すように、穿孔位置を変えた複数の穿孔による開口部15の集合によって所望径に近似の孔径に開口させることができる。この第2穿孔部9の構成は、橋絡部4の除去のための穿孔を含む必要な開口位置に所定の開口径を一括して穿孔する従来の回路基板の製造と同様なプレス加工装置を配置することもできる。
【0043】
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。尚、第1の実施形態の構成と共通する要素には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【0044】
本実施形態に係る回路基板20は、分割帯5及びその他の開口部を形成した導体板2にベース材とする樹脂を成形加工することを特徴としている。回路基板20を製造する回路基板製造装置は、図8(a)に示すように、第1穿孔部7、樹脂成形部(接合手段)16、第2穿孔部17を備えて構成され、フープ導体板2aを使用するときには、図8(b)に示す裁断部10を加えて構成され、図9に示す手順により製造される。
【0045】
第1の工程(S11)では、第1穿孔部7により導体板2に分割帯5を形成することにより回路パターンを形成すると共に、同時に部品のリード孔や取付孔等を開口する。
【0046】
第2の工程(S12)では、樹脂成形部16で穿孔加工された導体板2に、図10に示す断面図のように、導体板2に形成されたリード挿入孔位置の半田付け部位、回路基板の取付孔等の貫通開口部24、チップ部品等の取付スペース26、橋絡部4の位置に橋絡部開口25等を空けて樹脂成形により樹脂ベース材18を接合する。
【0047】
第3の工程(S13)では、第2穿孔部17により橋絡部開口25からの穿孔により橋絡部4を除去して回路基板20を完成させる。
【0048】
導体板2にフープ材のような長尺材料を使用して回路基板1を製造する場合には、図8(b)に示すように、フープ導電板2aを連続的に第1穿孔部7に供給して1回路基板毎の分割帯5及びその他の開口部を連続的に加工し、樹脂成形部16で加工されたフープ導電板2aに樹脂成形により樹脂ベース材18を接合し、第2穿孔部17で橋絡部4の除去を行った後、裁断部10に搬送されて第4の工程(S14)により1回路基板毎に切断して回路基板2を完成させることができる。
【0049】
この樹脂成形によりベース材を接合する製造方法によれば、導体板2に形成された分割帯5で導体板2の両面に成形される樹脂間が連結され、導体板2と樹脂ベース材18との接合性が向上すると同時に、分割帯5を充填した樹脂により分割帯5によって隔てられた配線路間の絶縁性を高めることができる。
【0050】
次いで、本発明の第3の実施形態について説明する。本実施形態は、導体板2に対する穿孔手段としてレーザー加工を用いたことを特徴とするものである。
【0051】
図11は、レーザー光により穿孔加工するための構成を示すもので、導体板2として使用する材料のエネルギー吸収率に合わせた波長の炭酸ガス、YAGあるいはYAG/SHG等を共振器とするパルスレーザー発信器21からのレーザービームをポリゴンミラー、ガルバノミラー等による反射系22で反射させ、fθレンズ23を通して導体板2の加工面に垂直に入射させることにより穿孔加工する。この構成では、パルスレーザー発信器21からのレーザー光のパルス発信と、反射系22の動作とを同期させることにより、先に図6に示したY軸方向の各開口孔15を穿孔加工するので、導体板2をX軸方向に移動ステップMで順次移動させることにより導体板2の加工領域全体に分割帯5を形成することができる。
【0052】
分割帯5が形成された導体板2に対するベース材の接合やリード孔、取付孔等の形成は、先の各実施形態と同様に行うことができるので、その説明は省略する。
【0053】
以上説明した各実施形態では、加工最小単位となる穿孔の連結加工により導体板2に分割帯5を形成しているが、図1(c)に示したような分割帯5とする溝形状のパターン加工をレーザービーム、ウォータジェット等により連続して行うこともできる。
【0054】
【発明の効果】
以上の説明の通り本発明によれば、導体板を分割帯により複数の配線路に離隔して回路パターンを形成し、この導体板をベース材に接合することにより回路基板を製造する。従来のエッチングにより配線路を残して他の部分を除去する化学的加工方法と異なり、機械的な加工により配線路の非接続部分を離隔するので、1回路基板当たりの製造が早く、また、回路パターン原版を作成することなく製作することもでき、回路変更や少量多品種製造等にも分割帯の加工位置を変更することで容易に対応することができる。更に、機械的な加工により回路パターンを形成するため、導体板の厚さは従来の箔状のものより厚くすることができ、電源回路のように大きな電流回路を構成するのに従来のように配線路の幅だけでなく、厚さによっても大電流に対応させることが可能となる。
【0055】
上記分割帯は、穿孔による開口部の分割帯延長方向への連結によって形成することができ、加工最小単位が微小な開口部を形成する穿孔で、これを所望の方向に連結して形成していくことにより溝状の分割帯により導体板を複数の配線路に離隔することができる。この穿孔による分割帯の形成は、導体板の加工領域とするX−Y平面に設定した所定間隔のマトリックス座標の単位穿孔動作が穿孔位置座標データに基づいて制御できるので、回路パターン原版を作成することなく制御データの作成のみで回路基板を製造することもでき、回路変更や少量多品種の製造、特注、試作等の用にも容易に対応させることができる。
【0056】
また、導体板のベース材への接合は、絶縁体基板に貼着させる接合方法だけでなく、樹脂成形により導体板に樹脂ベース材を接合することにより、導体板とベース材との接合性を向上させ、分割帯内に樹脂が充填されることによる配線路間の絶縁性を高めることができる。また、樹脂成形では取付孔等の開口は成形により形成できるので、導体板に分割帯だけでなく取付孔等の開口も同時に行うことができ、ベース材の接合後の加工は橋絡部を除去するための穿孔だけでよく、製造工程を簡略化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る回路基板の製造方法により製造された回路基板の例を示す平面図(a)と側面図(b)と分割帯加工途上の状態(c)を示す平面図。
【図2】第1の実施形態に係る回路基板の製造工程を示すフローチャート。
【図3】分割帯の形成(a)と橋絡部を除去した状態(b)とを示す部分拡大図。
【図4】第1の実施形態に係る回路基板製造装置の概略構成(a)と長尺材料を用いた場合の概略構成(b)とを示す構成図。
【図5】穿孔部の構成(a)を示す斜視図と穿孔構造(b)を示す断面図。
【図6】分割帯を形成するためのポンチ配列の例を示す説明図。
【図7】ポンチ径より大きな開口部を形成する方法を示す説明図。
【図8】第2の実施形態に係る回路基板製造装置の概略構成(a)と長尺材料を用いた場合の概略構成(b)とを示す構成図。
【図9】第2の実施形態に係る回路基板の製造工程を示すフローチャート。
【図10】ベース材を樹脂成形により接合した状態を示す断面図。
【図11】第3の実施形態に係るレーザー加工による穿孔手段の構成を示す模式図。
【符号の説明】
1、20 回路基板
2 導体板
2a フープ導体板(長尺材料)
3 絶縁体基板(ベース材)
3a フープ絶縁体基板(長尺材料)
4 橋絡部
5 分割帯
6 貫通孔
7 第1穿孔部(第1の加工手段)
8 基板貼着部(接合手段)
9、17 第2穿孔部(第2の加工手段)
10 裁断部(裁断手段)
11 ポンチヘッド(穿孔手段)
12 ポンチ(穿孔手段)
13 ダイ(穿孔手段)
15 開口部
16 樹脂成形部
18 樹脂ベース材
21 パルスレーザー発信器(穿孔手段)
22 反射系(穿孔手段)
23 fθレンズ(穿孔手段)

Claims (3)

  1. 導体板に対して、穿孔による開口部を延長方向に連続して形成した分割帯によって複数の配線路に離隔し、分割帯の形成を任意位置で中断することにより離隔する配線路の間を部分的につなぐ橋絡部を形成して回路パターンを形成する第1の加工手段と、
    回路パターンが形成された導体板にベース材を接合する接合手段と、
    導体板をベース材に接合した後に前記橋絡部を除去する第2の加工手段とを備えた回路基板の製造装置であって、
    第1の加工手段は、導体板の加工領域とするX−Y平面のX軸方向に導体板を所定間隔で送給する搬送手段と、
    前記X−Y平面のY軸方向に間隔を置いて複数のポンチを配してなるポンチヘッドが、X軸方向に前記所定間隔を置いて複数配置されて構成されたポンチヘッド群と、
    穿孔位置座標データに基づいて、前記ポンチヘッド群の各ポンチを選択的に穿孔動作させる制御手段とを有する
    ことを特徴とする回路基板の製造装置。
  2. 導体板に対して、穿孔による開口部を延長方向に連続して形成した分割帯によって複数の配線路に離隔し、分割帯の形成を任意位置で中断することにより離隔する配線路の間を部分的につなぐ橋絡部を形成して回路パターンを形成する第1の加工手段と、
    回路パターンが形成された導体板に、樹脂成形により樹脂ベース材を接合する樹脂成形手段と、
    導体板を樹脂ベース材に接合した後に前記橋絡部を除去する第2の加工手段とを備えた回路基板の製造装置であって、
    第1の加工手段は、導体板の加工領域とするX−Y平面のX軸方向に導体板を所定間隔で送給する搬送手段と、
    前記X−Y平面のY軸方向に間隔を置いて複数のポンチを配してなるポンチヘッドが、X軸方向に前記所定間隔を置いて複数配置されて構成されたポンチヘッド群と、
    穿孔位置座標データに基づいて、前記ポンチヘッド群の各ポンチを選択的に穿孔動作させる制御手段とを有する
    ことを特徴とする回路基板の製造装置。
  3. 第1の加工手段は、単位穿孔動作によって形成される円形開口部の半径をrとしたとき、穿孔ピッチPが[P=0.83r]となるようにして、ポンチを配列間隔GでY軸方向に列設したポンチヘッドをY軸方向に穿孔ピッチPの距離にずらしてX軸方向に複数基(Nh)配列したポンチヘッド群に形成し、導体板のY軸方向加工幅をLとしたとき、ポンチヘッド群全体で必要なポンチの個数Na及び1ポンチヘッドに必要なポンチの個数Np、配列間隔Gが次式のように設定されてなる請求項1または2に記載の回路基板の製造装置。
    Na=[L/P]+1
    G=P×Nh
    Np=[Na/Nh]+1
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